JPH06174923A - 位相差フィルム - Google Patents
位相差フィルムInfo
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- JPH06174923A JPH06174923A JP33061992A JP33061992A JPH06174923A JP H06174923 A JPH06174923 A JP H06174923A JP 33061992 A JP33061992 A JP 33061992A JP 33061992 A JP33061992 A JP 33061992A JP H06174923 A JPH06174923 A JP H06174923A
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- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims abstract description 72
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims description 18
- SUCTVKDVODFXFX-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)sulfonyl-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 SUCTVKDVODFXFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 13
- KANXFMWQMYCHHH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)-3-methylbutan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C(C)C)C1=CC=C(O)C=C1 KANXFMWQMYCHHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- AZZWZMUXHALBCQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 AZZWZMUXHALBCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 81
- 239000010408 film Substances 0.000 description 61
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 37
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 24
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 24
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 9
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 3
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 3
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEHXKUVLLWGBJS-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C=CC=C(O)C=1C(C)C1=CC=CC=C1O PEHXKUVLLWGBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910003564 SiAlON Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- VJGNLOIQCWLBJR-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 VJGNLOIQCWLBJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- -1 dimethyl-4-hydroxyphenyl Chemical group 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 特定の波長におけるレターデーション値の比
であるＲが一定の範囲にある位相差フィルムを提供す
る。 【構成】 ポリアリレートを含むものからの位相差フィ
ルムであって、400 ｎｍにおけるレターデーション値Ｒ
ｅ(400) と550 ｎｍにおけるレターデーション値Ｒｅ(5
50) の比であるＲ（Ｒｅ(400) ／Ｒｅ(550) ）が1.15〜
1.31であることを特徴とする位相差フィルム。 【効果】 同一面内で均一な複屈折性を有し、かつ透明
性の高い位相差フィルムをうることができる。
であるＲが一定の範囲にある位相差フィルムを提供す
る。 【構成】 ポリアリレートを含むものからの位相差フィ
ルムであって、400 ｎｍにおけるレターデーション値Ｒ
ｅ(400) と550 ｎｍにおけるレターデーション値Ｒｅ(5
50) の比であるＲ（Ｒｅ(400) ／Ｒｅ(550) ）が1.15〜
1.31であることを特徴とする位相差フィルム。 【効果】 同一面内で均一な複屈折性を有し、かつ透明
性の高い位相差フィルムをうることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は位相差フィルムに関す
る。さらに詳しくは、特定の波長におけるレターデーシ
ョン値の比であるＲが一定の範囲にあるポリアリレート
を成分として含む波長依存性がコントロールされた位相
差フィルムに関する。
る。さらに詳しくは、特定の波長におけるレターデーシ
ョン値の比であるＲが一定の範囲にあるポリアリレート
を成分として含む波長依存性がコントロールされた位相
差フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】従来から
液晶表示デバイスの分野で使用される光学フィルムとし
て、レターデーション値の比（Ｒ）を液晶セルの構成
（セルギャップ）に応じて好ましい値にするために、現
在ＰＶＡとＰＣが用いられているが、Ｒの値を充分コン
トロールできないのが現実である。とくにＳＴＮ液晶表
示装置の表示品位を向上させるために位相差フィルムが
用いられている。
液晶表示デバイスの分野で使用される光学フィルムとし
て、レターデーション値の比（Ｒ）を液晶セルの構成
（セルギャップ）に応じて好ましい値にするために、現
在ＰＶＡとＰＣが用いられているが、Ｒの値を充分コン
トロールできないのが現実である。とくにＳＴＮ液晶表
示装置の表示品位を向上させるために位相差フィルムが
用いられている。
【０００３】本発明者らも既に芳香族ポリエステルをベ
ースフィルムとする複屈折フィルムを提案している（特
開昭６３−１０１１０７号公報）。
ースフィルムとする複屈折フィルムを提案している（特
開昭６３−１０１１０７号公報）。
【０００４】近年、ＳＴＮ液晶表示装置の表示品位を向
上させるために、ＳＴＮ液晶表示装置の応答性を向上さ
せる検討がなされているが、現在主に用いられているポ
リカーボネートの位相差フィルムのレターデーション値
の比（Ｒ）ではＲが1.15程度であるため、高速応答に対
する表示品位が不充分であり、Ｒの値のより大きなもの
が望まれている。これらの課題を克服する方法として、
２枚のフィルムを重ねて用いる方法（特開平３−１３９
１７号公報、特開平３−１３９１６号公報など）が提案
されている。
上させるために、ＳＴＮ液晶表示装置の応答性を向上さ
せる検討がなされているが、現在主に用いられているポ
リカーボネートの位相差フィルムのレターデーション値
の比（Ｒ）ではＲが1.15程度であるため、高速応答に対
する表示品位が不充分であり、Ｒの値のより大きなもの
が望まれている。これらの課題を克服する方法として、
２枚のフィルムを重ねて用いる方法（特開平３−１３９
１７号公報、特開平３−１３９１６号公報など）が提案
されている。
【０００５】しかし、前記の方法では、コストアップに
なること、また２枚のフィルムの重ね合わせの角度調整
および接着などのプロセスなどが困難であること、さら
に充分なＲの値がえられないことなどの問題がある。
なること、また２枚のフィルムの重ね合わせの角度調整
および接着などのプロセスなどが困難であること、さら
に充分なＲの値がえられないことなどの問題がある。
