JP7142705B2

JP7142705B2 - 排ガス浄化用触媒

Info

Publication number: JP7142705B2
Application number: JP2020538167A
Authority: JP
Inventors: 広樹栗原; 祐喬永井; 真吾秋田; 慶徳遠藤; 武史森; 孝行渡邊; 智子津山
Original assignee: Honda Motor Co Ltd; Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Current assignee: Honda Motor Co Ltd; Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority date: 2018-08-22
Filing date: 2019-04-17
Publication date: 2022-09-27
Anticipated expiration: 2039-04-17
Also published as: CN112055615A; US11208931B2; US11913367B2; EP3842141A4; US20210164377A1; JP7214740B2; EP3842141B1; JPWO2020039649A1; EP3842141A1; WO2020039649A1; EP3842142A1; CN112004599A; EP3842142B1; EP3842142A4; WO2020039650A1; US20210164378A1; JPWO2020039650A1; CN112055615B

Description

本発明は、排ガス浄化用触媒に関する。

ガソリンエンジンからなる内燃機関に関しては年々厳しくなる燃費基準に対応するために、直噴エンジン（Gasoline Direct Injection engine、以下ＧＤＩともいう）の採用が広がっている。ＧＤＩは低燃費及び高出力である一方で、従来のポート噴射式エンジンに比べて排ガス中の粒子状物質（Particulate Matter、以下ＰＭともいう。ススを含む）の排出量が５～１０倍以上であることが知られている。このＰＭ排出に関する環境規制に対応するため、ＧＤＩ等のガソリンエンジン搭載車両においてもディーゼルエンジン搭載車両のようにＰＭ捕集機能を有するフィルタ（Gasoline Particulate Filter、以下ＧＰＦともいう）の設置が求められている。
一般に車両における排ガス浄化用触媒の搭載スペースは限られていることから省スペースの観点から、上述のフィルタにＰｄ、Ｐｔ、Ｒｈ等の貴金属三元触媒成分を担持させて、ＰＭの捕集とともに窒素酸化物（ＮＯ_ｘ）、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）等の浄化を行う触媒が近年用いられている。

例えば特許文献１には、粒子状物質フィルタを有するガソリンエンジン排ガス流の処理システムであって、該粒子状物質フィルタが、粒子状物質フィルタ基材と、該フィルタ基材の排ガス流入口表面上に設けられた流入口層と、該フィルタ基材の排ガス排出口表面上に設けられた排出口層とを含み、該流入口層がＲｈ及び／又はＰｄを含み、該排出口層がＲｈ及び／又はゼオライトを含む処理システムが記載されている。

ＵＳ２０１１００３０３４６Ａ１

しかしながら、貴金属三元触媒成分を担持する従来のフィルタ触媒において、貴金属の使用量を抑制しつつ、更に高い排ガス浄化性能を発揮する技術が求められている。

本発明は従来よりも排ガス浄化性能の高いウォールフロー型排ガス浄化用触媒を提供することを課題としたものである。

本発明者は、ウォールフロー構造を有するフィルタ触媒の構成について鋭意検討した。その結果、基材の流入口側及び排出口側において、酸化性触媒層と還元性触媒層とを特定の条件で配置することにより、従来よりも排ガス浄化性能が高いフィルタ触媒が得られることを知見した。

本発明は前記知見に基づくものであり、
基材と該基材に設けられた触媒部とを備え、
前記基材は、
排ガス流通方向の流入側が開口し且つ流出側が閉塞されている空間からなる流入側セルと、
排ガス流通方向の流入側が閉塞されており且つ流出側が開口している空間からなる流出側セルと、
該流入側セルと該流出側セルとを隔てる多孔質の隔壁とを有し、
前記触媒部は、
前記隔壁における前記流入側セルに臨む面のうち、前記流通方向の上流側の少なくとも一部に設けられた第一触媒部と、
前記隔壁における前記流出側セルに臨む面のうち、前記流通方向の下流側の少なくとも一部に設けられた第二触媒部とを有する排ガス浄化用触媒であって、
前記第一触媒部及び前記第二触媒部の一方が、少なくとも１層の酸化性触媒層及び少なくとも１層の還元性触媒層を有し、
他方が、少なくとも１層の酸化性触媒層及び／又は少なくとも１層の還元性触媒層を有する、排ガス浄化用触媒を提供する。

