JPH058762B2 - - Google Patents
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- JPH058762B2 JPH058762B2 JP60016539A JP1653985A JPH058762B2 JP H058762 B2 JPH058762 B2 JP H058762B2 JP 60016539 A JP60016539 A JP 60016539A JP 1653985 A JP1653985 A JP 1653985A JP H058762 B2 JPH058762 B2 JP H058762B2
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- inspected
- pattern
- circuit
- partial
- circuit pattern
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 16
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
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- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、2次元回路パターンの検査装置に係
り、特にプリント基板、半導体集積回路ウエハ、
またはその製造用マスク等の回路パターンの欠陥
検査に適した回路パターン検査装置に関するもの
である。
り、特にプリント基板、半導体集積回路ウエハ、
またはその製造用マスク等の回路パターンの欠陥
検査に適した回路パターン検査装置に関するもの
である。
第5図aおよびbは集積回路製造用マスクの1
部分の拡大図で、aは欠陥のない完全なパターン
1、bはパターンの突起2a,断線2b,孤立欠
陥2cを含む欠陥パターン3を示す。従来このよ
うなマスクパターンの欠陥を検査する方法とし
て、被検査マスク上の同一パターンを有する2個
のチツプパターンを同時に撮像し、一方のパター
ンを手本パターン、他方のパターンを被検査パタ
ーンとして両者を比較し、両者の差異がある部分
を欠陥として判定する方法が実施されている。
部分の拡大図で、aは欠陥のない完全なパターン
1、bはパターンの突起2a,断線2b,孤立欠
陥2cを含む欠陥パターン3を示す。従来このよ
うなマスクパターンの欠陥を検査する方法とし
て、被検査マスク上の同一パターンを有する2個
のチツプパターンを同時に撮像し、一方のパター
ンを手本パターン、他方のパターンを被検査パタ
ーンとして両者を比較し、両者の差異がある部分
を欠陥として判定する方法が実施されている。
しかし、被検査マスク上の同一パターンを有す
る2個のチツプパターンを同時に撮像し、それぞ
れを手本パターンおよび被検査パターンとして両
者の位置ずれを完全に除去して重ね合わせても、
c図に示す如く、手本パターン1(破線にて表
示)と被検査パターン3(実線にて表示)は、欠
陥部分2a〜2c以外でも完全には一致しない。
る2個のチツプパターンを同時に撮像し、それぞ
れを手本パターンおよび被検査パターンとして両
者の位置ずれを完全に除去して重ね合わせても、
c図に示す如く、手本パターン1(破線にて表
示)と被検査パターン3(実線にて表示)は、欠
陥部分2a〜2c以外でも完全には一致しない。
その原因としては欠に述べるような理由が考え
られる。
られる。
(1) 露光,現像,エツチング等のマスク製作過程
において2つのパターンが欠陥とはならない程
度の微妙な差異を持つて形成される。
において2つのパターンが欠陥とはならない程
度の微妙な差異を持つて形成される。
(2) 比較すべき2つのパターンを撮像する光学系
のアンバランスおよびマスクを載せたステージ
の走行誤差等により図形歪みが生じる。
のアンバランスおよびマスクを載せたステージ
の走行誤差等により図形歪みが生じる。
このため、dに示す如く、手本パターン1と被
検査パターン3の不一致部分には、2a〜2cの
欠陥以外に、パターン輪郭部の不一致によつて生
