JPH01133235A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光ビームを用いて情報が記録再生される光情報
記録媒体の製造方法に関するものである。

（従来の技術） 光情報記録媒体の一つに光ディスクがあシ、種類は再生
専用型光ディスクと記録可能型光ディスクに分けること
ができる。再生専用型光ディスクは、透明な基板上に金
型を用い射出成形等の方法により微細な凹凸を形成し、
反射膜を被着したものである。この製造方法は、ガラス
盤への感光剤塗布、レーザービームによる情報記録、現
像、電気メツキ、金属原盤作製、射出成形、反射膜形成
、保護膜塗布の工程を必要とし、金属原盤を作製するに
は多大な費用が必要であるため、少品種大量生産に適し
た方法である。しかし、小規模な光ディスクの生産には
不適切であシ、この場合−枚の光ディスクは高価になっ
てしまう。

小規模生産に適した方法として記録可能光ディスクを用
いることが考えられる。これは従来から公知のように、
透明基板上に設けられた光吸収性の光記録膜に半導体レ
ーザゴ光を照射して孔をあけるかあるいは結晶相転移を
生起せしめて情報を記録し、反射光にて情報を再生する
ものである。金属原盤を作製する必要もなく安価に光デ
ィスクを製造することができる。しかしながら、光記録
膜の反射率は低い為、上述の様にして作られた光ディス
クの反射率は５０チ以下であり、反射率７０チ以上を要
求される再生専用型光ディスクの規格を満足することが
できず、市販の再生専用型光デイスク再生装置では再生
するととができない。

かかる問題を解決し、市販の再生専用型光ディスクを安
価に小規模生産し、市販の再生専用型光デイスク再生機
にて再生可能な光ディスクを製造する方法として特開昭
６２−１１９７５５号が示されている。これは、透明基
体上に記録光ビーム吸収性有機色素記録膜を形成し、光
ビームを照射し該記録膜にビットと呼ばれる孔をあけて
情報を記録し、その後記録膜を光ビームに対して透明と
する操作を加え、更に反射膜を被覆する方法で、充分な
反射率を持った記録媒体を得ることが出来る。

（発明が解決しようとする問題点〕 上記方法は、シアニン等の有機色素を用いる為、塩化メ
チレン等の有機溶剤を用いて透明基板上に塗布しなくて
はならず、このため耐溶剤性に劣る透明プラスチック、
例えばポリカーボネート、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタク
リレート）樹脂等の光デイスク用として最も優れた基板
を使用できず、ガラス基板を使用することになり光ディ
スクが高価になる。一方、上述の様なプラスチック基板
を用いるためには、その表面にスパッタリングや蒸着に
よってＳｉ　０２等の無機保獲膜を形成し、耐溶剤性を
付与した上で使用しなければならず、光デイスク作製工
程が増し該光ディスクが高価になってしまう欠点がある
。

この為本発明は情報が記録された光ディスクの小規模な
生産に際し、透明プラスチック基板も使用可能で、簡単
な工程で安価に光ディスクを製造する方法を提供するこ
とを目的としてなされたものである。

（問題点を解決する為の手段） 本発明では、透明基板上に非晶質−結晶質相転移材料か
らなる光記録膜を被着させ、該光記録膜に光ビームを照
射して該光記録膜の光照射部を結晶化させる。しかる後
、前記光記録膜の光来照射部である非晶質部をプラズマ
中でエツチングする簿（二よシ除去し、更に両射記録膜
上に反射膜を付着させる。

（作用） 従って光照射を受けなかった部分の光記録膜は除去され
ているために透明基体上に直接反射膜が被着し、光学反
射率は再生専用型光ディスクと同一になシフ０チ以上の
値を簡単に得られる。一方、記録レーザー照射部位にお
いては、透明基板上に結晶化した不透明の光記録膜の上
に、反射膜が被着するので、この部分の光学反射率は上
記レーザー非照射部の光学的反射率よシも十分に低くな
る。従って、未記録の記録媒体に、記録情報に応じて変
調されたパルスレーザ−ビームを照射すると、上記光記
録膜のレーザー照射部は非晶質から結晶質に転移し、レ
ーザー非照射部は非晶質のままである。こうして記録の
行われた記録膜をプラズマにてエツチングすると、該光
記録膜の非晶質部のエツチング速度は結晶質部のエツチ
ング速度よりも大であるため、エツチング条件を適切に
選ぶと非晶質部を透明基体よシ除去し、結晶質部のみを
透明基体上に被着したまま残すことができる。しかる後
、Ａ１　、Ａｕ　、Ｏｕ　、Ａｇ等の反射膜を蒸着法ま
たはスパッタリング法等にて成膜する。すると、記録レ
ーザー非照射部においては、光記録膜はエツチングによ
って除去されている６）で反Ｎｅ＋ｚ％町（実施例） 外径１２０　ｍｒｔｔ　ｒ内径１５朋、厚さ１．２朋で
あって、表面にピッチ１．６　μｍ　、　ｌ咄０，７　
μｍ　、深さ０゜０７μｍのスパイラル状トラッキング
溝をもったポリカーボネート基板１１を、第２図に示す
スパッタリング装置の回転式基板支持テーブル２２にと
シつけ、真空槽２１内を約５　Ｘ　１０−’　Ｐａに排
気後Ａｒガスを導入して、ガス圧を５　Ｘ　１０−１Ｐ
ａにする。この状態で真空槽２１とＧｅＴｅのターゲッ
ト２３との間に高周波電圧を印加してアルゴンガスをイ
オン化し、ポリカーボネート基板１１上に第１図Ａの如
く厚さ８０　ｎｍのＧｅＴｅ記録膜１２を成膜した。次
に記録膜１２を有する基板１１半導体レーザー光をポリ
カーボネート基板１１を通して照射し、コンパクトディ
スクと同一のＥＦＭディジタルオーディオ信号を記録し
た。

