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JPH0677712B2 - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

Info

Publication number
JPH0677712B2
JPH0677712B2 JP61230173A JP23017386A JPH0677712B2 JP H0677712 B2 JPH0677712 B2 JP H0677712B2 JP 61230173 A JP61230173 A JP 61230173A JP 23017386 A JP23017386 A JP 23017386A JP H0677712 B2 JPH0677712 B2 JP H0677712B2
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JP
Japan
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coating
support
edge surface
doctor
edge
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP61230173A
Other languages
English (en)
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JPS6388080A (ja
Inventor
直義 千野
靖人 平木
恒彦 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP61230173A priority Critical patent/JPH0677712B2/ja
Priority to DE3733031A priority patent/DE3733031C2/de
Priority to US07/102,921 priority patent/US4854262A/en
Publication of JPS6388080A publication Critical patent/JPS6388080A/ja
Publication of JPH0677712B2 publication Critical patent/JPH0677712B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • G03C2001/7459—Extrusion coating
    • G—PHYSICS
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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は走行する支持体に複数層を同時に塗布する装置
に関する。特に、多層の磁気記録媒体を同時に塗布する
装置において、該装置の先端部近傍の一部をドクタエツ
ジ化して成り、移動中の支持体表面に向けて連続的に押
出した塗布液を、前記ドクタエツジを介して前記支持体
表面に均一な厚さをもつて塗布するエクストルーダの改
良に関するものである。
なお、本発明でいう支持体は、プラスチツクフイルム、
紙、ポリオレフイン塗布紙、アルミニウム銅等の金属シ
ート等の可撓性シート又はウエブを指し、下塗層等が設
けられていてもよい。このような支持体に、磁性塗布
液、写真感光性塗布液、その他種々の塗布液を塗布し、
磁気テープ、各種写真フイルム、印画紙等とする。
〔従来の技術〕
近年磁気記録媒体の高密度化、薄層化が進み、それに伴
つて従来磁性層が単層であつたものが多層化に移行しつ
つある。
これは、磁性層あるいはバツク層と支持体の密着を向上
