JPH01203342A - ビスフェノールａの製造法 - Google Patents
ビスフェノールａの製造法Info
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- JPH01203342A JPH01203342A JP63027628A JP2762888A JPH01203342A JP H01203342 A JPH01203342 A JP H01203342A JP 63027628 A JP63027628 A JP 63027628A JP 2762888 A JP2762888 A JP 2762888A JP H01203342 A JPH01203342 A JP H01203342A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C39/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C39/12—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings
- C07C39/15—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings with all hydroxy groups on non-condensed rings, e.g. phenylphenol
- C07C39/16—Bis-(hydroxyphenyl) alkanes; Tris-(hydroxyphenyl)alkanes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/11—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms
- C07C37/20—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms using aldehydes or ketones
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高純度の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（以下ビスフェノールＡと称する。）の製
造法に関するものである。更に詳しくは、フェノールと
アセトンとから塩酸触媒の存在下にビスフェノールＡを
製造する際に反応添加水を添加し反応副生成物の生成を
抑制する、反応添加水の添加方法に関するものである。
ル）プロパン（以下ビスフェノールＡと称する。）の製
造法に関するものである。更に詳しくは、フェノールと
アセトンとから塩酸触媒の存在下にビスフェノールＡを
製造する際に反応添加水を添加し反応副生成物の生成を
抑制する、反応添加水の添加方法に関するものである。
ビスフェノールＡはポリカーボネート樹脂やエポキシ樹
脂の原料として用いられ、特にポリカーボネート樹脂用
としては、無色で高純度のビスフェノールＡが要求され
る。
脂の原料として用いられ、特にポリカーボネート樹脂用
としては、無色で高純度のビスフェノールＡが要求され
る。
ビスフェノールＡは酸性触媒存在下に、ある場合にはイ
オウ化合物のような助触媒を加えて、アセトンと過剰の
フェノールとから製造される０反応混合物はビスフェノ
ールＡのほかに、触媒、未反応アセトン、未反応フェノ
ール、反応生成水および他の反応副生成物を含む。
オウ化合物のような助触媒を加えて、アセトンと過剰の
フェノールとから製造される０反応混合物はビスフェノ
ールＡのほかに、触媒、未反応アセトン、未反応フェノ
ール、反応生成水および他の反応副生成物を含む。
反応副生成物の主な成分は、２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以
下０．Ｐ゛一体と称する。）とジアニン化合物とであり
、他にトリスフェノール、ポリフェノールおよび好まし
くない着色原因物質等の、ビスフェノールＡを原料とし
て用いて得られる樹脂の性能を低下させる物質を含んで
いる。
ニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以
下０．Ｐ゛一体と称する。）とジアニン化合物とであり
、他にトリスフェノール、ポリフェノールおよび好まし
