JPH01145317A - 真球状シリカ微粒子の製法 - Google Patents
真球状シリカ微粒子の製法Info
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 77
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 54
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 52
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 15
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 5
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 abstract description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 abstract 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 19
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 14
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDXCKOANSQIPGX-UHFFFAOYSA-N (acetyloxy-ethenyl-methylsilyl) acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C=C)OC(C)=O IDXCKOANSQIPGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- OBNDGIHQAIXEAO-UHFFFAOYSA-N [O].[Si] Chemical compound [O].[Si] OBNDGIHQAIXEAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNOSLBKTVBFPBB-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(diphenyl)silyl] acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC(C)=O)(OC(=O)C)C1=CC=CC=C1 CNOSLBKTVBFPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](CC)(OC(C)=O)OC(C)=O KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001479 atomic absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- AONDIGWFVXEZGD-UHFFFAOYSA-N diacetyloxy(methyl)silicon Chemical compound CC(=O)O[Si](C)OC(C)=O AONDIGWFVXEZGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQNWJCQWBFHQAO-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(dimethyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(C)OCCCC GQNWJCQWBFHQAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYYQWMDBQFSCPB-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethylsilane Chemical compound COC([SiH3])OC XYYQWMDBQFSCPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004530 micro-emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- GSGDTSDELPUTKU-UHFFFAOYSA-N nonoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 GSGDTSDELPUTKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAURKQPZJJMXER-UHFFFAOYSA-N triethylsilyl acetate Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC(C)=O AAURKQPZJJMXER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJOOZNCPHALTKK-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethanethiol Chemical compound CO[Si](CS)(OC)OC QJOOZNCPHALTKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)C QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005199 ultracentrifugation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はシリカ微粒子の製法に関する。詳しくは特定し
た組成、物性等を有し、真比重が制御された高純喰な真
球状シリカ微粒子の製法に関する。
た組成、物性等を有し、真比重が制御された高純喰な真
球状シリカ微粒子の製法に関する。
該微粒子は各種樹脂成形品用フィラー、表面処理剤、塗
料、インキ等の添加剤として工業的に価値のあるもので
ある。
料、インキ等の添加剤として工業的に価値のあるもので
ある。
(従来の技術)
シリカ微粒子は従来より、ハロゲン化ケイ素の熱分解法
による平均−次微粒子径0,02〜0.1μmのヒユー
ムドシリカ、ケイ酸ナトリウム湿式法による 1〜5μ
mの凝集塊の粉砕シリカ、天然シリカの破砕体を溶融球
状化したシリカなどがあるが、いずれも粒子形状が不定
形であったり、仮に球形に近いものでも粒径分布が非常
に広いものである。
による平均−次微粒子径0,02〜0.1μmのヒユー
ムドシリカ、ケイ酸ナトリウム湿式法による 1〜5μ
mの凝集塊の粉砕シリカ、天然シリカの破砕体を溶融球
状化したシリカなどがあるが、いずれも粒子形状が不定
形であったり、仮に球形に近いものでも粒径分布が非常
に広いものである。
粒子が真球状で粒度分布がシャープであるシリカ微粒子
としては、ケイ酸ナトリウム水溶液よりイオン交換法等
により製造される平均粒子径が0.1μm程度までのシ
リカ、テトラアルコキシシランを含水アンモニア性アル
コール溶液中で加水分解して製造される平均粒子径が1
0μmまでのシリカ(STOBER他 ジャーナル オ
ブ コロイド インターフェイス サイエンス26巻、
62〜69 (1968) 、特開昭62−72514
号公報など)等がある。 しかし本来、SiO2として
表わされるシリカ微粒子の真比重は、微粒子の製法や粒
子径によって影響を受けるが、粒子径が0.05μm以
上のような粒子の場合、種々の製法により製造される上
述した従来公知のシリカ微粒子の真比重は、少なくとも
2.05以上、多くの場合2.10より大きく、真比重
が2,10以下の任意な値を有するシリカ微粒子を得る
ことができなかった。
としては、ケイ酸ナトリウム水溶液よりイオン交換法等
により製造される平均粒子径が0.1μm程度までのシ
リカ、テトラアルコキシシランを含水アンモニア性アル
コール溶液中で加水分解して製造される平均粒子径が1
0μmまでのシリカ(STOBER他 ジャーナル オ
ブ コロイド インターフェイス サイエンス26巻、
62〜69 (1968) 、特開昭62−72514
号公報など)等がある。 しかし本来、SiO2として
表わされるシリカ微粒子の真比重は、微粒子の製法や粒
子径によって影響を受けるが、粒子径が0.05μm以
上のような粒子の場合、種々の製法により製造される上
述した従来公知のシリカ微粒子の真比重は、少なくとも
2.05以上、多くの場合2.10より大きく、真比重
が2,10以下の任意な値を有するシリカ微粒子を得る