こうして記録が済んだ光ディスクを第２図のスパッタリ
ング装置の回転式基板支持テーブル２２にとりつけ真空
槽内２１を約５×１０″″’Ｐａに排気後、真空槽内に
Ａｒガスを導入してガス圧を５Ｘ　１０−’　Ｐａにし
、回転式基板支持テーブル２２に高周波電圧を印加して
アルゴンガスをイオン化すると、光記録膜１２がプラズ
マエツチングされる。この場合、照射部１３の結晶質の
エツチング速度が遅いので、結晶質のみがポリカーボネ
ート基板１１に残シ、非照射の非晶質部は完全に除去さ
れた。

こうして第１図すに示す様にエツチング後に光記録膜結
晶化部１７が形成される。結晶化部１７の厚さを制御す
ることは、反射膜形成後の該記録膜結晶化部のレーザー
ビームの反射率を決定するので重要である。

８１チ＼となるので、再生専用型光ディスクの規格を満
足するには、エツチング後の光記録膜残存部位である結
晶化部１７の反射率は３２チ以下とすることが必要であ
る。この条件を満たすためには、第３図に示されるよう
にエツチング後の光記録膜の結晶化部１７の厚みを１０
〜４０　ｎｍとなるようエツチングする必要がある。こ
の為非晶質部が完全に除去されたあとも、結晶化部１７
が所望の厚さになるまでエツチングを続ける。

引きつづいて同一真空槽２１内で、上記高周波電力をＡ
Ｉメタ−ット２４の方に印加し、エツチング処理済の光
記録膜上に、第１図Ｃの如く厚さ７０　ｎｍのアルミニ
ウム反射膜１６を成膜した。

この方法で作った光ディスクを市販のコンパクトディス
クプレーヤーを用いて再生し、ブロックエラーレートを
測定したところ２３個／Ｓ　が得られ、市販コンパクト
ディスクプレーヤーによる再生が十分に可能であった。

本実施例においては光記録膜材料ＫＧｅＴｅを用いた例
を示したが、本発明ではＧｅ　Ｔｅに限ることな（Ｇｅ
Ｔｅの一部を８ｎあるいはＰｂで置換したＧｅ　８ｎ　
Ｔｅ　、　Ｇａ　Ｐｂ　Ｔｅ　、及びＧｅ５ｎＰｂＴｅ
を主成分とする材料を用いても実施例と同じ効果が得ら
れる。また、記録膜用の他の材料としてはＧａ−８ｂ　
、　５ｂ−８ｅ　、　Ｇｅ−８ｅ　、　Ｉｎ−８ｂ　　
、　Ｔｅ　−Ｇｅ−８−８ｂ等光照射によって非晶質−
結晶質相転移を示す材料であれば使用することができる
。

この様に、透明基板上に光記録膜として、非晶質−結晶
質相転移材料を蒸着法またはスパッタリング法にて成膜
し、プラスチック基板を侵す有機溶剤類は使用しないた
め、耐溶剤性に劣るプラスチック基板を使用することが
できる。従って、この場合プラスチック基板に８ｉ０２
等の保護膜を成膜する必要がなく、簡単な工程で光記録
媒体を安価に製造できる。

（効果） 以上の様に本発明の光記録媒体製造方法によれば、小規
模でも効率よく製造することが出来、又光ディスクの反
射率を大きくすることが出来るので、市販の再生専用型
光デイスク再生装置にて再生することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図、ａ、ｂ、Ｃは本発明による光記録媒体の製造工
程を示す断面図、第２図はスパッタリング兼エツチング
装置の概略図、第３図は第１図Ｃに示される構造の光記
録媒体の光記録膜の厚さとそ１３・・・記録光ビーム照
射部 １５・・・記録光ビーム　　　１６・・・反射膜１７・
・・結晶化部　　　　　２１・・・真空槽２２・・・回
転式基板支持テーブル ２３　・・・ＧｅＴｅ　ターゲラ　ト　　２４・・・Ａ
Ｊ、ターケ１ット基２．回

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基体上に、光ビームにより非晶質から結晶質
   へ結晶相転移を生じる性質の記録膜を被着させる工程と
   、該記録膜に光ビームを照射して情報を記録する工程と
   、前記記録膜の非光照射部をプラズマ中でエッチングし
   て除去する工程と、残つた記録膜及び基体上に反射膜を
   付着させる工程からなる光情報記録媒体の製造方法。
2. （２）光記録膜としてゲルマニウム・テルル系材料を用
   いる特許請求の範囲第１項記載の光情報記録媒体の製造
   方法。