くない着色原因物質等の、ビスフェノールＡを原料とし
て用いて得られる樹脂の性能を低下させる物質を含んで
いる。
この縮合反応の触媒としては、塩酸を始めとする無機酸
類や強酸性イオン交換樹脂が知られている。
類や強酸性イオン交換樹脂が知られている。
なかでも塩酸を反応触媒として使用した場合に低温で操
作することにより、フェノールとビスフェノールＡとの
付加物を晶出させながら反応させる方法は、反応をすす
めながら主要な反応副生成物であるｏ、 ｐ’一体をＰ
、Ｐ’一体であるビスフェノールＡに異性化することに
より減らすことができることから、高純度のビスフェノ
ールＡの製造に用いられている。しかし一方でもうひと
つの主要反応副生成物であるジアニン化合物は、特公昭
２７−５３６７号明細書に記載されているようなメルカ
プト化合物の添加によりある程度減らすことは可能であ
るが、メルカプト化合物の使用は、分離操作が煩雑であ
る上に好ましくない臭気を与える為に工業的には実用的
でない、また、ジアニン化合物はフェノールをより過剰
に使うことにより減少できるが、過剰に使用したフェノ
ールは最終的にはビスフェノールＡから分離されなけれ
ばならす経済的とは言えないし、この場合には更に、ｏ
、 ｐ’ −体の増加を招くという欠点がある。
作することにより、フェノールとビスフェノールＡとの
付加物を晶出させながら反応させる方法は、反応をすす
めながら主要な反応副生成物であるｏ、 ｐ’一体をＰ
、Ｐ’一体であるビスフェノールＡに異性化することに
より減らすことができることから、高純度のビスフェノ
ールＡの製造に用いられている。しかし一方でもうひと
つの主要反応副生成物であるジアニン化合物は、特公昭
２７−５３６７号明細書に記載されているようなメルカ
プト化合物の添加によりある程度減らすことは可能であ
るが、メルカプト化合物の使用は、分離操作が煩雑であ
る上に好ましくない臭気を与える為に工業的には実用的
でない、また、ジアニン化合物はフェノールをより過剰
に使うことにより減少できるが、過剰に使用したフェノ
ールは最終的にはビスフェノールＡから分離されなけれ
ばならす経済的とは言えないし、この場合には更に、ｏ
、 ｐ’ −体の増加を招くという欠点がある。
塩酸を触媒として用いる場合に、触媒濃度をあげること
により高純度のビスフェノールＡの得られることは、特
公昭４０−７１８６号明細書および特公昭４２−２４２
８号明細書に示されている。
により高純度のビスフェノールＡの得られることは、特
公昭４０−７１８６号明細書および特公昭４２−２４２
８号明細書に示されている。
特公昭４２−２４２８号明細書の方法に従えば、塩化水
素は３．５Ｋｇ／ｃｄ以上の加圧下に反応帯に供給され
なければならない、一方特公昭４０−７１８６号明細書
の方法に従えば、反応剤に対して３〜１０重量％の水を
含有する混合物を調整し、引き続き反応生成水を飽和す
るのに充分な量の塩化水素ガスを供給しながら反応が進
められる。
素は３．５Ｋｇ／ｃｄ以上の加圧下に反応帯に供給され
なければならない、一方特公昭４０−７１８６号明細書
の方法に従えば、反応剤に対して３〜１０重量％の水を
含有する混合物を調整し、引き続き反応生成水を飽和す
るのに充分な量の塩化水素ガスを供給しながら反応が進
められる。
また、フェノール−アセトン液層中に、水を飽和させる
のに必要な量よりも僅かに過剰にして加え反応速度の増
加を図る方法が、特開昭４９−９３３４７号明細書に示
されている。
のに必要な量よりも僅かに過剰にして加え反応速度の増
加を図る方法が、特開昭４９−９３３４７号明細書に示
されている。
水を添加する方法は、一方では上記したように反応速度
の増加という利点を伴うが、他方では塩化水素の過大な
使用を必須とし、反応混合物からの除去および除去され
たフェノール−水−塩化水素混合物からの有用成分の回
収には、多大なエネルギーを必要とし、目的とするビス
フェノールＡの価格を高価なものにしてしまうという欠
点を伴う、また、水の存在下ではフェノールに対するビ
スフェノールＡの溶解度が増加するために、異性化反応
が抑制され、ビスフェノールＡに対する０、Ｐｏ一体の
比の増加を招く。
の増加という利点を伴うが、他方では塩化水素の過大な
使用を必須とし、反応混合物からの除去および除去され
たフェノール−水−塩化水素混合物からの有用成分の回
収には、多大なエネルギーを必要とし、目的とするビス
フェノールＡの価格を高価なものにしてしまうという欠
