JPH01236438A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光ビームによシ情報が再生される光情報記録媒
体の製造方法に関するものである。

（従来の技術） 光情報記録媒体の一つに光ディスクがアシ、種類は両生
専用型光ディスクと記録可能型光ディスクに分けること
ができる。

再生専用型光ディスクは、透明な基板上に、金型を用い
て射出成形等の方法によシ微細な凹凸を形成し、反射膜
を被着したものである。この製造方法は、ガラス盤への
感光剤塗布、レーザービームによる情報記録、現像、電
気メツキ、金属原盤作製、射出成形、反射膜形成、保護
膜塗布の工程を必要とし、金属原盤を作製するには多大
な費用が必要であるため、少品種大量生産に適した方法
である。しかし、小規模な光ディスクの生産には不適切
であり、この場合−枚の光ディスクは高価になってしま
う。

小規模生産に適した方法として記録可能光ディスクを用
いることが考えられる。これは従来から公知のように透
明基板上に設けられた光記録膜に半導体レーザー光を照
射して孔をあけるか、あるいは結晶相転移を生起せしめ
て情報を記録し、反射光にて情報を再生するものである
。金属原盤を作製する必要もなく安価に光ディスクを製
造することができる。しかし、この方法で作られた光デ
ィスクの反射率は５０％以下であシ、反射率７０チ以上
を要求される再生専用型光ディスクの規格を満足するこ
とができず、市販の外生専用型光ディスク再生装置では
再生することができない。

かかる問題を解決し、市販の再生専用型光ディスクを安
価に小規模生産し、市販の再生専用型光デイスク再生機
にて再生可能な光ディスクを製造する方法として、特開
昭６２−１１９７５５号が示されている。これは、透明
基板上に記録光ビーム吸収性有機色素記録膜を形成し、
光ビームを照射し、該記録膜にピットと呼ばれる孔をあ
けて情報を記録し、その後記録膜を光ビームに対して透
明とする操作を加え、更に反射膜を被覆する方法である
。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、この許開昭６２−１１９７５５号で示さ
れた方法は、記録原理が、記録膜の溶融によるため、ピ
ット周辺部にリムと呼ばれる盛シ上シ部が生じてしまう
。そのために再生光ビームによシ、記録された信号を再
生すると、再生信号に雑音成分を多く含むことになシ、
再生信号に誤りが多くなる欠点がある。

（問題点を解決するための手段） 本発明においては、上記問題点を解決するために透明基
体上に再生光ビームに対して透明性を示す昇華性材料よ
りなる第１の層を形成し、光ビームを照射することによ
って溶融蒸発を生起する第２の層を前記第１の層上に形
成し、該第２の層に光ビームを照射して情報を記録する
。しかる後プラズマ中にて上記第２の層をエツチング除
去し、さらにＡｕ　、Ａｇ　、Ｏｕ　、Ａｆ等の再生ビ
ーム反射膜を付着させている。

（作用） 本手段による作用を以下に説明する。上述の様に光記録
層は昇華性材料よりなる第１の記録層と溶融蒸発材料か
らなる第２の記録層からできている。この光記録層に、
記録情報に応じて変調され溶融蒸発が起シビットが形成
される。このとき、第２の記録層においては溶融による
ピット周辺部のリムは形成されるが、第２の記録層はひ
きつづく工程でエツチングによシ除去されるので、完成
した光情報媒体の再生信号品質を何ら低下させることは
ない。一方、昇華性材料よりなる第１の記録層において
は、第２の記録層の発熱のために、光ビーム照射部が熱
せられて材料は昇華するので凹部（ピット）が形成され
る。このとき第１の記録層に形成されるピットは材料の
昇華にもとづくもので溶融によるものではないのでピッ
ト周辺にはリムは生ぜず平担である。次に、プラズマ中
にて第２の記録層をエツチング除去すると透明基体と記
録信号に対応したピットを有する第１の記録層のみが残
シ、シかも該ピット周辺はリムが存在せず平担なものが
得られる。しかる後、反射膜としてＡＪ−、Ｏｕ　、　
Ａｇ　、　Ａｕ等の膜を蒸着法又はスパッタリン、グ法
にて成膜すると、コンパクトディスク等の再生専用型光
ディスクと同じ反射率が得られ、信号品質も雑音成分が
少なく再生信号の誤シを低くすることができる。