本発明によれば、従来よりも排ガス浄化性能に優れたフィルタ触媒を提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態である排ガス浄化用触媒の模式断面斜視図を示す。図２は、図１において四角で囲まれた部分について基材の軸方向に沿う断面を示した図である。図３は、図２において四角で囲まれた部分を拡大して示した図である。図４は、別の実施形態に係る排ガス浄化用触媒の断面の一部拡大図である。図５は、更に別の実施形態に係る排ガス浄化用触媒の断面の一部拡大図である。図６は、本発明の一実施形態に係る排ガス浄化処理システムを模式的に示す図である。

以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき説明するが、本発明は下記実施形態に限定されない。
本実施形態の排ガス浄化用触媒１０の例を図１ないし図５に示す。これら図面は単に、排ガス浄化用触媒の模式的な例の一つを示すものであり、何ら本発明を限定するものではない。

排ガス浄化用触媒１０は、ガソリンエンジン、特に車両のＧＤＩエンジンなどの内燃機関の排気経路に設けられている。排ガス浄化用触媒１０は、例えばＧＰＦとして用いられる。

図１に示すように、排ガス浄化用触媒１０は、いわゆるウォールフロー構造を有する基材１１を有する。基材１１は、種々の材料のものを用いることができ、例えば、コージェライト、炭化ケイ素（ＳｉＣ）等のセラミックス等から形成されたものを好適に採用することができる。基材は、通常、図１に示すように柱状の外形を有しており、柱状外形の軸方向が排ガス流通方向Ｘと略一致するように、内燃機関の排気経路に配置されている。図１には、外形が円柱形状である基材が例示されている。もっとも、基材全体の外形については、円柱形に代えて、楕円柱形、多角柱形を採用してもよい。

図１に示すように、基材１１は、排ガス流通方向Ｘに沿って延びるとともに、該流通方向Ｘの流入側が開口し且つ流出側が閉塞されている空間からなる流入側セル２１と、該流通方向Ｘに沿って延びるとともに、該流通方向Ｘの流入側が閉塞されており且つ流出側が開口している空間からなる流出側セル２２とを有している。

流入側セル２１及び流出側セル２２は有底孔状をしている。流入側セル２１は、排ガス流通方向Ｘの下流側端部Ｒ２に位置する排ガス流出側端部が封止部２４で閉塞されており、上流側端部Ｒ１に位置する排ガス流入側端部が開口している。流出側セル２２は、上流側端部Ｒ１に位置する排ガス流入側端部が封止部２５で閉塞されており、下流側端部Ｒ２に位置する排ガス流出側端部が開口している。流入側セル２１及び流出側セル２２は、開口端部（以下、「開口部」ともいう）から気体や液体等の流通が可能であり、閉塞した封止部２４及び封止部２５では排ガスの流通が遮断されている。流入側セル２１及び流出側セル２２は基材１１の軸方向に沿って延びる有底孔状の空間である。基材１１の軸方向と直交する断面における流入側セル２１及び流出側セル２２の断面形状は、正方形、平行四辺形、長方形、台形などの矩形、三角形、六角形、八角形などの多角形、円形、楕円形など種々の幾何学形状であってよい。

流入側セル２１と、隣接する流出側セル２２との間は、多孔質の隔壁２３によって区画されている。隔壁２３は、流入側セル２１と流出側セル２２の側壁を構成している。隔壁２３は、排ガス等の気体が通過可能な多孔質構造である。隔壁２３の厚みは例えば１５０μｍ～４００μｍが好ましい。ここでいう厚みは、流入側セル２１と流出側セル２２との間の隔壁２３の厚みが一定でない場合は、最も薄い部分の厚みを指す。

基材１１は、流入側端部Ｒ１におけるひとつの流入側セル２１の開口部面積と、流出側端部Ｒ２におけるひとつの流出側セル２２の開口部の面積とが同じであってもよく、異なっていてもよい。ここでいう開口部の面積とは、基材１１の軸方向と直交する平面での面積である。