ずる擬似欠陥4が含まれることになる。
検査パターン3の不一致部分には、2a〜2cの
欠陥以外に、パターン輪郭部の不一致によつて生
ずる擬似欠陥4が含まれることになる。
この擬似欠陥4を除去する方法として、従来た
とえば特公昭54−37475号公報で述べられている
方法がある。この方法では、擬似欠陥を除去する
ために、手本パターンと被検査パターンの不一致
部分を欠陥候補として検出すると同時に、手本パ
ターンおよび被検査パターンの双方からそれぞれ
パターンの輪郭部分を抽出する。そして、手本パ
ターンおよび被検査パターンそれぞれの隣郭部分
から共通輪郭部分を抽出し、前記欠陥候補のう
ち、該共通輪郭部分に属するものを擬似欠陥とし
て除去する。
とえば特公昭54−37475号公報で述べられている
方法がある。この方法では、擬似欠陥を除去する
ために、手本パターンと被検査パターンの不一致
部分を欠陥候補として検出すると同時に、手本パ
ターンおよび被検査パターンの双方からそれぞれ
パターンの輪郭部分を抽出する。そして、手本パ
ターンおよび被検査パターンそれぞれの隣郭部分
から共通輪郭部分を抽出し、前記欠陥候補のう
ち、該共通輪郭部分に属するものを擬似欠陥とし
て除去する。
しかしこの方法では、第5図bに示すパターン
断線2bおよび孤立欠陥2cは検出できるがパタ
ーン輪郭部に生じる微小な突起2aは前記共通輪
郭部分に覆われてしまい検出することが困難にな
る。また、このような微小な欠陥を検出するため
に、パターン検出画素サイズを小さくすると、検
査速度が遅くなつて、装置のスルーブツトが低下
してしまうことになる。また、従来技術として特
開昭59−157505号公報が知られている。しかしな
がら、この従来技術の場合、抽出された欠陥候補
について詳細解析する時間中被検査パターンおよ
び手本パターンの画像データを蓄えておくことが
必要であり、非常に複雑な装置構成にせざるえな
い課題を有するものである。
断線2bおよび孤立欠陥2cは検出できるがパタ
ーン輪郭部に生じる微小な突起2aは前記共通輪
郭部分に覆われてしまい検出することが困難にな
る。また、このような微小な欠陥を検出するため
に、パターン検出画素サイズを小さくすると、検
査速度が遅くなつて、装置のスルーブツトが低下
してしまうことになる。また、従来技術として特
開昭59−157505号公報が知られている。しかしな
がら、この従来技術の場合、抽出された欠陥候補
について詳細解析する時間中被検査パターンおよ
び手本パターンの画像データを蓄えておくことが
必要であり、非常に複雑な装置構成にせざるえな
い課題を有するものである。
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決す
べく、簡単な構成により、被検査対象となる被検
査回路パターンから走査撮像して検出される被検
査2次元濃淡多値画像信号と、該被検査回路パタ
ーンに対応した手本回路パターン或いは前記被検
査回路パターンと本来同一の形状を有する被検査
回路パターンから得られる基準2次元濃淡多値画
像信号との間に微小な位置ずれ量を許容した状態
ので、前記被検査対象となる被検査回路パターン
に存在する画素寸法と同程度の大きさの微小な欠
陥を擬似欠陥を発生することなく高い信頼度で検
査できるようにした回路パターン検査装置を提供
することにある。
べく、簡単な構成により、被検査対象となる被検
査回路パターンから走査撮像して検出される被検
査2次元濃淡多値画像信号と、該被検査回路パタ
ーンに対応した手本回路パターン或いは前記被検
査回路パターンと本来同一の形状を有する被検査
回路パターンから得られる基準2次元濃淡多値画
像信号との間に微小な位置ずれ量を許容した状態
ので、前記被検査対象となる被検査回路パターン
に存在する画素寸法と同程度の大きさの微小な欠
陥を擬似欠陥を発生することなく高い信頼度で検
査できるようにした回路パターン検査装置を提供
することにある。
本発明は、上記目的を達成するために、被検査
対象となる被検査回路パターンから走査撮像して
検出される被検査2次元濃淡多値画像信号と、該
被検査回路パターンに対応した手本回路パターン
或いは前記被検査回路パターンと本来同一の形状