させるため、下塗層を設ける等が行われ、又、多重の磁
気記録層を有する媒体は、一層の磁気記録層を有する媒
体と比較すると磁気データ保存容量が非常に増加する等
の利点がある。従つて、近年においては、層構成として
は、２層〜４層と、多層化が必要となつてきている。
一方上記多層化を達成するためには、一層ずつ塗布・乾
燥を繰返えして行うのが現状である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、この方法では塗布、乾燥等の工程を繰り
返すため生産性が悪く、又、装置も大型化し設備費も高
くなる。又塗布層の層間の内部界面において磁気記録要
素の不整が生じる場合もあり、好ましくない変調信号が
発生し易くなる。
従つて一回の塗布・乾燥工程内で多層を同時に形成され
る方法が望まれていた。しかしながら、磁気記録媒体の
塗布方式としては、ロールコート、グラビアコート、ロ
ールコートあるいはエクストルージヨンコートプラスド
クター方式が用いられているが、これらの塗布方式では
塗布時の剪断力のため同時に多層形成できないことは自
明である。
一方多層の塗布方式として、スロツトを有するスライド
コート方式が写真感光材料の塗布方式で示されており、
更に、特公昭56-12937においては、スライド・ホツパー
のスライド表面に沿つて流出した塗布液を支持体上に塗
布するようにした。塗布装置による磁気記録材料の多層
形成法が開示されている。しかし上記方法では、磁気記
録媒体を製造する場合には塗布液が高粘度であり又凝集
しやすい、有機溶媒分散液であり乾き易い、更に高速塗
布適正がない等の理由で、スライドコートは適さ無い適
さない。
更に、エクストルージヨン方式の塗布方法が種々提案さ
れているが、これらはほとんど単層の塗布方式である。
一方、特開昭58-109162号公報においてはエクストルー
ジヨン塗布ヘツドを支持体に押しつける塗布方法におけ
る多層形成法が開示されているが、この中に記述された
範囲の如き従来の塗布ヘツドの構造では、上記種々の問
題を解決したとはいえず、多重の磁気記録層を形成する
際に、塗布膜のスジむら、厚みむら等がはなはだしく、
まだ多くの問題を抱えているのが実情であつた。又、例
えば特開昭60-238179号公報に開示されている塗布ヘツ
ドにおいては、ドクターエツジがＲ形状に構成されてい
る。このＲ形状の構造によれば上記の如きスジむら等の
問題はある程度改善されることは知られているが、該公
報においては、一層塗布の方式についての開示であり、
本発明が対象としている多層塗布方式については何ら示
されていない。又、多層同時塗布方式の場合は一層塗布
方式に比べて、塗布時におけるメカニズムが複雑である
ため、この方式における極めて有効な手段が開示されて
いないのが現状である。
更に、特公昭49-29944、特開昭50-138036等には、エク
ストルージヨン型塗布ヘツトにて多層塗布する方法が開
示されている。前者はドクターエツジ面が平面であり、
前記したごとく、スジ、厚みムラの問題をかかえてお
り、製品として充分耐える面質を得られなかつた。又後
者についてはドクターエツジの形状は曲面で構成されて
おり前者の改良はなされているものの、多層が同時に塗
布されるべき条件について何ら示されていない。
つまり、第１層がどのような形状で塗布されるのか、又
第２層がどのような形状で第１層に悪影響を与えず塗布
されうるのか、について極めて有効な手段が開示されて
いないのが現状であつた。
（発明の目的） 本発明は、上記のような状況および近年における磁気記
録層の多層化の傾向に鑑み、塗布層のスジむらや厚みむ
ら等を迎え且つ高速塗布を可能にする塗布装置を提供す
ることを目的とするものであり、本発明者らは鋭意研究
した結果、以下に述べる塗布装置によつてこの目的を達
成できることを見い出した。
〔発明の構成〕