【０００６】本発明の目的は、前記の従来の問題を解決
するためになされたものであり、同一面内で充分なレタ
ーデーション値の比を有するポリアリレートを成分とし
て含む位相差フィルムを提供することにある。
するためになされたものであり、同一面内で充分なレタ
ーデーション値の比を有するポリアリレートを成分とし
て含む位相差フィルムを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記問題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の組成の
ポリマーを用いることにより、１枚で特定の波長におけ
るレターデーション値の比であるＲの値を一定の範囲で
コントロールできる位相差フィルムを見出し、本発明を
完成するにいたった。
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の組成の
ポリマーを用いることにより、１枚で特定の波長におけ
るレターデーション値の比であるＲの値を一定の範囲で
コントロールできる位相差フィルムを見出し、本発明を
完成するにいたった。
【０００８】すなわち、本発明は、ポリアリレートを含
むものからの位相差フィルムであって、400 ｎｍにおけ
るレターデーション値Ｒｅ(400) と550 ｎｍにおけるレ
ターデーション値Ｒｅ(550) の比であるＲ（Ｒｅ(400)
／Ｒｅ(550) ）が1.15〜1.31であることを特徴とする位
相差フィルムに関する。
むものからの位相差フィルムであって、400 ｎｍにおけ
るレターデーション値Ｒｅ(400) と550 ｎｍにおけるレ
ターデーション値Ｒｅ(550) の比であるＲ（Ｒｅ(400)
／Ｒｅ(550) ）が1.15〜1.31であることを特徴とする位
相差フィルムに関する。
【０００９】
【実施例】本発明の位相差フィルムは、ポリアリレート
を含むものからなり、たとえばポリアリレートまたはポ
リアリレートとポリカーボネートなどからなる。
を含むものからなり、たとえばポリアリレートまたはポ
リアリレートとポリカーボネートなどからなる。
【００１０】前記ポリアリレートは、ビスフェノール成
分と特定の酸成分とからなる。
分と特定の酸成分とからなる。
【００１１】前記ビスフェノール成分の具体例として
は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、４，４′−（１−メチルイソブチ
リデン）ビスフェノールなどがあげられるが、これらに
限定されるものではない。前記ビスフェノール成分は単
独または併用して使用することができる。
は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、４，４′−（１−メチルイソブチ
リデン）ビスフェノールなどがあげられるが、これらに
限定されるものではない。前記ビスフェノール成分は単
独または併用して使用することができる。
【００１２】前記特定の酸成分の具体例としては、たと
えばテレフタル酸、イソフタル酸などがあげられるが、
これらに限定されるものではない。
えばテレフタル酸、イソフタル酸などがあげられるが、
これらに限定されるものではない。
【００１３】本発明に用いるポリアリレートは前記ビス
フェノール成分と特定の酸成分とを通常の縮合反応など
の重合反応することによりえられる。
フェノール成分と特定の酸成分とを通常の縮合反応など
の重合反応することによりえられる。
【００１４】前記ポリアリレートの具体例としては、た
とえば２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、テレフタル酸およびイソフタル酸の混合物
から製造されたポリエステル（以下、ポリアリレート１
という）や、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、テレフタル酸およびイソフタル酸
の混合物から製造されたポリエステル（以下、ポリアリ
レート２という）や、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、テレフタル酸およびイソフ
タル酸の混合物から製造されたポリエステル（以下、ポ
リアリレート３という）や、ビス（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４′−（１−
メチルイソブチリデン）ビスフェノール、テレフタル酸
およびイソフタル酸の混合物から製造されたポリエステ
ル（以下、ポリアリレート４という）や、（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４′
−エチリデンビスフェノール、テレフタル酸およびイソ
フタル酸の混合物から製造されたポリエステル（以下、
ポリアリレート５という）などがあげられるが、これら
に限定されるものではない。
とえば２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、テレフタル酸およびイソフタル酸の混合物
から製造されたポリエステル（以下、ポリアリレート１
という）や、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、テレフタル酸およびイソフタル酸
の混合物から製造されたポリエステル（以下、ポリアリ
レート２という）や、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、テレフタル酸およびイソフ
タル酸の混合物から製造されたポリエステル（以下、ポ
リアリレート３という）や、ビス（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４′−（１−
メチルイソブチリデン）ビスフェノール、テレフタル酸
およびイソフタル酸の混合物から製造されたポリエステ
ル（以下、ポリアリレート４という）や、（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４′
−エチリデンビスフェノール、テレフタル酸およびイソ
フタル酸の混合物から製造されたポリエステル（以下、
ポリアリレート５という）などがあげられるが、これら
に限定されるものではない。
【００１５】前記ポリアリレート１を製造する際の２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン
との割合はモル比で通常は２／８〜８／２、好ましくは
３／７〜７／３であり、テレフタル酸とイソフタル酸と
の割合はモル比で通常は２／８〜８／２、好ましくは３
／７〜７／３である。前記２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンとビス（３，５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）メタンとの割合がモル比で２／８
〜８／２の範囲であるばあいにはポリマーの溶液安定性
の点から好ましく、また、前記テレフタル酸とイソフタ
ル酸との割合がモル比で２／８〜８／２の範囲であるば
あいにはポリマーの溶液安定性の点から好ましい。
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン
との割合はモル比で通常は２／８〜８／２、好ましくは
３／７〜７／３であり、テレフタル酸とイソフタル酸と
の割合はモル比で通常は２／８〜８／２、好ましくは３
／７〜７／３である。前記２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンとビス（３，５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）メタンとの割合がモル比で２／８
〜８／２の範囲であるばあいにはポリマーの溶液安定性
の点から好ましく、また、前記テレフタル酸とイソフタ
ル酸との割合がモル比で２／８〜８／２の範囲であるば
あいにはポリマーの溶液安定性の点から好ましい。
【００１６】前記ポリアリレート１の溶液粘度は、ηsp
／ｃ（32℃、クロロホルム中0.32ｇ／デシリットル、以
下同様）が0.5 〜2.0 、好ましくは0.6 〜1.5 であるの
が望ましい。ポリアリレート１の物性が前記範囲にある
ばあいには、ポリマー溶液からキャスティング製膜する
ときの製膜性の点で好ましい。
／ｃ（32℃、クロロホルム中0.32ｇ／デシリットル、以
下同様）が0.5 〜2.0 、好ましくは0.6 〜1.5 であるの
が望ましい。ポリアリレート１の物性が前記範囲にある
ばあいには、ポリマー溶液からキャスティング製膜する
ときの製膜性の点で好ましい。