を有する被検査回路パターンから得られる基準2
次元濃淡多値画像信号とに基づいて前記被検査対
象となる回転パターンの欠陥を検出するように構
成された回路パターン検査装置において、前記被
検査2次元濃淡多値画像信号から前記走査に同期
させて順次3×3画素からなる被検査部分濃淡多
値画像信号を切出す被検査部分画像切出回路と、
前記基準2次元濃淡多値画像信号から前記走査に
同期させて位置ずれ量として縦横±n画素(但し
nは許容される位置ずれ量から予め定められる2
以上の自然数)を考慮して順次(3+2n)×(3
+2n)画素からなる基準拡大部分濃淡多値画像
信号を切出す基準部分画像切出回路と、該基準部
分画像切出回路によつて切出される(3+2n)×
(3+2n)画素からなる基準拡大部分濃淡多値画
像信号から同時に中心から縦横±に2画素までシ
フトさせた(1+2n)×(1+2n)通りの3×3
画素から基準部分濃淡多値画像信号を切出し、該
(1+2n)×(1+2n)通りの基準部分濃淡多値画
像信号の各々について前記被検査部分画像切換回
路により切出された被検査部分濃淡多値画像信号
との画素毎の差分を取つてその絶対値を3×3の
画素に亘つて積分して該積分値が所定の闘値を越
えないか否かの一致または不一致信号を出力し、
前記(1+2n)×(1+2n)通りに亘つての不一
致信号の論理積をとつて(1+2n)×(1+2n)
通りに亘つて一致信号が検出されないとき、被検
査回路パターンに欠陥が存在するとして検査する
比検査回路とを備えたことを特徴とする回路パタ
ーン検査装置である。
対象となる被検査回路パターンから走査撮像して
検出される被検査2次元濃淡多値画像信号と、該
被検査回路パターンに対応した手本回路パターン
或いは前記被検査回路パターンと本来同一の形状
を有する被検査回路パターンから得られる基準2
次元濃淡多値画像信号とに基づいて前記被検査対
象となる回転パターンの欠陥を検出するように構
成された回路パターン検査装置において、前記被
検査2次元濃淡多値画像信号から前記走査に同期
させて順次3×3画素からなる被検査部分濃淡多
値画像信号を切出す被検査部分画像切出回路と、
前記基準2次元濃淡多値画像信号から前記走査に
同期させて位置ずれ量として縦横±n画素(但し
nは許容される位置ずれ量から予め定められる2
以上の自然数)を考慮して順次(3+2n)×(3
+2n)画素からなる基準拡大部分濃淡多値画像
信号を切出す基準部分画像切出回路と、該基準部
分画像切出回路によつて切出される(3+2n)×
(3+2n)画素からなる基準拡大部分濃淡多値画
像信号から同時に中心から縦横±に2画素までシ
フトさせた(1+2n)×(1+2n)通りの3×3
画素から基準部分濃淡多値画像信号を切出し、該
(1+2n)×(1+2n)通りの基準部分濃淡多値画
像信号の各々について前記被検査部分画像切換回
路により切出された被検査部分濃淡多値画像信号
との画素毎の差分を取つてその絶対値を3×3の
画素に亘つて積分して該積分値が所定の闘値を越
えないか否かの一致または不一致信号を出力し、
前記(1+2n)×(1+2n)通りに亘つての不一
致信号の論理積をとつて(1+2n)×(1+2n)
通りに亘つて一致信号が検出されないとき、被検
査回路パターンに欠陥が存在するとして検査する
比検査回路とを備えたことを特徴とする回路パタ
ーン検査装置である。
以下本発明の一実施例を図に基づき説明する。
第1図a〜gは本発明の原理図で、a図はB部に
パターンの突起による欠陥9を含む被検査パター
ン5と手本パターン6を重ね合せた状態を示し、
b図は被検査パターン5のA部を3×3画素のウ
インドウを用いて切出した部分画像7c図は手本
パターン6の同じくA部を7×7画素のウインド
ウを用いて切出した部分画像8を示し、d図は被
検査パターン5の部分画像7と手本パターン6の
部分画像8を不一致画素数が最小となるように位
置合せした状態を示す。e〜f図はb〜d図と同
様、被検査パターン5および手本パターン6のB
部について切出した部分画像7′、部分画像8′お
よび該部分画像の不一致画素数が最小となるよう
に位置合せした状態を示す。
第1図a〜gは本発明の原理図で、a図はB部に
パターンの突起による欠陥9を含む被検査パター