点を伴う、また、水の存在下ではフェノールに対するビ
スフェノールＡの溶解度が増加するために、異性化反応
が抑制され、ビスフェノールＡに対する０、Ｐｏ一体の
比の増加を招く。
本発明の目的は反応副生成物や不純物をできるだけ少な
くして、もって後処理の工程をできるだけ簡略化し、高
純度のビスフェノールＡを製造する方法を提供すること
にあり、この際に、触媒の回収を容易にする方法を提供
するものである。
くして、もって後処理の工程をできるだけ簡略化し、高
純度のビスフェノールＡを製造する方法を提供すること
にあり、この際に、触媒の回収を容易にする方法を提供
するものである。
〔課題を解決するための手段および作用〕本発明者らは
、上記目的を達成するために鋭意検討し、フェノールと
アセトンとを塩酸触媒の存在下に反応させてビスフェノ
ールＡを製造するにあたり、反応系に特定の反応添加水
を添加することによって本発明の目的が達成されること
を見出し、遂に本発明を完成させるに至った。
、上記目的を達成するために鋭意検討し、フェノールと
アセトンとを塩酸触媒の存在下に反応させてビスフェノ
ールＡを製造するにあたり、反応系に特定の反応添加水
を添加することによって本発明の目的が達成されること
を見出し、遂に本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、
フェノールとアセトンとを塩酸触媒の存在下に反応させ
てビスフェノールＡを製造するにあたり、反応系に１〜
５重量％の反応添加水を添加する方法であって、反応添
加水として反応混合物より分離されたフェノール層を用
いることを特徴とするビスフェノールＡの製造法であり
、更には、反応添加水として反応混合物より分離された
フェノール層および水層の一部を用いるビスフェノール
Ａの製造法である。
てビスフェノールＡを製造するにあたり、反応系に１〜
５重量％の反応添加水を添加する方法であって、反応添
加水として反応混合物より分離されたフェノール層を用
いることを特徴とするビスフェノールＡの製造法であり
、更には、反応添加水として反応混合物より分離された
フェノール層および水層の一部を用いるビスフェノール
Ａの製造法である。
本発明ではフェノールとアセトンとを反応させるが、通
常、アセトンに対して４〜１２モル倍の過剰量のフェノ
ールを使用し、第三成分としての溶媒を実質的に使用し
ないで反応させる。フェノールの一部分を本発明に従っ
て、反応生成物から分離したフェノール層またはフェノ
ール層および水層から供給する。
常、アセトンに対して４〜１２モル倍の過剰量のフェノ
ールを使用し、第三成分としての溶媒を実質的に使用し
ないで反応させる。フェノールの一部分を本発明に従っ
て、反応生成物から分離したフェノール層またはフェノ
ール層および水層から供給する。
この反応は通常、大気圧〜２ Ｋｇｌｃｒ＆の圧力下で
、３０〜８５℃好ましくは３５〜６０℃で、撹拌下に実
施される０反応混度が３０℃より低い場合には反応速度
が遅く、また８５°Ｃより高い場合に反応副生成物の生
成が多くなるので好ましくない６反応機は必要に応じ加
熱または冷却する。
、３０〜８５℃好ましくは３５〜６０℃で、撹拌下に実
施される０反応混度が３０℃より低い場合には反応速度
が遅く、また８５°Ｃより高い場合に反応副生成物の生
成が多くなるので好ましくない６反応機は必要に応じ加
熱または冷却する。
反応時間は反応形式、特に反応温度によって異なるが、
例えば、撹拌槽を用いたバッチ反応の場合には、通常、
０．１〜１０時間である。
例えば、撹拌槽を用いたバッチ反応の場合には、通常、
０．１〜１０時間である。
塩化水素は反応開始前に原料中に飽和させておく、また
、反応開始後反応機に塩化水素ガスを連続的に供給して
も良い、すなわち、反応の進行に伴って水が生成するの
で、飽和状態を保つように塩化水素ガスを連続して供給
する０本願発明の反応添加水の添加はこの塩化水素ガス
の飽和前でも飽和後でも良い０反応添加水の添加量は１
〜５重量％である。
、反応開始後反応機に塩化水素ガスを連続的に供給して
も良い、すなわち、反応の進行に伴って水が生成するの
で、飽和状態を保つように塩化水素ガスを連続して供給
する０本願発明の反応添加水の添加はこの塩化水素ガス
の飽和前でも飽和後でも良い０反応添加水の添加量は１
〜５重量％である。
塩化水素の吸収に伴う発熱、反応熱及び、フェノールと
ビスフェノールＡとの付加物結晶の析出に伴う発熱があ
