JPH06244254A - 半導体集積回路素子 - Google Patents
半導体集積回路素子Info
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- JPH06244254A JPH06244254A JP5031047A JP3104793A JPH06244254A JP H06244254 A JPH06244254 A JP H06244254A JP 5031047 A JP5031047 A JP 5031047A JP 3104793 A JP3104793 A JP 3104793A JP H06244254 A JPH06244254 A JP H06244254A
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- semiconductor integrated
- integrated circuit
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 75
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 14
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 9
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
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- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
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- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体集積回路素子の割れ、欠け、層間剥が
れ等の不良半導体集積回路素子の選別を、低コストで効
率よく、確実に行う。 【構成】 半導体集積回路素子1の表面上の四辺の内周
に、クラック検出用の導電体パターン2を配線し、その
導電体パターン2の先端部に針あて測定用のパッド3を
電気的に接続し、そのパッド3から導電体パターン2の
抵抗変動を測定することによって、半導体集積回路素子
1の割れ、欠け、層間剥がれ等を容易に、短時間で効率
よく検出する。
れ等の不良半導体集積回路素子の選別を、低コストで効
率よく、確実に行う。 【構成】 半導体集積回路素子1の表面上の四辺の内周
に、クラック検出用の導電体パターン2を配線し、その
導電体パターン2の先端部に針あて測定用のパッド3を
電気的に接続し、そのパッド3から導電体パターン2の
抵抗変動を測定することによって、半導体集積回路素子
1の割れ、欠け、層間剥がれ等を容易に、短時間で効率
よく検出する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路素子の
割れ、欠け、層間剥がれ等の検出技術に関し、特に、高
集積半導体回路装置やLOC(Lead on Chip)構造の半
導体集積回路素子等の割れ、欠けや層間剥がれ等の不良
素子の検出技術に適用して有効な技術に関するものであ
る。
割れ、欠け、層間剥がれ等の検出技術に関し、特に、高
集積半導体回路装置やLOC(Lead on Chip)構造の半
導体集積回路素子等の割れ、欠けや層間剥がれ等の不良
素子の検出技術に適用して有効な技術に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、高集積半導体回路装置やLOC構
造等の半導体集積回路素子等の半導体集積回路素子は、
半導体集積回路素子の大型化に伴い、素子端部と回路パ
ターンとの間隔が少ないため、半導体集積回路素子の割
れ、欠けや層間剥がれ等が問題となっている。
造等の半導体集積回路素子等の半導体集積回路素子は、
半導体集積回路素子の大型化に伴い、素子端部と回路パ
ターンとの間隔が少ないため、半導体集積回路素子の割
れ、欠けや層間剥がれ等が問題となっている。
【0003】この半導体集積回路素子の割れ、欠け、層
間剥がれ等の検査は、たとえば、ダイシングやワイヤボ
ンディング等の各工程毎に外観検査によって、不良半導
体集積回路素子の選別を行っている。
間剥がれ等の検査は、たとえば、ダイシングやワイヤボ
ンディング等の各工程毎に外観検査によって、不良半導
体集積回路素子の選別を行っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、半導体集積
回路素子の外観検査は、人による顕微鏡を使用しての目
視検査であるので、人件費や工数等のコストが大きくな
ってしまう。
回路素子の外観検査は、人による顕微鏡を使用しての目
視検査であるので、人件費や工数等のコストが大きくな
