JPH0514695B2 - - Google Patents
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- JPH0514695B2 JPH0514695B2 JP59136380A JP13638084A JPH0514695B2 JP H0514695 B2 JPH0514695 B2 JP H0514695B2 JP 59136380 A JP59136380 A JP 59136380A JP 13638084 A JP13638084 A JP 13638084A JP H0514695 B2 JPH0514695 B2 JP H0514695B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は２−置換−５−メチル−４−ヘキセン
−１−アールの製造方法に関し、詳しくはアルデ
ヒドと１−ハロゲノ−３−メチル−２−ブテンと
カ性アルカリ、水及び相間移動触媒の存在下に反
応させ、ついで得られた反応混合物を酸処理する
ことにより２−置換−５−メチル−４−ヘキセン
−１−アールを製造する方法に関する。 本発明の方法により製造される２−置換−５−
メチル−４−ヘキセン−１−アールは香料の香気
成分又はその合成原料として有用な化合物〔油化
学、第31巻、第295〜299頁（1982年）参照〕。 〔従来の技術〕 従来、２−置換−５−メチル−４−ヘキセン−
１−アールは下記の方法(1)、(2)、(3)又は(4)により
製造されることが知られている。 〔Bull.Soc.Chim.France，2618（1964）参照）〕 〔Tetrahedron Letters，No.15，1273（1973）参
照〕 〔Tetrahedron Letters，No.5491（1978）参照〕 〔油化学、第31巻、第295頁（1982年）参照〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記の従来法(1)では、135℃の高温で30時間と
長時間反応させる必要があり、しかも目的とする
アルデヒドの収率が23％と低い。従来法(2)では２
−エチル−１−ヘキセニル ３−メチル−２−ブ
テニルエーテルが多量に副生し、しかも目的とす
るアルデヒドとの分離が困難である。また従来法
(3)では反応試剤である水素化カリウム、テトラヒ
ドロフラン（THF）が高価である。さらに従来
法(4)では水素化リチウムアルミニウム、ピリジニ
ウムクロロクロメートなどの反応試剤が高価であ
り、しかも反応工程が長い。従つて、これらの従
来法はいずれも２−置換−５−メチル−４−ヘキ
セン−１−アール−の有利な製造方法ではない。 本発明の目的は、高純度の２−置換−５−メチ
ル−４−ヘキセン−１−アールを安価にしかも好
収率で製造し得る方法を提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明によれば、上記の目的は、一般式 （式中、R1及びR2は同一又は異なり各々低級ア
ルキル基若しくは低級アルケニル基を表わすか、
又はR1とR2が一緒になつて
−１−アールの製造方法に関し、詳しくはアルデ
ヒドと１−ハロゲノ−３−メチル−２−ブテンと
カ性アルカリ、水及び相間移動触媒の存在下に反
応させ、ついで得られた反応混合物を酸処理する
ことにより２−置換−５−メチル−４−ヘキセン
−１−アールを製造する方法に関する。 本発明の方法により製造される２−置換−５−
メチル−４−ヘキセン−１−アールは香料の香気
成分又はその合成原料として有用な化合物〔油化
学、第31巻、第295〜299頁（1982年）参照〕。 〔従来の技術〕 従来、２−置換−５−メチル−４−ヘキセン−
１−アールは下記の方法(1)、(2)、(3)又は(4)により
製造されることが知られている。 〔Bull.Soc.Chim.France，2618（1964）参照）〕 〔Tetrahedron Letters，No.15，1273（1973）参
照〕 〔Tetrahedron Letters，No.5491（1978）参照〕 〔油化学、第31巻、第295頁（1982年）参照〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記の従来法(1)では、135℃の高温で30時間と
長時間反応させる必要があり、しかも目的とする
アルデヒドの収率が23％と低い。従来法(2)では２
−エチル−１−ヘキセニル ３−メチル−２−ブ
テニルエーテルが多量に副生し、しかも目的とす
るアルデヒドとの分離が困難である。また従来法
(3)では反応試剤である水素化カリウム、テトラヒ