ことができなかった。
従来より任意な平均粒子径を有し、粒度分布がシャープ
であって真比重が任意にコントロールされた高純度の真
球状シリカ微粒子の具体的な製法例は知られていない。
であって真比重が任意にコントロールされた高純度の真
球状シリカ微粒子の具体的な製法例は知られていない。
ところで、特開昭61−243828号公報に有機基を
含有する平均粒子径が1μm以下の有機酸化ケイ素粉体
の製法として、有機基と加水分解性基とを有するシラン
化合物と、加水分解性基のみを有するシラン化合物とを
有機溶液中で加水分解する方法が開示されている。
含有する平均粒子径が1μm以下の有機酸化ケイ素粉体
の製法として、有機基と加水分解性基とを有するシラン
化合物と、加水分解性基のみを有するシラン化合物とを
有機溶液中で加水分解する方法が開示されている。
しかし、該公報は生成粒子中にシラノール基量を少なく
して疎水化された微粒子の製造を目的として、加水分解
性基がハロゲンであるハロゲン化シラン化合物を原料と
した製造が具体的に開示されているのみであり、粒子の
形状、粒度分布に関して明らかではない。更に粒子の真
比重の制御の可能性についても明らかではなく、具体例
から推察すると不可能であると思われる。
して疎水化された微粒子の製造を目的として、加水分解
性基がハロゲンであるハロゲン化シラン化合物を原料と
した製造が具体的に開示されているのみであり、粒子の
形状、粒度分布に関して明らかではない。更に粒子の真
比重の制御の可能性についても明らかではなく、具体例
から推察すると不可能であると思われる。
本発明者らは上記公知文献記載の方法について詳細に検
討したところ、上述した具体的方法では任意な粒径の粒
度分布のシャープなしかも任意な真比重値を有する真球
状微粒子が得られず微粒子中に原料由来のハロゲンが残
存し高純度な微粒子が得難く、ハロゲン化物使用による
装置上の問題がある等の問題点が見出された。
討したところ、上述した具体的方法では任意な粒径の粒
度分布のシャープなしかも任意な真比重値を有する真球
状微粒子が得られず微粒子中に原料由来のハロゲンが残
存し高純度な微粒子が得難く、ハロゲン化物使用による
装置上の問題がある等の問題点が見出された。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、シリカ微粒子の形状、粒度分布、真比重等を
特定した範囲内で任意に制御された高純度な該微粒子の
工業的に有利な製法を提供するものである。
特定した範囲内で任意に制御された高純度な該微粒子の
工業的に有利な製法を提供するものである。
(問題点を解決するための手段および作用)本発明は、
平均の組成式がR1n Si O4−n(但し、R1は
直接ケイ素原子に結合する炭素原子を有する有機基の平
均組成を示し、nは0.005〜1の範囲の数をそれぞ
れ表わす。)で表わされるシリカ微粒子の製造法であっ
て、加水分解、縮合可能な一般式SiX4で表わされる
シラン化合物(A)、および一般式R2m 31 X4
−lで表わされるシラン化合物(B)[但し、一般式中
Xはアルコキシ基、アシロキシ基、水酸基および水素原
子からなる群から選ばれる少なくとも一種の基、R2は
置換基があってもよいアルキル基、アリール基および不
飽和脂肪族残基からなる群から選ばれる少なくとも一種
の基、mは1〜3の範囲の整数をそれぞれ表わす。]ま
たはそれらの誘導体を、シラン化合物(B)および/ま
たはその誘導体の全シラン化合物に対する比をケイ素原
子の当量数の比で表わして0.0017〜1の範囲に混
合して、少なくとも触媒としてのアンモニウムイオンと
加水分解当(至)を越える水を含む有機性溶液中で加水
分解、縮合することを特徴とする平均粒子径が0.05
〜20μm、粒子径の標準偏差値が1,0〜1.5の範
囲にあって粒子の真比重が1.20〜2.10の範囲で
制御された高純度な真球状シリカ微粒子の製法に関する
ものである。
平均の組成式がR1n Si O4−n(但し、R1は
直接ケイ素原子に結合する炭素原子を有する有機基の平
均組成を示し、nは0.005〜1の範囲の数をそれぞ
れ表わす。)で表わされるシリカ微粒子の製造法であっ
て、加水分解、縮合可能な一般式SiX4で表わされる
シラン化合物(A)、および一般式R2m 31 X4
−lで表わされるシラン化合物(B)[但し、一般式中
Xはアルコキシ基、アシロキシ基、水酸基および水素原
子からなる群から選ばれる少なくとも一種の基、R2は
置換基があってもよいアルキル基、アリール基および不
飽和脂肪族残基からなる群から選ばれる少なくとも一種
の基、mは1〜3の範囲の整数をそれぞれ表わす。]ま
たはそれらの誘導体を、シラン化合物(B)および/ま
たはその誘導体の全シラン化合物に対する比をケイ素原
子の当量数の比で表わして0.0017〜1の範囲に混
合して、少なくとも触媒としてのアンモニウムイオンと
加水分解当(至)を越える水を含む有機性溶液中で加水
分解、縮合することを特徴とする平均粒子径が0.05
〜20μm、粒子径の標準偏差値が1,0〜1.5の範
囲にあって粒子の真比重が1.20〜2.10の範囲で
制御された高純度な真球状シリカ微粒子の製法に関する
ものである。
本発明でいうシリカとは、シリコン原子が主に酸素原子
との結合を介して3次元のネッワークを構成したシリコ
ンの酸素化合物と定義され、平均の組成式がR1n S
i Oと表わされ0は±土 0、005〜1の範囲である。但し、本発明のシリカ微
粒子の製法においてはシリコン原子に炭化水素基の他に
ヒドロキシル基、原料由来のW(X)等が結合している
事もあるが、これらの基は組成式の中には含めないもの
とする。
との結合を介して3次元のネッワークを構成したシリコ
ンの酸素化合物と定義され、平均の組成式がR1n S
i Oと表わされ0は±土 0、005〜1の範囲である。但し、本発明のシリカ微
粒子の製法においてはシリコン原子に炭化水素基の他に
ヒドロキシル基、原料由来のW(X)等が結合している
事もあるが、これらの基は組成式の中には含めないもの
とする。
微粒子原料の一つである一般式5iXaで表わされるシ
ラン化合物(A)のXはアルコキシ基、アシロキシ基、
水酸基および水素原子からなる群から選ばれる少なくと
も一種の基で4個のXは異なっていてもよい。シラン化
合物(A)の具体例としては、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、
テトラブトキシシラン、テトラペントキシシラン、ジメ
トキシジェトキシシラン、テトラアセトキシシラン、ト
リメトキシシラン、トリエトキシシラン、ジェトキシシ
ラン等が掲げられる。又、もう一つの微粒子原料は一般
式R2m 3i X4−Illで表わされるシラン化合
物(B)であって一般式中R2は置換基があってもよい
、アルキル基、アリール基、不飽和脂肪族残基からなる
群から選ばれる少なくとも一種の基で必ずしも疎水性基
である必要はない。Xはシラン化合物(A)におけると
同様の基、mは1〜3の範囲の整数を表わしm個のR2
及び(4−m)個のXはそれぞれ異っていてもよい。
ラン化合物(A)のXはアルコキシ基、アシロキシ基、
水酸基および水素原子からなる群から選ばれる少なくと
も一種の基で4個のXは異なっていてもよい。シラン化
合物(A)の具体例としては、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、
テトラブトキシシラン、テトラペントキシシラン、ジメ
トキシジェトキシシラン、テトラアセトキシシラン、ト
リメトキシシラン、トリエトキシシラン、ジェトキシシ
ラン等が掲げられる。又、もう一つの微粒子原料は一般
式R2m 3i X4−Illで表わされるシラン化合
物(B)であって一般式中R2は置換基があってもよい
、アルキル基、アリール基、不飽和脂肪族残基からなる
群から選ばれる少なくとも一種の基で必ずしも疎水性基
である必要はない。Xはシラン化合物(A)におけると
同様の基、mは1〜3の範囲の整数を表わしm個のR2
及び(4−m)個のXはそれぞれ異っていてもよい。
シラン化合物(B)の具体例としては、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプ
ロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルト
リエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、オク
チルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン
、トリメトキシビニルシラン、クロロメチルトリメトキ
シシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、3.