るので、塩化水素の供給は、反応前と反応中の両方で行
うのが好ましい。上記した発熱は外部からの冷却により
除去し、反応温度を上記範囲内に１ｌｉｆｆする。
ビスフェノールＡとの付加物結晶の析出に伴う発熱があ
るので、塩化水素の供給は、反応前と反応中の両方で行
うのが好ましい。上記した発熱は外部からの冷却により
除去し、反応温度を上記範囲内に１ｌｉｆｆする。
反応の進行と共にフェノールとビスフェノールＡとの付
加物の結晶が析出する。この結晶化にともなって溶液中
の０．Ｐｏ一体がＰ、 Ｐ’一体であるビスフェノール
Ａに異性化することにより、系内のビスフェノールＡに
対する０、Ｐｏ一体の比が減少する。
加物の結晶が析出する。この結晶化にともなって溶液中
の０．Ｐｏ一体がＰ、 Ｐ’一体であるビスフェノール
Ａに異性化することにより、系内のビスフェノールＡに
対する０、Ｐｏ一体の比が減少する。
一方、ジアニン化合物は、水の添加効果により、僅かの
量しか生成しない。
量しか生成しない。
反応終了後の反応混合物はスラリー状で、触媒を除去す
る為の塔（以下、脱塩酸基と呼ぶ）へ供給され、ここで
触媒の塩化水素、水および少量のフェノールが除去され
る０反応系へ添加された水と反応生成水およびこれらに
飽和の塩化水素をここで完全に除去しなければならない
、従って５％を越える反応添加水の添加は回収のエネル
ギーが増大するために好ましくないし、完全に除去する
為の巨大な設備を必要とする。装置が充分でな（塔底に
塩酸痕が残留した場合には、精製工程でビスフェノール
Ａの好ましくない分解および着色が生じる。
る為の塔（以下、脱塩酸基と呼ぶ）へ供給され、ここで
触媒の塩化水素、水および少量のフェノールが除去され
る０反応系へ添加された水と反応生成水およびこれらに
飽和の塩化水素をここで完全に除去しなければならない
、従って５％を越える反応添加水の添加は回収のエネル
ギーが増大するために好ましくないし、完全に除去する
為の巨大な設備を必要とする。装置が充分でな（塔底に
塩酸痕が残留した場合には、精製工程でビスフェノール
Ａの好ましくない分解および着色が生じる。
脱塩酸基からの塔底液は、ビスフェノールＡを含む混合
物であり、精製工程に送られ常法に従って処理され製品
が取り出される。一方、脱塩酸基からの留出ガスは、凝
縮された後に分液器でフェノールを主成分とする上層と
水を主成分とする下層とに分離される。
物であり、精製工程に送られ常法に従って処理され製品
が取り出される。一方、脱塩酸基からの留出ガスは、凝
縮された後に分液器でフェノールを主成分とする上層と
水を主成分とする下層とに分離される。
このうち上層のフェノール層は、本発明に従って、反応
原料として、フェノールとアセトンの混合物に添加され
る。一方下層の水層の一部はそのまま本発明に従って、
フェノール層と共に、反応原料として供給され、残りは
回収工程に送られ、公知の方法に従って有用成分である
フェノールと塩化水素とが回収され、反応生成水のみが
系外に廃棄される。上層のフェノール層は１２〜２５％
の水と５〜１０％の塩化水素を含む、一方、下層の水層
は５〜１５％のフェノールと２０〜３５％の塩化水素を
含む０反応系へ添加する反応添加水として、上記したフ
ェノール層単独またはフェノール層および水層の一部が
用いられる。
原料として、フェノールとアセトンの混合物に添加され
る。一方下層の水層の一部はそのまま本発明に従って、
フェノール層と共に、反応原料として供給され、残りは
回収工程に送られ、公知の方法に従って有用成分である
フェノールと塩化水素とが回収され、反応生成水のみが
系外に廃棄される。上層のフェノール層は１２〜２５％
の水と５〜１０％の塩化水素を含む、一方、下層の水層
は５〜１５％のフェノールと２０〜３５％の塩化水素を
含む０反応系へ添加する反応添加水として、上記したフ
ェノール層単独またはフェノール層および水層の一部が
用いられる。
このようにして得られる反応混合物から、水、触媒およ
び過剰のフェノールを除いたビスフェノールＡはそのま
ま製品とすることもできるし、更に他の工程で精製や成
形を施した後に製品とすることもできる。公知の精製方
法、例えばフェノールとの付加物を晶出した後にフェノ
ールを除去することにより、無色で高純度のビスフェノ
ールＡを得ることができる。
び過剰のフェノールを除いたビスフェノールＡはそのま
ま製品とすることもできるし、更に他の工程で精製や成
形を施した後に製品とすることもできる。公知の精製方