基材１１には、触媒活性成分を有する触媒部が担持されている。図２に示すように、触媒部は、隔壁２３の流入側セル２１に臨む面のうち、排ガス流通方向Ｘ（以下、Ｘ方向ともいう）上流側に少なくとも設けられた層状の第一触媒部１４と、隔壁２３の流出側セル２２に臨む面のうち、少なくとも排ガス流通方向Ｘの下流側に設けられた層状の第二触媒部１５を有している。なお、図２～図５のハッチングは後述する酸化性触媒層及び還元性触媒層の位置を限定するものではない。

排ガス浄化用触媒１０においては、図２に示すように、基材１１の流入側セル２１に排ガスが流入する。流入側セル２１から流入した排ガスは、多孔質の隔壁２３を通過して流出側セル２２に到達する。図２においては、流入側セル２１に流入した排ガスが隔壁２３を通過して流出側セル２２に到達する経路を矢印で示している。隔壁２３は多孔質構造を有しているので、排ガスがこの隔壁２３を通過する間に、ＰＭが隔壁２３の表面や隔壁２３の内部の細孔内に捕集される。また排ガスが隔壁２３の内部及び表面を通過する間に、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の触媒活性成分と接触して、排ガス中の有害成分が浄化される。隔壁２３を通過して流出側セル２２に到達した排ガスは、流出側セル２２の開口から排ガス浄化用触媒１０の外部へと排出される。

本実施形態では、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の一方が、少なくとも１層の酸化性触媒層及び少なくとも１層の還元性触媒層を有し、他方が、少なくとも１層の酸化性触媒層及び少なくとも１層の還元性触媒層のうち、何れか一方又は両方を有する。

酸化性触媒層とは、触媒活性成分の中でも酸化触媒を主に含む触媒層である。ここで、酸化触媒は、ＮＯ_ｘ（窒素酸化物）を還元する触媒としての作用よりも、炭化水素（ＨＣ）及び一酸化炭素（ＣＯ）を酸化する触媒としての作用の方が強いという性質を示す触媒である。酸化触媒としては、パラジウム（Ｐｄ）及び白金（Ｐｔ）から選ばれる１種又は２種が挙げられる。一方で、還元性触媒層とは、触媒活性成分の中でも還元触媒を主に含む触媒層である。ここで、還元触媒は、炭化水素（ＨＣ）及び一酸化炭素（ＣＯ）を酸化する触媒としての作用より、ＮＯ_ｘ（窒素酸化物）を還元する触媒としての作用が強いという性質を示す触媒である。還元触媒としてはロジウム（Ｒｈ）が挙げられる。

酸化性触媒層は、酸化触媒だけでなく、還元触媒や他の触媒活性成分が含まれていてもよいが、酸化触媒の量が、還元触媒及び他の触媒活性成分の合計量よりも多い。ここでの量とは金属元素換算における質量基準である。特に酸化性触媒層に含まれる触媒活性成分の総量のうち、酸化触媒としてのＰｄ及びＰｔの合計の含有割合が５０質量％を上回ることが更に好ましい。ここでいう他の触媒活性成分としては、上述した酸化触媒及び還元触媒以外の成分であり、ルテニウム（Ｒｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、オスミウム（Ｏｓ）、金（Ａｕ）及び銀（Ａｇ）から選ばれる１種又は２種以上が挙げられる。

還元性触媒層は、還元触媒だけでなく、酸化触媒や他の触媒活性成分が含まれていてもよいが、還元触媒の量が、酸化触媒及び他の触媒活性成分の合計量よりも多い。ここでの量とは金属元素換算における質量基準である。特に還元性触媒層に含まれる触媒活性成分の総量のうち、還元触媒としてのＲｈの含有割合が５０質量％を上回ることが更に好ましい。ここでいう他の触媒活性成分としては、Ｐｔ及びＰｄに加えて、前記で挙げたものが挙げられる。