【００１７】前記ポリアリレート２を製造する際のテレ
フタル酸およびイソフタル酸の割合はモル比で通常は２
／８〜８／２、好ましくは３／７〜７／３である。
フタル酸およびイソフタル酸の割合はモル比で通常は２
／８〜８／２、好ましくは３／７〜７／３である。
【００１８】前記モル比が前記範囲のばあいにはポリマ
ーの溶液安定性の点から好ましい。
ーの溶液安定性の点から好ましい。
【００１９】前記ポリアリレート２の溶液粘度は、ηsp
／ｃが0.5 〜2.0 、好ましくは0.6〜1.5 であるのが望
ましい。ポリアリレート２の物性が前記範囲にあるばあ
いには、ポリマー溶液からキャスティング製膜するとき
の製膜性の点で好ましい。
／ｃが0.5 〜2.0 、好ましくは0.6〜1.5 であるのが望
ましい。ポリアリレート２の物性が前記範囲にあるばあ
いには、ポリマー溶液からキャスティング製膜するとき
の製膜性の点で好ましい。
【００２０】前記ポリアリレート３を製造する際のビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ンと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
との割合はモル比で通常は100 ／０未満〜５／95以上で
あり、テレフタル酸とイソフタル酸との割合がモル比で
通常は２／８〜８／２、好ましくは３／７〜７／３であ
る。前記ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）スルホンと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンとの割合がモル比で100 ／０未満〜５／95
以上の範囲であるばあいには、この比率を変えることに
よって波長依存性をコントロールできる点から好まし
く、また前記テレフタル酸とイソフタル酸との割合がモ
ル比で２／８〜８／２の範囲であるばあいには、ポリマ
ー溶液の安定性の点から好ましい。
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ンと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
との割合はモル比で通常は100 ／０未満〜５／95以上で
あり、テレフタル酸とイソフタル酸との割合がモル比で
通常は２／８〜８／２、好ましくは３／７〜７／３であ
る。前記ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）スルホンと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンとの割合がモル比で100 ／０未満〜５／95
以上の範囲であるばあいには、この比率を変えることに
よって波長依存性をコントロールできる点から好まし
く、また前記テレフタル酸とイソフタル酸との割合がモ
ル比で２／８〜８／２の範囲であるばあいには、ポリマ
ー溶液の安定性の点から好ましい。
【００２１】前記ポリアリレート３の溶液粘度は、ηsp
／ｃが0.5 〜2.0 、好ましくは0.6〜1.5 であるのが望
ましい。ポリアリレート３の物性が前記範囲にあるばあ
いには、ポリマー溶液からキャスティングする際の製膜
性の点で好ましい。
／ｃが0.5 〜2.0 、好ましくは0.6〜1.5 であるのが望
ましい。ポリアリレート３の物性が前記範囲にあるばあ
いには、ポリマー溶液からキャスティングする際の製膜
性の点で好ましい。
【００２２】前記ポリアリレート４を製造する際のビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ンと４，４′−（１−メチルイソブチリデン）ビスフェ
ノールとの割合はモル比で通常は100 ／０未満〜５／95
以上であり、テレフタル酸とイソフタル酸との割合がモ
ル比で通常は２／８〜８／２、好ましくは３／７〜７／
３である。前記ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）スルホンと４，４′−（１−メチルイソブ
チリデン）ビスフェノールとの割合がモル比で100 ／０
未満〜５／95以上の範囲であるばあいには、この比率を
変えることで波長依存性をコントロールできる点から好
ましい。
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ンと４，４′−（１−メチルイソブチリデン）ビスフェ
ノールとの割合はモル比で通常は100 ／０未満〜５／95
以上であり、テレフタル酸とイソフタル酸との割合がモ
ル比で通常は２／８〜８／２、好ましくは３／７〜７／
３である。前記ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）スルホンと４，４′−（１−メチルイソブ
チリデン）ビスフェノールとの割合がモル比で100 ／０
未満〜５／95以上の範囲であるばあいには、この比率を
変えることで波長依存性をコントロールできる点から好
ましい。
【００２３】前記ポリアリレート４の溶液粘度は、ηsp
／ｃが0.5 〜2.0 、好ましくは0.6〜1.5 であるのが望
ましい。ポリアリレート４の物性が前記範囲にあるばあ
いには、ポリマー溶液からキャスティングする際の製膜
性の点で好ましい。
／ｃが0.5 〜2.0 、好ましくは0.6〜1.5 であるのが望
ましい。ポリアリレート４の物性が前記範囲にあるばあ
いには、ポリマー溶液からキャスティングする際の製膜
性の点で好ましい。
【００２４】前記ポリアリレート５を製造する際のビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ンと４，４′−エチリデンビスフェノールとの割合は、
モル比で通常は100 ／０未満〜５／95以上であり、テレ
フタル酸とイソフタル酸との割合はモル比で通常は２／
８〜８／２、好ましくは３／７〜７／３である。前記ビ
ス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スル
ホンと４，４′−エチリデンビスフェノールのモル比が
100 ／０未満〜５／95以上の範囲であるばあいには、こ
のモル比を変えることで波長依存性をコントロールでき
る点から好ましい。
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ンと４，４′−エチリデンビスフェノールとの割合は、
モル比で通常は100 ／０未満〜５／95以上であり、テレ
フタル酸とイソフタル酸との割合はモル比で通常は２／
８〜８／２、好ましくは３／７〜７／３である。前記ビ
ス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スル
ホンと４，４′−エチリデンビスフェノールのモル比が
100 ／０未満〜５／95以上の範囲であるばあいには、こ
のモル比を変えることで波長依存性をコントロールでき
る点から好ましい。
【００２５】前記ポリアリレート５の溶液粘度は、ηsp
／ｃが0.5 〜2.0 、好ましくは0.6〜1.5 であるのが望
ましい。ポリアリレート５の物性が前記範囲にあるばあ
いには、ポリマー溶液からキャスティングする際の製膜
性の点で好ましい。
／ｃが0.5 〜2.0 、好ましくは0.6〜1.5 であるのが望
ましい。ポリアリレート５の物性が前記範囲にあるばあ
いには、ポリマー溶液からキャスティングする際の製膜
性の点で好ましい。
【００２６】前記ポリアリレートのレターデーション値
の比（Ｒ）は一般に1.195 〜1.31であり、たとえば前記
ポリアリレート１のＲ値は1.20〜1.22であり、前記ポリ
アリレート２のＲ値は1.31程度である。前記ポリアリレ
ート２においてビスフェノール成分であるビス（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホンの一部
をそれ以外のビスフェノール成分にすることにより、た
とえば1.195 〜1.310の範囲のＲの値を有するポリアリ
レート３〜５を調製することができる。
の比（Ｒ）は一般に1.195 〜1.31であり、たとえば前記
ポリアリレート１のＲ値は1.20〜1.22であり、前記ポリ
アリレート２のＲ値は1.31程度である。前記ポリアリレ
ート２においてビスフェノール成分であるビス（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホンの一部
をそれ以外のビスフェノール成分にすることにより、た
とえば1.195 〜1.310の範囲のＲの値を有するポリアリ
レート３〜５を調製することができる。
【００２７】たとえば、前記ポリアリレート３において