法、例えばフェノールとの付加物を晶出した後にフェノ
ールを除去することにより、無色で高純度のビスフェノ
ールＡを得ることができる。
次に本発明の方法を実施する為の系統図の一例の概略を
第１図により説明する。
第１図により説明する。
フェノール１及びアセトン２及び本発明による上層１５
を混合槽３で混合し、塩酸飽和塔６に供給する。塩酸飽
和塔６ではさらに系が飽和になるまで塩化水素ガス５を
吹き込む０次に反応混合物は反応機８に送られ所定の温
度と時間で反応がおこなわれる０反応混合物中の塩化水
素が飽和状態を保つように、反応機８に塩化水素ガス５
゛を吹き込む０反応終了後、反応混合物は脱塩酸基１０
に送られ、触媒の塩酸、水及び少量のフェノールが蒸留
除去され、残りの生成物流１２は精製工程に送られる。
を混合槽３で混合し、塩酸飽和塔６に供給する。塩酸飽
和塔６ではさらに系が飽和になるまで塩化水素ガス５を
吹き込む０次に反応混合物は反応機８に送られ所定の温
度と時間で反応がおこなわれる０反応混合物中の塩化水
素が飽和状態を保つように、反応機８に塩化水素ガス５
゛を吹き込む０反応終了後、反応混合物は脱塩酸基１０
に送られ、触媒の塩酸、水及び少量のフェノールが蒸留
除去され、残りの生成物流１２は精製工程に送られる。
脱塩酸基１０からの留出ガス１１は凝縮器１３で凝縮さ
せられた後に分液器１４で静置分液される。
せられた後に分液器１４で静置分液される。
上層１５のフェノール層は本発明に従って反応原料とし
てもちいられ、下層１６の水層は公知の方法に従って、
塩化水素およびフェノールを回収する為の回収工程に送
られる。
てもちいられ、下層１６の水層は公知の方法に従って、
塩化水素およびフェノールを回収する為の回収工程に送
られる。
（実施例〕
以下、実施例および比較例により本発明の方法を具体的
に説明する。
に説明する。
実施例１
フェノール５１５Ｋｇ／ＨＲとアセトン５８Ｋｇ１０Ｒ
とを混合し、これに分液器上層のフェノール層を６０Ｋ
ｇ／ＨＲで加えた。フェノール層は水１２％と塩化水素
６％を含んでいた。得られた水１．１％と塩化水素 ０
．６％とを含むフェノール−アセトン混合物を内容積１
．２ホの反応機に１時間仕込み、塩化水素の飽和状態を
保つように塩化水素ガスを吹き込みながら撹拌して、反
応を開始した。８時間後に反応を終了した。この反応混
合物のスラリーを分析したところ、３核体は殆ど不検出
であり、０、Ｐ’一体、ジアニン化合物はビスフェノー
ルＡに対してそれぞれ１．５．０．２重量％であった。
とを混合し、これに分液器上層のフェノール層を６０Ｋ
ｇ／ＨＲで加えた。フェノール層は水１２％と塩化水素
６％を含んでいた。得られた水１．１％と塩化水素 ０
．６％とを含むフェノール−アセトン混合物を内容積１
．２ホの反応機に１時間仕込み、塩化水素の飽和状態を
保つように塩化水素ガスを吹き込みながら撹拌して、反
応を開始した。８時間後に反応を終了した。この反応混
合物のスラリーを分析したところ、３核体は殆ど不検出
であり、０、Ｐ’一体、ジアニン化合物はビスフェノー
ルＡに対してそれぞれ１．５．０．２重量％であった。
実施例２
実施例１と同様の操作を更に分液器上層を加えて実施し
た０分漆器下層の水層はフェノール７％、塩化水素３２
％を含んでいた。フェノール５１２Ｋｇ／ＨＲとアセト
ン５８Ｋｇ／ＨＲとを混合し、これに分液器上層のフェ
ノール層を６０にｇ／）ＩＲで、分液器上層の水層を３
５ Ｋｇ／ＨＲで加えた。得られた水４．３％と塩化水
素２．２％とを含むフェノール−アセトン混合物を内容
積１．２ｒｒｆの反応機に１時間仕込み、塩化水素の飽
和状態を保つように塩化水素ガスを吹き込みながら撹拌
して、反応を開始した。８時間後に反応を終了した。こ
の反応混合物のスラリーを分析したところ、３核体は殆
ど不検出であり、０、Ｐｏ一体、ジアニン化合物はビス
フェノールＡに対してそれぞれ１．６．０．２重量％で
あった。
た０分漆器下層の水層はフェノール７％、塩化水素３２
％を含んでいた。フェノール５１２Ｋｇ／ＨＲとアセト
ン５８Ｋｇ／ＨＲとを混合し、これに分液器上層のフェ
ノール層を６０にｇ／）ＩＲで、分液器上層の水層を３
５ Ｋｇ／ＨＲで加えた。得られた水４．３％と塩化水
素２．２％とを含むフェノール−アセトン混合物を内容
積１．２ｒｒｆの反応機に１時間仕込み、塩化水素の飽
和状態を保つように塩化水素ガスを吹き込みながら撹拌
して、反応を開始した。８時間後に反応を終了した。こ