ドロフラン（THF）が高価である。さらに従来
法(4)では水素化リチウムアルミニウム、ピリジニ
ウムクロロクロメートなどの反応試剤が高価であ
り、しかも反応工程が長い。従つて、これらの従
来法はいずれも２−置換−５−メチル−４−ヘキ
セン−１−アール−の有利な製造方法ではない。 本発明の目的は、高純度の２−置換−５−メチ
ル−４−ヘキセン−１−アールを安価にしかも好
収率で製造し得る方法を提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明によれば、上記の目的は、一般式 （式中、R1及びR2は同一又は異なり各々低級ア
ルキル基若しくは低級アルケニル基を表わすか、
又はR1とR2が一緒になつて
【式】鎖を表わす。ここ
で、X1、X2及びX3は同一又は異なり各々水素原
子又は低級アルキル基を表わし、Y1及びY2は
各々水素原子を表わすか又はこれらが一緒になつ
て単結合を表わす。） で示されるアルデヒドと１−ハロゲノ−３−メチ
ル−２−ブテンとをカ性アルカリ、水及び相間移
動触媒の存在下に反応させ、ついで得られた有機
生成物を酸処理することを特徴とする一般式 （式中、R1及びR2は前記定義のとおりである。）
で示される２−置換−５−メチル−４−ヘキセン
−１−アールの製造方法を提供することによつて
達成される。 上記の一般式におけるR1及びR2を詳しく説明
する。R1及びR2は同一又は異なり各々メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、ｉ−ブチル基、sec−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などの低級アルキ
ル基；若しくはビニル基、１−プロペニル基、２
−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル
基、３−ブテニル基などの低級アルケニル基を表
わすか、又はR1とR2が一緒になつて
子又は低級アルキル基を表わし、Y1及びY2は
各々水素原子を表わすか又はこれらが一緒になつ
て単結合を表わす。） で示されるアルデヒドと１−ハロゲノ−３−メチ
ル−２−ブテンとをカ性アルカリ、水及び相間移
動触媒の存在下に反応させ、ついで得られた有機
生成物を酸処理することを特徴とする一般式 （式中、R1及びR2は前記定義のとおりである。）
で示される２−置換−５−メチル−４−ヘキセン
−１−アールの製造方法を提供することによつて
達成される。 上記の一般式におけるR1及びR2を詳しく説明
する。R1及びR2は同一又は異なり各々メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、ｉ−ブチル基、sec−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などの低級アルキ
ル基；若しくはビニル基、１−プロペニル基、２
−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル
基、３−ブテニル基などの低級アルケニル基を表
わすか、又はR1とR2が一緒になつて
以下、実施例により本発明を説明するが、本発
明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。 実施例 １ ２，２，５−トリメチル−５−ヘキセン−１
−アールの合成 水酸化ナトリウム340ｇ（8.50mol）、水340ml、
ベンゼン400ml及びヨウ化テトラブチルアンモニ
ウム31.4ｇ（85ｍmol）の混合溶液中に、１−ク
ロロ−３−メチル−２−ブテン760ｇ（7.27ｍ
mol）とイソブチルアルデヒド639ｇ（8.86mol）
との混合液を60〜70℃の温度で８時間かけて滴下
した。滴下終了後、70℃で２時間撹拌した。この
反応混合物に水1.5を加え、析出している食塩
を溶解させたのち、有機層と水層とに分液した。
有機層から溶媒を留去し、その残留物に２規定硫
酸300mlとテトラヒドロフラン300mlを加えて90分
間加熱還流させた。この反応混合物からジエチル
エーテルで生成物を抽出した。抽出液を水、チオ
硫酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶
液及び飽和食塩水で順次洗滌し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥したのち、これにより溶媒を留去し
た。その残渣を減圧下に蒸留することにより、68
℃／20mmHgの留分として２，２，５−トリメチ
ル−５−ヘキセン−１−アール（純度95％）を