ってしまう。
【0005】また、作業者の熟練度等による検出能力の
ばらつきが生じてしまい、不良素子を選別できない恐れ
もある。
ばらつきが生じてしまい、不良素子を選別できない恐れ
もある。
【0006】本発明の目的は、半導体集積回路素子の割
れ、欠け、層間剥がれ等の検査を電気的に行うことによ
って、不良素子の選別を低コストで効率よく行うことの
できる半導体集積回路素子を提供することにある。
れ、欠け、層間剥がれ等の検査を電気的に行うことによ
って、不良素子の選別を低コストで効率よく行うことの
できる半導体集積回路素子を提供することにある。
【0007】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0009】すなわち、本発明の半導体集積回路素子
は、半導体集積回路素子における割れ、欠けや層間剥が
れ等を抵抗変動によって検出する検出用の導電体パター
ンを半導体集積回路素子上に設けたものである。
は、半導体集積回路素子における割れ、欠けや層間剥が
れ等を抵抗変動によって検出する検出用の導電体パター
ンを半導体集積回路素子上に設けたものである。
【0010】また、半導体集積回路素子に既存するパタ
ーンを、前記検出用の導電体パターンである被抵抗測定
パターンとして用いることもできる。
ーンを、前記検出用の導電体パターンである被抵抗測定
パターンとして用いることもできる。
【0011】さらに、検出用の導電体パターンを、複数
の半導体集積回路素子の層上に設けることもできる。
の半導体集積回路素子の層上に設けることもできる。
【0012】また、検出用の導電体パターンの抵抗変動
を検出した時に、電気的に半導体装置の特定のリードピ
ンを特定の出力状態に固定する回路を有することができ
る。
を検出した時に、電気的に半導体装置の特定のリードピ
ンを特定の出力状態に固定する回路を有することができ
る。
【0013】また、検出用の導電体パターンの抵抗変動
を測定した後、前記特定のリードピンの出力を特定の出
力状態に固定する回路が誤動作するのを防止するため
に、前記回路を切断することもできる。
を測定した後、前記特定のリードピンの出力を特定の出
力状態に固定する回路が誤動作するのを防止するため
に、前記回路を切断することもできる。
【0014】さらに、検出用の導電体パターンを針あて
測定用パッドに配線することにより、前記検出用の導電
体パターンの抵抗変動を、針あて測定により検出しても
よい。
測定用パッドに配線することにより、前記検出用の導電
体パターンの抵抗変動を、針あて測定により検出しても
よい。
【0015】
【作用】上記した半導体集積回路素子によれば、半導体
集積回路素子の割れ、欠けや層間の剥がれ等の不良半導
体集積回路素子の検出が電気的に行われるので、不良半
導体集積回路素子の選別が容易となる。
集積回路素子の割れ、欠けや層間の剥がれ等の不良半導
体集積回路素子の検出が電気的に行われるので、不良半
導体集積回路素子の選別が容易となる。
【0016】その結果、顕微鏡による外観目視検査が不
要となって、低コストで、また、作業者の熟練度等に関
係なく、不良半導体集積回路素子を選別できる。
要となって、低コストで、また、作業者の熟練度等に関
係なく、不良半導体集積回路素子を選別できる。
【0017】
【実施例1】図1は、本発明の実施例1による針あて測
定用パッド付きのクラック検出用導電体パターンを設け
た1層の半導体集積回路素子の平面図である。
定用パッド付きのクラック検出用導電体パターンを設け
た1層の半導体集積回路素子の平面図である。
【0018】本実施例1において、半導体集積回路素子
1の表面上の四辺の内周に、両端部がそれぞれ接続され
ていないクラック検出用の導電体パターン2を配線し、
その導電体パターン2の先端部に針あて測定用パッド3
を電気的に接続する。
1の表面上の四辺の内周に、両端部がそれぞれ接続され
ていないクラック検出用の導電体パターン2を配線し、
その導電体パターン2の先端部に針あて測定用パッド3
を電気的に接続する。
【0019】その針あて測定用パッド3に、抵抗計等の
抵抗値を測定できる計測器の測定用プローブ(図示せ
ず)等を接触させ、導電体パターン2の抵抗値を測定す
る。
抵抗値を測定できる計測器の測定用プローブ(図示せ
ず)等を接触させ、導電体パターン2の抵抗値を測定す
る。
【0020】前記導電体パターン2は、半導体集積回路
素子1上に配線されているので、半導体集積回路素子1
に、割れ、欠け等が発生していると導電体パターン2は
断線し、抵抗値は、無限大または非常に大きくなる。
素子1上に配線されているので、半導体集積回路素子1
に、割れ、欠け等が発生していると導電体パターン2は
断線し、抵抗値は、無限大または非常に大きくなる。
【0021】したがって、本実施例においては、この導
電体パターン2の抵抗値を測定することによって、半導
体集積回路素子1の割れ、欠け等が容易に短時間で効率
よく検出できるようになる。
