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JPH02311846A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性積層体 - Google Patents

感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性積層体

Info

Publication number
JPH02311846A
JPH02311846A JP13438289A JP13438289A JPH02311846A JP H02311846 A JPH02311846 A JP H02311846A JP 13438289 A JP13438289 A JP 13438289A JP 13438289 A JP13438289 A JP 13438289A JP H02311846 A JPH02311846 A JP H02311846A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
resin composition
photosensitive
weight
photosensitive resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13438289A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshitaka Minami
好隆 南
Kazutaka Masaoka
正岡 和隆
Taku Kawaguchi
卓 川口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP13438289A priority Critical patent/JPH02311846A/ja
Publication of JPH02311846A publication Critical patent/JPH02311846A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性樹脂組成物、更に詳しくは印刷回路板
の作成に用いられるアルカリ性水溶液で現像可能な感光
性樹脂組成物及び該組成物を用いた感光性積層体に関す
る。
〔従来の技術〕
印刷回路板の製造に用いられるレジストとして、感光性
樹脂組成物が広く用いられている2更に、この感光性樹
脂組成物を支持体層に積層した感光性積層体(以下、感
光性フィルムと言う)が広く用いられている。これらの
感光性フィルムは未硬化部をアルカリ性水溶液で除去す
るアルカリ現像型が主流となっている。
この感光性フィルムの使用方法は、研磨や薬品処理した
印刷回路板用基板に感光層を積層し、次いで、所望のネ
ガマスクを通して露光した後、支持体を除去し、0.5
〜3重量%の炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ性水溶
液を用いて現像し、基板上にレジスト画像を形成する。
このようにして形成した画像をレジストとしてエツチン
グ又はめっき処理を行い、次いで、硬化レジストを水酸
化ナトリウム水溶液等を用いて剥離する。さらに、めっ
き処理の場合、アンモニア含有水などを用いてエツチン
グし、印刷回路板を製造する。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記工程において、エツチング又はめっき工程で銅に対
する十分な密着力が必要であるとともに、銅張り積層板
に積層した後の安定性(積層後の経口によっても現像残
りが発生しない)の向上が望まれている。
特公昭50−9177号公報には、感光層のめっき耐性
を向上するのに有効な化合物として、ベンゾトリアゾー
ル、2−アミノベンゾチアゾール等が示されているが、
これらの化合物を用いたアルカリ現像型感光性フィルム
は、めっきに対する耐性が十分でないばかりか、現像後
に銅はく表面に微量の有機物がごく薄く膜状に残り(銅
はくが赤色に変色したように見える)、めっきの析出性
が悪化したり、積層後の経口により現像残りが発生しや
すい。また、この公報には5−カルボキシベンゾトリア
ゾールも示され、この化合物は経口安定性を向上させる
が、耐めっき性を低下させる。
本発明は、耐めっき性及び経口安定性に優れたアルカリ
現像型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いた感光性フ
ィルムを提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
これらアルカリ現像型の感光性樹脂組成物について、耐
めっき性や経日安定性を鋭意検討した結果、従来の問題
点であった耐めっき性、経口安定性に格段優れた組成物
を見出した。
すなわち、本発明は、(A)一般式(■):〔式中、Y
は水素原子又は−GHz−N−RzR。
(式中R1及びR2はそれぞれ独立して炭素原子数1〜
15の置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換の
アリール基である)を表し、Zは一○eX■(式中、R
よ及びR2は前記したのと同義であり、Xはアルカリ金
属原子である)を表す]で示されるカルボキシベンゾト
リアゾール誘導体 (B)重量平均分子量が10,000〜300,000
で、カルボキシル基を15〜50モル%含有し、アルカ