3.3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキ
シプロビルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
、3−(2−アミノエチルアミノプロビル〉トリメトキ
シシラン、ジメトキシメチルシラン、ジェトキシメチル
シラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセ
トキシシラン、トリアセトキシビニルシラン、ジアセト
キシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジメト
キシジメチルシラン、ジェトキシジメチルシラン、ジェ
トキシジエチルシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジ
メトキシジフェニルシラン、クロロメチルジェトキシシ
ラン、ジェトキシメチルビニルシラン、ジェトキシメチ
ルフェニルシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−1
−リフルオロプロピルシラン、ジメチルエトキシシラン
、ジエチルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジア
セトキシジフェニルシラン、ジアセトキシメチルビニル
シラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチ
ルシラン、アセトキシトリメチルシラン、アセトキシト
リエチルシラン、トリメチルシラノール等が挙げられる
。シラン化合物(A)及び(B)は例示されたものに限
定されるものではない。工業的製造における原料の入手
し易さを考慮すればXとしてアルコキシ基を含むシラン
化合物が好ましい。
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプ
ロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルト
リエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、オク
チルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン
、トリメトキシビニルシラン、クロロメチルトリメトキ
シシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、3.
3.3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキ
シプロビルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
、3−(2−アミノエチルアミノプロビル〉トリメトキ
シシラン、ジメトキシメチルシラン、ジェトキシメチル
シラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセ
トキシシラン、トリアセトキシビニルシラン、ジアセト
キシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジメト
キシジメチルシラン、ジェトキシジメチルシラン、ジェ
トキシジエチルシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジ
メトキシジフェニルシラン、クロロメチルジェトキシシ
ラン、ジェトキシメチルビニルシラン、ジェトキシメチ
ルフェニルシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−1
−リフルオロプロピルシラン、ジメチルエトキシシラン
、ジエチルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジア
セトキシジフェニルシラン、ジアセトキシメチルビニル
シラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチ
ルシラン、アセトキシトリメチルシラン、アセトキシト
リエチルシラン、トリメチルシラノール等が挙げられる
。シラン化合物(A)及び(B)は例示されたものに限
定されるものではない。工業的製造における原料の入手
し易さを考慮すればXとしてアルコキシ基を含むシラン
化合物が好ましい。
また、微粒子原料として使用しうるシラン化合物として
、上記シラン化合物の誘導体がある。−例としてシラン
化合物(A)及び(B)の一部の加水分解性基(X)が
カルボキシル基、β−ジカルボニル基など、キレート化
合物を形成しうる基で置換された化合物、あるいはこれ
らシラン化合物またはキレート化合物を部分的に加水分
解して得られる低縮合物である。
、上記シラン化合物の誘導体がある。−例としてシラン
化合物(A)及び(B)の一部の加水分解性基(X)が
カルボキシル基、β−ジカルボニル基など、キレート化
合物を形成しうる基で置換された化合物、あるいはこれ
らシラン化合物またはキレート化合物を部分的に加水分
解して得られる低縮合物である。
上記した原料シラン化合物(A)及び/又はその誘導体
(以下、シラン化合物(A)類とよぶ)及び(B)及び
/又はその誘導体(以下、シラン化合物(B)類とよぶ
。)は少なくとも触媒としてのアンモニウムイオンと加
水分解当量を超える水を含む有機性溶液に添加して加水
分解、縮合して真球状シリカ微粒子とする。
(以下、シラン化合物(A)類とよぶ)及び(B)及び
/又はその誘導体(以下、シラン化合物(B)類とよぶ
。)は少なくとも触媒としてのアンモニウムイオンと加
水分解当量を超える水を含む有機性溶液に添加して加水
分解、縮合して真球状シリカ微粒子とする。
シラン化合物(A)類とシラン化合物(B ’) jl
の使用割合は、シラン化合物(B)類の全シラン化合物
に対する比をケイ素原子1個当りのモル比で表わした添
加比(以下、添加比と略称する)を0.0017〜1の
範囲とする必要がある。0.0017未満の場合は微粒
子の真比重を下げる効果が弱く1を超える場合は真球状
微粒子が生成しない。−方、有機性溶液中で加水分解、
縮合して生成する微粒子は凝集粒子が無く単分散してい
ることが好ましいが、上記添加比が大きくなれば凝集が
起り易いこともあり、添加比は0.0017〜0.2と
するのが好ましい。又、その範囲において生成微粒子の
真比重は大きく変化する。
の使用割合は、シラン化合物(B)類の全シラン化合物
に対する比をケイ素原子1個当りのモル比で表わした添