の反応混合物のスラリーを分析したところ、３核体は殆
ど不検出であり、０、Ｐｏ一体、ジアニン化合物はビス
フェノールＡに対してそれぞれ１．６．０．２重量％で
あった。
比較例１
実施例１の反応を分液器上層のフェノール層を添加せず
にブエノール５６４Ｋｇ／ＨＲとアセトン５８Ｋｇ／Ｈ
Ｒを反応機に１時間供給して行った。この反応混合物の
スラリーを分析したところ、３核体が０，２％存在し、
０．Ｐｏ一体、ジアニン化合物はビスフェノールＡに対
してそれぞれ１．７．０．８重量％であった。
にブエノール５６４Ｋｇ／ＨＲとアセトン５８Ｋｇ／Ｈ
Ｒを反応機に１時間供給して行った。この反応混合物の
スラリーを分析したところ、３核体が０，２％存在し、
０．Ｐｏ一体、ジアニン化合物はビスフェノールＡに対
してそれぞれ１．７．０．８重量％であった。
比較例２
実施例２の反応を分液器上層を過剰に加える方法で実施
した。フェノール５１０Ｋｇ／ＨＲとアセトン５８Ｋｇ
／ＨＲとを混合し、これに分液器上層のフェノール層を
６０Ｋｇ／ＨＲで、分液器上層の水層を７０にｇ／ＨＲ
で加えた。得られた水７．８％と塩化水素４．１％とを
含むフェノール−アセトン混合物を内容積１．２ｒｒｒ
の反応機に１時間仕込み、塩化水素の飽和状態を保つよ
うに塩化水素ガスを吹き込みながら撹拌して、反応を開
始した。８時間後に反応を終了した。この反応混合物の
スラリーを分析したところ、３核体は殆ど不検出であり
、０．Ｐｏ一体、ジアニン化合物はビスフェノールＡに
対してそれぞれ２．０．０．２重量％であった。
した。フェノール５１０Ｋｇ／ＨＲとアセトン５８Ｋｇ
／ＨＲとを混合し、これに分液器上層のフェノール層を
６０Ｋｇ／ＨＲで、分液器上層の水層を７０にｇ／ＨＲ
で加えた。得られた水７．８％と塩化水素４．１％とを
含むフェノール−アセトン混合物を内容積１．２ｒｒｒ
の反応機に１時間仕込み、塩化水素の飽和状態を保つよ
うに塩化水素ガスを吹き込みながら撹拌して、反応を開
始した。８時間後に反応を終了した。この反応混合物の
スラリーを分析したところ、３核体は殆ど不検出であり
、０．Ｐｏ一体、ジアニン化合物はビスフェノールＡに
対してそれぞれ２．０．０．２重量％であった。
本発明は、上記の構成をとるので、水の添加効果により
反応副生成物を低下させることができるとともに、反応
速度の増加を果たすことが出来る。
反応副生成物を低下させることができるとともに、反応
速度の増加を果たすことが出来る。
また分液器上層のフェノール層および分液器上層の水層
の一部をこの目的の為に用いることにより、フェノール
、塩化水素の回収の為の余分のエネルギーをｊ！ｆｆ減
できる。
の一部をこの目的の為に用いることにより、フェノール
、塩化水素の回収の為の余分のエネルギーをｊ！ｆｆ減
できる。
第１図は、本発明の方法によるビスフェノールＡ製造方
法の一態様を示す系統図である。 図において、 ｌ ・−・−−−−−−・−・−・・フェノール２ ・
・−・−・−・・・−アセトン ３−・・−・・・・・・・・−・・混合槽５−・−・−
・−−一−−・・−塩化水素ガス５°・−・−・・−・
−・−・塩化水素ガス６−・−−−−−−一−−・−・
・−塩酸飽和塔８−・−−−−−＝−−−−一−−−−
反応機１０ ・・−・−・−・・−・−・・脱塩酸基
１１−・−・−・−・−留出ガス １２−・・・−−−ｍ−・−−一−−一生成物流ｌ３−
・・−一−−−・・−・−・凝縮器１４ −・−・−・
・・・−−−−一・−分液器１５ −・−・・・・−・
・・−・・・上層１６ ・−・・−・−・・・・・・
−・−下層を示す。 特許出願人 三井東圧化学株式会社 図面
法の一態様を示す系統図である。 図において、 ｌ ・−・−−−−−−・−・−・・フェノール２ ・
・−・−・−・・・−アセトン ３−・・−・・・・・・・・−・・混合槽５−・−・−
・−−一−−・・−塩化水素ガス５°・−・−・・−・
−・−・塩化水素ガス６−・−−−−−−一−−・−・
・−塩酸飽和塔８−・−−−−−＝−−−−一−−−−
反応機１０ ・・−・−・−・・−・−・・脱塩酸基
１１−・−・−・−・−留出ガス １２−・・・−−−ｍ−・−−一−−一生成物流ｌ３−
・・−一−−−・・−・−・凝縮器１４ −・−・−・
・・・−−−−一・−分液器１５ −・−・・・・−・
・・−・・・上層１６ ・−・・−・−・・・・・・
−・−下層を示す。 特許出願人 三井東圧化学株式会社 図面