リ性水溶液に可溶又は膨潤可能な綿状高分子化合物、 (C)常圧で沸点が100”C以上であるエチレン性不
飽和化合物及び (D)活性線により遊離ラジカルを生成しうる増感剤及
び/又は増感剤系を含有してなる感光性樹脂組成物並び
にこの感光性樹脂組成物を支持体上に塗布乾燥してなる
感光性フィルムに関する。
本発明の感光性樹脂組成物は、(A)成分として前記の
一般式(I)で示されるカルボキシベンシトリアゾール
誘導体を必須成分として含有する。
これらの化合物としては、5−カルボキシベンゾトリア
ゾール又は4−カルボキシベンゾトリアゾールとホルム
アルデヒドと二級アルキルアミンとの縮合物によって得
られる 5−カルボキシ−1−〔ジー(2′−エチルヘキシル)
アミノコメチル−1,2,3−ベンゾトリアゾール−ジ
ー(2”−エチルヘキシル)アミン塩、 ζ (CsH+Jz 5−カルボキシ−1−〔ジー(2′−エチルヘキシル)
アミノコメチル−1,2,3−ベンゾトリアゾール−ジ
ー(2″−エチルヘキシル)アミン塩の脱水槽金物、 4−カルボキシ−1−〔ジー(2′−エチルヘキシル)
アミノコメチル−1,2,3−ベンゾトリアゾール−ジ
ー(2″−エチルヘキシル)アミン塩、該塩の脱水槽金
物、 5−カルボキシ−1−(ジフェニルアミノ)メチル−1
,2,3−ベンゾトリアゾール−ジフェニルアミン塩、
該塩の脱水槽金物、 5−カルボキシ−1−(ジトリルアミノ)メチル−1,
2,3−ベンゾトリアゾール−ジトリルアミン塩、該塩
の脱水槽金物、 5−カルボキシ−1−〔ジー(2′−ヒドロキシルエチ
ル)アミノコメチル−1,2,3−ベンゾトリアゾール
−ジー(2”−ヒドロキシルエチル)アミン塩、該塩の
脱水槽金物、 5−カルボキシ−1−〔ジー(2′−エチルヘキシル)
アミノツメチル−1,2,3−ベンゾトリアゾールナト
リウム等が挙げられる。これらは、単独でも、2種以上
混合しても用いることができる。
これらの(A)成分の使用量は感光性樹脂組成物におけ
る(B)成分の線状高分子化合物と(C)成分のエチレ
ン性不飽和化合物の総量を100重量部とした際(以下
、重量部は、この総量100重量部に対する重量部とす
る。)0.01〜5重量部であることが好ましい、0.
01重量部未満では、効果が少なく、5重量部を超える
と、剥離性等の特性が悪化しやす(なる。
本発明の感光性樹脂組成物は、さらにアルカリ性水溶液
に可溶又は膨潤可能な高分子化合物を(B)成分として
含む。このような高分子化合物は、重量平均分子量がl
 O,000〜300,000であり、カルボキシル基
を分子中に15〜50モル%含む。2種類以上の線状高
分子を混合して使用してもよい。
(B)成分の高分子化合物としては、ビニル共重合体が
好ましく、ビニル共重合体の製造に用いられる共重合性
単量体としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタ
クリル酸ラウリル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
N−ビニルピロリドン、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル
アミド、アクリロニトリル、メタクリレートリル、ジメ
チルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げ
られる。また、スチレン/マレイン酸共重合体のハーフ
ェステルなども用ることができる。
(B)成分の添加量は、(B)成分と(C)成分の総和
を100重量部としたとき、40〜80重量部が好まし
い、40重量部より少ないと、現像性の悪化や、感光性
樹脂組成物層の柔軟性が増加し、積層体とした際、端面
からのしみ出し、つまりエツジフュージョン等が発生す
る傾向がある。
また、80重量部を超すと、感光層が低下する傾向があ
る。
本発明において(C)成分として用いられるエチレン性
不飽和化合物は、常圧で沸点が100 ’C以上であり
、例えば、多価アルコールにα、β−不飽和カルボン酸
を反応させて得られる化合物、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、テトラメチロール
メタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールへキサアクリレート等及びこれら
に対応するメタクリレート化合物、グリシジル基含有化
合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化
合物、例えばトリメチロールプロパントリグリシジルエ
ーテルトリアクリレート、ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテルジアクリレート等及びこれらに対応するメタ
クリレート化合物、多価カルボン酸、例えば無水フタル
酸等と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質、例
えばβ−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキ
シエチルメタクリレート等とのエステル化物、アクリル
酸又はメタクリル酸のアルキルエステル、例えばメチル
エステル、エチルエステル、ブチルエステル、2−エチ
ルヘキシルエステル等が用いられ、トリメチルへキサメ
チレンジイソシアナート、2価アルコール及び2価アル
コールとアクリル酸又はメタクリル酸のモノエステルを
