JPH01186745A - 質量分析装置用イオン源 - Google Patents
質量分析装置用イオン源Info
- Publication number
- JPH01186745A JPH01186745A JP63006383A JP638388A JPH01186745A JP H01186745 A JPH01186745 A JP H01186745A JP 63006383 A JP63006383 A JP 63006383A JP 638388 A JP638388 A JP 638388A JP H01186745 A JPH01186745 A JP H01186745A
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- Japan
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- ionization chamber
- particle beam
- ion beam
- ionization
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- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 10
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- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は高速粒子線衝撃イオン源に関し、特に−次荷電
粒子線を試料に効率良く照射することのできる装置に関
する。
粒子線を試料に効率良く照射することのできる装置に関
する。
［従来の技術］
高速粒子線衝撃イオン源として、第２図に示すような構
造の二次イオン質量分析計用イオン源が知られている。
造の二次イオン質量分析計用イオン源が知られている。
第２図において１は質量分析装置の分析場、２はイオン
源、３は一次イオンビーム発生器、４はイオン化室、５
はターゲット、６は二次イオン引き出し電極、７は二次
イオンの加速及び集束を行なうスリット電極である。
源、３は一次イオンビーム発生器、４はイオン化室、５
はターゲット、６は二次イオン引き出し電極、７は二次
イオンの加速及び集束を行なうスリット電極である。
一次イオンビーム発生器３から放出された一次イオンビ
ームＢは、イオン化室４内のターゲット５に保持された
試料Ｓに照射される。該−次イオンビームの衝撃により
イオン化され、生成された二次イオン１は引き出し電極
６によってイオン化室内より引き出され、スリット電極
７によって加速及び集束されて質量分析装置の分析場１
へ導入されて質量分析される。
ームＢは、イオン化室４内のターゲット５に保持された
試料Ｓに照射される。該−次イオンビームの衝撃により
イオン化され、生成された二次イオン１は引き出し電極
６によってイオン化室内より引き出され、スリット電極
７によって加速及び集束されて質量分析装置の分析場１
へ導入されて質量分析される。
［発明が解決しようとする問題点コ
前述のような構成の装置で、比較的高い加速電位を印加
する磁場型の質量分析装置では、−次イオンビーム発生
器３から一次イオンビームをイオン化室４とスリット電
極７との間の一次イオンビームの通路８を通してイオン
化室４内のターゲット５に保持された試料Ｓに照射して
いる。ところが、該イオン化室４及びスリット電極７に
は異なる電圧が印加されているため、該イオン化室４と
スリット電極７の空間には比較的強い電位差が生じ、電
界が形成される。そのため、−次イオンビームは該通路
８付近に生ずる電界の影響を受けて図中破線で示すよう
に偏向されて、ターゲット５に保持された試料Ｓを十分
、且つ正確に照射することができず、イオン化効率が悪
くなり、質量分析における分析感度が低下することが問
題とされている。また、−次イオンの加速電位と、イオ
ン化室の電位が近い場合、完全に偏向を受はターゲット
５に一次イオンビームが当たらなくなる場合もある。
する磁場型の質量分析装置では、−次イオンビーム発生
器３から一次イオンビームをイオン化室４とスリット電
極７との間の一次イオンビームの通路８を通してイオン
化室４内のターゲット５に保持された試料Ｓに照射して
いる。ところが、該イオン化室４及びスリット電極７に
は異なる電圧が印加されているため、該イオン化室４と
スリット電極７の空間には比較的強い電位差が生じ、電
界が形成される。そのため、−次イオンビームは該通路
８付近に生ずる電界の影響を受けて図中破線で示すよう
に偏向されて、ターゲット５に保持された試料Ｓを十分
、且つ正確に照射することができず、イオン化効率が悪
くなり、質量分析における分析感度が低下することが問
題とされている。また、−次イオンの加速電位と、イオ
ン化室の電位が近い場合、完全に偏向を受はターゲット
５に一次イオンビームが当たらなくなる場合もある。
本発明は、イオン化室に入射する一次粒子線の通路とス
リット電極との間に、イオン化室壁と同電位の遮蔽板を
設けることにより上記問題点を克服したイオン源を提供