642ｇ（4.58mol）得た。収率63％。生成物の
NMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：0.95（ｓ、
3H）；1.53、1.64（each ｓ、6H）；2.03（ｄ，Ｊ
＝７Hz、2H）；4.83〜5.12（ｍ、1H）；9.36（ｓ、
1H） 実施例 ２ ２−エチル−２，５−ジメチル−４−ヘキセン
−１−アールの合成 実施例１においてイソプチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに２−メチルブタナール763ｇ
（8.86mol）を用いる以外は同様にして反応させ、
ついで反応混合物を同様にして処理したのち、得
られた残渣を減圧下に蒸留することにより、88〜
89℃／20mmHgの留分として２−エチル−２，５
−ジメチル−４−ヘキセン−１−アール（純度90
％）を606ｇ（3.93mol）得た。収率54％。生成
物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：0.79（ｔ、Ｊ
＝７Hz、3H）；0.95、（ｓ、3H）；1.31〜1.52
（ｍ、2H）；1.59、1.68（each ｓ、6H）；2.08
（ｄ、Ｊ＝７Hz、2H）；4.85〜5.15（ｍ、1H）；
9.43（ｓ、1H） 実施例 ３ ２，５−ジメチル−２−プロピル−４−ヘキ
セン−１−アールの合成 実施例１においてイソプチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに２−メチルペンタナール728
ｇ（7.27mol）を用いる以外は同様にして反応さ
せ、ついで反応混合物を同様にして処理したの
ち、得られた残渣を減圧下に蒸留することによ
り、45℃／0.1mmHgの留分として２，５−ジメチ
ル−２−プロピル−４−ヘキセン−１−アール
（純度96％）を820ｇ（4.87mol）得た。収率67
％。生成物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：0.69〜1.03
（ｍ、3H）；0.94（Ｓ、3H）；1.03〜1.53（ｍ、
4H）；1.57〜1.67（each ｓ、6H）；2.07（ｄ、Ｊ
＝７Hz、2H）；4.85〜5.15（ｍ、1H）；9.40（ｓ、
1H） 実施例 ４ ２−ブチル−２−エチル−５−メチル−４−
ヘキセン−１−アールの合成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに２−エチルヘキサナール
1136ｇ（8.86mol）を用いる以外は同様にして反
応させ、ついで反応混合物を同様にして処理した
のち、得られた残渣を減圧下に蒸留することによ
り、67℃／0.4mmHgの留分として２−ブチル−２
−エチル−５−メチル−４−ヘキセン−１−アー
ル（純度95％）を742ｇ（3.78mol）得た。収率
52％。生成物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：1.75（ｔ、Ｊ
＝７Hz、3H）；0.77〜1.54、（ｍ、8H）；1.47
（ｑ、Ｊ＝７Hz2H）；1.60、1.67（each ｓ、
6H）；2.14（ｄ、Ｊ＝７Hz、2H）；4.85〜5.10
（ｍ、1H）；9.40（ｓ、1H） 実施例 ５ １−（３−メチル−２−ブテニル）−３−シクロ
ヘキセンカルブアルデヒドの合成 実施例１においてイソプチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに３−975ｇ（8.86mol）を用
いる以外は同様にして反応させ、ついで反応混合
物を同様にして処理したのち、得られた残渣を減
圧下に蒸留することにより、65℃／0.9mmHgの留
分として１−（３−メチル−２−ブテニル）−３−
シクロヘキセカンカルブアルデヒド（純度92％）
を621ｇ（3.49mol）得た。収率48％。生成物の
NMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：1.57、1.67
（each ｓ、6H）；1.59〜1.86（ｍ、2H）；1.89〜
2.30（ｍ、6H）；4.89〜5.17（ｍ、1H）；5.63（bs、
2H）；9.50（ｓ、1H） 実施例 ６ １−（３−メチル−２−ブテニル）シクロヘキ
サンカルブアルデヒドの合成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りにシクロヘキサンカルブアル
デヒド994ｇ（8.86mol）を用いる以外は同様に