即ち、本発明のかかる目的は、走行案内手段の間を略一
定した張力と速度を以て連続的に移送される可撓性帯状
支持体の一方面に対し、そのバックエッジ面とドクタエ
ッジ面を押圧せしめて、前記支持体をその他方面側に湾
曲させるとともに、前記各エッジ面間で画成される複数
のスロットより各塗布液を前記支持体の一方面と各エッ
ジ面との間に押出せしめて前記各塗布液を同時層塗布す
るエクストルージョン型塗布装置において、前記支持体
の走行方向の上流側に位置する第１のドクタエッジ面の
曲率半径R1と、下流側に位置する第２のドクタエッジ面
の曲率半径R2との関係が−3mm≦R2−R1≦15mmでかつ2mm
≦（R1及びR2）であることを特徴とする塗布装置により
達成される。
以下、添付した図面に基づき本発明の実施態様について
説明する。
第１図、第２図及び第３図に示した本発明の一実施態様
におけるエクストルーダ１の要部は、次に夫々詳述する
ような給液系、ポケツト、スロツト、ドクターエツジ、
及びバツクエツジに区分することができる。
―1.給液系2: 該給液系２は、エクストルーダ１の躯体よりも外部にあ
つて前記塗布液C1,C2を連続的にかつ一定の流量で送液
可能な定量送液ポンプ手段（図示せず）並びに前記エク
ストルーダ１の躯体内部を前記支持体Ｗの幅方向に透設
した２つのポケツト部3a,3bと前記ポンプ手段を連通せ
しめる配管部材を夫々具備して成つている。
―2.ポケツト3a,3b: 該ポケツト部3a,3bは、第１図に示したように、その断
面が略円形を成し、かつ前記支持体Ｗの幅方向に略同一
の断面形状をもつて延長された一種の液溜めである。
又、その有効延長長さは、通常、塗布幅と同等もしくは
若干長く設定される。
なお、前記ポケツト部3a,3bの内径は、通常、３〜100mm
の範囲に設定され、その貫通した両端開口部は、第１図
に示したように、前記エクストルーダ１の両端部に取付
けられる各シールド板8,9により閉止されている。
前記シールド板８に突設した短管10a,10bに、前記給液
系２を接続することにより、前記ポケツト3a,3bの内部
に前記塗布液C1,C2が注入、充満して、後述するスロツ
ト4a,4bを経て外部に前記塗布液C1,C2を均一な液圧分布
をもつて前記支持体Ｗに押圧せしめるものである。
―3.スロツト4a,4b: 該スロツト4a,4bは、前記ポケツト3a,3bから前記支持体
Ｗに向け、通常、0.01〜3mmの開口幅ｄ、ｅをもつて前
記エクストルーダ１の躯体内部を貫通しかつ前記ポケツ
ト3a,3bと同じように前記支持体Ｗの幅方向に延長され
た比較的狭溢な流路であり、前記支持体Ｗの幅方向の開
口長さは塗布幅と略同等に設定される。
なお、前記スロツト4a,4bにおける前記支持体Ｗに向け
た流路の長さは、前記塗布液C1,C2の液組成、物性、供
給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得
るものであり、要は前記塗布液C1,C2が前記支持体Ｗの
幅方向に均一な流量と液圧分布をもつて層流状に前記ポ
ケツト3a,3bから流出可能であれば良い。
―4.ドクターエツジ5,6及びバツクエツジ７ ２つのドクターエツジ5,6のエツジ面は第２図に示すよ
うに、支持体Ｗの走行方向に沿つた断面形状が支持体側
に膨むような彎曲面にそれぞれ構成されている。そし
て、それぞれのエツジ面の曲率半径R1及びR2は共に2mm
以上であつて、且つ次式、−3mm≦R2−R1≦15mmを満足
するように構成されている。
又、前記ドクターエツジ5,6の幅b,c（支持体走行方向に
沿つた幅）は、共に0.1mm〜10mm好ましくは0.5mm〜5mm
に構成されているが、この寸法は曲率半径R1,R2を考慮
して設定するものである。さらに第２図において曲率半
径R1およびR2の曲率中心は第１のドクターエツジおよび
第２のドクターエツジの内に位置するように構成されて