反応させて得られるウレタンジアクリレート化合物ある
いはジメタクリレート化合物、ビスフェノールA1アル
キレングリコール及びアクリル酸又はメタクリル酸の付
加物、β−フェノキシエトキシエチルアクリレート等も
用いられる。これらの化合物は単独であるいは2種類以
上併用してもよい、この添加量は、(B)成分と(C)
成分の総和を100重量部としたとき、20〜60重量
部が好ましい。この量が少ないと、十分な硬化性が得ら
れず、多いと、エッジフユージッン等が発生することが
ある。
活性光線により遊離ラジカルを生成しうる増感剤及び/
又は増感剤系(D)としては、例えば、ベンゾフェノン
、4.4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン〔
ミヒラーケトン]、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン、ジメチルアミノ安息香酸エチルエステ
ル、ジエチルアミノ安息香酸エチルエステル、ジメチル
アミノ安息香酸ブチルエステル、ジメチルアミノ安息香
酸イソアミルエステル、ベンジルジメチルケタール、2
−クロルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサン
トン、2−プロピルチオキサントン等が挙げられる。こ
の添加量は感光度の点から0.01〜30重量部が好ま
しい。
本発明の感光性樹脂組成物には、ビクトリアピュアブル
ー等の染料、顔料、可塑剤、ロイコクリスタルバイオレ
ット/トリブロモメチルスルホン等のイメージング剤、
安定剤などを必要に応じて添加してもよい。
本発明の感光性樹脂組成物は、これを支持体上に塗布乾
燥し、感光性フィルムとしても使用される。支持体とし
ては、重合体フィルム、例えば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリプロピレン、ポリエチレンからなるフィル
ムが用いられ、ポリエチレンテレフタレートフィルムが
好ましい、これらの重合体フィルムは、後に感光層から
除去可能でなくてはならないため、除去が不可能となる
ような材質であったり、表面処理が施されたものであっ
てはならない、これらの重合体フィルムの厚さは、通常
5〜1100tI、好ましくは10〜30μmである。
これらの重合体フィルムの一つは感光層の支持フィルム
として、他の感光層の保護フィルムとして感光層の両面
に積層してもよい。
感光性フィルムを製造する際には、まず成分(A)〜(
D)を含む感光性樹脂組成物を溶剤に均一に溶解する。
溶剤は感光性樹脂組成物を溶解する溶剤であればよく、
例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジ
クロルメタン、クロロホルム、メチルアルコール、エチ
ルアルコール等が用いられる。これらの溶剤は単独で又
は2種以上混合して用いられる。
次いで、溶液状となった感光性樹脂組成物を前記支持体
としての重合体フィルム上に均一に塗布した後、加熱及
び/又は熱風吹き付けにより溶剤を除去し、乾燥被膜(
感光層)とする。乾燥被膜の厚さには、特に制限はなく
、通常10〜100μm、好ましくは20〜60μmと
される。
このようにして得られた感光層と重合体フィルムとの2
層からなる本発明の感光性フィルムは、そのまま又は感
光層の他の面に保護フィルムを更に積層してロール状に
巻き取って貯蔵される。
本発明の感光性フィルムを用いてフォトレジスト画像を
製造するに際しては、前記保護フィルムが存在している
場合には、保護フィルムを除去後、感光層を加熱しなが
ら基板に圧着させることにより積層する。積層される表
面は、通常、金属面であるが、特に制限はない、感光層
の加熱・圧着は、通常90〜130℃、圧着圧力3 k
g/aJで行われるが、これらの条件には特に制限はな
い。
本発明の感光性フィルムを用いる場合には、感光層を前
記のように加熱すれば、予め基板を予熱処理することは
必要でない。積層性をさらに向上させるために、基板の
予熱処理を行うこともできるのはもちろんである。
このようにして積層が完了した感光層は、次いで、ネガ
フィルム又はポジフィルムを用いて活性光に画像的に露
光される。この際感光層上に存在する支持体としての重
合体フィルムが透明の場合には、そのまま露光してもよ
く、また、不透明の場合には、当然除去する必要がある
。感光層の保護という点からは支持体としての重合体フ
ィルムは透明で、この重合体フィルムを残存させたまま
、それを通して露光することが好ましい。活性光は公知
の活性光源、例えばカーボンアーク、水銀蒸気アーク、
キセノンアーク、その他から発生される光が用いられる
。感光層に含まれる光開始剤の感受性は、通常紫外線領
域において最大であるので、その場合は活性光源は紫外
線を有効に放射するものにすべきである。もちろん光開
始剤が可視光線に感応するもの、例えば9.10−フェ
ナンスレンキノン等である場合には、活性光としては可
視光が用いられ、その光源としては前記のもの以外に写
真用フラッド電球、太陽ランプ等も用いられる。
次いで、露光後、感光層上に支持体としての重合体フィ
ルムが存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて例えばスプレー、揺動浸漬、ブラッ
シング、スクラッピング等の公知方法により未露光部を
除去して現像する。
アルカリ水溶液の塩基としては、リチウム、ナトリウム
あるいはカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ、リチ
