[go: up one dir, main page]

JPH04213778A - パターンマッチング装置 - Google Patents

パターンマッチング装置

Info

Publication number
JPH04213778A
JPH04213778A JP2401174A JP40117490A JPH04213778A JP H04213778 A JPH04213778 A JP H04213778A JP 2401174 A JP2401174 A JP 2401174A JP 40117490 A JP40117490 A JP 40117490A JP H04213778 A JPH04213778 A JP H04213778A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
matching
pattern
degree
dots
dot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2401174A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2963773B2 (ja
Inventor
Hiroaki Nakajima
弘明 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2401174A priority Critical patent/JP2963773B2/ja
Publication of JPH04213778A publication Critical patent/JPH04213778A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2963773B2 publication Critical patent/JP2963773B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はパターンマッチング装置
に係り、特にマスターパターンの位置を求めるパターン
マッチング装置に関する。半導体集積回路(IC)の各
製造工程において、試料に対して正確に露光、配線等を
行なうには、試料に設定したマスターパターンの位置を
求め、装置に対する試料の位置決めを正確に行なう必要
がある。
【0002】
【従来の技術】図3は従来のパターンマッチング装置の
一例のブロック図を示す。同図中、中央処理装置(CP
U)はパターンマッチングを行なう際の基準パターンと
なるマスターパターンを予め内蔵メモリに格納している
。また撮像装置としてのテレビジョン(TV)カメラ2
2は、試料上の比較パターンを撮像する。
【0003】例えば、ICチップの位置決めをする場合
、TVカメラ22で試料、すなわちICチップを撮像す
る。このとき、図4に示すようにICチップ31には例
えば左上隅と右下隅の配線パターンのある所にマスター
パターン32及び33が予め形成されている。このマス
ターパターン32及び33は例えば図5(A)に示すよ
うに、横方向に8ドット(画素)、縦方向に4ドットの
計32ドットからなる所謂8×4ドットパターンで、そ
のうち斜線で示す4ドットが黒で、残りの28ドットが
白であるものとする。
【0004】図3のCPU21はこのマスターパターン
本来の黒ドットと白ドットの組合せパターンを基準パタ
ーンとして内蔵メモリに記憶しており、この記憶基準パ
ターン(マスターパターン)を読み出してメモリ23に
送出して格納させる。一方、TVカメラ22はICチッ
プ31を撮像して撮像範囲内の画像情報をディジタル処
理した後、それをメモリ24に格納する。ここで、TV
カメラ22の撮像範囲から切り出したマッチング画面は
図4に破線34で示す如き大きさである。
【0005】図3のマッチング判定部25は上記のメモ
リ23からのマスターパターンと、メモリ24よりの撮
像パターン(すなわちマッチング画面34の比較パター
ン)とを比較し、両パターンの各ドット間の不一致数が
最も少ない位置を求める。ここで、マッチング判定部2
5は図6に示すように、マッチング画面34内の画像情
報のうち、マスターパターン32,33と同じ8×4ド
ットの大きさの比較領域35の画像情報パターンと前記
マスターパターンとを各ドット間で同一値のドットか比
較し、かつ、不一致ドット数を計数記憶し、その処理が
終わると比較領域35を1ドット分右方向へずらして再
び上記各ドット間の比較及び計数を行なう。以下、上記
と同様にして比較領域35をマッチング画面34の左上