して反応させ、ついで反応混合物を同様にして処
理したのち、得られた残渣を減圧下に蒸留するこ
とにより、67℃／0.9mmHgの留分として１−（３
−メチル−２−ブテニル）シクロヘキサカルブア
ルデヒド（純度94％）を680ｇ（3.78mol）得た。
収率52％。生成物のNMRスペクトルを次に示
す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：1.31〜1.67
（ｍ、10H）；1.54、1.66（each ｓ、6H）；2.05
（ｄ、Ｊ＝７Hz、2H）；4.88〜5.15（ｍ、1H）；
9.48（ｓ、1H） 実施例 ７ １−（３−メチル−２−ブテニル）−６−メチ
ル−３−シクロヘキセンカルブアルデヒドの合
成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに６−メチル−３−シクロヘ
キセンカルブアルデヒド1100ｇ（8.86mol）を用
いる以外は同様にして反応させ、ついで反応混合
物を同様にして処理したのち、得られた残渣を減
圧下に蒸留することにより、60℃／0.5mmHgの留
分として１−（３−メチル−２−ブテニル）−６−
メチル−３−シクロヘキセンカルブアルデヒド
（純度93％）を685ｇ（3.56mol）得た。収率49
％。生成物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：1.09（ｄ、Ｊ
＝７Hz、3H）；1.55、1.64（each ｓ、6H）；
1.88〜2.29（ｍ、7H）；4.90〜5.18（ｍ、1H）；
5.57（bs、2H）；9.50（ｓ、1H） 実施例 ８ １−（３−メチル−２−ブテニル）−３−メチル
−３−シクロヘキセンカルブアルデヒドの合成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに３−メチル−３−シクロヘ
キセンカルブアルデヒド1100ｇ（8.86mol）を用
いる以外は同様にして反応させ、ついで反応混合
物を同様にして処理したのち、得られた残渣を減
圧下に蒸留することにより、61℃／0.5mmHgの留
分として１−（３−メチル−２−ブテニル）−３−
メチル−３−シクロヘキセンカルブアルデヒド
（純度95％）を495ｇ（3.92mol）得た。収率54
％。生成物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNRスペクトル（90MHzσCcl4 HMS：1.40〜1.55（ｍ、
2H）；1.54、1.63、1.69（each ｓ、9H）；1.87〜
2.31（ｍ、6H）；4.89〜5.20（ｍ、1H）；5.49（bs、
1H）；9.45（ｓ、1H） 実施例 ９ １−（３−メチル−２−ブテニル）−４−（２−
メチルプロピル）−３−シクロヘキセンカルブ
アルデヒドの合成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに４−（２−メチルプロピル）
−３−シクロヘキセンカルブアルデヒド1473ｇ
（8.86mol）を用いる以外は同様にして反応させ、
ついで反応混合物を同様にして処理したのち、得
られた残渣を減圧下に蒸留することにより、91〜
92℃／0.5mmＨｇの留分として１−（３−メチル−
２−ブテニル）−４−（２−メチルプロピル）−３
−シクロヘキセンカルブアルデヒド（純度95％）
を1022ｇ（4.36mol）得た。収率60％。生成物の
NMRスペクトルを次に示す。1 HNRスペクトル（90MHz）σCCl4 HMS：0.98（ｄ、Ｊ
＝７Hz，6H）；1.26〜1.53（ｍ、3H）；1.55，
1.67（eachs，6H）；1.85〜2.29（ｍ，8H）；4.89
〜5.18（ｍ、1H）；5.61（bs、1H）；9.54（ｓ、
1H） 実施例 10〜18 実施例１においてヨウ化テトラブチルアンモニ
ウムの代りに第１表に示す相間移動触媒を用いる
以外は同様にして反応させ、ついで反応混合物を
同様にして処理した。得られた２，２，５−トリ
メチル−４−ヘキセン−１−アールの純度と収率
を第１表に示す。
明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。 実施例 １ ２，２，５−トリメチル−５−ヘキセン−１
−アールの合成 水酸化ナトリウム340ｇ（8.50mol）、水340ml、
ベンゼン400ml及びヨウ化テトラブチルアンモニ
ウム31.4ｇ（85ｍmol）の混合溶液中に、１−ク
ロロ−３−メチル−２−ブテン760ｇ（7.27ｍ
mol）とイソブチルアルデヒド639ｇ（8.86mol）