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ フェノールとアセトンとを塩酸触媒の存在下に反応
させてビスフェノールＡを製造するにあたり、反応系に
１〜５重量％の反応添加水を添加する方法であって、反
応添加水として反応混合物より分離されたフェノール層
を用いることを特徴とするビスフェノールＡの製造法。 ２ 反応添加水として反応混合物より分離されたフェノ
ール層および水層の一部を用いる請求項１に記載の製造
法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63027628A JPH068261B2 (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | ビスフェノールａの製造法 |
| US07/307,639 US4946877A (en) | 1988-02-10 | 1989-02-07 | Process for producing bisphenol A |
| EP89102177A EP0328085A1 (en) | 1988-02-10 | 1989-02-08 | Process for producing bisphenol A |
| CA000590536A CA1306469C (en) | 1988-02-10 | 1989-02-09 | Process for producing bisphenol a |
| CN89100742A CN1037890A (zh) | 1988-02-10 | 1989-02-10 | 双酚a的制造方法 |
| KR1019890001650A KR910003820B1 (ko) | 1988-02-10 | 1989-02-10 | 비스페놀 a의 제조방법 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63027628A JPH068261B2 (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | ビスフェノールａの製造法 |
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|---|---|
| JPH01203342A true JPH01203342A (ja) | 1989-08-16 |
| JPH068261B2 JPH068261B2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=12226223
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JPH068261B2 (ja) |
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| CA (1) | CA1306469C (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020152650A (ja) * | 2019-03-18 | 2020-09-24 | 三菱ケミカル株式会社 | ビスフェノールの製造方法、及びポリカーボネート樹脂の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| DE4105428A1 (de) * | 1991-02-21 | 1992-08-27 | Bayer Ag | Verfahren zur reinigung von bisphenolen |
| DE4121791C2 (de) * | 1991-07-02 | 2001-02-22 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von substituierten Cycloalkylidenbisphenolen |
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3829509A (en) * | 1968-11-27 | 1974-08-13 | Progil | Process for the treatment of aqueous solutions of phenol and hydrogen chloride |