は、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホンと前記それ以外のビスフェノールとして用
いる２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
との割合をモル比で100 ／０未満〜５／95以上の範囲に
すると、Ｒの値を1.195 以上から1.310 未満の範囲でコ
ントロールすることができる。
は、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホンと前記それ以外のビスフェノールとして用
いる２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
との割合をモル比で100 ／０未満〜５／95以上の範囲に
すると、Ｒの値を1.195 以上から1.310 未満の範囲でコ
ントロールすることができる。
【００２８】また、前記ポリアリレート４においては、
ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホンと前記それ以外のビスフェノールとして用いる
４，４′−（１−メチルイソブチリデン）ビスフェノー
ルとの割合をモル比で100 ／０未満〜５／95以上の範囲
にすると、Ｒの値を1.220 以上から1.310 未満の範囲で
コントロールすることができる。
ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホンと前記それ以外のビスフェノールとして用いる
４，４′−（１−メチルイソブチリデン）ビスフェノー
ルとの割合をモル比で100 ／０未満〜５／95以上の範囲
にすると、Ｒの値を1.220 以上から1.310 未満の範囲で
コントロールすることができる。
【００２９】また、前記ポリアリレート５においては、
ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホンと前記それ以外のビスフェノールとして用いる
４，４′−エチリデンビスフェノールとの割合をモル比
で100 ／０未満〜５／95以上の範囲にすると、Ｒの値を
1.200 以上から1.310 未満の範囲でコントロールするこ
とができる。
ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホンと前記それ以外のビスフェノールとして用いる
４，４′−エチリデンビスフェノールとの割合をモル比
で100 ／０未満〜５／95以上の範囲にすると、Ｒの値を
1.200 以上から1.310 未満の範囲でコントロールするこ
とができる。
【００３０】本発明の位相差フィルムは、たとえば前記
ポリアリレートをたとえば押出成形法あるいは前記ポリ
マーを溶媒に溶解した溶液からのキャスト法などによっ
て製造されるが、膜厚精度、表面性などの点から、溶液
キャスト法によるのが好ましい。
ポリアリレートをたとえば押出成形法あるいは前記ポリ
マーを溶媒に溶解した溶液からのキャスト法などによっ
て製造されるが、膜厚精度、表面性などの点から、溶液
キャスト法によるのが好ましい。
【００３１】前記溶液キャスト法としては、一般に高分
子素材から薄膜を成膜するばあいに用いられる方法であ
ればとくに限定されないが、前記ポリアリレートをたと
えば塩化メチレンなどの溶媒に溶かしたポリマー溶液を
ベルト上に流延し、40℃程度から最終的にはポリマーの
Ｔｇ付近まで昇温して溶媒を蒸発させることによりなさ
れる。前記フィルムの凝固条件および後処理条件などに
は、とくに限定はなく、一般に位相差フィルムの製造に
使用される条件であればよい。
子素材から薄膜を成膜するばあいに用いられる方法であ
ればとくに限定されないが、前記ポリアリレートをたと
えば塩化メチレンなどの溶媒に溶かしたポリマー溶液を
ベルト上に流延し、40℃程度から最終的にはポリマーの
Ｔｇ付近まで昇温して溶媒を蒸発させることによりなさ
れる。前記フィルムの凝固条件および後処理条件などに
は、とくに限定はなく、一般に位相差フィルムの製造に
使用される条件であればよい。
【００３２】かくしてえられた本発明の位相差フィルム
は、フィルムをポリマーのＴｇ±20℃、好ましくはＴｇ
±10℃の範囲で1.05〜３倍、好ましくは1.1 〜２倍に延
伸し、複屈折（△ｎ）を生じさせ、Ｒｅ＝△ｎ・ｄ（ｄ
はフィルムの厚さ）で表わされるレターデーション（Ｒ
ｅ）をもたせたものであり、ポリアリレート１〜５を単
独で用いることによりレターデーション値の比（Ｒ）が
1.195 〜1.310 の範囲のものがえられる。
は、フィルムをポリマーのＴｇ±20℃、好ましくはＴｇ
±10℃の範囲で1.05〜３倍、好ましくは1.1 〜２倍に延
伸し、複屈折（△ｎ）を生じさせ、Ｒｅ＝△ｎ・ｄ（ｄ
はフィルムの厚さ）で表わされるレターデーション（Ｒ
ｅ）をもたせたものであり、ポリアリレート１〜５を単
独で用いることによりレターデーション値の比（Ｒ）が
1.195 〜1.310 の範囲のものがえられる。
【００３３】（レターデーション比（Ｒ）） Ｒ＝Ｒｅ(400) ／Ｒｅ（550 ） （Ｉ） ただし、Ｒｅ(400) は波長400 ｎｍにおけるレターデー
ション値、Ｒｅ（550 ）は波長550 ｎｍにおけるレター
デーション値を示す。
ション値、Ｒｅ（550 ）は波長550 ｎｍにおけるレター
デーション値を示す。
【００３４】また、本発明の位相差フィルムは厚さ
（ｄ）が30〜200 μｍ、好ましくは50〜150 μｍであ
る。
（ｄ）が30〜200 μｍ、好ましくは50〜150 μｍであ
る。
【００３５】本発明においては、前記ポリアリレート１
を単独で用いたばあいのＲよりも小さいＲにしたいばあ
いには、ポリアリレート１に相溶性を有するポリカーボ
ネートを使用してＲの調節を行なうことができる。
を単独で用いたばあいのＲよりも小さいＲにしたいばあ
いには、ポリアリレート１に相溶性を有するポリカーボ
ネートを使用してＲの調節を行なうことができる。
【００３６】前記ポリアリレート１とポリカーボネート
を併用することにより、Ｒの値をポリアリレート１とポ
リカーボネートのＲの値の範囲で任意に調製することが
できるため、所望によりポリアリレートのＲの値の下限
である1.195 以下のものをうることができる。
を併用することにより、Ｒの値をポリアリレート１とポ
リカーボネートのＲの値の範囲で任意に調製することが
できるため、所望によりポリアリレートのＲの値の下限
である1.195 以下のものをうることができる。
【００３７】前記ポリカーボネートとしては、たとえば
（帝人パンライトＣ−1300、帝人化成（株）製）などが
あげられるが、これらに限定されない。
（帝人パンライトＣ−1300、帝人化成（株）製）などが
あげられるが、これらに限定されない。
【００３８】前記ポリアリレート１と前記ポリカーボネ
ートとの使用割合は重量比で、100／０〜10／90であ
る。ポリアリレート１とポリカーボネートとの割合が前
記範囲にあるばあいには、Ｒの値を1.160 〜1.215 にコ
ントロールすることができる。
ートとの使用割合は重量比で、100／０〜10／90であ
る。ポリアリレート１とポリカーボネートとの割合が前
記範囲にあるばあいには、Ｒの値を1.160 〜1.215 にコ
ントロールすることができる。
【００３９】なお、ポリアリレート２〜５とポリカーボ
ネートとは相溶性を有しないため、これらの混合物から
フィルムを製造しようとするとフィルムにしたとき相分
離して白く濁り、位相差フィルムとして使用することが
できるものがえられない。
ネートとは相溶性を有しないため、これらの混合物から
フィルムを製造しようとするとフィルムにしたとき相分
離して白く濁り、位相差フィルムとして使用することが
できるものがえられない。
【００４０】また、ポリサルホン類はＲの値が約1.3 と
大きな樹脂であるが、ポリカーボネートとは相溶性がわ
るく、たとえば塩化メチレンなどの溶媒中で均一に混合
しないため、キャスト法では位相差フィルムとして使用
にたえるフィルムが製造できず、ポリカーボネートとは
併用することができない。
大きな樹脂であるが、ポリカーボネートとは相溶性がわ
るく、たとえば塩化メチレンなどの溶媒中で均一に混合
しないため、キャスト法では位相差フィルムとして使用
にたえるフィルムが製造できず、ポリカーボネートとは
併用することができない。
【００４１】かくしてえられる本発明のポリアリレート
を含むものからの位相差フィルムにおいて、レターデー
ション値の比であるＲ（Ｒｅ(400) ／Ｒｅ(550) ）の値
はポリアリレート１単独またはポリカーボネートと併用
することにより、1.150 〜1.215 のものがえられ、ポリ
アリレート２〜５を各々単独で使用することにより、1.