との混合液を60〜70℃の温度で８時間かけて滴下
した。滴下終了後、70℃で２時間撹拌した。この
反応混合物に水1.5を加え、析出している食塩
を溶解させたのち、有機層と水層とに分液した。
有機層から溶媒を留去し、その残留物に２規定硫
酸300mlとテトラヒドロフラン300mlを加えて90分
間加熱還流させた。この反応混合物からジエチル
エーテルで生成物を抽出した。抽出液を水、チオ
硫酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶
液及び飽和食塩水で順次洗滌し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥したのち、これにより溶媒を留去し
た。その残渣を減圧下に蒸留することにより、68
℃／20mmHgの留分として２，２，５−トリメチ
ル−５−ヘキセン−１−アール（純度95％）を
642ｇ（4.58mol）得た。収率63％。生成物の
NMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：0.95（ｓ、
3H）；1.53、1.64（each ｓ、6H）；2.03（ｄ，Ｊ
＝７Hz、2H）；4.83〜5.12（ｍ、1H）；9.36（ｓ、
1H） 実施例 ２ ２−エチル−２，５−ジメチル−４−ヘキセン
−１−アールの合成 実施例１においてイソプチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに２−メチルブタナール763ｇ
（8.86mol）を用いる以外は同様にして反応させ、
ついで反応混合物を同様にして処理したのち、得
られた残渣を減圧下に蒸留することにより、88〜
89℃／20mmHgの留分として２−エチル−２，５
−ジメチル−４−ヘキセン−１−アール（純度90
％）を606ｇ（3.93mol）得た。収率54％。生成
物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：0.79（ｔ、Ｊ
＝７Hz、3H）；0.95、（ｓ、3H）；1.31〜1.52
（ｍ、2H）；1.59、1.68（each ｓ、6H）；2.08
（ｄ、Ｊ＝７Hz、2H）；4.85〜5.15（ｍ、1H）；
9.43（ｓ、1H） 実施例 ３ ２，５−ジメチル−２−プロピル−４−ヘキ
セン−１−アールの合成 実施例１においてイソプチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに２−メチルペンタナール728
ｇ（7.27mol）を用いる以外は同様にして反応さ
せ、ついで反応混合物を同様にして処理したの
ち、得られた残渣を減圧下に蒸留することによ
り、45℃／0.1mmHgの留分として２，５−ジメチ
ル−２−プロピル−４−ヘキセン−１−アール
（純度96％）を820ｇ（4.87mol）得た。収率67
％。生成物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：0.69〜1.03
（ｍ、3H）；0.94（Ｓ、3H）；1.03〜1.53（ｍ、
4H）；1.57〜1.67（each ｓ、6H）；2.07（ｄ、Ｊ
＝７Hz、2H）；4.85〜5.15（ｍ、1H）；9.40（ｓ、
1H） 実施例 ４ ２−ブチル−２−エチル−５−メチル−４−
ヘキセン−１−アールの合成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに２−エチルヘキサナール
1136ｇ（8.86mol）を用いる以外は同様にして反
応させ、ついで反応混合物を同様にして処理した
のち、得られた残渣を減圧下に蒸留することによ
り、67℃／0.4mmHgの留分として２−ブチル−２
−エチル−５−メチル−４−ヘキセン−１−アー
ル（純度95％）を742ｇ（3.78mol）得た。収率
52％。生成物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：1.75（ｔ、Ｊ
＝７Hz、3H）；0.77〜1.54、（ｍ、8H）；1.47
（ｑ、Ｊ＝７Hz2H）；1.60、1.67（each ｓ、
6H）；2.14（ｄ、Ｊ＝７Hz、2H）；4.85〜5.10
（ｍ、1H）；9.40（ｓ、1H） 実施例 ５ １−（３−メチル−２−ブテニル）−３−シクロ
ヘキセンカルブアルデヒドの合成 実施例１においてイソプチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに３−975ｇ（8.86mol）を用
いる以外は同様にして反応させ、ついで反応混合
物を同様にして処理したのち、得られた残渣を減