ウム、ナトリウムあるいはカリウムの炭酸塩又は重炭酸
塩等の炭酸アルカリ、リン酸カリウム、リン酸ナトリウ
ム等のアルカリ金属リン酸塩、ビロリン酸ナトリウム、
ビロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩など
が用いられ、特に炭酸ナトリウムの水溶液が好ましい。
現像に用いるアルカリ水溶液のpHは、好ましくは9〜
11であり、また、その温度は感光層の現像性に合わせ
て調節される。該アルカリ水溶液中には、表面活性剤、
消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤を混入
させてもよい。
さらに、印刷配線板の製造は、公知の方法によって行う
ことができるが、例えば、現像されたフォトレジスト画
像をマスクとして露出している基板の表面をエツチング
、めっき等の公知方法で処理し、次いで、フォトレジス
ト画像は通常、現像に用いたアルカリ水溶液よりさらに
強アルカリ性の水溶液で剥離される。この強アルカリ性
の水溶液としては、例えば、2〜10重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液等が用いられる。
〔実施例〕
次に、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。下
記側中の「%」は、特に断らない限り、「重量%」を意
味する。
実施例1 第1図に示す装置を用いて次に示す組成の感光性樹脂組
成物の溶液(溶液A)6を、25μmの厚さのポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、100
°Cの熱風対流式乾燥機7で約3分間乾燥して溶剤を除
去した。以上を詳述すると、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム繰り出しロール1から繰り出されたポリエチ
レンテレフタレートフィルムには、ロール2.3及び4
とナイフ5によって感光性樹脂組成物の溶液6が均一に
塗布され、このフィルムは、次いで熱風対流式乾燥機7
に送られ、ここで溶剤を除去された後、ポリエチレンフ
ィルム繰り出しロール8から繰り出されるポリエチレン
フィルムがロール9及び10によって積層され、感光性
フィルム巻き取りロール11に巻き取られる。
こうして得られた感光性フィルムの感光層の乾燥後の厚
さは約40μmであった。
釡亘人 メタクリル酸/メタクリル酸メチル/メタクリル酸ブチ
ル/アクリル酸2−エチルヘキシル=23151/6/
20 (%)の共重合体、重量平均分子1約80.OO
Oの40%エチルセロソルブ溶液150重量部 BPE−10(新中村化学工業■製ビスフェノールAの
エチレンオキシド付加物のメタクリレートの商品名) 
            30重置部AMP60GC新
中村化学工業■製フェノキシテトラエチレンオキシドの
アクリレートの商品名)10重量部 ジエチルアミノベンゾフェノン   0.1重量部ベン
ゾフェノン           5重量部F−803
”            0.1重量部ビクトリアピ
ュアブルー      0.2重量部ロイコクリスタル
バイオレット   1.0重量部トリブロモメチルスル
ホン     1.0重量部メチルエチルケトン   
     30重量部*l:冨士化成貿易■製、試作品
名(5−カルボキシベンゾトリアゾール:ホルムアルデ
ヒド:ジー(2−エチルヘキシル)アミン−1:1:2
(モル比)縮合物であり、5−カルボキシ−1−〔ジー
(2′−エチルヘキシル)アミノコメチル−1゜2.3
−ベンゾトリアゾール−ジー(2″−エチルヘキシル)
アミン塩を主成分とする)次いで、感光層の上にさらに
第1図を示す装置を用いて厚さ30μmのポリエチレン
フィルムを保護フィルムとして貼り合わせ、本発明の感
光性積層体を得た。
別に、銅板を両面に積層したガラスエポキシ材である印
刷配線板用基板(日立化成工業■製商標MCL−E−6
1)の銅表面をクレンザ−で研磨し、水洗し、空気流で
乾燥した。この基板(23°C)に日立化成工業■製う
ミネーター(型式HLM−1500)を用いて、積層温
度iio℃及び積層圧力3 kg/cmで前記感光性フ
ィルムを製造した。その製造直後に感光層を手で引張っ
たが、感光層は基板によく密着しており、剥がれること
はなかった。
次いで、得られた試料にネガフィルムを使用して3に−
の高圧水銀灯に900の距離から60秒間−露光を行っ
た。
現像は、ポリエチレンテレフタレートフィルムを除去し
た後、30°Cの1%炭酸ナトリウム水溶液をスプレー
することにより約60秒間で行われ、良好な現像性を示
した。
次に、下記のめっき工程を行ったが、めっきもぐりは観
察されなかった。さらに、積層後、30℃で相対湿度9
0%の環境に2日間保存し、現像したが、現像残りは発
生せず、その後のめっきでも良好であった。
亙ユl工丘 (イ)脱脂 PC−455(脱脂剤、メルテックス社商標)、30%
、50℃、5分浸漬 (ロ)水洗 常温、60秒、3回 (ハ)ソフトエツチング 過硫酸アンモニウム水溶液、25 g/i、常温、90
秒 (ニ)水洗: 常温、60秒 (ホ)硫酸浸漬 20%硫酸、常温、60秒 (へ)硫酸銅めっき めっき液組成 硫酸銅          75 g/l硫酸(98%
)      190g/l試薬塩酸(36%)   