いるが、本発明においては、これに限るものではなく、
下記する条件を満足すれば、曲率中心の位置を適宜選定
して、両エツジ面の相対位置を決めることができる。
即ち、第４図に示すように、バックエッジ７のスロット
側面7hに直交し、かつバックエッジ面のスロット出口端
部である頂部Ｘからバックエッジ面上へ引いた垂線Ｋと
バックエッジ面との成す角度をθ１とし、バツクエツジ
面のスロツト出口端部である頂部ｘから第１のドクター
エツジ５のエツジ面に引いた第１接線Ｍとバツクエツジ
面の延長線との成す角度をθ２とし、又、第１接線Ｍと
第１のドクターエツジ５のエツジ面後方のスロツト出口
端部である頂部ｙから第２のドクターエツジ６のエツジ
面に引いた第２接線Ｌとの成す角度をθ３としたとき
に、θ１が0.5°＜θ１≦40°の範囲で好ましくは５°
≦θ１≦25°の範囲、θ２が０°＜θ２≦20°の範囲で
好ましくは２°≦θ２≦15°の範囲、θ３が０°＜θ３
≦20°の範囲で好ましくは１°≦θ３≦15°の範囲であ
る。
又、前記バツクエツジ７のエツジ面の形状は第１図〜第
４図においては、平面形状としたが、必ずしもこれに限
るものではなく、例えば複数の平面の組み合せあるいは
一定の曲率を持つた曲面であつてもよい。
又、第３図に示すように各スロツト出口端部の段差f,g
は±300μｍ以内で任意に設定することができる。
また、前記バツクエツジ７及び前記ドクターエツジ5,6
の少なくとも先端部分は硬質の材料が良く、例えばロツ
クウエルＡスケールで約85度程度の硬さを有する超硬合
金（非磁性であるか磁性であるかは問わない）あるいは
セラミツクで構成することができる。
以上、記述したように構成される本発明装置は、ガイド
ローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもつ
てかつその厚さ方向に若干彎曲可能な状態に装架された
前記支持体Ｗが、前記ドクターエツジ5,6および前記バ
ツクエツジ７のエツジ面全域と略平行して彎曲するよう
にエクストルーダ支持機構（図示せず）を介して近接せ
しめる一方、前記給液系２から前記塗布液C1,C2を所望
する流量をもつて送液を始めると、前記塗布液C1,C2は
前記ポケツト3a,3b及びスロツト4a,4bを経過した後、前
記支持体Ｗの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもつて
前記スロツト4a,4bの出口先端部に押出される。
前記支持体Ｗの走行方向の上流側に位置した前記スロツ
ト4aの出口先端部に押出された前記塗布液C1（下層）
は、前記支持体Ｗに対向する前記バツクエツジ７のエツ
ジ面上に若干はみ出して支持体Ｗとエツジ面との間隙内
に一種のビードを形成しながら、矢印Ａの方向に連続的
に移動する前記支持体Ｗの表面に沿つて、前記第１のド
クタエツジ５のエツジ面と支持体Ｗとの間を押し広げる
ように通過して行く。一方、支持体走行方向の下流側に
位置した前記スロツト4bの出口先端部に押出された前記
塗布液C2（上層）は、前記塗布液C1と前記第２のドクタ
ーエツジ６のエツジ面との間に押し広げられて、該塗布
液C1の上に重ね塗りされて通過して行く。
前述したような塗布液C1,C2の移動が連続的に保たれる
と、前記第1,第２のドクターエツジ5,6のエツジ面全域
と支持体Ｗの表面は、その幅方向全域にわたり薄層化さ
れて通過する前記塗布液C1,C2により、一定した間隙を
もつて完全に分離されることは勿論である。
前記分離間隔は、前記支持体Ｗの張力、エクストルーダ
１の近接度合、両塗布液C1,C2の供給量（液圧）、支持
体走行速度等の設定条件により定まるものであり、特
に、前記塗布液C1,C2の各供給量のみの設定変更によ
り、正確に所望する分離間隔即ち塗膜の厚さが得られ
る。
このように前記塗布液C1,C2が層状に同時に塗布される