195 〜1.310 のものがえられる。
を含むものからの位相差フィルムにおいて、レターデー
ション値の比であるＲ（Ｒｅ(400) ／Ｒｅ(550) ）の値
はポリアリレート１単独またはポリカーボネートと併用
することにより、1.150 〜1.215 のものがえられ、ポリ
アリレート２〜５を各々単独で使用することにより、1.
195 〜1.310 のものがえられる。
【００４２】なお、本発明の位相差フィルムは、所望に
より表面保護の目的でその片面または両面に通常使用さ
れるアクリル系、シリコン系などの有機ハードコート、
ＳｉＯ2 、ＳｉＡｌＯＮなどの無機ハードコートからな
るハードコート層を有してもよく、さらにエチレンビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニリデンなどの有機バリ
ア、ＳｉＯ2 などの無機バリアなどからなるガスバリア
層を有していてもよい。
より表面保護の目的でその片面または両面に通常使用さ
れるアクリル系、シリコン系などの有機ハードコート、
ＳｉＯ2 、ＳｉＡｌＯＮなどの無機ハードコートからな
るハードコート層を有してもよく、さらにエチレンビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニリデンなどの有機バリ
ア、ＳｉＯ2 などの無機バリアなどからなるガスバリア
層を有していてもよい。
【００４３】つぎに、本発明の位相差フィルムを合成例
および実施例にもとづいて説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
および実施例にもとづいて説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
【００４４】合成例１（ポリアリレート１−ａの合成） ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン 20.
11ｇ（0.0882モル）、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）メタン 15.06ｇ（0.0588モル）、パ
ラ−ｔ−ブチルフェノール0.95ｇ（0.006 モル）、ハイ
ドロサルファイトナトリウム0.26ｇ、５Ｎ ＮａＯＨ水
溶液78.2ミリリットルおよび水176.8 ミリリットルを、
300 ミリリットルのナス型フラスコに入れ、チッ素雰囲
気下で混合し、５℃に冷却して２価フェノールのアルカ
リ水溶液を調製した。
11ｇ（0.0882モル）、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）メタン 15.06ｇ（0.0588モル）、パ
ラ−ｔ−ブチルフェノール0.95ｇ（0.006 モル）、ハイ
ドロサルファイトナトリウム0.26ｇ、５Ｎ ＮａＯＨ水
溶液78.2ミリリットルおよび水176.8 ミリリットルを、
300 ミリリットルのナス型フラスコに入れ、チッ素雰囲
気下で混合し、５℃に冷却して２価フェノールのアルカ
リ水溶液を調製した。
【００４５】一方、テレフタル酸クロライド 21.32ｇ
（0.105 モル）、イソフタル酸クロライド9.14ｇ（0.04
50モル）および塩化メチレン 255ミリリットルを別の 3
00ミリリットルのナス型フラスコに入れ、チッ素雰囲気
下で溶解し、５℃に冷却した。
（0.105 モル）、イソフタル酸クロライド9.14ｇ（0.04
50モル）および塩化メチレン 255ミリリットルを別の 3
00ミリリットルのナス型フラスコに入れ、チッ素雰囲気
下で溶解し、５℃に冷却した。
【００４６】水 137ミリリットル、触媒としてベンジル
トリブチルアンモニウムクロライド0.16ｇを１リットル
のセパラブルフラスコ中にチッ素雰囲気下で仕込んで同
様に冷却した。これを激しく撹拌しながら、前記の２つ
の液を同時に10分間かけてポンプで連続的に添加した。
トリブチルアンモニウムクロライド0.16ｇを１リットル
のセパラブルフラスコ中にチッ素雰囲気下で仕込んで同
様に冷却した。これを激しく撹拌しながら、前記の２つ
の液を同時に10分間かけてポンプで連続的に添加した。
【００４７】添加終了後、２時間撹拌をつづけたのちベ
ンゾイルクロライド0.42ｇを塩化メチレン５ミリリット
ルに溶解したものを添加し、さらに20分間撹拌をつづけ
たのち撹拌を停止した。
ンゾイルクロライド0.42ｇを塩化メチレン５ミリリット
ルに溶解したものを添加し、さらに20分間撹拌をつづけ
たのち撹拌を停止した。
【００４８】水層をデカントしたのち、同量の水を加え
て撹拌しながら少量の塩酸で中和した。デカントと水洗
による脱塩をくり返したのち、塩化メチレン300 ミリリ
ットルを加えた溶液を40〜50℃に加熱し、塩化メチレン
との共沸脱水によりポリマーと塩化メチレンとを含む液
中の水を除去し、ポリマー濃度が15％（重量％、以下同
様）になるまで塩化メチレンを蒸留した。