から右下まで順次シフトさせつつマスターパターンの各
ドットとの比較及び不一致ドット数の計数(パターンマ
ッチング)を行なう。
【0006】このようにして、マッチング判定部25は
パターンマッチングを行ない、不一致ドット数が最も少
ない位置をもって、最もマスターパターン32に近いパ
ターンが得られる位置と判定し、その位置座標をレジス
タ26に格納する。レジスタ26に格納された位置座標
はマッチング回路30の外部へ通知される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、TVカメラ
22で撮像して得られるマッチング画面34の比較パタ
ーンは、マスターパターン32又は33を正確に撮像し
て得られる黒ドットと白ドットの組合せパターンが含ま
れているとは限らずICチップ31への光の当り具合や
ICチップ31の表面など、場合によってマッチング画
面34全体が白く写り、よって比較領域35の比較パタ
ーンも図5(B)に示す如く32ドットすべて白ドット
となることがあり得る。
【0008】この場合はマッチング画面34全体が白い
ので、本来ICチップ31の位置決めができないはずで
あるが、図5(A)に示すマスターパターンと同図(B
)に示す比較パターンのパターンマッチングの結果、不
一致なドットの数が4個だけとなるので、一致度が87
.5%(=(32−4)×100/32)になってしま
う。従って、この場合にはマッチング画面34のいずれ
かの位置でマッチングがとれたものとなってしまう。
【0009】また、マスターパターン32,33が白、
黒半分ずつの個数のドットからなるときは全ドット白又
は黒の比較パターンとパターンマッチングを行なうと一
致度は50%となるが、実際上、マスターパターン32
,33の設定時には白ドットと黒ドットの比率が20対
80ぐらいの方が縦方向、横方向ともに特徴のあるパタ
ーンをマスターパターンとしてとりやすいので、やはり
パターンマッチングがとれたものとなってしまう。
【0010】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
正確なパターンマッチングを行なうパターンマッチング
装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理構成
図を示す。同図中、マッチング判定部11はマスターパ
ターンと撮像パターンとを比較して、両パターンの各ド
ット間の不一致数が最も少ない位置を求める。一致度算
出手段12はマスターパターンと撮像パターンの各ドッ
ト間の不一致数が最も少ない位置における、両パターン
中の黒ドットの一致度と白ドットの一致度とを夫々別々
に算出する。
【0012】マッチング度算出手段13は上記の黒ドッ
ト及び白ドットの両一致度に基づいてパターンマッチン
グ度を算出する。
【0013】
【作用】本発明では、マッチング判定部11によりマス
ターパターンと撮像パターンの各ドット間の不一致数が
最も少ない位置を求め、更に一致度算出手段12及びマ
ッチング度算出手段13により黒ドットと白ドットの各
一致度を夫々勘案してパターンマッチング度を算出する
【0014】このため、撮像パターンの異常により、撮
像パターンが黒ドット及び白ドットのいずれか一方のみ
からなる場合には、黒ドットの一致度と白ドットの一致
度にアンバランスが生じるが、本発明ではこのアンバラ
ンスを平均化したパターンマッチング度により、パター
ンマッチングの判定ができる。
【0015】
【実施例】図2は本発明の一実施例のブロック図を示す
。同図中、図1及び図3と同一構成部分には同一符号を
付し、その説明を省略する。図2において、マッチング
回路20は前記一致度算出手段12に相当する黒/白ド
ット一致度算出回路28を有している。また、マッチン
グ回路20の外部に前記マッチング度算出手段13に相
当するマッチング度算出回路29が設けられている。
【0016】次に本実施例の動作について説明する。マ
ッチング判定部27はメモリ23からのマスターパター
ンと、メモリ24からのマッチング画面の比較パターン
とに基づいて、従来のマッチング判定部25と同様方法
にて両パターンの各ドット間の不一致数が最も少ない、
マッチング画面の位置を求める。黒/白ドット一致度算
出回路28はこの不一致数が最も少ない位置における、
マスターパターンと比較パターンの黒ドットと白ドット
の夫々について、一致度を次式に基づいて算出する。
【0017】   黒ドットの一致度={(マスターパターンの黒ドッ
トの数)−(不一致な黒ド             
                         