| JPS4993347A (ja) * | 1972-10-30 | 1974-09-05 | ||
| DD227697A1 (de) * | 1984-09-20 | 1985-09-25 | Leuna Werke Veb | Verfahren zur isolierung von dian |
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| US3169996A (en) * | 1961-03-14 | 1965-02-16 | Allied Chem | Recovery of p', p'-isopropylidenediphenol |
| GB991307A (en) * | 1962-03-12 | 1965-05-05 | Shell Int Research | An improved process for preparing bisphenols |
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| JPH0275367A (ja) * | 1988-09-12 | 1990-03-15 | Takeshi Karita | スプレー容器 |
-
1988
- 1988-02-10 JP JP63027628A patent/JPH068261B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-02-07 US US07/307,639 patent/US4946877A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-08 EP EP89102177A patent/EP0328085A1/en not_active Withdrawn
- 1989-02-09 CA CA000590536A patent/CA1306469C/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-10 CN CN89100742A patent/CN1037890A/zh active Pending
- 1989-02-10 KR KR1019890001650A patent/KR910003820B1/ko not_active Expired
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3829509A (en) * | 1968-11-27 | 1974-08-13 | Progil | Process for the treatment of aqueous solutions of phenol and hydrogen chloride |
| JPS4993347A (ja) * | 1972-10-30 | 1974-09-05 | ||
| GB1384840A (en) * | 1972-10-30 | 1975-02-26 | Gen Electric | Process for preparing bisphenol-a |
| DD227697A1 (de) * | 1984-09-20 | 1985-09-25 | Leuna Werke Veb | Verfahren zur isolierung von dian |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020152650A (ja) * | 2019-03-18 | 2020-09-24 | 三菱ケミカル株式会社 | ビスフェノールの製造方法、及びポリカーボネート樹脂の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4946877A (en) | 1990-08-07 |
| JPH068261B2 (ja) | 1994-02-02 |
| EP0328085A1 (en) | 1989-08-16 |
| KR910003820B1 (ko) | 1991-06-12 |
| CN1037890A (zh) | 1989-12-13 |
| CA1306469C (en) | 1992-08-18 |
| KR890012924A (ko) | 1989-09-20 |
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