することを目的としている。
リット電極との間に、イオン化室壁と同電位の遮蔽板を
設けることにより上記問題点を克服したイオン源を提供
することを目的としている。
［問題点を解決するための手段］
本発明は、イオン化室と、該イオン化室内で試料を保持
するターゲットと、該ターゲットに一次粒子線を照射す
る手段と、該−次粒子線の照射によって生成されたイオ
ンをイオン化室より引き出すための引き出し電極と、該
引き出したイオンの加速及び集束を行なうスリット電極
とを備えたイオン源において、イオン化室に入射する一
次粒子線通路と前記スリット電極との間に、イオン化室
壁と略同電位の遮蔽板を配したことを特徴とする。
するターゲットと、該ターゲットに一次粒子線を照射す
る手段と、該−次粒子線の照射によって生成されたイオ
ンをイオン化室より引き出すための引き出し電極と、該
引き出したイオンの加速及び集束を行なうスリット電極
とを備えたイオン源において、イオン化室に入射する一
次粒子線通路と前記スリット電極との間に、イオン化室
壁と略同電位の遮蔽板を配したことを特徴とする。
［作用］
本発明におけるイオン源は、イオン化室に入射する一次
粒子線通路とスリット電極との間に、イオン化室壁と同
電位の遮蔽板を配して一次粒子線の偏向を防止し、該−
次粒子線をターゲット上の試料に照射するようにしてい
る。
粒子線通路とスリット電極との間に、イオン化室壁と同
電位の遮蔽板を配して一次粒子線の偏向を防止し、該−
次粒子線をターゲット上の試料に照射するようにしてい
る。
［実施例］
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第１
図は本発明の第１の実施例を説明するための装置断面図
である。第１図において、第２図と同一の構成要素には
同一番号を付しである。
図は本発明の第１の実施例を説明するための装置断面図
である。第１図において、第２図と同一の構成要素には
同一番号を付しである。
まず、本実施例が従来例と異なるのは、イオン化室４内
に入射する一次イオンビームＢの通路８とスリット電極
７との間に遮蔽板９を配置すると共に、該遮蔽板９にイ
オン化室４壁に印加される電圧と等しい電圧を印加して
いる点である。
に入射する一次イオンビームＢの通路８とスリット電極
７との間に遮蔽板９を配置すると共に、該遮蔽板９にイ
オン化室４壁に印加される電圧と等しい電圧を印加して
いる点である。
このように、該−次イオンビーム通路８とスリット電極
７との間に配置した遮蔽板９にイオン化室壁と等しい電
圧を印加することにより、該イオン化室とスリット電極
との間に生ずる電界を遮断することができる。そのため
、−次イオンビーム発生器３から放出された一次イオン
ビームは電界により偏向を受けることなく真直ぐ、イオ
ン化室４内のターゲット５に保持された試料Ｓに照射さ
れる。従って、該試料Ｓは一次イオンビームの衝撃によ
りイオン化され、生成された二次イオンＩは引き出し電
極６によってイオン化室内より引き出され、スリット電
極７によって加速及び集束されて質量分析装置の分析場
１へ導入されて質量分析される。
７との間に配置した遮蔽板９にイオン化室壁と等しい電
圧を印加することにより、該イオン化室とスリット電極
との間に生ずる電界を遮断することができる。そのため
、−次イオンビーム発生器３から放出された一次イオン
ビームは電界により偏向を受けることなく真直ぐ、イオ
ン化室４内のターゲット５に保持された試料Ｓに照射さ
れる。従って、該試料Ｓは一次イオンビームの衝撃によ
りイオン化され、生成された二次イオンＩは引き出し電
極６によってイオン化室内より引き出され、スリット電
極７によって加速及び集束されて質量分析装置の分析場
１へ導入されて質量分析される。
なお、上述した実施例において、引き出し電極にイオン
化室と等しい電圧が印加される場合には、引き出し電極
と遮蔽板とを一体構造を成すように形成しても良い。
化室と等しい電圧が印加される場合には、引き出し電極
と遮蔽板とを一体構造を成すように形成しても良い。
［発明の効果］
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、イオ
ン化室に入射する一次粒子線通路とスリット電極との間
に゛イオン化室壁と同電位の遮蔽板を配置することによ
り、一次粒子線発生器から放出される一次粒子線の偏向
を防止することが可能となるため、該−次粒子線′をイ
オン化室内のターゲット上の試料に正確に照射すること
ができ、二次イオンを効率良く発生させることが可能と
なり、質量分析の分析感度が向上する。
ン化室に入射する一次粒子線通路とスリット電極との間
に゛イオン化室壁と同電位の遮蔽板を配置することによ
り、一次粒子線発生器から放出される一次粒子線の偏向
を防止することが可能となるため、該−次粒子線′をイ
オン化室内のターゲット上の試料に正確に照射すること
ができ、二次イオンを効率良く発生させることが可能と
なり、質量分析の分析感度が向上する。
また、本実施例では、遮蔽板は引き出し電極を囲む対称
型を成しているため、該引き出し電極によって引き出さ
れた二次イオンが遮蔽板によって偏向を受けることもな
い。