加比(以下、添加比と略称する)を0.0017〜1の
範囲とする必要がある。0.0017未満の場合は微粒
子の真比重を下げる効果が弱く1を超える場合は真球状
微粒子が生成しない。−方、有機性溶液中で加水分解、
縮合して生成する微粒子は凝集粒子が無く単分散してい
ることが好ましいが、上記添加比が大きくなれば凝集が
起り易いこともあり、添加比は0.0017〜0.2と
するのが好ましい。又、その範囲において生成微粒子の
真比重は大きく変化する。
シラン化合物(A)類及び(B)類を有機性溶液に添加
するに際し、両者を混合して均一溶液として添加するの
が好ましいが、シラン化合物(B)類の添加比が0,0
5以上のように多い場合にはシン化合物(A)類及び(
B)類を間けつ的に添加してもよい。しかし、添加比が
0.05未満の場合、シラン化合物(A)類のみを原料
として加水分解、縮合して真球状シリカ微粒子とした後
シラン化合物(B)類を添加する、いわゆる(B)類を
カップリング剤的に用いる方法では真比重を制御するこ
とはできない。少なくとも微粒子内部にもシラン化合物
(B)類に由来する有機基を存在させる必要がある。
するに際し、両者を混合して均一溶液として添加するの
が好ましいが、シラン化合物(B)類の添加比が0,0
5以上のように多い場合にはシン化合物(A)類及び(
B)類を間けつ的に添加してもよい。しかし、添加比が
0.05未満の場合、シラン化合物(A)類のみを原料
として加水分解、縮合して真球状シリカ微粒子とした後
シラン化合物(B)類を添加する、いわゆる(B)類を
カップリング剤的に用いる方法では真比重を制御するこ
とはできない。少なくとも微粒子内部にもシラン化合物
(B)類に由来する有機基を存在させる必要がある。
シラン化合物(A)類及びシラン化合物(B)類の添加
絶命は有機性溶液中の最終濃度として2モル/l以下と
した方が生成粒子の凝集が防止できるので好ましい。
絶命は有機性溶液中の最終濃度として2モル/l以下と
した方が生成粒子の凝集が防止できるので好ましい。
有機性溶液とは、原料シラン化合物を溶解しうる有機溶
剤と水及びアンモニウムイオンが完全に溶解しているか
、又は水及びアンモニウムイオンがミセルとして有機溶
剤中に均一に分散した溶液をいう。有機溶剤の具体例と
しては、メタノール、エタノール、イソプロパツール、
n−ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、1.4−ブタ
ンジオール等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、イソ
オクタン、シクロヘキサン等の(シクロ)パラフィン類
、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン等の芳香族化合物等が単一で又は混合物
で用いられる。水及びアンモニアと相溶しない有機溶剤
の場合はそれらに界面活性剤を添加して均一なミセルに
してもよい。
剤と水及びアンモニウムイオンが完全に溶解しているか
、又は水及びアンモニウムイオンがミセルとして有機溶
剤中に均一に分散した溶液をいう。有機溶剤の具体例と
しては、メタノール、エタノール、イソプロパツール、
n−ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、1.4−ブタ
ンジオール等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、イソ
オクタン、シクロヘキサン等の(シクロ)パラフィン類
、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン等の芳香族化合物等が単一で又は混合物
で用いられる。水及びアンモニアと相溶しない有機溶剤
の場合はそれらに界面活性剤を添加して均一なミセルに
してもよい。
有機性溶液中に存在させる水は原料シラン化合物の加水
分解に必要な当量を超えるmである。ここで当世の水と
はシラン化合物(A>の場合、Si X4 +2H20
→Si 02 +4HX、シラン化合物(B)の場合、 −m R2mSiX + 2 820 −m →R2m S i O4−m ” (4m ) HXと
して計算した理論水にそれぞれの添加量(モル)を掛け
て加えた借と定義する。当量を超えない場合は均一な粒
子とはならない。好ましい水の量はシラン化合物の総量
に対しモル比で1,5〜50の範囲でしかも当量を超え
る量とする。
分解に必要な当量を超えるmである。ここで当世の水と
はシラン化合物(A>の場合、Si X4 +2H20
→Si 02 +4HX、シラン化合物(B)の場合、 −m R2mSiX + 2 820 −m →R2m S i O4−m ” (4m ) HXと
して計算した理論水にそれぞれの添加量(モル)を掛け
て加えた借と定義する。当量を超えない場合は均一な粒
子とはならない。好ましい水の量はシラン化合物の総量
に対しモル比で1,5〜50の範囲でしかも当量を超え
る量とする。
触媒となるアンモニウムイオンの分はシラン化合物の総
量に対しモル比で1〜30の範囲とするのが好ましい。
量に対しモル比で1〜30の範囲とするのが好ましい。
アンモニウムイオンはアンモニアガス又はアンモニア水
として添加することができるが、それ以外にも有機性溶
液中でアンモニウムイオンを発生しうる化合物を添加す
ることができる。
として添加することができるが、それ以外にも有機性溶
液中でアンモニウムイオンを発生しうる化合物を添加す
ることができる。
有機性溶液中に存在させる水、アンモニウムイオン量は
粒子の形状や粒子径、分散状態に影響を及ぼすので上記
範囲内で好ましい量に制御する必要があるが、原料シラ
ン化合物の種類、濃、度等によって変化する。
粒子の形状や粒子径、分散状態に影響を及ぼすので上記
範囲内で好ましい量に制御する必要があるが、原料シラ
ン化合物の種類、濃、度等によって変化する。
加水分解、縮合は、例えば上記した原料シラン化合物ま
たはその有機溶剤溶液を上記有機性溶液に添加し、0〜
100℃の範囲、好ましくは0〜70℃の範囲で30分
〜100時間1拌することによって行なわれる。
たはその有機溶剤溶液を上記有機性溶液に添加し、0〜
100℃の範囲、好ましくは0〜70℃の範囲で30分
〜100時間1拌することによって行なわれる。
加水分解、縮合の際に、原料シラン化合物の添加を分割
又は連続して行なってもよく、水及びアンモニウムイオ
ンについても同様である。更にそれらの添加口の数及び
位置や攪拌、混合方法等、具体的製法についても何ら制
限されるものではない。