 0.12cc/j!カバーグリムPC5cc/l! (ジャパンロナール社製商標) 純水    全量11.とするための残り電流密度・・
・2.OA/dボ、常温、60分(ト)水洗 常温、60秒、3回 (チ)硫酸浸漬 20%硫酸、常温、60秒 (す)水洗 常温、60秒 (ヌ)ホウフッ化水素酸浸漬 20%ホウフッ化水素酸、常温、60秒(ル)半田めっ
き めっき液組成 ホウ酸           25 g/j!ホウフッ
化水素酸      400g/Ilホウフッ化鉛  
      11.5g/lホウフッ化錫      
  23.1g/j!ペプトン           
 5 g/j!純水      全litβとするため
の残り電流密度・・・1.5A/dITf、常温、18
分(オ)水洗 常温、60秒、3回 比較例1 実施例1のF−803の代わりに5−カルボキシベンゾ
トリアゾールを0.1重量部添加した組成について、実
施例1と同様の評価を行った結果、著しいめっきもぐり
が発生した。
比較例2 実施例1のF−803の代わりに1.2.3−ベンゾト
リアゾールを0.05重量部添加した組成について、実
施例1と同様の評価を行った結果、めっきもぐりは良好
であったが、経口1日日で著しい現像残りが発生した。
〔発明の効果〕
上記のとおり、本発明の感光性樹脂組成物は、支持体と
の密着性、現像性及び耐めっき性が良好で、現像残りが
発生せず、基板積層時の経口安定性に優れている。
また、本発明の感光性樹脂組成物を用いて、優れた特性
の感光性フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例で使用した感光性フィルムの繰り出し
ロール、 2.3.4.9.10・・・ロール、 5・・・ナイフ、 6・・・感光性樹脂組成物の溶液、 7・・・熱風対流式乾燥機、 8・・・ポリエチレンフィルム繰り出しロール、11・
・・感光性フィルム巻き取りロール5と −ご− =′ 1・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム繰り出し
ロール 2.3,4,9.10・・・ロール 5・・・ナイフ 6・・・感光性樹脂組成物の溶液 7・・・熱風対流式乾燥機

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(A)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、Yは水素原子又は▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ (式中R_1及びR_2はそれぞれ独立して炭素原子数
    1〜15の置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置
    換のアリール基である)を表し、Zは▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    又は −O^■X^■(式中、R_1及びR_2は前記したの
    と同義であり、Xはアルカリ金属原子である)を表す]
    で示されるカルボキシベンゾトリアゾール誘導体、 (B)重量平均分子量が10,000〜300,000
    で、カルボキシル基を15〜50モル%含み、アルカリ
    性水溶液に可溶又は膨潤可能な綿状高分子化合物、 (C)常圧で沸点が100℃以上であるエチレン性不飽
    和化合物及び (D)活性線により遊離ラジカルを生成しうる増感剤及
    び/又は増感剤系を含有してなる感光性樹脂組成物。 2、(B)高分子化合物40〜80重量部及びエチレン
    性不飽和化合物20〜60重量部を総量が100重量部
    となるように含有する請求項1記載の感光性樹脂組成物
    。 3、一般式( I )において、Zが ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
    、表等があります▼であ る請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物。 4、請求項1、2又は3記載の感光性樹脂組成物を支持
    体上に塗布乾燥してなる感光性積層体。
JP13438289A 1989-05-26 1989-05-26 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性積層体 Pending JPH02311846A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05333542A (ja) * 1992-06-03 1993-12-17 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 感光性樹脂組成物
JPH06148881A (ja) * 1992-10-30 1994-05-27 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 感光性樹脂組成物
JP2000347391A (ja) * 1999-03-29 2000-12-15 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JP2004177597A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物

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