際に、上記した本発明におけるエクストルーダ１の如
く、前記両ドクターエツジ5,6が上記各条件を満足する
範囲内に構成されていることにより、塗布時の剪断力の
増加を抑えることができると共に、塗布膜のスジむら、
厚みむら等を抑えることができ、高速かつ円滑な塗布が
可能になる。
前記塗布液C1とC2の塗布量の関係を考慮して曲率半径R1
とR2を比較すると、例えば、塗布液C1の塗布量に対して
塗布液C2が非常に多い場合には、第２のドクターエツジ
６によつて相当量の塗布液C2を塗付ける作用を持たせる
必然性があるために、R1＜R2の関係にする必要があり、
これに伴つて第２のドクターエツジ６の幅ｃも適宜対応
させることが好ましい。
又、上記場合とは逆に塗布液C1の塗布量に対して、塗布
液C2の塗布量が非常に少ない場合には曲率半径R1とR2と
の関係はR1＝R2でもよいが、R2＜R1あるいはR1＞R2でそ
の差が小さい方が好ましい。
第１図に示したエクストルーダ１への塗布液C1,C2の供
給方式は、短管10a,10bを介して片側供給である。
第５図は短管10a,10b及び11a,11b以外に前記ポケツト3
a,3bの略中央部に位置する別の短管12a,12bを取付け、
該短管12a,12bから前記塗布液C1,C2を供給する中央供給
方式を示したものである。
なお、本発明装置における塗布液供給方式は、前述した
ような各方式に限らず、それらを適宜組合せて行つても
良い。又、前記ポケツト3a,3bも、前述したような円筒
状のものに限らず、角形、舟底形、等に変更可能であ
り、要は幅方向に液圧分布を均一化可能な形状であれば
良い。又、前記スロツト4a,4bは互に平行で、かつ支持
体Ｗに対して略垂直に設けられたか、本発明装置におい
ては、このような態様に限るものではなく、例えば第６
図に示す如く「ハ」の字状や、その他適宜傾斜するスロ
ツトの組合せであつてもよい。
〔発明の効果〕
以上述べた本発明装置は、下記するような新規な効果を
奏するものである。
本発明におけるエクストルーダ１は、少なくとも２種以
上の塗布液を支持体上に同時に重ね塗りする構造であつ
て、各塗布液を塗付ける各ドクターエツジの各エツジ面
が支持体側に膨む彎曲面に構成され、かつ各曲率半径の
関係およびエツジ面の位置関係が上記一定範囲内の条件
を満足するように設定されていることにより、塗布時の
剪断力の増加を抑えることができ、各塗布液間相互の円
滑な塗布が可能になり、塗布膜のスジむら、厚みむらを
抑えることができ、塗布膜の層形成時における層間の内
部界面の不整を回避して、高品質な多層膜の形成を高速
で行うことが出来る。
次に、実施例によつて本発明装置の新規な効果を一層明
確にする。
〔実施例−１〕 第１表に示す組成成分の塗布液を第１層である下層（第
１図に示す塗布液C1）とし、第２表に示す組成成分の塗
布液を第２層である上層（第１図に示す塗布液C2）とし
て使用した。
第１表 第１層の塗布液処方 カーボンブラツク 200重量部 （セバルコMICT、平均粒子サイズ250μｍ） ニツポラン−7304 80重量部 （日本ポリウレタン製） フエノキシ樹脂（PKH−１） 35重量部 ユニオンカーバイド社製 オレイン酸銅 １重量部 メチルエチルケトン 500重量部 第２表 第２層の塗布液処方（磁性体分散液） Co含有磁性酸化鉄（SBET35m2/g） 100重量部 ニトロセルローズ 10重量部 ポリウレタン樹脂（商品名「ニツポラン2304」）８重量
部 （日本ポリウレタン社製） ポリイソシアネート ８重量部 Cr2O5 ２重量部 カーボンブラツク（平均粒径20μｍ） ２重量部 ステアリン酸 １重量部 ステアリン酸ブチル １重量部 メチルエチルケトン 300重量部 第１表及び第２表に示した塗布液の粘度を測定した結
果、下層塗布液C1は剪断速度が１×104sec-1において0.