ン5と手本パターン6を重ね合せた状態を示し、
b図は被検査パターン5のA部を3×3画素のウ
インドウを用いて切出した部分画像7c図は手本
パターン6の同じくA部を7×7画素のウインド
ウを用いて切出した部分画像8を示し、d図は被
検査パターン5の部分画像7と手本パターン6の
部分画像8を不一致画素数が最小となるように位
置合せした状態を示す。e〜f図はb〜d図と同
様、被検査パターン5および手本パターン6のB
部について切出した部分画像7′、部分画像8′お
よび該部分画像の不一致画素数が最小となるよう
に位置合せした状態を示す。
a図に示す如く、被検査パターン5と手本パタ
ーン6を重ね合せその不一致部分を欠陥として検
出した場合、その検出結果にはB部の欠陥9と同
時にc部のパターンずれが含まれる。しかし、c
部のパターンずれは前述したように、本来欠陥と
して検出すべきでない擬似欠陥である。この擬似
欠陥の発生を防止するため、b図に示す如く被検
査パターン5をある画素7Aを中心とする例えば
3×3画素のウインドウを用いて部分画像7とし
て切出すとともに、c図に示す如く手本パターン
6を、画素7Aに対応する画素7Bを中心に例え
ば7×7画素のウインドウを用いて部分画像8と
して切出す。そして部分画像7を部分画像8内で
動かし、d図に示す如く両部分画像の不一致画素
数が最小となるように位置合せを行う。このウイ
ンドウを用いた位置合せ後の不一致部分を欠陥と
して検出することにより、a図に示す被検査パタ
ーン5および手本パターン6のA部における不一
致は吸収することができ擬似欠陥の発生が防止で
きる。また同様の位置合せを被検査パターン全面
に対して行うことにより、a図に示したc部のパ
ターンずれによる不一致はすべて、吸収すること
ができ擬似欠陥の発生が防止できる。これに対
し、a図に示したB部のパターンは、e図に示す
部分画像7′を、f図に示す部分画像8′内でいか
に位置合せを行なつてもg図に示す如く不一致画
素が残るため、欠陥9は検出することができる。
被検査パターン5を切出す3×3画素のウインド
ウサイズを例えば5×5画素にすれば位置合せ補
正範囲は±1画素となり、例えば9×9画素にす
れば位置合せ補正範囲は±3画素となる。このよ
うに手本パターン6を切出すウインドウサイズを
変更することにより、被検査パターンと手本パタ
ーンの位置合せ補正範囲を変更することができ
る。
ーン6を重ね合せその不一致部分を欠陥として検
出した場合、その検出結果にはB部の欠陥9と同
時にc部のパターンずれが含まれる。しかし、c
部のパターンずれは前述したように、本来欠陥と
して検出すべきでない擬似欠陥である。この擬似
欠陥の発生を防止するため、b図に示す如く被検
査パターン5をある画素7Aを中心とする例えば
3×3画素のウインドウを用いて部分画像7とし
て切出すとともに、c図に示す如く手本パターン
6を、画素7Aに対応する画素7Bを中心に例え
ば7×7画素のウインドウを用いて部分画像8と
して切出す。そして部分画像7を部分画像8内で
動かし、d図に示す如く両部分画像の不一致画素
数が最小となるように位置合せを行う。このウイ
ンドウを用いた位置合せ後の不一致部分を欠陥と
して検出することにより、a図に示す被検査パタ
ーン5および手本パターン6のA部における不一
致は吸収することができ擬似欠陥の発生が防止で
きる。また同様の位置合せを被検査パターン全面
に対して行うことにより、a図に示したc部のパ
ターンずれによる不一致はすべて、吸収すること
ができ擬似欠陥の発生が防止できる。これに対
し、a図に示したB部のパターンは、e図に示す
部分画像7′を、f図に示す部分画像8′内でいか
に位置合せを行なつてもg図に示す如く不一致画
素が残るため、欠陥9は検出することができる。
被検査パターン5を切出す3×3画素のウインド
ウサイズを例えば5×5画素にすれば位置合せ補
正範囲は±1画素となり、例えば9×9画素にす
れば位置合せ補正範囲は±3画素となる。このよ
うに手本パターン6を切出すウインドウサイズを
変更することにより、被検査パターンと手本パタ
ーンの位置合せ補正範囲を変更することができ
る。
第2図は、本発明の実施例ではない2値画素信