電体パターン2の抵抗値を測定することによって、半導
体集積回路素子1の割れ、欠け等が容易に短時間で効率
よく検出できるようになる。
【0022】なお、導電体パターン2を新たに配線せず
に、半導体回路素子に既存するパターン、たとえば、半
導体回路の電源線のパターン等を、導電体パターン2の
代わりとして用いることもできる。
に、半導体回路素子に既存するパターン、たとえば、半
導体回路の電源線のパターン等を、導電体パターン2の
代わりとして用いることもできる。
【0023】
【実施例2】図2は、本発明の実施例2による導電体パ
ターンにコンタクトを設けた半導体集積回路素子の側面
断面図である。
ターンにコンタクトを設けた半導体集積回路素子の側面
断面図である。
【0024】図2に示す、2層の半導体集積回路素子4
の1層毎の表面上に、それぞれの両端部が接続されてい
ない導電体パターン5,6を半導体集積回路素子4の四
辺の内周に配線する。次に、半導体集積回路素子4にコ
ンタクト7をスルーホール状に貫通させ、前記導電体パ
ターン5,6とコンタクト7を電気的に接続する。
の1層毎の表面上に、それぞれの両端部が接続されてい
ない導電体パターン5,6を半導体集積回路素子4の四
辺の内周に配線する。次に、半導体集積回路素子4にコ
ンタクト7をスルーホール状に貫通させ、前記導電体パ
ターン5,6とコンタクト7を電気的に接続する。
【0025】その導電体パターン5,6に、抵抗値を測
定できる計測器の測定用プローブ等を接触させ、コンタ
クト7の抵抗値を測定する。
定できる計測器の測定用プローブ等を接触させ、コンタ
クト7の抵抗値を測定する。
【0026】コンタクト7間の抵抗値が無限大または非
常に大きい場合は、半導体集積回路素子5の層間剥がれ
等が生じている。また、導電体パターン5または6の抵
抗値を測定することで、2層の半導体集積回路素子4の
割れ、欠けの検出もできる。
常に大きい場合は、半導体集積回路素子5の層間剥がれ
等が生じている。また、導電体パターン5または6の抵
抗値を測定することで、2層の半導体集積回路素子4の
割れ、欠けの検出もできる。
【0027】したがって、本実施例においても、コンタ
クト7間および導電体パターン5,6の抵抗値を測定す
ることで、半導体集積回路素子の割れ、欠け、層間剥が
れ等を容易に短時間で効率よく検出できるようになる。
クト7間および導電体パターン5,6の抵抗値を測定す
ることで、半導体集積回路素子の割れ、欠け、層間剥が
れ等を容易に短時間で効率よく検出できるようになる。
【0028】
【実施例3】図3は、本発明の実施例3によるクラック
検出用導電体パターンを設けた3層の半導体集積回路素
子の側面断面図、図4は、その検出回路例である。
検出用導電体パターンを設けた3層の半導体集積回路素
子の側面断面図、図4は、その検出回路例である。
【0029】多層の半導体集積回路素子、たとえば、図
3に示す3層の半導体集積回路素子8の場合、1層毎に
導電体パターン9,10,11をその半導体集積回路素
子8の四辺の内周に配線する。
3に示す3層の半導体集積回路素子8の場合、1層毎に
導電体パターン9,10,11をその半導体集積回路素
子8の四辺の内周に配線する。
【0030】それぞれの両端部が接続されていない前記
導電体パターン9,10,11のそれぞれ一方の先端部
に、図4に示す、電源12を接続して電圧を印加し、他
方の先端部を、検出回路13の入力14,15,16に
接続し、検出回路13の出力部である出力17と半導体
装置の特定のリードピン18を電気的に接続することに
よって、検出回路13の出力17がリードピン18に出
力されるようになり、そのリードピン18の出力を電圧
測定器等によって測定する。
導電体パターン9,10,11のそれぞれ一方の先端部
に、図4に示す、電源12を接続して電圧を印加し、他
方の先端部を、検出回路13の入力14,15,16に
接続し、検出回路13の出力部である出力17と半導体
装置の特定のリードピン18を電気的に接続することに
よって、検出回路13の出力17がリードピン18に出
力されるようになり、そのリードピン18の出力を電圧
測定器等によって測定する。
【0031】この検出回路13は、AND回路で構成さ
れており、半導体集積回路素子8に割れ、欠け等がない
場合には、検出回路13の入力14,15,16は、す
べてHiの入力となっているので、AND回路である検
出回路13の出力17もHiの出力となっている。よっ
て、電気的に接続されているリードピン18も、Hiの
出力となる。
れており、半導体集積回路素子8に割れ、欠け等がない
場合には、検出回路13の入力14,15,16は、す
べてHiの入力となっているので、AND回路である検
出回路13の出力17もHiの出力となっている。よっ
て、電気的に接続されているリードピン18も、Hiの
出力となる。
【0032】しかし、半導体集積回路素子8の3層のう
ち、1層でも割れや欠け等が発生していると、導電体パ
ターン9,10,11のいずれかが断線するので、検出
回路13の入力14,15,16のいずれかの入力がL
o入力となり、検出回路13の出力17はLo出力とな
り、リードピン18の出力も反転し、Lo出力となって
しまう。
ち、1層でも割れや欠け等が発生していると、導電体パ
ターン9,10,11のいずれかが断線するので、検出
回路13の入力14,15,16のいずれかの入力がL
o入力となり、検出回路13の出力17はLo出力とな
り、リードピン18の出力も反転し、Lo出力となって
しまう。
【0033】したがって、本実施例においても、検出回
路13の出力であるリードピン18を測定することで、
半導体集積回路素子の割れや欠け等が容易に、短時間に
効率よく検出できる。
路13の出力であるリードピン18を測定することで、
半導体集積回路素子の割れや欠け等が容易に、短時間に
効率よく検出できる。
【0034】また、前記検出回路13が半導体装置の特
定のリードピンに電気的に接続していることから、半導
体装置の使用時に、誤動作する恐れがあるので、図5の
検出回路14の出力17と特定のリードピン18の間に
ヒューズ19を接続し、製品出荷時に、出力17とリー
ドピン18に高電圧を印加することによって、ヒューズ
19を切断し、出力17の影響を受けないようにするこ
ともできる。
定のリードピンに電気的に接続していることから、半導
体装置の使用時に、誤動作する恐れがあるので、図5の
検出回路14の出力17と特定のリードピン18の間に
ヒューズ19を接続し、製品出荷時に、出力17とリー
ドピン18に高電圧を印加することによって、ヒューズ
19を切断し、出力17の影響を受けないようにするこ
ともできる。
【0035】さらに、ヒューズ19を切断せずに製品出
荷し、製品出荷後のクレーム対応の検査に検出回路13
を使用することもできる。
荷し、製品出荷後のクレーム対応の検査に検出回路13
を使用することもできる。
【0036】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき説明したが、本発明は前記実施例に限定さ
れるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。
施例に基づき説明したが、本発明は前記実施例に限定さ
れるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。
【0037】たとえば、導電体パターンに付いては、前
記実施例以外の形状でも良く、図6に示す、導電体パタ
ーン20の両端間が相互に入り組んでいるものでもよ
い。
記実施例以外の形状でも良く、図6に示す、導電体パタ
ーン20の両端間が相互に入り組んでいるものでもよ
い。
【0038】
【発明の効果】本発明によって開示される発明のうち、
代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれ
ば、以下のとおりである。
代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれ
ば、以下のとおりである。
【0039】(1)本発明によれば、半導体集積回路素
子の割れ、欠け、層間剥がれ等の外観検査において、顕
微鏡等による黙視検査工程が不要となるので、作業者の
熟練度等による不良半導体集積回路素子の選別のばらつ
きがなくなる。
子の割れ、欠け、層間剥がれ等の外観検査において、顕
微鏡等による黙視検査工程が不要となるので、作業者の
熟練度等による不良半導体集積回路素子の選別のばらつ
きがなくなる。
【0040】(2)また、電気的に不良半導体集積回路
素子の選別を行うので、黙視検査工程が不要となるため
に、容易に短時間で効率よく、低コストで半導体集積回
路素子の選別を行うことができる。
素子の選別を行うので、黙視検査工程が不要となるため
に、容易に短時間で効率よく、低コストで半導体集積回
路素子の選別を行うことができる。
【図1】本発明の実施例1による針あて測定用パッド付
きのクラック検出用導電体パターンを設けた1層の半導
体集積回路素子の平面図である。
きのクラック検出用導電体パターンを設けた1層の半導
体集積回路素子の平面図である。
【図2】本発明の実施例2による導電体パターンにコン
タクトを設けた半導体集積回路素子の側面断面図であ
る。
タクトを設けた半導体集積回路素子の側面断面図であ
る。
【図3】本発明の実施例3によるクラック検出用導電体
パターンを設けた3層の半導体集積回路素子の側面断面
図である。
パターンを設けた3層の半導体集積回路素子の側面断面
図である。
【図4】本発明の実施例3による検出回路例を示す回路
図である。
図である。
【図5】本発明の実施例3に用いることができる検出回
路の他の例を示す回路図である。
路の他の例を示す回路図である。
【図6】本発明の実施例3による導電体パターンの他の
例の配線形状図である。
例の配線形状図である。
1 半導体集積回路素子 2 導電体パターン 3 針あて測定用パッド 4 半導体集積回路素子 5 導電体パターン 6 導電体パターン 7 コンタクト 8 半導体集積回路素子 9 導電体パターン 10 導電体パターン 11 導電体パターン 12 電源 13 検出回路 14 入力 15 入力 16 入力 17 出力 18 リードピン 19 ヒューズ 20 導電体パターン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松野 庸一 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 有田 順一 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内
Claims (6)
- 【請求項1】 半導体集積回路素子における割れ、欠け
や層間剥がれ等を抵抗変動によって検出する導電体を、
半導体集積回路素子上に設けたことを特徴とする半導体
集積回路素子。 - 【請求項2】 前記半導体集積回路素子に既存するパタ
ーンを、前記導電体である被抵抗測定パターンとして用
いることを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路素
子。 - 【請求項3】 前記導電体を、多層よりなる半導体集積
回路素子の複数の層に設けたことを特徴とする請求項1
または2記載の半導体集積回路素子。 - 【請求項4】 前記導電体を針あて測定用パッドに接続
配線することにより、前記導電体の抵抗変動を針あて測
定により検出することを特徴とする請求項1,2または
3記載の半導体集積回路素子。 - 【請求項5】 前記導電体の抵抗変動を検出した時に、
電気的に半導体装置の特定のリードピンを特定の出力状
態に固定する回路を有することを特徴とする請求項1ま
たは3記載の半導体集積回路素子。 - 【請求項6】 前記導電体の抵抗変動を測定した後、請
求項5記載の回路が誤動作するのを防止するために、前
記回路を電気的に切断することが可能である手段を有す
ることを特徴とする請求項5記載の半導体集積回路素
子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5031047A JPH06244254A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 半導体集積回路素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5031047A JPH06244254A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 半導体集積回路素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06244254A true JPH06244254A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12320574
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5031047A Pending JPH06244254A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 半導体集積回路素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06244254A (ja) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6420883B1 (en) | 1998-10-30 | 2002-07-16 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device and IC card |
JP2005277338A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Nec Electronics Corp | 半導体装置及びその検査方法 |
US7247921B2 (en) | 2004-06-10 | 2007-07-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor apparatus and method of manufacturing same, and method of detecting defects in semiconductor apparatus |
JP2009054863A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
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