（実施例１） バイラル状トラッキング溝をもったポリカーボネート基
板を真空蒸着装置の回転基板支持テーブルにとシつけ、
真空槽内を約５　Ｘ　１０−’Ｐａに排気後、フタロシ
アニンを充填したボートに電圧を印加し、ポリカーボネ
ート基板上に第１の記録層として厚す１１０　ｎｍの７
タロシアニン膜を成膜した。つづいてＴｅ−８層合金を
充填したボートに電圧を印加し、上記フタロシアニン膜
上に第２の記録層として厚さ３０　ｎｍのＴｅ−８層合
金膜を成膜し、第１図ａの如き記録媒体を得た。上記２
層の膜を有する記録媒体を線速１．４　ｍ　／　Ｓで回
転させ、波長８３０　ｎｍの半導体レーザー光をポリカ
ーボネート基板１１を通して照射し、コンパクトディス
クと同一のＢＦＭデジタルオーディオ信号を第１図すの
如く記録した。この記録が行われた光ディスクを真空槽
内の回転基板支持テーブルにとシつけ真空槽内を約５　
Ｘ　１０−’　Ｐａに排気後、真空槽内にＡｒガスを導
入してガス圧を５×１０″″’Ｐａにし、回転基板支持
テーブルに１００Ｗの高周波調節するとＴｅ−８ｅ合金
よりなる第２の記録層１３が除去され、ポリ゛カーボネ
ート基板１１上にはフタロシアニンの第１の記録層１２
のみが第１図Ｃの如く残る。該第１の記録層１２には記
録情報に対応したピットが形成されておシ、ピット周辺
述の如くエツチング処理済の基体と第１の記録層１２か
らなる光ディスクに第１図ｄの如く厚さ７０ｎｍのＡ１
反射膜１４を成膜した。

以上の工程にて作製した光ディスクを市販のコンパクト
ディスクプレーヤーを用いて再生し、ブロックエラーレ
ートを測定したところ、２７個／Ｓが得られ、市販コン
パクトディスクプレーヤーによる再生が十分に可能であ
った。また、本実施例においてＢＦＭディジタルオーデ
ィオ信号に替えてデユーティ比５０％、５００ｋＨｚの
信号を記録し、市販のコンパクトディスクプレーヤーを
用いて再生したところ、５８ｄＢのＯＮ比が得られ、再
生信号に雑音成分の少ないことがわかった。

（実施例２） 外径１２０１ｍ、内径１５ｍ１Ｌｐ厚さ１．２ｉｎであ
って、表面に公知の技術である２Ｐ法によシ作製された
ピッチ１．６μｍ、幅０．７μｍ、深さ０．０７−’μ
ｍのスパイラル状トラッキング溝をもったＰＭＭＡ（ポ
リメチルメタルクリレート）基板上に、スピンコード法
を用いて、第１の記録膜としてニトロセルロースの酢酸
イソブチル溶液を塗布し、ＰＭＭＡ基板上に厚さ１１０
ｎｍのニトロセルロース膜を成膜した。以下実施例１と
同様にしてニトロセルロース膜上に、第２の記録膜とし
て厚さ３゜ｎｍのＴｅ−８ｅ合金膜を成膜し、ＥＦＭデ
ィジタルオーディオ信号とデユーティ−比５０チの５０
を用いて再生したところ、ブロックエラーは１９個／ｓ
　　、　５００　ｋＨｚの信号のＯＮＲ，は５９ｄＢが
得られ、再生信号には雑音成分が少なく誤シ率が低いこ
とが明らかとなった。

この様に第１の記録層としては、再生光ビームに対して
透明性を示し、加熱によシ昇華する性質の材料であれば
よく、ニトロセルロース、ショウノウ、フタロシアニン
、銅フタロシアニン、ニッケルフタロシアニン、コバル
トフタロシアニン。

鉄フタロシアニン、クロムフタロシアニン、亜鉛フタロ
シアニン、白金フタロシア二／、パラジウムフタロシア
ニン等を用いることが出来る。

又、第２の記録層としては、光ビームによシ加熱されて
溶融蒸発する性質の材料であればよく、＋ｊＳｅ、Ｔｅ
、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｓｂ等の低融点金属
又は合金シアニン色素、ナトキノン色素、ベンゼンブチ
オールニッケル錯体色素、上記金属と有機高分子との複
合材料等を用いることが出来る。

（発明の効果） 本発明においては、光記録膜は２層構成になっておシ昇
華性材料よりなる第１の層に形成されるピットを利用し
て信号の記録再生が行われる。ここで第１の層に形成さ
れるピットは記録層材料の昇華にもとづくもので溶融に
よるものではないのでピット周辺にはリムは生ぜず平担
であるため、可成信号における雑音成分が小さく信号誤
シ率を低く抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による光情報記録媒体の製造工程を示す
断面図、第２図は従来例による光情報記録媒体の断面図
である。 １１　、２１・・・透明基体　　　１２・・・第１の記
録層１３・・・第２の記録層　　　１４．２４・・・反
射膜２２・・・記録層

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基体上に、再生光ビームに対し透明性を示す
   昇華性材料よりなる第１の層を形成する工程と、光ビー
   ムを照射することにより溶融蒸発する第２の層を前記第
   １の層上に形成する工程と、前記第２の層上に光ビーム
   を照射し情報を記録する工程と、 上記第２の層をエッチングして除去する工程と、上記第
   １の層上に反射膜を付着させる工程からなる光情報記録
   媒体の製造方法。
2. （２）昇華性材料としてニトロセルロースを用いること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光情報記録媒
   体の製造法。
3. （３）昇華性材料としてフタロシアニン金属フタロシア
   ニンを用いる特許請求の範囲第１項記載の光情報記録媒
   体の製造方法。