2poiseを示した。又、上層塗布液C2は剪断速度が１×10
4sec-1において0.3poiseを示した。
―1.支持体： 材質……ポリエチレンテレフタレートフイルム 幅……400mm 厚さ……75μmm 塗布部における張力……20kg/500mm 支持体の走行速度は100m/分 磁性塗布液の塗布量は下層の塗布量が15cc/m2、上層の
塗布量が10cc/m2とした。
―2.エクストルーダは本発明記載のものを使用し、第１
のドクターエツジ面の曲率R1を6mmとし第２のドクター
エツジ面の曲率半径R2を変えて塗布状態を調べた。その
結果を第３表に示す。なお、表中における○印は正常に
第２層が塗布できたことを示し、Ｘ−１印はバツクエツ
ジ側に塗布液のはみ出しが発生して正常塗布不可な状態
を示し、Ｘ−２印は上層内に空気が混入してしまい正常
塗布不可であつたことを示す。
〔実施例−２〕 塗布液の組成成分は、下層および上層ともに実施例−１
と同じ塗布液を使用し、又、支持体の条件も同様とし、
下層の塗布量を5cc/m2、上層の塗布層を10cc/m2、第１
のドクターエツジのエツジ面の曲率R1を4mmとして第２
のドクターエツジのエツジ面の曲率R2を種々変えて調べ
た。その結果を第４表に示した。なお、表中の○印、Ｘ
−１印、Ｘ−２印については第３表と同様の評価を示す
ものである。
〔実施例−３〕 塗布液の組成西部は下層および上層ともに実施例−１と
同じ塗布液を使用し、又、支持体の条件も実施例−１と
同様とし、下層の塗布量を30cc/m2、上層の塗布量を5cc
/m2、第１のドクターエツジのエツジ面の曲率R1を10mm
とし、第２のドクターエツジのエツジ面の曲率R2を変え
て塗布状態を調べた。その結果を第５表に示す。なお、
表中における○印、Ｘ−１印、Ｘ−２印については第３
表と同様の評価を示すものである。
以上、上記各実施例は、上層と下層の塗布量について代
表的な場合におけるエツジ面の曲率R1とR2の大きさを種
々変えた例を示した。この結果、下層と上層の種々の塗
布量に対し、R1とR2との関係はある一定の関係、すなわ
ち、 −3mm≦R2−R1≦15mmの範囲内にあつた場合に、良好な
塗布が可能であることがわかる。
又、上記各実施例における塗布液とは異つた組成成分の
ものを使用した実施例について以下述べる。
〔実施例−４〕 塗布液は下層に第６表に示すものを使用し、上層には第
２表に示す塗布液を使用した。支持体は厚さ15μmmであ
つて、その他の条件は実施例−１と同じである。又、下
層の塗布量は8cc/m2、上層の塗布量は20cc/m2とし、R1
は6mmとしてR2の大きさを種々変えた。その結果を第７
表に示した。
なお、第６表に示した塗布液の粘度は、ビスメトロンで
測定した結果1.3cpを示した。
第７表における○印、Ｘ−１印、Ｘ−２印は実施例−１
における評価内容と同じ意味を表す。
〔実施例−５〕 塗布液は、上層には第８表に示した組成成分のものを使
用し、下層には第８表中における Co−γ−FeOx（磁性材料）のHc（抗磁力又は保磁力）が
600Oeに変えた塗布液を使用した。支持体の厚さは10μm
m、塗布部における張力は10kg/500mmとし、下層の塗布
量は20cc/m2、上層の塗布量を15cc/m2とし、他の条件は
実施例−１と同一とした。
なお、再塗布液の粘度を測定した結果、下層塗布液は剪
断速度が１×104sec-1において、0.3poiseを示し、上層
塗布液は剪断速度が１×104sec-1において0.3poiseを示
した。
このような条件において、R1を12mmとしてR2の大きさを
種々変えて調べた。その結果を第９表に示す。なお、第
９表における○印、Ｘ−１印、Ｘ−２印の意味は実施例
−１の場合と同様である。
第８表 Co−γ−FeOx（Hc＝700Co） 100重量部 塩酢ビ．ビニルアルコール共重合体 20重量部 （92:3:5重合度400） ポリエステルポリウレタン（分子量５万） ５重量部 オレイン酸（工業用） ２重量部 ジメチルポリシロキサン（重合度60） 0.2重量部 カーボン（粒子サイズ10mμ） 1.0重量部 α−Al2O3（粒子サイズ0.5μ） 1.0重量部 メチルエチルケトン 200重量部 シクロヘキサン 50重量部 以上、実施例−４及び５から明らかなように、下層及び