                         
       ットの数)}/(マスターパターンの黒
ドットの数)                  (
1)  白ドットの一致度={(マスターパターンの白
ドットの数)−(不一致な白ド           
                         
                         
         ットの数)}/(マスターパターン
の白ドットの数)                 
 (2)このようにして算出された黒ドットの一致度と
白ドットの一致度とはマッチング度算出回路29に供給
され、ここで次式に基づいてマッチングの一致度を算出
させる。
【0018】   (マッチングの一致度)={(黒ドットの一致度)
+(白ドットの一致度)}             
                         
                         
           ×100÷2(%)     
                         
              (3)かかるマッチング
の一致度(すなわちマッチング度)が、50%より大な
る所定の閾値以上のとき、パターンマッチングがとれた
と判定される。
【0019】次に具体例について説明する。いま、マス
ターパターンが図5(A)に示す如き、8×4ドットの
うち斜線位置に黒ドットがあるパターンであり、一方、
比較パターンが図5(B)に示す如く8×4ドットすべ
てが白ドットであるものとする。この場合、黒/白ドッ
ト一致度算出回路28は、前記(1)式,(2)式に基
づいて、次の(4),(5)式を得る。
【0020】
【数1】
【0021】これにより、マッチング度算出回路29は
前記(3)式に基づいてマッチングの一致度を算出する
。従って、マッチングの一致度(マッチング度)は、(
マッチング度)=(0+1)×100÷2=50(%)
            (6)となる。
【0022】なお、比較パターンがすべて黒ドットの場
合もマッチング度は50%となる。また、比較パターン
がマスターパターンと同一なときは、マッチング度は1
00%となり、比較パターンがマスターパターンと白黒
逆のパターンのときマッチング度は0%となる。そこで
、上記の点に鑑みパターンがとれたか否かの閾値を例え
ば80%とすると、(6)式で示したマッチング度50
%の場合は、パターンマッチングがとれないと正確に判
定できる。
【0023】なお、上記のマッチング度算出回路29は
、マッチング回路20内に設けてもよく、黒/白ドット
一致度算出回路28をマッチング回路20の外部に設け
てもよい。また、本発明のマッチング度の算出は(3)
式に限定されるものではなく、要は黒ドットの一致度と
白ドットとを総合的に勘案した値が得られればよい。
【0024】
【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、黒ドット
の一致度と白ドットの一致度とを総合的に勘案したパタ
ーンマッチング度によりパターンマッチングの判定を行
なうため、従来に比べて正確なパターンマッチングがで
きる等の特長を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理構成図である。
【図2】本発明の一実施例のブロック図である。
【図3】従来の一例のブロック図である。
【図4】マスターパターンとマッチング画面の説明図で
ある。
【図5】マスターパターンと比較パターンの説明図であ
る。
【図6】マッチング画面におけるマッチング判定を説明
する図である。
【符号の説明】
11,29  マッチング判定部 12  一致度算出手段 13  マッチング度算出手段 28  黒/白ドット一致度算出回路 29  マッチング度算出回路

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  試料上に予め形成された黒ドットと白
    ドットの組合せパターンと同一のマスターパターンと、
    撮像装置により該試料の一部を撮像して得られた撮像パ
    ターンとを比較して、両パターンの各ドット間の不一致
    数が最も少ない位置を求めるマッチング判定部(11)
    と、該両パターンの各ドット間の不一致数が最も少ない
    位置における、前記マスターパターン中の黒ドットと前
    記撮像パターン中の黒ドットとの一致度と、該マスター
    パターン中の白ドットと該撮像パターン中の白ドットと
    の一致度とを夫々別々に算出する一致度算出手段(12
    )と、該一致度算出手段(12)により算出された黒ド
    ット及び白ドットの両方の一致度に基づいてパターンマ
    ッチング度を算出するマッチング度算出手段(13)と
    を有することを特徴とするパターンマッチング装置。
  2. 【請求項2】  前記マッチング度算出手段(13)は
    、前記黒ドットの一致度と前記白ドットの一致度の和を
    所定値で除算した値をマッチング度として算出すること
    を特徴とする請求項1記載のパターンマッチング装置。
JP2401174A 1990-12-10 1990-12-10 パターンマッチング装置 Expired - Lifetime JP2963773B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2401174A JP2963773B2 (ja) 1990-12-10 1990-12-10 パターンマッチング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2401174A JP2963773B2 (ja) 1990-12-10 1990-12-10 パターンマッチング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04213778A true JPH04213778A (ja) 1992-08-04
JP2963773B2 JP2963773B2 (ja) 1999-10-18

Family

ID=18511026

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2401174A Expired - Lifetime JP2963773B2 (ja) 1990-12-10 1990-12-10 パターンマッチング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2963773B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2963773B2 (ja) 1999-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5774574A (en) Pattern defect detection apparatus
CN108616726A (zh) 基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置
US20030228045A1 (en) Apparatus and method for inspecting pattern
US5022089A (en) Method and apparatus for fast registration using crosshair register marks
JPH09171560A (ja) 顔の傾き検出装置
US20050198600A1 (en) Layout verifying device verifying an interconnection layout
JP3266429B2 (ja) パターン検出方法
CN112985274B (zh) 邦定焊盘间距离的测量方法、装置及电子设备
US7386167B2 (en) Segmentation technique of an image
JP2963773B2 (ja) パターンマッチング装置
JPH04256844A (ja) プリント基板のパターン検査方法
JPH1091788A (ja) パターン位置合わせ装置およびパターン位置合わせ方法
JP3123275B2 (ja) 電子部品の欠品検査における検査データの作成方法
JP2910706B2 (ja) Lsi画像の位置合わせ方法
JPH11328410A (ja) パターンの位置合わせ方法
JP2000207557A (ja) 位置ずれ量計測方法
JPH08172300A (ja) 部品位置認識装置
CN118864243B (zh) Pcba板的图像拼接方法、介质和终端设备
JP7423809B2 (ja) バンプ位置データ生成装置
JPH05288520A (ja) パターンマッチング法
JPH0877357A (ja) パターン位置合わせ装置
JP2001148015A (ja) 画像位置合わせ方法
JP3059446B2 (ja) 高精度位置計測方法
JP2000294612A (ja) チップレイアウト生成方法およびその装置
JP3262030B2 (ja) 欠陥検出装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19990727