圧下に蒸留することにより、65℃／0.9mmHgの留
分として１−（３−メチル−２−ブテニル）−３−
シクロヘキセカンカルブアルデヒド（純度92％）
を621ｇ（3.49mol）得た。収率48％。生成物の
NMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：1.57、1.67
（each ｓ、6H）；1.59〜1.86（ｍ、2H）；1.89〜
2.30（ｍ、6H）；4.89〜5.17（ｍ、1H）；5.63（bs、
2H）；9.50（ｓ、1H） 実施例 ６ １−（３−メチル−２−ブテニル）シクロヘキ
サンカルブアルデヒドの合成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りにシクロヘキサンカルブアル
デヒド994ｇ（8.86mol）を用いる以外は同様に
して反応させ、ついで反応混合物を同様にして処
理したのち、得られた残渣を減圧下に蒸留するこ
とにより、67℃／0.9mmHgの留分として１−（３
−メチル−２−ブテニル）シクロヘキサカルブア
ルデヒド（純度94％）を680ｇ（3.78mol）得た。
収率52％。生成物のNMRスペクトルを次に示
す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：1.31〜1.67
（ｍ、10H）；1.54、1.66（each ｓ、6H）；2.05
（ｄ、Ｊ＝７Hz、2H）；4.88〜5.15（ｍ、1H）；
9.48（ｓ、1H） 実施例 ７ １−（３−メチル−２−ブテニル）−６−メチ
ル−３−シクロヘキセンカルブアルデヒドの合
成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに６−メチル−３−シクロヘ
キセンカルブアルデヒド1100ｇ（8.86mol）を用
いる以外は同様にして反応させ、ついで反応混合
物を同様にして処理したのち、得られた残渣を減
圧下に蒸留することにより、60℃／0.5mmHgの留
分として１−（３−メチル−２−ブテニル）−６−
メチル−３−シクロヘキセンカルブアルデヒド
（純度93％）を685ｇ（3.56mol）得た。収率49
％。生成物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNMRスペクトル（90MHz）δCCl4 HMS：1.09（ｄ、Ｊ
＝７Hz、3H）；1.55、1.64（each ｓ、6H）；
1.88〜2.29（ｍ、7H）；4.90〜5.18（ｍ、1H）；
5.57（bs、2H）；9.50（ｓ、1H） 実施例 ８ １−（３−メチル−２−ブテニル）−３−メチル
−３−シクロヘキセンカルブアルデヒドの合成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに３−メチル−３−シクロヘ
キセンカルブアルデヒド1100ｇ（8.86mol）を用
いる以外は同様にして反応させ、ついで反応混合
物を同様にして処理したのち、得られた残渣を減
圧下に蒸留することにより、61℃／0.5mmHgの留
分として１−（３−メチル−２−ブテニル）−３−
メチル−３−シクロヘキセンカルブアルデヒド
（純度95％）を495ｇ（3.92mol）得た。収率54
％。生成物のNMRスペクトルを次に示す。1 HNRスペクトル（90MHzσCcl4 HMS：1.40〜1.55（ｍ、
2H）；1.54、1.63、1.69（each ｓ、9H）；1.87〜
2.31（ｍ、6H）；4.89〜5.20（ｍ、1H）；5.49（bs、
1H）；9.45（ｓ、1H） 実施例 ９ １−（３−メチル−２−ブテニル）−４−（２−
メチルプロピル）−３−シクロヘキセンカルブ
アルデヒドの合成 実施例１においてイソブチルアルデヒド639ｇ
（8.86mol）の代りに４−（２−メチルプロピル）
−３−シクロヘキセンカルブアルデヒド1473ｇ
（8.86mol）を用いる以外は同様にして反応させ、
ついで反応混合物を同様にして処理したのち、得
られた残渣を減圧下に蒸留することにより、91〜
92℃／0.5mmＨｇの留分として１−（３−メチル−
２−ブテニル）−４−（２−メチルプロピル）−３
−シクロヘキセンカルブアルデヒド（純度95％）
を1022ｇ（4.36mol）得た。収率60％。生成物の
NMRスペクトルを次に示す。1 HNRスペクトル（90MHz）σCCl4 HMS：0.98（ｄ、Ｊ
＝７Hz，6H）；1.26〜1.53（ｍ、3H）；1.55，
1.67（eachs，6H）；1.85〜2.29（ｍ，8H）；4.89
〜5.18（ｍ、1H）；5.61（bs、1H）；9.54（ｓ、