又は連続して行なってもよく、水及びアンモニウムイオ
ンについても同様である。更にそれらの添加口の数及び
位置や攪拌、混合方法等、具体的製法についても何ら制
限されるものではない。
このようにして原料シラン化合物を有機性溶液中で適切
な条件の元で加水分解、縮合すれば、球形でしかも粒径
分布の非常にシャープな平均組成がR1n Si Oと
表わされ、真比重が任意±」 に変化しうるシリカ微粒子を製造することができる。
な条件の元で加水分解、縮合すれば、球形でしかも粒径
分布の非常にシャープな平均組成がR1n Si Oと
表わされ、真比重が任意±」 に変化しうるシリカ微粒子を製造することができる。
更に好ましい条件を選定することにより、凝集の少ない
微粒子を製造することができる。但し、上記平均組成式
中R1は直接ケイ素原子に結合する炭素原子を有する有
機基の平均組成を示し、シラン化合物(B)の少くとも
一種以上の有機基(R2)に由来するものであり、nは
O,[5〜1の範囲の数を表わすものである。
微粒子を製造することができる。但し、上記平均組成式
中R1は直接ケイ素原子に結合する炭素原子を有する有
機基の平均組成を示し、シラン化合物(B)の少くとも
一種以上の有機基(R2)に由来するものであり、nは
O,[5〜1の範囲の数を表わすものである。
(発明の効果)
上述した如く、特定した原料を用い、特定した条件のも
とて加水分解、縮合することを特徴とする本発明の有機
基を含むシリカ微粒子の製法によって、初めて平均粒子
径が0.05〜20μm1粒子径の標準偏差値が1.0
〜1.5の範囲にあって、粒子の真比重が1.20〜2
.10の範囲で任意に制御された高純度な真球状シリカ
微粒子を製造することができた。粒子径分布のシャープ
な任意の粒径の高純度な真球状微粒子はそれを充填剤、
表面処理剤、成形体等として用いるポリマー、塗料、イ
ンク、トナー、吸着剤、触媒、セラミック等の機能を高
めることができ、その上に真比重の任意な制御は微粒子
の硬さの制御を可能としたり、該微粒子を溶剤、ポリマ
ー等に分散して使用する際の分散性、沈降防止性等に効
果を発揮することができる。更に本発明の製法によれば
微粒子中の有機基とシラノール基量のバランスが任意に
選択された微粒子を製造しうるので、各種の溶剤との親
和性に適合させることが可能であり、有機基として反応
性のあるものを使用すれば微粒子化した後反応性有機基
と結合しうる物質をグラフトさせることができる。
とて加水分解、縮合することを特徴とする本発明の有機
基を含むシリカ微粒子の製法によって、初めて平均粒子
径が0.05〜20μm1粒子径の標準偏差値が1.0
〜1.5の範囲にあって、粒子の真比重が1.20〜2
.10の範囲で任意に制御された高純度な真球状シリカ
微粒子を製造することができた。粒子径分布のシャープ
な任意の粒径の高純度な真球状微粒子はそれを充填剤、
表面処理剤、成形体等として用いるポリマー、塗料、イ
ンク、トナー、吸着剤、触媒、セラミック等の機能を高
めることができ、その上に真比重の任意な制御は微粒子
の硬さの制御を可能としたり、該微粒子を溶剤、ポリマ
ー等に分散して使用する際の分散性、沈降防止性等に効
果を発揮することができる。更に本発明の製法によれば
微粒子中の有機基とシラノール基量のバランスが任意に
選択された微粒子を製造しうるので、各種の溶剤との親
和性に適合させることが可能であり、有機基として反応
性のあるものを使用すれば微粒子化した後反応性有機基
と結合しうる物質をグラフトさせることができる。
(実施例)
以下、実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが実
施例によって本発明の範囲が制限されることはない。
施例によって本発明の範囲が制限されることはない。
なお、シリカ微粒子の形状、平均粒子径、標準偏差値、
結晶性、結合有機基量、真比重、比表面積は下記の方法
により分析した。
結晶性、結合有機基量、真比重、比表面積は下記の方法
により分析した。
・粒子形状
5万倍の電子顕微鏡観察により判定した。
・平均粒子径及び標準偏差値
5万倍の電子顕微鏡撮影像の任意の粒子300個の粒子
径を実測して下記の式より求めた。
径を実測して下記の式より求めた。
Σ X・
i=1
平均粒子径(X)=
・微粒子の結晶性
加水分解、縮合して得られたシリカ微粒子の有機性溶液
懸濁体の一部を100℃で一昼夜真空乾燥し、溶剤、水
等の揮発成分を完全に除去して微粒子の粉体試料を得る
。該粉体試料をX線回折分析により微粒子の結晶性を評
価した。又、懸濁体より粒子を分離した後乾燥又は焼成
して製造された粉体についても同様に評価した。
懸濁体の一部を100℃で一昼夜真空乾燥し、溶剤、水
等の揮発成分を完全に除去して微粒子の粉体試料を得る
。該粉体試料をX線回折分析により微粒子の結晶性を評
価した。又、懸濁体より粒子を分離した後乾燥又は焼成
して製造された粉体についても同様に評価した。
・比表面積
上述した方法により得た粉体試料をBET法により比表
面積を測定した。
面積を測定した。
・真比重
上述した方法により得た粉体試料を島津製オートビクツ
メーター1320を使用して真比重を測定した。
メーター1320を使用して真比重を測定した。
・結合有機基量(nの測定)
上述した方法により得た粉体試料的5gを精秤し0.0
5 NのNa OH水溶液250−に添加し、室温で1
0時間攪拌を続ける。これにより微粒子中の加水分解性
基は全て加水分解されて水溶液に抽出される。該懸濁液
中の微粒子を超遠心分離により分離、水洗をくり返し行
なった竣200℃で5時間乾燥した微粒子粉末試料につ
いて、元素分析により全炭素含量を測定し、原料に用い
たR2m SiX4−mのR2の平均炭素数よりR1を
求め微粒子の平均組成をR1n Si Oと表わした時
のn■ 求めた。また、一方でFT−IRにより粒子中の嘩 一8i −Cの結合についても確認した。
5 NのNa OH水溶液250−に添加し、室温で1
0時間攪拌を続ける。これにより微粒子中の加水分解性
基は全て加水分解されて水溶液に抽出される。該懸濁液
中の微粒子を超遠心分離により分離、水洗をくり返し行
なった竣200℃で5時間乾燥した微粒子粉末試料につ
いて、元素分析により全炭素含量を測定し、原料に用い
たR2m SiX4−mのR2の平均炭素数よりR1を
求め微粒子の平均組成をR1n Si Oと表わした時
のn■ 求めた。また、一方でFT−IRにより粒子中の嘩 一8i −Cの結合についても確認した。
実施例1
度拌磯、滴下口、温度計を備えた30ノのガラス製反応
器にメタノール141及び28%アンモニア水溶液1.