号に基づいて回路パターンの欠陥を検査する場合
を示した本発明の補足説明用のブロツク図であ
る。図において10は3×3切出回路で、被検査
パターン5から3×3画素の部分画像を切出す。
11は7×7切出回路で、手本パターン6から7
×7画素の部分画線を切出す。12−1乃至12
−25は3×3切出回路で前記7×7切出回路1
1によつて手本パターン6から切出した7×7画
素の部分画像から更に25個の3×3画素の部分画
像を切出す。13−1乃至13−25は排他的論
理和で、前記3×3切出回路10からの出力と前
記3×3切出回路12−1乃至12−25からの
出力に対しそれぞれ各画素毎の排他的論理和を演
算する。論理和回路14−1乃至14−25は前
記排他的論理和13−1乃至13−25から各出
力毎の論理和を演算し、論理積15では、前記論
理和回路14−1乃至14−25の出力の論理積
を演算する。この論理積の出力が欠陥信号16と
なる。
号に基づいて回路パターンの欠陥を検査する場合
を示した本発明の補足説明用のブロツク図であ
る。図において10は3×3切出回路で、被検査
パターン5から3×3画素の部分画像を切出す。
11は7×7切出回路で、手本パターン6から7
×7画素の部分画線を切出す。12−1乃至12
−25は3×3切出回路で前記7×7切出回路1
1によつて手本パターン6から切出した7×7画
素の部分画像から更に25個の3×3画素の部分画
像を切出す。13−1乃至13−25は排他的論
理和で、前記3×3切出回路10からの出力と前
記3×3切出回路12−1乃至12−25からの
出力に対しそれぞれ各画素毎の排他的論理和を演
算する。論理和回路14−1乃至14−25は前
記排他的論理和13−1乃至13−25から各出
力毎の論理和を演算し、論理積15では、前記論
理和回路14−1乃至14−25の出力の論理積
を演算する。この論理積の出力が欠陥信号16と
なる。
第3図は、第2図の7×7切出回路11の出力
から3×3切出回路12−1乃至12−25によ
り25個の3×3画素部分画像を切出す動作の説明
図である。a図は7×7切出回路11により切出
された部分画像8を、b図は、部分画像8からさ
らに切出された25個の3×3画素部分画像8−1
乃至8−25を示す。図示の如く、25個の3×3
画素部分画像8−1乃至8−25は、7×7画素
部分画像8の中心5×5画素の各画素が中心とな
るように切出される。
から3×3切出回路12−1乃至12−25によ
り25個の3×3画素部分画像を切出す動作の説明
図である。a図は7×7切出回路11により切出
された部分画像8を、b図は、部分画像8からさ
らに切出された25個の3×3画素部分画像8−1
乃至8−25を示す。図示の如く、25個の3×3
画素部分画像8−1乃至8−25は、7×7画素
部分画像8の中心5×5画素の各画素が中心とな
るように切出される。
このようにして手本パターン6から切出した25
個の3×3画素部分画像8−1乃至8−25を、
第2図に示す如く被検査パターン5から切出した
3×3画素部分画像7と比較し、各画素毎の排他
的論理和を演算することにより、部分画像7を部
分画像8内で位置合せすることができる。排他的
論理和13−1乃至13−25の出力のうち少な
くとも1つの出力がすべて“0”であるなら前記
位置合せにより、被検査パターン5と手本パター
ン6が完全に一致したことを示し論理積15の出
力である欠陥信号16も“0”となる。これに対
し、部分画像7を部分画像8内でどのように位置
合せしても不一致画素が生じる場合は、論理積1
5の出力である欠陥信号16は“1”となり、欠
陥が検出できる。
個の3×3画素部分画像8−1乃至8−25を、
第2図に示す如く被検査パターン5から切出した
3×3画素部分画像7と比較し、各画素毎の排他
的論理和を演算することにより、部分画像7を部
分画像8内で位置合せすることができる。排他的
論理和13−1乃至13−25の出力のうち少な
くとも1つの出力がすべて“0”であるなら前記
位置合せにより、被検査パターン5と手本パター
ン6が完全に一致したことを示し論理積15の出
力である欠陥信号16も“0”となる。これに対
し、部分画像7を部分画像8内でどのように位置
合せしても不一致画素が生じる場合は、論理積1