て撹拌しながら少量の塩酸で中和した。デカントと水洗
による脱塩をくり返したのち、塩化メチレン300 ミリリ
ットルを加えた溶液を40〜50℃に加熱し、塩化メチレン
との共沸脱水によりポリマーと塩化メチレンとを含む液
中の水を除去し、ポリマー濃度が15％（重量％、以下同
様）になるまで塩化メチレンを蒸留した。
【００４９】えられたポリマーの溶液粘度は、ηsp／ｃ
＝0.90であった。
＝0.90であった。
【００５０】合成例２（ポリアリレート２−ａの合成） ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホン44.98 ｇ（0.147 モル）、パラ−ｔ−ブチルフェ
ノール0.95ｇ、ハイドロサルファイトナトリウム0.26
ｇ、ＮａＯＨ15.6ｇおよび水260 ミリリットルを300 ミ
リリットルのナス型フラスコに入れ、チッ素雰囲気下で
混合し、５℃に冷却して、２価フェノールのアルカリ水
溶液を調製した。一方、テレフタル酸クロライド15.23
ｇ、イソフタル酸クロライド15.23 ｇおよび塩化メチレ
ン255 ミリリットルを別の300 ミリリットルのナス型フ
ラスコに入れ、チッ素雰囲気下で溶解し、５℃に冷却し
た。
ルホン44.98 ｇ（0.147 モル）、パラ−ｔ−ブチルフェ
ノール0.95ｇ、ハイドロサルファイトナトリウム0.26
ｇ、ＮａＯＨ15.6ｇおよび水260 ミリリットルを300 ミ
リリットルのナス型フラスコに入れ、チッ素雰囲気下で
混合し、５℃に冷却して、２価フェノールのアルカリ水
溶液を調製した。一方、テレフタル酸クロライド15.23
ｇ、イソフタル酸クロライド15.23 ｇおよび塩化メチレ
ン255 ミリリットルを別の300 ミリリットルのナス型フ
ラスコに入れ、チッ素雰囲気下で溶解し、５℃に冷却し
た。
【００５１】水120 ミリリットル、触媒としてテトラブ
チルホスホニウムブロマイド0.11ｇを１リットルセパラ
ブルフラスコ中にチッ素雰囲気下で仕込んで同様に冷却
した。これを激しく撹拌しながら、前記の２つの液を同
時に10分間かけてポンプで連続的に添加した。
チルホスホニウムブロマイド0.11ｇを１リットルセパラ
ブルフラスコ中にチッ素雰囲気下で仕込んで同様に冷却
した。これを激しく撹拌しながら、前記の２つの液を同
時に10分間かけてポンプで連続的に添加した。
【００５２】添加終了後、２時間撹拌をつづけたのちベ
ンゾイルクロライド0.3 ｇを塩化メチレン５ミリリット
ルに溶解したものを添加し、さらに20分間撹拌をつづけ
たのち撹拌を停止した。
ンゾイルクロライド0.3 ｇを塩化メチレン５ミリリット
ルに溶解したものを添加し、さらに20分間撹拌をつづけ
たのち撹拌を停止した。
【００５３】水層をデカントしたのち、同量の水を加え
て撹拌しながら少量の塩酸で中和した。デカントと水洗
による脱塩をくり返したのち、塩化メチレン300 ミリリ
ットルを加えた溶液を40〜50℃に加熱し、塩化メチレン
との共沸脱水によりポリマーと塩化メチレンとを含む液
中の水を除去し、ポリマー濃度が18％になるまで塩化メ
チレンを蒸留した。
て撹拌しながら少量の塩酸で中和した。デカントと水洗
による脱塩をくり返したのち、塩化メチレン300 ミリリ
ットルを加えた溶液を40〜50℃に加熱し、塩化メチレン
との共沸脱水によりポリマーと塩化メチレンとを含む液
中の水を除去し、ポリマー濃度が18％になるまで塩化メ
チレンを蒸留した。
【００５４】えられたポリマーの溶液粘度は、ηsp／ｃ
＝0.95、ＴＭＡ法により求めたＴｇは290 ℃であった。
＝0.95、ＴＭＡ法により求めたＴｇは290 ℃であった。
【００５５】合成例３（ポリアリレート３−ａの合成） ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホン 20.79ｇ（0.0679モル）、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン 15.49ｇ（0.0679モル）、
パラ−ｔ−ブチルフェノール0.62ｇ、ハイドロサルファ
イトナトリウム0.48ｇ、ＮａＯＨ 13.44ｇおよび水224.
4 ミリリットルを300 ミリリットルのナス型フラスコに
入れ、チッ素雰囲気下で混合し、５℃に冷却して、２価
フェノールのアルカリ水溶液を調製した。一方、テレフ
タル酸クロライド13.99 ｇ、イソフタル酸クロライド1
3.99 ｇおよび塩化メチレン233 ミリリットルを別の300
ミリリットルのナス型フラスコに入れ、チッ素雰囲気
下に溶解し、５℃に冷却した。
ルホン 20.79ｇ（0.0679モル）、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン 15.49ｇ（0.0679モル）、
パラ−ｔ−ブチルフェノール0.62ｇ、ハイドロサルファ
イトナトリウム0.48ｇ、ＮａＯＨ 13.44ｇおよび水224.