5Kgを添加した後更にアンモニアガスを吹き込み0.
26 Kyを吸収させて混合しアンモニア濃度を調整し
た。該混合液を10℃±0.5℃に調整し、撹拌しなか
らシラン化合物(A)としてテトラメトキシシラン1.
22Kff及びシラン化合物(8)としてフェニルトリ
メトキシシラン0、79 Kyの混合物をメタノール2
Jlに希釈した溶液を滴下口より7時間かけて滴下し、
滴下後内温を50℃まで上げて5時間撹拌を続は熟成し
て加水分解を行ない、シリカ微粒子(a)の有機(メタ
ノール)性溶液懸濁体を製造した。この時の最終溶液全
量に対する各原料の濃度は、テトラメトキシシラン0.
40モル/i、フェニルトリメトキシシラン0.20モ
ル/i、水3.0モル/1、アンモニア2.0モル/i
であった。なお、反発後懸濁体より粒子を分離した清澄
な有機性溶液中に残存するケイ素を原子吸光分析により
測定した所10ppm以下で、原料シラン化合物はほぼ
完全に粒子になっていることを確認した。反応条件及び
微粒子の分析結果を表−1に示す。更に該微粒子を25
0℃で焼成した後も、粒子の形状、平均粒子径、標準偏
差値、結晶性、等に変化はなかった。
器にメタノール141及び28%アンモニア水溶液1.
5Kgを添加した後更にアンモニアガスを吹き込み0.
26 Kyを吸収させて混合しアンモニア濃度を調整し
た。該混合液を10℃±0.5℃に調整し、撹拌しなか
らシラン化合物(A)としてテトラメトキシシラン1.
22Kff及びシラン化合物(8)としてフェニルトリ
メトキシシラン0、79 Kyの混合物をメタノール2
Jlに希釈した溶液を滴下口より7時間かけて滴下し、
滴下後内温を50℃まで上げて5時間撹拌を続は熟成し
て加水分解を行ない、シリカ微粒子(a)の有機(メタ
ノール)性溶液懸濁体を製造した。この時の最終溶液全
量に対する各原料の濃度は、テトラメトキシシラン0.
40モル/i、フェニルトリメトキシシラン0.20モ
ル/i、水3.0モル/1、アンモニア2.0モル/i
であった。なお、反発後懸濁体より粒子を分離した清澄
な有機性溶液中に残存するケイ素を原子吸光分析により
測定した所10ppm以下で、原料シラン化合物はほぼ
完全に粒子になっていることを確認した。反応条件及び
微粒子の分析結果を表−1に示す。更に該微粒子を25
0℃で焼成した後も、粒子の形状、平均粒子径、標準偏
差値、結晶性、等に変化はなかった。
焼成後の表面積、真比重、結合有機基量を表−2に示す
。
。
実施例2
実施例1と同じ装置を用い、有機溶剤をメタノールより
エタノールに替えて以下の反応を行6つだ。
エタノールに替えて以下の反応を行6つだ。
まず、1段目としてシラン化合物(A>としてテトラエ
トキシシラン1,130(]及びシラン化合物(B)と
して3−アミノプロピルトリエトキシシラン63gをエ
タノール2.71に希釈した溶液を28%アンモニア水
2.310g及びエタノール147の混合液中に20℃
に濡度調面しながら添加して加水分解を行ない平均粒子
径1.53μmシリカ微粒子(bl)の懸濁体を得た。
トキシシラン1,130(]及びシラン化合物(B)と
して3−アミノプロピルトリエトキシシラン63gをエ
タノール2.71に希釈した溶液を28%アンモニア水
2.310g及びエタノール147の混合液中に20℃
に濡度調面しながら添加して加水分解を行ない平均粒子
径1.53μmシリカ微粒子(bl)の懸濁体を得た。
次いで2段目として該懸濁体のうち3.41を1段目と
同岳のアンモニア水エタノール混合液に希釈した懸濁液
中に1段目と同量のシラン化合物(A>及び(B)を添
加し1段目と同様に加水分解を行ない平均粒子径2.9
3μmのシリカ微粒子(b2)の懸濁体を得た。以下同
様にして平均粒子径5.62μmのシリカ微粒子(b3
)の懸濁体を得た。それぞれの微粒子の分析結果を表−
1及び表−2に示す。
同岳のアンモニア水エタノール混合液に希釈した懸濁液
中に1段目と同量のシラン化合物(A>及び(B)を添
加し1段目と同様に加水分解を行ない平均粒子径2.9
3μmのシリカ微粒子(b2)の懸濁体を得た。以下同
様にして平均粒子径5.62μmのシリカ微粒子(b3
)の懸濁体を得た。それぞれの微粒子の分析結果を表−
1及び表−2に示す。
実施例3〜6
実施例1において、有は溶剤をエタノールとしシラン化
合物(B)にメチルトリメトキシシランを用いた他、シ
ラン化合物(A)及び(B)の添加量を表−1に示す通
りとする以外は実施例1と同様に行ない、真比重の異な
るシリカ微粒子(C)〜(f>の懸濁体を製造した。結
果を表−1及び表−2に示す。
合物(B)にメチルトリメトキシシランを用いた他、シ
ラン化合物(A)及び(B)の添加量を表−1に示す通
りとする以外は実施例1と同様に行ない、真比重の異な
るシリカ微粒子(C)〜(f>の懸濁体を製造した。結
果を表−1及び表−2に示す。
比較例1
実施例3においてメチルトリメトキシシランを用いない
他は実施例2と同様に行ない、粒子内部に有機基を含ま
ないシリカ微粒子(gl)の懸濁体を製造した。更に該
懸濁体にメチルトリメトキシシランをテトラメトキシシ
ランに対して5モル%添加してシリカ微粒子(ql)に
カップリング処理を施したシリカ微粒子(g2)の懸濁
体を製造した。結果を表−1及び表−2に示す。
他は実施例2と同様に行ない、粒子内部に有機基を含ま
ないシリカ微粒子(gl)の懸濁体を製造した。更に該
懸濁体にメチルトリメトキシシランをテトラメトキシシ
ランに対して5モル%添加してシリカ微粒子(ql)に
カップリング処理を施したシリカ微粒子(g2)の懸濁
体を製造した。結果を表−1及び表−2に示す。
実施例7
実施例1においてシラン化合物(A>の誘導体であるテ
トラエトキシシランの四8体(平均)とシラン化合物(
B)としてジメトキシジメチルシランを用いた伯は実施
例1と同様に行ないシリカ微粒子(h)の懸濁体を製造
した。結果を表−1及び表−2に示す。
トラエトキシシランの四8体(平均)とシラン化合物(
B)としてジメトキシジメチルシランを用いた伯は実施
例1と同様に行ないシリカ微粒子(h)の懸濁体を製造
した。結果を表−1及び表−2に示す。
実施例8
実施例1と同様の反応器を用い、シクロヘキサン221
、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル(エ
チレンオキサイド平均付加モル数6;以後NPと称する
。>0.97Kg、28%アンモニア水0.49 Kg
及び水0.37 Kyを混合し、シクロヘキサン中に均
一なアンモニア水のマイクロエマルションを形成させた
。該エマルションを35℃に調整し撹拌しながらテトラ
エトキシシラン1.257(g及びジアセトキシジメチ
ルシラン0.16Kyの混合物を2時間かけて添加した
後同温で70時間撹拌を続は反応を完結させ、シリカ微
粒子(i)の有機(シクロヘキサン)性溶液懸濁体を製
造した。結果を表−1及び表−2に示す。
、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル(エ
チレンオキサイド平均付加モル数6;以後NPと称する
。>0.97Kg、28%アンモニア水0.49 Kg
及び水0.37 Kyを混合し、シクロヘキサン中に均
一なアンモニア水のマイクロエマルションを形成させた
。該エマルションを35℃に調整し撹拌しながらテトラ
エトキシシラン1.257(g及びジアセトキシジメチ
ルシラン0.16Kyの混合物を2時間かけて添加した