1H） 実施例 10〜18 実施例１においてヨウ化テトラブチルアンモニ
ウムの代りに第１表に示す相間移動触媒を用いる
以外は同様にして反応させ、ついで反応混合物を
同様にして処理した。得られた２，２，５−トリ
メチル−４−ヘキセン−１−アールの純度と収率
を第１表に示す。
【表】
【表】
【表】
実施例 19〜25
実施例１において２規定硫酸300mlの代りに第
２表に示す酸を用いる以外は同様にして反応さ
せ、ついで反応混合物を同様にして処理した。得
られた２，２，５−トリメチル−４−ヘキセン−
１−アールの純度と収率を第２表に示す。
２表に示す酸を用いる以外は同様にして反応さ
せ、ついで反応混合物を同様にして処理した。得
られた２，２，５−トリメチル−４−ヘキセン−
１−アールの純度と収率を第２表に示す。
【表】
比較例 １〜５
実施例１〜５において酸処理を行わない以外は
同様にして反応させ、反応混合物を同様にして処
理した。得られたアルデヒドの純度と収率を第３
表に示す。
同様にして反応させ、反応混合物を同様にして処
理した。得られたアルデヒドの純度と収率を第３
表に示す。
【表】
本発明の方法によれば上記の実施例から明らか
なとおり高純度の一般式（）で示される２−置
換−５−メチル−４−ヘキセン−１−アールを安
価にしかも好収率で製造することができる。
なとおり高純度の一般式（）で示される２−置
換−５−メチル−４−ヘキセン−１−アールを安
価にしかも好収率で製造することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式【式】 （式中、R1及びR2は同一又は異なり各々低級ア
ルキル基若しくは低級アルケニル基を表わすか、
又はR1とR2が一緒になつて
【式】鎖を表わす。ここ で、X1、X2及びX3は同一又は異なり各々水素原
子又は低級アルキル基を表わし、Y1及びY2は
各々水素原子を表わすか又はこれらが一緒になつ
て単結合を表わす。） で示されるアルデヒドと１−ハロゲノ−３−メチ
ル−２−ブテンとをカ性アルカリ、水及び相間移
動触媒の存在下に反応させ、ついで得られた有機
生成物を酸処理することを特徴とする一般式 （式中、R1及びR2は前記定義のとおりである。）
で示される２−置換−５−メチル−４−ヘキセン
−１−アールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59136380A JPS6115853A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | ２−置換−５−メチル−４−ヘキセン−１−アールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59136380A JPS6115853A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | ２−置換−５−メチル−４−ヘキセン−１−アールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115853A JPS6115853A (ja) | 1986-01-23 |
| JPH0514695B2 true JPH0514695B2 (ja) | 1993-02-25 |
Family
ID=15173798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59136380A Granted JPS6115853A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | ２−置換−５−メチル−４−ヘキセン−１−アールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6115853A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB201013474D0 (en) | 2010-08-11 | 2010-09-22 | Givaudan Sa | Organic compounds |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP59136380A patent/JPS6115853A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6115853A (ja) | 1986-01-23 |
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