本実施形態では、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の一方が、少なくとも１層の酸化性触媒層及び少なくとも１層の還元性触媒層を有する。そして、他方が、少なくとも１層の酸化性触媒層及び少なくとも１層の還元性触媒層のうち、何れか一方又は両方を有する。すなわち、本実施形態の排ガス浄化用触媒１０においては、第一触媒部１４及び第二触媒部１５のうち一方を、酸化性触媒層及び還元性触媒層を両方とも含むものとし、且つ、他方を、酸化性触媒層及び還元性触媒層の少なくとも一方を含むようにする。これにより、排ガス浄化用触媒１０を、排ガスが、合計で３層以上の酸化性触媒層及び還元性触媒層と接触可能な構成とすることができる。この構成により排ガス浄化性能が向上するメカニズムは明確ではないが、本発明者は、排ガスと、酸化性触媒層又は還元性触媒層との接触確率を高めることで酸化性触媒層又は／及び還元性触媒層における酸化還元反応が活発になることが理由の一つではないかと考えている。

本実施形態の排ガス浄化用触媒１０において、酸化性触媒層及び還元性触媒層が積層される態様としては、まず隔壁２３上に酸化性触媒層が形成され、その酸化性触媒層上に還元性触媒層が積層された構成であってもよいし、あるいは、まず隔壁２３上に還元性触媒層が形成され、その還元性触媒層上に酸化性触媒層が積層された構成であってもよい。隔壁２３上に形成される酸化性触媒層又は還元性触媒層は、隔壁２３上に隔壁２３と直接接触するように形成されてもよいし、隔壁２３上に中間層を介して形成されてもよい。中間層としては、触媒活性成分を含有せず、主に後述する金属酸化物粒子からなる層などが挙げられる。上述した通り本明細書において隔壁２３上に所定の触媒層が形成されていると記載する場合、当該触媒層が隔壁２３の表面に形成されている場合及び隔壁２３の表面側における隔壁２３の外側に形成されている場合を含む。同様に、触媒層Ａ上に触媒層Ｂが積層されているという場合、触媒層Ｂが触媒層Ａの表面に形成されている場合及び触媒層Ａの表面側における触媒層Ａの外側に形成されている場合を含む。以下では隔壁２３に設けられた酸化性触媒層及び還元性触媒層の積層構造において、隔壁２３側に位置する層を「下層」、「下層」に対して隔壁２３とは反対側に形成された層を「上層」ともいう。一般に、隔壁２３に直接接触するようにして設けられる酸化性触媒層又は還元性触媒層は、それを構成する粒子の粒径等によって隔壁２３内部に存在する場合もあれば、隔壁２３の表面に存在する場合もある。第一触媒部１４における酸化性触媒層と還元性触媒層との積層体において、酸化性触媒層と還元性触媒層との層の境界は、隔壁２３の内部に位置するのではなく、隔壁２３の流入側セル２１に臨む表面の上に位置することが好ましい。同様に、第二触媒部１５における酸化性触媒層と還元性触媒層との積層体において、酸化性触媒層と還元性触媒層との層の境界は、隔壁２３の内部に位置するのではなく、隔壁２３の流出側セル２２に臨む表面の上に位置することが好ましい。

触媒層が隔壁２３に直接接触しているか否かは、触媒１０を排ガス流通方向と直交する断面で切断し、現われた断面を走査型電子顕微鏡（例えば日本電子株式会社製「ＪＥＭ－ＡＲＭ２００Ｆ」）で観察すると共に、エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ：Energy dispersive X-ray spectrometry）で分析し、基材にのみ存在する元素（例えばＳｉ、Ｍｇ等）の分布と触媒層にのみ存在する元素（例えばＰｄ、Ｐｔ、Ｒｈ等）の分布をそれぞれライン分析する方法によって、確認できる。また上記の断面を電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）により分析する方法によっても確認可能である。前記の切断は、バンドソーなどで基材ごと行う。切断後の触媒を、エポキシ樹脂に埋め込み、前記の断面が表面に現れたサンプルとする。酸化性触媒層と還元性触媒層との積層体において、酸化性触媒層と還元性触媒層との層の境界が、隔壁２３の内部ではなく、隔壁２３のセル２１又は２２に臨む表面の上に位置するか否かについても、同様の方法にて確認できる。