型を成しているため、該引き出し電極によって引き出さ
れた二次イオンが遮蔽板によって偏向を受けることもな
い。
第１図は本発明の詳細な説明するための装置断面図、第
２図は従来例を説明するための図である。 に分析場 ２：イオン源 ３ニ一次イオンビーム発生器 ４：イオン化室 ５：ターゲット ６：引き出し電極 ７：スリット電極 ８ニ一次イオンビーム通路 ９：遮蔽板 第１図
２図は従来例を説明するための図である。 に分析場 ２：イオン源 ３ニ一次イオンビーム発生器 ４：イオン化室 ５：ターゲット ６：引き出し電極 ７：スリット電極 ８ニ一次イオンビーム通路 ９：遮蔽板 第１図
Claims (1)
- イオン化室と、該イオン化室内で試料を保持するターゲ
ットと、該ターゲットに一次粒子線を照射する手段と、
該一次粒子線の照射によって生成されたイオンをイオン
化室より引き出すための引き出し電極と、該引き出した
イオンの加速及び集束を行なうスリット電極とを備えた
イオン源において、イオン化室に入射する一次粒子線通
路と前記スリット電極との間に、イオン化室壁と略同電
位の遮蔽板を配したことを特徴とする質量分析装置用イ
オン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63006383A JPH01186745A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 質量分析装置用イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63006383A JPH01186745A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 質量分析装置用イオン源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01186745A true JPH01186745A (ja) | 1989-07-26 |
Family
ID=11636863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63006383A Pending JPH01186745A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 質量分析装置用イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01186745A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5289891A (en) * | 1991-07-10 | 1994-03-01 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Rear-wheel steering apparatus for wheeled vehicle |
| JP2007042299A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Kobe Steel Ltd | 試料イオンの飛行時間測定用装置，飛行時間型質量分析装置，飛行時間型質量分析方法 |
| JP2018502429A (ja) * | 2014-12-23 | 2018-01-25 | クラトス・アナリテイカル・リミテツド | 飛行時間型質量分析計 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5124291A (ja) * | 1974-08-23 | 1976-02-27 | Hitachi Ltd |
-
1988
- 1988-01-14 JP JP63006383A patent/JPH01186745A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5124291A (ja) * | 1974-08-23 | 1976-02-27 | Hitachi Ltd |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5289891A (en) * | 1991-07-10 | 1994-03-01 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Rear-wheel steering apparatus for wheeled vehicle |
| JP2007042299A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Kobe Steel Ltd | 試料イオンの飛行時間測定用装置，飛行時間型質量分析装置，飛行時間型質量分析方法 |
| JP2018502429A (ja) * | 2014-12-23 | 2018-01-25 | クラトス・アナリテイカル・リミテツド | 飛行時間型質量分析計 |
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