後同温で70時間撹拌を続は反応を完結させ、シリカ微
粒子(i)の有機(シクロヘキサン)性溶液懸濁体を製
造した。結果を表−1及び表−2に示す。
実施例9
実施例8においてジアセトキシジメチルシランに替えて
ジェトキシメチルシランを用いた他は実施例8と同様に
行ないシリカ微粒子(j)の懸濁体を製造した。結果を
表−1及び表−2に示す。
ジェトキシメチルシランを用いた他は実施例8と同様に
行ないシリカ微粒子(j)の懸濁体を製造した。結果を
表−1及び表−2に示す。
Claims (1)
- (1)平均の組成式がR^1nSiO_4_−_n(但
し、R^1は直接ケイ素原子に結合する炭素原子を有す
る有機基の平均組成を示し、nは0.005〜1の範囲
の数をそれぞれ表わす。)で表わされるシリカ微粒子の
製造法であつて、加水分解、縮合可能な一般式SiX_
4で表わされるシラン化合物(A)、および一般式R^
2mSiX_4_−_mで表わされるシラン化合物(B
)[但し、一般式中Xはアルコキシ基、アシロキシ基、
水酸基および水素原子からなる群から選ばれる少なくと
も一種の基、R^2は置換基があつてもよいアルキル基
、アリール基および不飽和脂肪族残基からなる群から選
ばれる少なくとも一種の基、mは1〜3の範囲の整数を
それぞれ表わす。]またはそれらの誘導体を、シラン化
合物(B)および/またはその誘導体の全シラン化合物
に対する比をケイ素原子の当量数の比で表わして0.0
017〜1の範囲に混合して、少なくとも触媒としての
アンモニウムイオンと加水分解当量を超える水を含む有
機性溶液中で加水分解、縮合することを特徴とする平均
粒子径が0.05〜20μm、粒子径の標準偏差値が1
.0〜1.5の範囲にあつて、粒子の真比重が1.20
〜2.10の範囲で制御された高純度な真球状シリカ微
粒子の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30141487A JPH01145317A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 真球状シリカ微粒子の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30141487A JPH01145317A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 真球状シリカ微粒子の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01145317A true JPH01145317A (ja) | 1989-06-07 |
JPH054325B2 JPH054325B2 (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=17896590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30141487A Granted JPH01145317A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 真球状シリカ微粒子の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01145317A (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0238306A (ja) * | 1988-05-19 | 1990-02-07 | Degussa Ag | 球状の親水性ケイ酸の製造方法 |
JPH02296711A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 球状シリカ微粒子およびその製造方法 |
US5683501A (en) * | 1993-11-09 | 1997-11-04 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Compound fine particles and composition for forming film |
JP2002038028A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Toagosei Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2002037620A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-06 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | 真球状シリカ粒子集合体、その製造方法およびそれを用いた樹脂組成物 |
JP2006298708A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 粉末、光拡散板樹脂組成物及び光拡散板 |
JP2009068019A (ja) * | 2008-11-26 | 2009-04-02 | Takemoto Oil & Fat Co Ltd | 球状シルセスキオキサン微粒子及び高分子材料用表面改質剤 |
WO2009096501A1 (ja) * | 2008-01-30 | 2009-08-06 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | 含ケイ素粒子、その製造方法、有機ポリマー組成物、セラミック、およびその製造方法 |
JP2010254510A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Daiso Co Ltd | 有機−無機ハイブリッドシリカゲルの製造方法 |
JP2014159550A (ja) * | 2013-01-16 | 2014-09-04 | Eternal Chemical Co Ltd | シルセスキオキサンコポリマー微粒子、その製造方法、およびその使用 |
JP2016008157A (ja) * | 2014-06-25 | 2016-01-18 | 扶桑化学工業株式会社 | コアシェル型シリカ粒子を含有するコロイダルシリカの製造方法 |
US20220333006A1 (en) * | 2021-04-20 | 2022-10-20 | National Chi Nan University | Far infrared-emitting composition and far infrared- emitting fiber including the same |
WO2022226471A1 (en) * | 2021-04-21 | 2022-10-27 | Versum Materials Us, Llc | Non-spherical primary silica nanoparticles and the use therefor |
KR20250016294A (ko) | 2022-05-31 | 2025-02-03 | 후소카가쿠코교 가부시키가이샤 | 콜로이달 실리카 및 그의 제조 방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4017528A (en) * | 1973-11-16 | 1977-04-12 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Preparation of organically modified silicon dioxides |