下層と上層との境界が隔壁２３のセル２１又は２２に臨む表面の上に位置する構成とするためには、下層の触媒層を構成する触媒担持用金属酸化物粒子として、隔壁の細孔を通りにくい粒径のものを用いたり、下層を形成するスラリーに隔壁の細孔を通りにくい粒径の造孔材を使用すればよい。

酸化性触媒層と還元性触媒層との積層体における酸化性触媒層と還元性触媒層の合計層数の数は２以上である。また、第一触媒部１４及び第二触媒部１５における酸化性触媒層と還元性触媒層との合計層数は、排ガス浄化用触媒１０の製造コストや圧損防止の観点から４以下であることが好ましく、３であることがより好ましい。なお酸化性触媒層同士が還元性触媒層を介さずに積層した構造の層数は、２以上とカウントせず１とカウントする。同様に、還元性触媒層同士が酸化性触媒層を介さずに積層した構造の層数は、２以上とカウントせず１とカウントする。本明細書において、一層（単層ともいう）の触媒層は、均一な組成であることは必要ではない。一層の触媒層は、酸化性又は還元性のいずれが強いかという傾向が同じであれば、厚み方向にそれぞれ異なる触媒活性成分を含む複数の部分を有していてもよい。

第一触媒部１４及び第二触媒部１５の一方が、酸化性触媒層と還元性触媒層との積層体を有する場合、他方は、酸化性触媒層単層であってもよいし、還元性触媒層単層であってもよいし、酸化性触媒層及び還元性触媒層の積層体であってもよい。

第一触媒部１４及び第二触媒部１５における層構造の層数は、ＥＤＳによる前記のＰｄ、Ｐｔ、Ｒｈ等）等のライン分析により、還元触媒成分及び酸化触媒成分の分布を分析することで特定できる。

本発明における好ましい一実施形態として、第一触媒部１４が有する酸化性触媒層及び還元性触媒層の合計層数と、第二触媒部１５が有する酸化性触媒層及び還元性触媒層の合計層数とが異なる形態が挙げられる。ここでいう合計層数は、第一触媒部１４又は第二触媒部１５が酸化性触媒層のみ又は還元性触媒層のみを有する場合は１層である。

第一触媒部１４が有する酸化性触媒層及び還元性触媒層の合計層数と、第二触媒部１５が有する酸化性触媒層及び還元性触媒層の合計層数とが異なる場合、層数の少ない触媒層は圧損低減に寄与し，層数の多い触媒層は排ガス浄化性能の向上に寄与するため、圧損低減と浄化性能向上を容易に両立できる構成を採用しやすい。この場合の好ましい構成としては、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の一方が、還元性触媒層単層又は酸化性触媒層単層からなり、他方が酸化性触媒層と還元性触媒層との２層以上の積層体である構成が挙げられる。このような例を図３及び図４に示す。

図３に示す、第一触媒部１４が還元性触媒層単層又は酸化性触媒層単層からなり、他方が酸化性触媒層と還元性触媒層との２層以上の積層体である構成では、第一触媒部１４を通過した排ガス（１）も、第一触媒部１４よりもＸ方向下流側で隔壁２３を通過したガス（２）も、２層以上の積層体である第二触媒部１５と接触できる。従ってこの構成では、酸化性触媒層及び還元性触媒層の両方との排ガスの接触確率を高めることができる。図４の構成においても、流入側において酸化性触媒層及び還元性触媒層の両方を配置することで、流入側及び排出側に触媒層を一層ずつしか配さない従来の構成に比して、排ガスと酸化性触媒層又は還元性触媒層との接触確率を高めることができる。

第一触媒部１４が有する還元性触媒層及び酸化性触媒層の合計層数と、第二触媒部１５が有する還元性触媒層及び酸化性触媒層の合計層数とが異なる場合、特に、第一触媒部１４の前記合計層数よりも、第二触媒部１５の前記合計層数が多いことが好ましい。限られた触媒活性成分の量で排ガス浄化性能を向上させることが一層容易となり、また圧損上昇抑制も容易であるためである。またＰＭやアッシュ堆積後の圧損上昇を抑制するメリットもある。