5の出力である欠陥信号16は“1”となり、欠
陥が検出できる。
以上の説明は被検査パターン5および手本パタ
ーン6がともに2値画像である場合を例としたも
のである。
ーン6がともに2値画像である場合を例としたも
のである。
第4図は本発明による濃淡多値画像信号に基づ
く回路パターン検査装置の一実施例を示すブロツ
ク図で、被検査パターンおよび手本パターンがと
もに多値画像である場合を示す。第2図と同様、
まず被検査パターン5′から3×3切出回路1
0′により3×3画素部分画像7″を切出すととも
に、手本パターン6′から7×7切出回路11′に
より7×7画素部分画像8″を切出す。該7×7
画素部分8″から3×3切出回路12′−1乃至1
2′−25により25個の3×3画素部分画像を切
出した後、該部分画像と前記部分画像7″との各
画素毎の差分を差分回路17−1乃至17−25
により演算する。次に該差分回路17−1乃至1
7−25の出力の絶対値を絶対値回路18−1乃
至18−25で演算した後、該出力を積分回路1
9−1乃至19−25にて積分する。この積分回
路19−1乃至19−25の出力は、被検査パタ
ーン5′の部分画像7″を、手本パターン6′の部
分画像8″内で位置合せした時の各位置における
画像の不一致量を表わす。このため、部分画像
7″が部分画像8″内のある位置で不一致量が零と
なり、完全に位置合せができた場合、該位置に対
応する積分回路19の出力は零となる。しかし通
常多値画像同志の位置合せは、不一致量が完全に
零となることは少なく不一致量がある値以下の場
合は位置合せができたものと見なす必要がある。
そこで積分回路19−1乃至19−25の出力を
比較回路20−1乃至20−25によりある定数
21と比較し、前記積分回路の出力が定数21よ
り大きい場合は“1”をそうでない場合は“0”
を出力するようにする。そして該比較回路の出力
の論理積を論理積回路15で演算することによ
り、前記被検査パターン5′の部分画像7″が前記
手本パターン6′の部分画像8″内で位置合せがで
きた場合“0”、どのように位置合せを行つても
不一致量がある値以上となる場合“1”となる欠
陥信号16を得ることができる。
く回路パターン検査装置の一実施例を示すブロツ
ク図で、被検査パターンおよび手本パターンがと
もに多値画像である場合を示す。第2図と同様、
まず被検査パターン5′から3×3切出回路1
0′により3×3画素部分画像7″を切出すととも
に、手本パターン6′から7×7切出回路11′に
より7×7画素部分画像8″を切出す。該7×7
画素部分8″から3×3切出回路12′−1乃至1
2′−25により25個の3×3画素部分画像を切
出した後、該部分画像と前記部分画像7″との各
画素毎の差分を差分回路17−1乃至17−25
により演算する。次に該差分回路17−1乃至1
7−25の出力の絶対値を絶対値回路18−1乃
至18−25で演算した後、該出力を積分回路1
9−1乃至19−25にて積分する。この積分回
路19−1乃至19−25の出力は、被検査パタ
ーン5′の部分画像7″を、手本パターン6′の部
分画像8″内で位置合せした時の各位置における
画像の不一致量を表わす。このため、部分画像
7″が部分画像8″内のある位置で不一致量が零と
なり、完全に位置合せができた場合、該位置に対
応する積分回路19の出力は零となる。しかし通
常多値画像同志の位置合せは、不一致量が完全に
零となることは少なく不一致量がある値以下の場
合は位置合せができたものと見なす必要がある。
そこで積分回路19−1乃至19−25の出力を
比較回路20−1乃至20−25によりある定数
21と比較し、前記積分回路の出力が定数21よ
り大きい場合は“1”をそうでない場合は“0”
を出力するようにする。そして該比較回路の出力
の論理積を論理積回路15で演算することによ
り、前記被検査パターン5′の部分画像7″が前記
手本パターン6′の部分画像8″内で位置合せがで
きた場合“0”、どのように位置合せを行つても
不一致量がある値以上となる場合“1”となる欠
陥信号16を得ることができる。
以上詳細に説明したように、本実施例によれば
被検査パターンの大きさが、手本パターンと多少