上層の塗布液の組成成分を変えた場合においても、上記
したR1とR2の関係は、 −3mm≦R2−R1≦15mmを満足するものであつた。
上記各実施例においてはR1およびR2の大きさについて述
べ、第１のドクターエツジ５と第２のドクターエツジ６
の相対位置関係については述べていないが、この相対位
置関係についても当然ある程度の範囲があることは推定
される。以下、R1とR2の相対位置関係を調べた。
〔実施例−６〕 塗布液は、下層に第１表に示すものを用い、上層に第２
表に示すものを用いて、塗布量は下層が15cc/m2、上層
が10cc/m2とした。支持体は幅400mm、厚さ75μmmのポリ
エチレンテレフタレートを使用し、塗布部における張力
は20kg/500mm、支持体の走行速度は100m/分とした。
又、R1は6mm、R2は8mmとして、前述した第４図に示すθ
１，θ２，θ３の角度を種々変えて調べた。その結果を
第10表に示す。
なお、第10表に示す塗布状態の評価については、◎印は
極めて良好な塗布状態を示し、○印は実用的には問題の
ない塗布状態を示し、※‐１は下層の塗布不可を示し、
※‐２は上層の塗布不可を示す。
第10表から明らかなように、第１のドクターエツジと第
２のドクターエツジとの両エツジ面の相対位置関係を示
すθ１，θ２，θ３は、0.5°＜θ１≦35°,0°＜θ２
≦25°,0°＜θ３≦20°の範囲内にあれば実用的な塗布
が可能であり、特に５°≦θ１≦20°,2°≦θ２≦15
°,1°≦θ３≦15°の範囲内であるときは、極めて良好
な塗布が出来た。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明装置におけるエクストルーダの一実施態
様の一部を切断して示した斜視図、第２図，第３図及び
第４図は第１図におけるＢ−Ｂ線に沿つて垂直に切断し
た断面図、第５図は第１図におけるエクストルーダへの
塗布液供給方式の変更例を示した斜視図、第６図はスロ
ツトの変更例を示した断面図である。 １はエクストルーダ、２は給液系、3a,3bは液溜、4a,4b
はスロツト、５は第１のドクターエツジ、６は第２のド
クターエツジ、７はバツクエツジ、８及び９はシールド
板、10a,10b,11a,11b,12a,12bは給液系の短管である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】走行案内手段の間を略一定した張力と速度
    を以て連続的に移送される可撓性帯状支持体の一方面に
    対し、そのバックエッジ面とドクタエッジ面を押圧せし
    めて、前記支持体をその他方面側に湾曲させるととも
    に、前記各エッジ面間で画成される複数のスロットより
    各塗布液を前記支持体の一方面と各エッジ面との間に押
    出せしめて前記各塗布液を同時重層塗布するエクストル
    ージョン型塗布装置において、前記支持体の走行方向の
    上流側に位置する第１のドクタエッジ面の曲率半径R
    1と、下流側に位置する第２のドクタエッジ面の曲率半
    径R2との関係が−3mm≦R2−R1≦15mmでかつ2mm≦（R1及
    びR2）であることを特徴とする塗布装置。
  2. 【請求項２】前記第１及び第２のドクタエッジの各幅
    ｂ、ｃが0.1〜10mmである特許請求の範囲第１項記載の
    塗布装置。
  3. 【請求項３】前記バックエッジのスロット側面に直交
    し、かつバックエッジ面のスロット出口端の頂部Ｘから
    バックエッジ面上へ引いた垂線と前記バックエッジ面と
    の成す角度θ１、前記頂部Ｘから前記第１ドクタエッジ
    面に引いた第１接線と前記バックエッジ面の延長線との
    成す角度θ２、前記頂部Ｙから前記第２ドクタエッジ面
    に引いた第２接線と前記第１接線の延長線との成す角度
    θ３が、 0.5°＜θ１≦40° ０°＜θ２≦25° ０°＜θ３≦20° の範囲内である特許請求の範囲第１項又は第２項記載の
    塗布装置。
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