4 ミリリットルを300 ミリリットルのナス型フラスコに
入れ、チッ素雰囲気下で混合し、５℃に冷却して、２価
フェノールのアルカリ水溶液を調製した。一方、テレフ
タル酸クロライド13.99 ｇ、イソフタル酸クロライド1
3.99 ｇおよび塩化メチレン233 ミリリットルを別の300
ミリリットルのナス型フラスコに入れ、チッ素雰囲気
下に溶解し、５℃に冷却した。
【００５６】水140 ミリリットル、触媒としてテトラブ
チルホスホニウムブロマイド0.14ｇを１リットルセパラ
ブルフラスコ中にチッ素雰囲気下で仕込んで同様に冷却
した。これを激しく撹拌しながら、前記の２つの液を同
時に10分間かけてポンプで連続的に添加した。
チルホスホニウムブロマイド0.14ｇを１リットルセパラ
ブルフラスコ中にチッ素雰囲気下で仕込んで同様に冷却
した。これを激しく撹拌しながら、前記の２つの液を同
時に10分間かけてポンプで連続的に添加した。
【００５７】添加終了後、２時間撹拌をつづけたのちベ
ンゾイルクロライド0.42ｇを塩化メチレン５ミリリット
ルに溶解したものを添加し、さらに20分間撹拌をつづけ
たのち撹拌を停止した。
ンゾイルクロライド0.42ｇを塩化メチレン５ミリリット
ルに溶解したものを添加し、さらに20分間撹拌をつづけ
たのち撹拌を停止した。
【００５８】水層をデカントしたのち、同量の水を加え
て撹拌しながら少量の塩酸で中和した。デカントと水洗
による脱塩をくり返したのち、塩化メチレン300 ミリリ
ットルを加えた溶液を40〜50℃に加熱し、塩化メチレン
との共沸脱水によりポリマーと塩化メチレンとを含む液
中の水を除去し、ポリマー濃度が18％になるまで塩化メ
チレンを蒸留した。
て撹拌しながら少量の塩酸で中和した。デカントと水洗
による脱塩をくり返したのち、塩化メチレン300 ミリリ
ットルを加えた溶液を40〜50℃に加熱し、塩化メチレン
との共沸脱水によりポリマーと塩化メチレンとを含む液
中の水を除去し、ポリマー濃度が18％になるまで塩化メ
チレンを蒸留した。
【００５９】えられたポリマーの溶液粘度は、ηsp／ｃ
＝0.85、ＴＭＡ法により求めたＴｇは240 ℃であった。
＝0.85、ＴＭＡ法により求めたＴｇは240 ℃であった。
【００６０】合成例４（ポリアリレート４−ａの合成） 合成例３において、２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンの代りに４，４′−（１−メチルイソブチ
リデン）ビスフェノール18.33 ｇを用いた他は合成例３
と同様にしてポリアリレート４−ａをえた。
ル）プロパンの代りに４，４′−（１−メチルイソブチ
リデン）ビスフェノール18.33 ｇを用いた他は合成例３
と同様にしてポリアリレート４−ａをえた。
【００６１】えられたポリマーの溶液粘度は、ηsp／ｃ
＝0.88、ＴＭＡ法により求めたＴｇは185 ℃であった。
＝0.88、ＴＭＡ法により求めたＴｇは185 ℃であった。
【００６２】合成例５（ポリアリレート５−ａの合成） 合成例３において、２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンの代りに４，４′−エチリデンビスフェノ
ール14.53 ｇを用いた他は合成例３と同様にしてポリア
リレート５−ａをえた。
ル）プロパンの代りに４，４′−エチリデンビスフェノ
ール14.53 ｇを用いた他は合成例３と同様にしてポリア
リレート５−ａをえた。
【００６３】えられたポリマーの溶液粘度は、ηsp／ｃ
＝0.85、ＴＭＡ法により求めたＴｇは170 ℃であった。
＝0.85、ＴＭＡ法により求めたＴｇは170 ℃であった。
【００６４】実施例１ 合成例１でえられたポリアリレート１−ａの塩化メチレ
ン溶液を混合し、ＳＵＳ板上に流延し、室温で１時間放
置後フィルムを剥し４辺固定治具で表１に示す条件で乾
燥し、厚さ約100 μｍのフィルムをえた。
ン溶液を混合し、ＳＵＳ板上に流延し、室温で１時間放
置後フィルムを剥し４辺固定治具で表１に示す条件で乾
燥し、厚さ約100 μｍのフィルムをえた。
【００６５】このフィルムから11cm×11cmのサンプルを
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表１の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表１に示す。
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表１の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表１に示す。
【００６６】実施例２〜５ ポリカーボネート樹脂（帝人パンライトＣ−1300、帝人
化成（株）製）100 ｇを塩化メチレン300 ミリリットル
に溶解した溶液を準備し、合成例１でえられたポリアリ
レート１−ａの塩化メチレン溶液と表１に示す割合で混
合した。これらの溶液をＳＵＳ板上に流延し室温で60分
放置後フィルムを剥し、４片固定治具に挟んで表１に示
す条件で乾燥し、約100 μｍのフィルムをえた。
化成（株）製）100 ｇを塩化メチレン300 ミリリットル
に溶解した溶液を準備し、合成例１でえられたポリアリ
レート１−ａの塩化メチレン溶液と表１に示す割合で混
合した。これらの溶液をＳＵＳ板上に流延し室温で60分
放置後フィルムを剥し、４片固定治具に挟んで表１に示
す条件で乾燥し、約100 μｍのフィルムをえた。
【００６７】このフィルムから11cm×11cmのサンプルを
切りとり、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−
ＨＴ）を用い表１の温度で延伸し、オーク製作所（株）
の顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて
レターデーション値（Ｒｅ(400) およびＲｅ（550)）を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表１に示す。
切りとり、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−
ＨＴ）を用い表１の温度で延伸し、オーク製作所（株）
の顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて
レターデーション値（Ｒｅ(400) およびＲｅ（550)）を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表１に示す。
【００６８】
【表１】
【００６９】実施例６ 合成例２でえられたポリアリレート２−ａの塩化メチレ
ン溶液を混合し、ＳＵＳ板上に流延し、室温で１時間放
置後フィルムを剥し４辺固定治具で表２に示す条件で乾
燥し、厚さ約100 μｍのフィルムをえた。
ン溶液を混合し、ＳＵＳ板上に流延し、室温で１時間放
置後フィルムを剥し４辺固定治具で表２に示す条件で乾
燥し、厚さ約100 μｍのフィルムをえた。
【００７０】このフィルムから11cm×11cmのサンプルを
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表２の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表２に示す。
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表２の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表２に示す。
【００７１】実施例７ 合成例３でえられたポリアリレート３−ａの塩化メチレ
ン溶液を表２に示す割合で混合し、ＳＵＳ板上に流延
し、室温で１時間放置後フィルムを剥し４辺固定治具で
表２に示す条件で乾燥し、厚さ約100 μｍのフィルムを
えた。
ン溶液を表２に示す割合で混合し、ＳＵＳ板上に流延
し、室温で１時間放置後フィルムを剥し４辺固定治具で
表２に示す条件で乾燥し、厚さ約100 μｍのフィルムを
えた。
【００７２】このフィルムから11cm×11cmのサンプルを
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表２の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表２に示す。
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表２の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表２に示す。
【００７３】実施例８〜９ 合成例３においてポリアリレート３−ａのビスフェノー
ルの成分を表２に示す割合に代えた他は実施例７と同様
にして、えられたフィルムの物性を求めた。その結果を
表２に示す。
ルの成分を表２に示す割合に代えた他は実施例７と同様
にして、えられたフィルムの物性を求めた。その結果を
表２に示す。
【００７４】
【表２】
【００７５】実施例10 合成例４でえられたポリアリレート４−ａの塩化メチレ
ン溶液を表３に示す割合で混合し、ＳＵＳ板上に流延
し、室温で１時間放置後フィルムを剥し４辺固定治具で
表３に示す条件で乾燥し、厚さ約100 μｍのフィルムを
えた。
ン溶液を表３に示す割合で混合し、ＳＵＳ板上に流延
し、室温で１時間放置後フィルムを剥し４辺固定治具で
表３に示す条件で乾燥し、厚さ約100 μｍのフィルムを
えた。
【００７６】このフィルムから11cm×11cmのサンプルを
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表３の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表３に示す。
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表３の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表３に示す。
【００７７】実施例11〜12 合成例４においてポリアリレート４−ａのビスフェノー
ルの成分を表３に示す割合に代えた他は実施例10と同様