本発明における好ましい別の実施形態は、第一触媒部１４が有する還元性触媒層及び酸化性触媒層の合計層数及び第二触媒部１５が有する還元性触媒層及び酸化性触媒層の合計層数がいずれも２以上である構成である。このような例を図５に示す。図５に示す実施形態では、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の両方に酸化性触媒層及び還元性触媒層が存在することになるので、酸化性触媒層及び還元性触媒層両方への排ガスの接触確率が高まり、ＮＯ_ｘ、ＨＣ及びＣＯの各ガス種の浄化性能の向上が一層容易となる。またＰＭ捕集率を向上させやすい。

好ましくは、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の両方にＲｈを含む還元性触媒層が存在する。この場合Ｘ方向において、基材におけるＲｈを含む還元性触媒層が配される部分の割合が大きくなるため、排ガスとＲｈを含む還元性触媒層との接触確率が効果的に高まり、ＮＯ_ｘ浄化性能を大きく向上させることができる。ＮＯ_ｘ排出規制は近年特に厳しくなっているため、この場合の排ガス浄化用触媒１０は産業上の利用可能性が特に高いものとなる。

第一触媒部１４及び第二触媒部１５の両方に還元性触媒層が存在する構成のうち、好ましいものとしては、以下（ア）又は（イ）の実施形態が挙げられる。下記（ア）又は（イ）の形態であると、排ガスが還元性触媒層→酸化性触媒層→還元性触媒層の順序で触媒層に接触する。これにより、還元性触媒層への還元物質の供給が促進されるとともに、酸化反応で浄化すべき還元物質の量が減少するため排ガスの酸化還元がスムーズに進行する。これらは特にＮＯ_ｘ還元効率向上に効果的である。
（ア）第一触媒部１４が隔壁２３上に形成された酸化性触媒層と、該酸化性触媒層における該隔壁２３と反対側の表面に形成された還元性触媒層を有し、前記第二触媒部が、隔壁２３上に形成された還元性触媒層を有する。
（イ）第一触媒部１４が隔壁２３上に形成された還元性触媒層を有し、第二触媒部１５が隔壁２３上に形成された酸化性触媒層と、該酸化性触媒層における該隔壁２３と反対側の表面に形成された還元性触媒層とを有する。

特に前記（ア）及び（イ）においては、各酸化性触媒層がＰｄを含有し、且つ各還元性触媒層がＲｈを含有していることが、排ガス浄化性能を一層高めることができる点で好ましい。この理由は、Ｐｄ、Ｒｈの作用により、ＰｄによるＨＣ及びＣＯ酸化とＲｈによるＮＯ_ｘ還元とを好適なバランスで行うことができるためと考えられる。また、前記（ア）及び（イ）においては、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の両方に還元性触媒層が存在するため、排ガス浄化用触媒１０中、Ｘ方向の広範囲に還元性触媒層が存在することとなり、ＮＯ_ｘ浄化を効率的に行うことができ、特に高速運転時のＮＯ_ｘ浄化性能に優れている。このため排ガス浄化用触媒１０を車両に搭載することで効果的にＮＯ_ｘ排出量を低減させることができる。

なお、上述したように、隔壁２３上に形成される酸化性触媒層又は還元性触媒層は、隔壁２３上に隔壁２３と直接接触するように形成されてもよいし、隔壁２３上に中間層を介して形成されてもよいが、隔壁２３上に直接接触するように形成されていることが好ましい。特に、以下Ａ又はＢの形態のように、隔壁２３に直接接触するＰｄを含む酸化性触媒層と、隔壁２３に直接接触するＲｈを含む還元性触媒層とが、隔壁２３を挟んで配置されることが、バランスのよい酸化還元反応のために好ましい。
Ａ：第一触媒部１４が、隔壁２３と直接接触し且つＲｈを含む還元性触媒層を有し、第二触媒部１５が、隔壁２３と直接接触し且つＰｄを含む酸化性触媒層を有する。
Ｂ：第一触媒部１４が、隔壁２３と直接接触し且つＰｄを含む酸化性触媒層を有し、第二触媒部１５が、隔壁２３と直接接触し且つＲｈを含む還元性触媒層を有する。
前記Ａ又はＢの構成であると、触媒１０の排ガス流通方向に亘り効率の良い浄化反応を生じさせうる点で好ましい。