異なつていても、擬似欠陥を発生することなく、
微小な欠陥を高い信頼度で検出することが可能と
なる。また、本実施例によれば、検出画素サイズ
と同程度の大きさの微小な欠陥を検出することが
できるため、高速に被検査パターンを撮像するこ
とができ、検査時間の大幅な短縮に効果がある。
被検査パターンの大きさが、手本パターンと多少
異なつていても、擬似欠陥を発生することなく、
微小な欠陥を高い信頼度で検出することが可能と
なる。また、本実施例によれば、検出画素サイズ
と同程度の大きさの微小な欠陥を検出することが
できるため、高速に被検査パターンを撮像するこ
とができ、検査時間の大幅な短縮に効果がある。
以上説明したように、本発明によれば、簡単な
構成により、プリント基板、半導体集積回路ウエ
ハ等の被検査対象となる被検査回路パターンから
走査撮像して検出される被検査2次元濃淡多値画
像信号と、該被検査回路パターンに対応した手本
パターン或いは前記被検査回路パターンと本来同
一の形状を有する被検査回路パターンから得られ
る基準2次元濃淡多値画像信号との間に微小な位
置ずれ量を許容した状態で、前記被検査対象とな
る被検査回路パターンに存在する画素寸法と同程
度の大きさの微小な欠陥を擬似欠陥を発生するこ
となく高い信頼度で検査することができる効果を
奏する。
構成により、プリント基板、半導体集積回路ウエ
ハ等の被検査対象となる被検査回路パターンから
走査撮像して検出される被検査2次元濃淡多値画
像信号と、該被検査回路パターンに対応した手本
パターン或いは前記被検査回路パターンと本来同
一の形状を有する被検査回路パターンから得られ
る基準2次元濃淡多値画像信号との間に微小な位
置ずれ量を許容した状態で、前記被検査対象とな
る被検査回路パターンに存在する画素寸法と同程
度の大きさの微小な欠陥を擬似欠陥を発生するこ
となく高い信頼度で検査することができる効果を
奏する。
第1図は本発明によるパターン検査方法の原理
を示す図、第2図は第1図の原理に基づく2値画
素信号に基づいて回路パターンの欠陥を検査する
場合を示した本発明の補足説明用のブロツク図、
第3図はその3×3切出回路の動作を示すブロツ
ク図、第4図は本発明による濃淡多値画像信号に
基づく回路パターン検査装置の一実施例を示すブ
ロツク図、第5図は従来のパターン検査方法の説
明図である。 5,5′…被検査パターン、6,6…手本パタ
ーン、10,10′,12−1乃至12−25,
12′−1乃至12′−25…3×3切出回路、1
1,11′…7×7切出回路、13−1乃至13
−25…排他的論理和、14−1乃至14−25
…論理和、15…論理積、16…欠陥。
を示す図、第2図は第1図の原理に基づく2値画
素信号に基づいて回路パターンの欠陥を検査する
場合を示した本発明の補足説明用のブロツク図、
第3図はその3×3切出回路の動作を示すブロツ
ク図、第4図は本発明による濃淡多値画像信号に
基づく回路パターン検査装置の一実施例を示すブ
ロツク図、第5図は従来のパターン検査方法の説
明図である。 5,5′…被検査パターン、6,6…手本パタ
ーン、10,10′,12−1乃至12−25,
12′−1乃至12′−25…3×3切出回路、1
1,11′…7×7切出回路、13−1乃至13
−25…排他的論理和、14−1乃至14−25
…論理和、15…論理積、16…欠陥。
Claims (1)
- 1 被検査対象となる被検査回路パターンから走
査撮像して検出される被検査2次元濃淡多値画像
信号と、該被検査回路パターンに対応した手本回
路パターン或いは前記被検査回路パターンと本来
同一の形状を有する被検査回路パターンから得ら
れる基準2次元濃淡多値画像信号とに基づいて前
記被検査対象となる回路パターンの欠陥を検出す
るように構成された回路パターン検査装置におい
て、前記被検査2次元濃淡多値画像信号から前記
走査に同期させて順次3×3画素からなる被検査
部分濃淡多値画像信号を切出す被検査部分画像切
出回路と、前記基準2次元濃淡多値画像信号から
前記走査に同期させて位置ずれ量として縦横±n
画素(但しnは許容される位置ずれ量から予め定
められる2以上の自然数)を考慮して順次(3+
2n)×(3+2n)画素からなる基準拡大部分濃淡