にして、えられたフィルムの物性を求めた。その結果を
表３に示す。
ルの成分を表３に示す割合に代えた他は実施例10と同様
にして、えられたフィルムの物性を求めた。その結果を
表３に示す。
【００７８】
【表３】
【００７９】実施例13 合成例５でえられたポリアリレート５−ａの塩化メチレ
ン溶液を混合し、ＳＵＳ板上に流延し、室温で１時間放
置後フィルムを剥し４辺固定治具で表４に示す条件で乾
燥し、厚さ約100 μｍのフィルムをえた。
ン溶液を混合し、ＳＵＳ板上に流延し、室温で１時間放
置後フィルムを剥し４辺固定治具で表４に示す条件で乾
燥し、厚さ約100 μｍのフィルムをえた。
【００８０】このフィルムから11cm×11cmのサンプルを
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表４の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表４に示す。
作り、延伸試験装置（東洋精機製作所、Ｘ４ＨＤ−Ｈ
Ｔ）を用い表４の温度で延伸し、オーク製作所（株）の
顕微偏光分光光度計（ＴＦＭ−120 ＡＦＴ）を用いて40
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ(400) ）と55
0 ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ（550 ））を
測定した。延伸速度10cm／min （100 ％／min ）および
延伸倍率1.2 倍の条件によりえられたフィルムの物性を
求めた。その結果を表４に示す。
【００８１】実施例14〜15 合成例５においてポリアリレート５−ａのビスフェノー
ルの成分を表４に示す割合に代えた他は実施例13と同様
にして、えられたフィルムの物性を求めた。その結果を
表４に示す。
ルの成分を表４に示す割合に代えた他は実施例13と同様
にして、えられたフィルムの物性を求めた。その結果を
表４に示す。
【００８２】
【表４】
【００８３】
【発明の効果】本発明によれば同一面内で均一な複屈折
性を有し、かつ透明性の高いプラスチックフィルムを提
供することができる。
性を有し、かつ透明性の高いプラスチックフィルムを提
供することができる。
Claims (7)
- 【請求項１】 ポリアリレートを含むものからの位相差
フィルムであって、400 ｎｍにおけるレターデーション
値Ｒｅ(400) と550 ｎｍにおけるレターデーション値Ｒ
ｅ(550) の比であるＲ（Ｒｅ(400) ／Ｒｅ(550) ）が1.
15〜1.31であることを特徴とする位相差フィルム。 - 【請求項２】 ポリアリレートが、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、テレフタル酸お
よびイソフタル酸の混合物から製造されてなる請求項１
記載の位相差フィルム。 - 【請求項３】 ポリアリレートを含むものが、ポリアリ
レートとポリカーボネートとの混合物である請求項１記
載の位相差フィルム。 - 【請求項４】 ポリアリレートが、ビスフェノール成分
と酸成分とからなり、前記ビスフェノール成分が、ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ンと１種以上のその他のビスフェノール成分とがモル比
で５／95〜100 ／０のものからなり、前記酸成分がテレ
フタル酸とイソフタル酸とからなる請求項１記載の位相
差フィルム。 - 【請求項５】 前記その他のビスフェノール成分が、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンであ
る請求項４記載の位相差フィルム。 - 【請求項６】 前記その他のビスフェノール成分が、
４，４′−（１−メチルイソブチリデン）ビスフェノー
ルである請求項４記載の位相差フィルム。 - 【請求項７】 前記その他のビスフェノール成分が、
４，４′−エチリデンビスフェノールである請求項４記
載の位相差フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33061992A JPH06174923A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 位相差フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33061992A JPH06174923A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 位相差フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06174923A true JPH06174923A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18234689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33061992A Pending JPH06174923A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 位相差フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06174923A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0712013A2 (en) | 1994-11-10 | 1996-05-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Optically anisotropic film |
| US5875014A (en) * | 1996-05-09 | 1999-02-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Optically anisotropic film and liquid crystal display apparatus |
| JP2003195540A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| KR100827919B1 (ko) * | 2006-01-13 | 2008-05-07 | 주식회사 엘지화학 | 액정 표시 장치용 네가티브 ｃ 타입의 위상차 보상재 |
| JP2008169384A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-24 | Kaneka Corp | コーティング用樹脂、光学補償用薄膜、光学補償用積層体、光学補償用偏光板、及び液晶表示装置。 |
| JP2009080440A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-04-16 | Nitto Denko Corp | 光学フィルム、およびその製造方法 |
-
1992
- 1992-12-10 JP JP33061992A patent/JPH06174923A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0712013A2 (en) | 1994-11-10 | 1996-05-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Optically anisotropic film |
| US5736066A (en) * | 1994-11-10 | 1998-04-07 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Optically anisotropic film |
| US5875014A (en) * | 1996-05-09 | 1999-02-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Optically anisotropic film and liquid crystal display apparatus |
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| EP1971481A1 (en) * | 2006-01-13 | 2008-09-24 | LG Chem, Ltd. | Retardation compensators of negative c-type for liquid crystal display |
| EP1971481A4 (en) * | 2006-01-13 | 2011-06-01 | Lg Chemical Ltd | NEGATIVE C DELIVERY COMPENSATORS FOR A LIQUID CRYSTAL DISPLAY |
| US8470413B2 (en) | 2006-01-13 | 2013-06-25 | Lg Chem, Ltd. | Retardation compensators of negative C-type for liquid crystal display |
| US9040115B2 (en) | 2006-01-13 | 2015-05-26 | Lg Chem, Ltd. | Retardation compensators of negative C-type for liquid crystal display |
| JP2008169384A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-24 | Kaneka Corp | コーティング用樹脂、光学補償用薄膜、光学補償用積層体、光学補償用偏光板、及び液晶表示装置。 |
| JP2009080440A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-04-16 | Nitto Denko Corp | 光学フィルム、およびその製造方法 |
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