-
1987
- 1987-12-01 JP JP30141487A patent/JPH01145317A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4017528A (en) * | 1973-11-16 | 1977-04-12 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Preparation of organically modified silicon dioxides |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0238306A (ja) * | 1988-05-19 | 1990-02-07 | Degussa Ag | 球状の親水性ケイ酸の製造方法 |
JPH0563409B2 (ja) * | 1988-05-19 | 1993-09-10 | Degussa | |
JPH02296711A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 球状シリカ微粒子およびその製造方法 |
JPH0470257B2 (ja) * | 1989-05-12 | 1992-11-10 | Shinetsu Chem Ind Co | |
US5683501A (en) * | 1993-11-09 | 1997-11-04 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Compound fine particles and composition for forming film |
JP2002037620A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-06 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | 真球状シリカ粒子集合体、その製造方法およびそれを用いた樹脂組成物 |
JP4605864B2 (ja) * | 2000-07-25 | 2011-01-05 | 宇部日東化成株式会社 | 真球状シリカ粒子集合体の製造方法 |
JP2002038028A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Toagosei Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2006298708A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 粉末、光拡散板樹脂組成物及び光拡散板 |
JP5450103B2 (ja) * | 2008-01-30 | 2014-03-26 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 含ケイ素粒子、その製造方法、有機ポリマー組成物、セラミック、およびその製造方法 |
WO2009096501A1 (ja) * | 2008-01-30 | 2009-08-06 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | 含ケイ素粒子、その製造方法、有機ポリマー組成物、セラミック、およびその製造方法 |
JPWO2009096501A1 (ja) * | 2008-01-30 | 2011-05-26 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 含ケイ素粒子、その製造方法、有機ポリマー組成物、セラミック、およびその製造方法 |
US8530617B2 (en) | 2008-01-30 | 2013-09-10 | Dow Corning Toray Company, Ltd. | Silicon-containing particle, process for producing the same, organic-polymer composition, ceramic, and process for producing the same |
JP2009068019A (ja) * | 2008-11-26 | 2009-04-02 | Takemoto Oil & Fat Co Ltd | 球状シルセスキオキサン微粒子及び高分子材料用表面改質剤 |
JP2010254510A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Daiso Co Ltd | 有機−無機ハイブリッドシリカゲルの製造方法 |
JP2014159550A (ja) * | 2013-01-16 | 2014-09-04 | Eternal Chemical Co Ltd | シルセスキオキサンコポリマー微粒子、その製造方法、およびその使用 |
JP2016008157A (ja) * | 2014-06-25 | 2016-01-18 | 扶桑化学工業株式会社 | コアシェル型シリカ粒子を含有するコロイダルシリカの製造方法 |
US20220333006A1 (en) * | 2021-04-20 | 2022-10-20 | National Chi Nan University | Far infrared-emitting composition and far infrared- emitting fiber including the same |
US12215032B2 (en) * | 2021-04-20 | 2025-02-04 | National Chi Nan University | Far infrared-emitting composition and far infrared-emitting fiber including the same |
WO2022226471A1 (en) * | 2021-04-21 | 2022-10-27 | Versum Materials Us, Llc | Non-spherical primary silica nanoparticles and the use therefor |
TWI812170B (zh) * | 2021-04-21 | 2023-08-11 | 美商慧盛材料美國責任有限公司 | 非球形初級二氧化矽奈米粒子及其用途 |
KR20250016294A (ko) | 2022-05-31 | 2025-02-03 | 후소카가쿠코교 가부시키가이샤 | 콜로이달 실리카 및 그의 제조 방법 |
DE112022007030T5 (de) | 2022-05-31 | 2025-02-20 | Fuso Chemical Co., Ltd. | Kolloidales Siliziumdioxid und Verfahren zu dessen Herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH054325B2 (ja) | 1993-01-19 |
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