多値画像信号を切出す基準部分画像切出回路と、
該基準部分画像切出回路によつて切出される(3
+2n)×(3+2n)画素からなる基準拡大部分濃
淡多値画像信号から同時に中心から縦横±に2画
素までシフトさせた(1+2n)×(1+2n)通り
の3×3画素から基準部分濃淡多値画像信号を切
出し、該(1+2n)×(1+2n)通りの基準部分
濃淡多値画像信号の各々について前記被検査部分
画像切換回路により切出された被検査部分濃淡多
値画像信号との画素毎の差分を取つてその絶対値
を3×3の画素に亘つて積分して該積分値が所定
の闘値を越えないか否かの一致または不一致信号
を出力し、前記(1+2n)×(1+2n)通りに亘
つての不一致信号の論理積をとつて(1+2n)×
(1+2n)通りに亘つて一致信号が検出されない
とき、被検査回路パターンに欠陥が存在するとし
て検査する比検査回路とを備えたことを特徴とす
る回路パターン検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60016539A JPS61176807A (ja) | 1985-02-01 | 1985-02-01 | 回路パターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60016539A JPS61176807A (ja) | 1985-02-01 | 1985-02-01 | 回路パターン検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61176807A JPS61176807A (ja) | 1986-08-08 |
JPH058762B2 true JPH058762B2 (ja) | 1993-02-03 |
Family
ID=11919068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60016539A Granted JPS61176807A (ja) | 1985-02-01 | 1985-02-01 | 回路パターン検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61176807A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63167980A (ja) * | 1986-12-30 | 1988-07-12 | Narumi China Corp | プリント配線パタ−ン等の欠陥検査方法およびその装置 |
JPH0820231B2 (ja) * | 1989-03-10 | 1996-03-04 | 富士通株式会社 | マスクパターン検査方法 |
JPH0663734B2 (ja) * | 1989-11-28 | 1994-08-22 | 花王株式会社 | 表示図柄のずれ検査装置 |
JP4145868B2 (ja) | 2004-12-03 | 2008-09-03 | 株式会社ソニー・コンピュータエンタテインメント | マルチメディア再生装置およびメニュー画面表示方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59157505A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-06 | Hitachi Ltd | パタ−ン検査装置 |
-
1985
- 1985-02-01 JP JP60016539A patent/JPS61176807A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59157505A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-06 | Hitachi Ltd | パタ−ン検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61176807A (ja) | 1986-08-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |