[go: up one dir, main page]

JPH06214318A - 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 - Google Patents

反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置

Info

Publication number
JPH06214318A
JPH06214318A JP5007122A JP712293A JPH06214318A JP H06214318 A JPH06214318 A JP H06214318A JP 5007122 A JP5007122 A JP 5007122A JP 712293 A JP712293 A JP 712293A JP H06214318 A JPH06214318 A JP H06214318A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light source
homogenizer
reflection type
light
parabolic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5007122A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2655465B2 (ja
Inventor
Yukio Ogura
行夫 小椋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP5007122A priority Critical patent/JP2655465B2/ja
Priority to US08/179,156 priority patent/US5440423A/en
Publication of JPH06214318A publication Critical patent/JPH06214318A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2655465B2 publication Critical patent/JP2655465B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/0977—Reflective elements
    • G02B27/0983—Reflective elements being curved
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0028—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0215—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having a regular structure
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0284—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in reflection
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/10—Mirrors with curved faces
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 極紫外光を光源とする半導体露光装置におい
て、光学素子を反射鏡に置き換えることにより硝子材の
損傷と光量の低下をなくし効率の良い均一照明を得る。 【構成】 光源１１からの光は放物面鏡１２、１３から
なるビーム変換器１４により所望の光束に変換される。
光束は平面反射鏡１５、１６により放物面反射鏡アレイ
の反射型ホモジナイザー１７により２次光源を形成す
る。反射型ホモジナイザー１７の焦点面に２次光源アレ
イを形成した光束は照明レンズ１８に入射し、レクチル
１９を均一に照明する。レクチルの像は結像素子により
ウェハー面上に縮小投影される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＬＳＩ等の半導体素子を
製造する際に用いられるマスクパターンの投影露光装置
の光学素子照明光学装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体素子製造に用いられるマス
クパターンの投影露光装置における照明光学装置は、図
４に示すように水銀ランプあるいはエキシマレーザを光
源とし、光源４１よりの光束ビーム変換器４２で適当な
大きさの光束にコリメートし、微小レンズアレイより構
成されるホモジナイザー４３で光量分布を均一にすると
共に複数の点光源を２次光源４４として照明レンズ４５
で被照射物体であるレチクル４６を照明する。このよう
な例として特公平４−１３６８６号公報や特開昭５８−
１４７７０８号公報がある。さらに光源からの光束を均
一にするための手段としては特開平１−３１９７２７号
公報や特開平２−１６６７８３号公報のように反射プリ
ズムにより光束を分割回転して合成する方法、あるいは
実開昭６３−１２４２１２号公報のように光ファイバー
を用いる方法がある。
【０００３】図４において均一に照明されたレチクル４
６は結像レンズ４７によりウェハー４８の面上に縮小投
影される。ホモジナイザー４３の焦点位置にできた二次
光源４４の像は結像レンズ４７の絞り位置付近に結像す
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の照明光学装置は
照明光を均一にするためにレンズ厚さの厚いホモジナイ
ザーあるいはプリズム、光ファイバーなどを使用してお
りいずれもガラス材料の光路長が長くなっている。高解
像度を得るために光源に波長の短い光源例えばＡｒＦエ
キシマレーザなどを使用すると、ガラス内部の吸収が大
きく光量損失が多くかつ損傷が発生するという問題点が
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は光源からの光束
を複数に分割し二次光源を形成し照明光学系で被照射物
体を照明する照明光学系において、二次光源を形成する
光学素子が放物面鏡アレイであることを特徴とする反射
型ホモジナイザーである。
【０００６】さらに光源からの光束を所望の形状に変換
するビーム変換器と二次光源を形成するホモジナイザー
と照明用光学素子を有する照明光学装置において、光源
からの光束を変換するビーム変換器が放物面反射型ビー
ム変換器であり、二次光源を形成するための光学素子が
放物面鏡アレイの反射型ホモジナイザーであることを特
徴とする反射型照明光学装置である。
【０００７】
【作用】本発明は半導体露光装置の照明光学系に置い
て、二次光源を形成するホモジナイザーを放物反射鏡ア
レイで形成し、ビーム変換器を反射型ビーム変換器にす
ることにより硝子材の損傷と光量損失のない光学系を得
る。
【０００８】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【０００９】図１は本発明の実施例を示す図である。光
源１１からでた光は２枚の放物面鏡１２、１３より構成
されるビーム変換器１４により所望の大きさを持った光
束に変換される。ビーム変換された光束は平面反射鏡１
５、１６を介して反射型ホモジナイザー１７に入射す
る。反射型ホモジナイザーに入射した光束は図２にその
原理を示すように、放物面反射鏡アレイ２１のそれぞれ
の焦点面２２に集光し二次光源を形成する。図１におい
て反射型ホモジナイザー１７の焦点面に二次光源アレイ
を形成した光束は照明レンズ１８に入射し被照射物体で
あるレチクル１９を均一に照明する。照明されたレチク
ル１９の像は図４の従来の光学系と同様に結像素子によ
りウェハー面上に縮小投影される。
【００１０】図３は放物面鏡の原理を説明する図であ
る。放物面鏡３１に入射した平行光束はその焦点３２に
集束する。図１におけるビーム変換器１４は焦点距離の
異なる二つの放物面鏡１２、１３が互いに焦点を共有し
た構成になっており、一方の放物面鏡に入射した平行光
束は共有焦点を通ってもう一方の放物面反射鏡より入射
光束と平行に射出する。
【００１１】本実施例ではガラス内部での光量損失がな
いので、波長の短い光源を用いて高解像度を得ることが
でき、しかもガラス材の損傷がない。
【００１２】
【発明の効果】以上のごとく本発明によれば、ホモジナ
イザーおよびビーム変換器を反射鏡で構成しているた
め、硝子材の損傷と吸収による光量の損失がなく効率の
良い照明光学系を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】反射ホモジナイザーおよび反射型ビーム変換器
を用いた本発明の実施例を説明するための図である。
【図２】反射型ホモジナイザーの原理を説明する図であ
る。
【図３】放物面鏡の原理を示す図である。
【図４】従来の照明光学系の図である。
【符号の説明】
１１ 光源 １２、１３ 放物面鏡 １４ 反射型ビーム変換器 １５、１６ 平面鏡 １７ 反射型ホモジナイザー １８ 照明レンズ １９ レチクル ２１ 放物面鏡アレイ ２２ 焦点面 ３１ 放物面鏡 ３２ 焦点 ４１ 光源 ４２ ビーム変換器 ４３ ホモジナイザー ４４ ２次光源 ４５ 照明レンズ ４６ レチクル ４７ 結像レンズ ４８ ウェハー
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｂ 27/32 Ｆ 8102−2Ｋ Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光源からの光束を複数に分割し二次光源
    を形成する照明光学系用ホモジナイザーにおいて二次光
    源を形成するための光学素子が放物面鏡アレイであるこ
    とを特徴とする反射型ホモジナイザー。
  2. 【請求項２】 光源からの光束を所望の形状に変換する
    ビーム変換器と二次光源を形成するホモジナイザーと照
    明用光学素子を有する照明光学装置において、光源から
    の光束を変換するビーム変換器が放物面反射型ビーム変
    換器であり、二次光源を形成するための光学素子が放物
    面鏡アレイの反射型ホモジナイザーであることを特徴と
    する反射型照明光学装置。
JP5007122A 1993-01-20 1993-01-20 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 Expired - Lifetime JP2655465B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5007122A JP2655465B2 (ja) 1993-01-20 1993-01-20 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
US08/179,156 US5440423A (en) 1993-01-20 1994-01-10 Optical illumination instrument

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5007122A JP2655465B2 (ja) 1993-01-20 1993-01-20 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06214318A true JPH06214318A (ja) 1994-08-05
JP2655465B2 JP2655465B2 (ja) 1997-09-17

Family

ID=11657275

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5007122A Expired - Lifetime JP2655465B2 (ja) 1993-01-20 1993-01-20 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5440423A (ja)
JP (1) JP2655465B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0778483A1 (en) * 1995-06-26 1997-06-11 Nissho Giken Kabushiki Kaisha Projection display
JP2006237614A (ja) * 2005-02-23 2006-09-07 Samsung Electronics Co Ltd 投影光学系及びこれを適用した極紫外線リソグラフィ装置
JP2018127196A (ja) * 2016-12-12 2018-08-16 トヨタ モーター エンジニアリング アンド マニュファクチャリング ノース アメリカ，インコーポレイティド 物体を透明に見せるための装置及び方法
JP2019069752A (ja) * 2017-07-26 2019-05-09 トヨタ モーター エンジニアリング アンド マニュファクチャリング ノース アメリカ，インコーポレイティド 湾曲ミラーを備えるクローキングデバイス

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5674414A (en) * 1994-11-11 1997-10-07 Carl-Zeiss Stiftung Method and apparatus of irradiating a surface of a workpiece with a plurality of beams
US6080965A (en) * 1997-09-18 2000-06-27 Tokyo Electron Limited Single-substrate-heat-treatment apparatus in semiconductor processing system
JP4238390B2 (ja) * 1998-02-27 2009-03-18 株式会社ニコン 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法
US6833904B1 (en) 1998-02-27 2004-12-21 Nikon Corporation Exposure apparatus and method of fabricating a micro-device using the exposure apparatus
US6022114A (en) * 1998-05-01 2000-02-08 Nikon Corporation Anamorphic afocal beam shaping assembly
USRE41667E1 (en) * 1998-05-05 2010-09-14 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US7329886B2 (en) * 1998-05-05 2008-02-12 Carl Zeiss Smt Ag EUV illumination system having a plurality of light sources for illuminating an optical element
US6438199B1 (en) 1998-05-05 2002-08-20 Carl-Zeiss-Stiftung Illumination system particularly for microlithography
USRE42065E1 (en) 1998-05-05 2011-01-25 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US7109497B2 (en) * 1998-05-05 2006-09-19 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US7126137B2 (en) 1998-05-05 2006-10-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with field mirrors for producing uniform scanning energy
US6858853B2 (en) * 1998-05-05 2005-02-22 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US6947124B2 (en) 1998-05-05 2005-09-20 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US20070030948A1 (en) * 1998-05-05 2007-02-08 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with field mirrors for producing uniform scanning energy
US20050002090A1 (en) * 1998-05-05 2005-01-06 Carl Zeiss Smt Ag EUV illumination system having a folding geometry
US7006595B2 (en) * 1998-05-05 2006-02-28 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Illumination system particularly for microlithography
DE19935404A1 (de) 1999-07-30 2001-02-01 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem mit mehreren Lichtquellen
US7142285B2 (en) * 1998-05-05 2006-11-28 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US6859515B2 (en) 1998-05-05 2005-02-22 Carl-Zeiss-Stiftung Trading Illumination system, particularly for EUV lithography
DE19903807A1 (de) * 1998-05-05 1999-11-11 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem insbesondere für die EUV-Lithographie
US6947120B2 (en) * 1998-05-05 2005-09-20 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US7186983B2 (en) * 1998-05-05 2007-03-06 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US6859328B2 (en) * 1998-05-05 2005-02-22 Carl Zeiss Semiconductor Illumination system particularly for microlithography
JP3754221B2 (ja) * 1999-03-05 2006-03-08 ローム株式会社 マルチチップ型半導体装置
US7248667B2 (en) * 1999-05-04 2007-07-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with a grating element
US6856630B2 (en) * 2000-02-02 2005-02-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Beam homogenizer, laser irradiation apparatus, semiconductor device, and method of fabricating the semiconductor device
WO2003049175A1 (fr) * 2001-12-07 2003-06-12 Sony Corporation Irradiateur a faisceaux et dispositif de recuit pour laser
US20050180013A1 (en) * 2002-03-21 2005-08-18 Carl Zeiss Smt Ag Grating element for filtering wavelengths < 100 nm
CA2386952A1 (en) * 2002-05-17 2003-11-17 Exfo Photonic Solutions Inc. Radiation power demultiplexer
DE10229816A1 (de) * 2002-06-28 2004-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur Erzeugung einer konvergenten Lichtwellenfront und System zur interferometrischen Linsenflächenvermessung
DE102004034966A1 (de) * 2004-07-16 2006-02-02 Carl Zeiss Jena Gmbh Beleuchtungsvorrichtung für ein Lichtrastermikroskop mit linienförmiger Abtastung und Verwendung
DE102004034967A1 (de) * 2004-07-16 2006-02-02 Carl Zeiss Jena Gmbh Beleuchtungsvorrichtung für ein Lichtrastermikroskop mit punktförmiger Lichtquellenverteilung
US7511798B2 (en) * 2004-07-30 2009-03-31 Asml Holding N.V. Off-axis catadioptric projection optical system for lithography
DE102012017049A1 (de) 2012-08-29 2014-03-06 Khs Gmbh Vorrichtung zum Inspizieren von Gegenständen
US9971159B2 (en) * 2016-10-19 2018-05-15 Coherent, Inc. Reflective laser line-beam generator
CN107797295A (zh) * 2017-11-14 2018-03-13 海信集团有限公司 一种光源缩束系统、激光光源装置以及激光投影系统
CN107797296A (zh) * 2017-11-14 2018-03-13 海信集团有限公司 一种缩束装置、激光光源及激光投影设备
DE102018216940A1 (de) * 2018-10-02 2020-04-02 3D-Micromac Ag Laserbearbeitungssystem

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS636540A (ja) * 1986-06-27 1988-01-12 Komatsu Ltd インテグレ−タ

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1987357A (en) * 1932-01-08 1935-01-08 William V Bergen Reflector
US2036146A (en) * 1933-10-09 1936-03-31 Kampfer Adolf Reflecting sign
US4389115A (en) * 1981-08-06 1983-06-21 Richter Thomas A Optical system
US4484334A (en) * 1981-11-17 1984-11-20 Allied Corporation Optical beam concentrator
JPS6042703A (ja) * 1983-08-18 1985-03-07 Akira Arai 照明器具用反射鏡
US4518232A (en) * 1983-08-24 1985-05-21 Avco Everett Research Laboratory, Inc. Method and apparatus for optical beam shaping
JPS6237350A (ja) * 1985-08-12 1987-02-18 Toshiba Corp 表面熱処理装置
US4806724A (en) * 1986-08-15 1989-02-21 Kawasaki Steel Corp. Laser beam machining device
US5285320A (en) * 1989-04-14 1994-02-08 Carl-Zeiss-Stiftung Mirror for changing the geometrical form of a light beam
DE4023904A1 (de) * 1990-07-27 1992-01-30 Zeiss Carl Fa Spiegel zur veraenderung der geometrischen gestalt eines lichtbuendels
US5245454A (en) * 1991-12-31 1993-09-14 At&T Bell Laboratories Lcd display with microtextured back reflector and method for making same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS636540A (ja) * 1986-06-27 1988-01-12 Komatsu Ltd インテグレ−タ

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0778483A1 (en) * 1995-06-26 1997-06-11 Nissho Giken Kabushiki Kaisha Projection display
EP0778483A4 (en) * 1995-06-26 1998-09-30 Nissho Giken Kk PROJECTION APPARATUS
JP2006237614A (ja) * 2005-02-23 2006-09-07 Samsung Electronics Co Ltd 投影光学系及びこれを適用した極紫外線リソグラフィ装置
JP2018127196A (ja) * 2016-12-12 2018-08-16 トヨタ モーター エンジニアリング アンド マニュファクチャリング ノース アメリカ，インコーポレイティド 物体を透明に見せるための装置及び方法
JP2019069752A (ja) * 2017-07-26 2019-05-09 トヨタ モーター エンジニアリング アンド マニュファクチャリング ノース アメリカ，インコーポレイティド 湾曲ミラーを備えるクローキングデバイス

Also Published As

Publication number Publication date
US5440423A (en) 1995-08-08
JP2655465B2 (ja) 1997-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2655465B2 (ja) 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
KR100305657B1 (ko) 조명장치및이조명장치를가진노광장치
JP3264224B2 (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
US5636003A (en) Illumination optical apparatus and scanning exposure apparatus
US5357312A (en) Illuminating system in exposure apparatus for photolithography
KR960042228A (ko) 포토리도그래피 기법에서 사용하는 혼성(hybrid) 조명 장치
JPH0378607B2 (ja)
US5891806A (en) Proximity-type microlithography apparatus and method
JP2997351B2 (ja) 照明光学装置
JP2002198309A (ja) 熱的な負荷の少ない照明系
JP2002516650A (ja) 投影光源
JP3491212B2 (ja) 露光装置、照明光学装置、照明光学系の設計方法及び露光方法
JP3067491B2 (ja) 投影露光装置
US3860335A (en) Optical system
JPH0774086A (ja) 投影露光装置
JP2696360B2 (ja) 照明光学装置
JP2914035B2 (ja) 輪帯光束形成方法および照明光学装置
JPH0744141B2 (ja) 照明光学装置
JPS63114186A (ja) 照明装置
JPH0769576B2 (ja) 照明光学装置
JP3415571B2 (ja) 走査露光装置、露光方法及び半導体製造方法
US3815993A (en) Light projection apparatus and method for photoprinting
JP3521506B2 (ja) 照明装置及び露光装置
JPH07104563B2 (ja) 露光装置用照明光学装置
JPH07135145A (ja) 露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19970422