排ガス浄化性能を一層向上させるために、第一触媒部１４の排ガス流通方向の長さＬ１（図２参照）が基材の同方向の長さＬ（図２参照）に対して１０％以上であることが好ましい。第二触媒部１５に関しては、排ガス流通方向の長さＬ２（図２参照）が基材の同方向の長さＬに対して３０％以上であることが好ましい。またＬ１はＬに対して８０％以下であり、Ｌ２がＬに対して９０％以下であることが、触媒活性成分等の量を低減できる点で好ましい。これらの点からＬ１はＬに対して３０～６０％であり、Ｌ２がＬに対して５０～８０％であることがより好ましい。

第一触媒部１４及び第二触媒部１５の長さは以下の方法にて測定することができる。すなわち、排ガス浄化用触媒１０を基材１１の軸方向に沿って中心軸を含む断面で切断して、断面の中心軸部分を目視で観察し、第一触媒部１４の境界と、第二触媒部１５の境界とをそれぞれ特定し、第一触媒部１４及び第二触媒部１５をそれぞれ測長することが好ましい。この際には、例えば排ガス浄化用触媒１０の任意の１０ヶ所について第一触媒部１４及び第二触媒部１５を測長し、その平均値を、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の長さとして求めることが好ましい。目視で第一触媒部１４、第二触媒部１５に係る排ガス流通方向における境界が判断できない場合には、排ガス浄化用触媒における排ガス流通方向に沿う多数（例えば８～１６か所）の位置における組成を分析し、各箇所における触媒活性成分の濃度に基づき特定することができる。各箇所における触媒活性成分の濃度は、例えば、蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）やＩＣＰ発光分光分析（ＩＣＰ－ＡＥＳ）により求めることができる。

第一触媒部１４は、基材１１のＸ方向の上流側端部Ｒ１から下流側に延びて形成されていることが、触媒部の製造容易性と排ガス浄化性能との両立の点で好ましい。同様に、第二触媒部１５は、基材１１のＸ方向の下流側端部Ｒ２から上流側に延びて形成されていることが好ましい。

排ガス浄化用触媒１０の排ガス浄化性能を一層高める点から、第一触媒部１４に含まれる触媒活性成分の含有量（酸化触媒、還元触媒、及び他の触媒活性成分の合計量）は、基材の体積１Ｌ当たり、概ね０．０１ｇ以上が好ましく、０．０５ｇ以上がより好ましい。第二触媒部１５に含まれる触媒活性成分の含有量（酸化触媒、還元触媒、及び他の触媒活性成分の合計量）は、基材の体積１Ｌ当たり、概ね０．０１ｇ以上が好ましく、０．０５ｇ以上がより好ましい。第一触媒部１４及び第二触媒部１５に含まれる触媒活性成分の含有量の上限は基材体積１Ｌ当たり１０ｇ／Ｌ以下であることが好ましく、場合により５ｇ／Ｌ以下、更に３ｇ／Ｌ以下とすることも可能である。ここでいう基材の体積は、基材部分だけでなく第一触媒部１４及び第二触媒部１５、隔壁２３中の空孔、セル２１及び２２内の空間を含めた見掛けの体積である。

第一触媒部１４の還元性触媒層に含まれるＲｈの含有量は、基材の体積１Ｌ当たり、概ね０．０１ｇ／Ｌ以上１ｇ／Ｌ以下が好ましく、０．０５ｇ／Ｌ以上０．５ｇ／Ｌ以下がより好ましい。また第一触媒部１４の酸化性触媒層に含まれるＰｄ及びＰｔの合計量は、基材の体積１Ｌ当たり、概ね０．１ｇ／Ｌ以上５ｇ／Ｌ以下が好ましく、０．５ｇ／Ｌ以上３ｇ／Ｌ以下がより好ましい。第二触媒部１５の還元性触媒層に含まれるＲｈの含有量、及び第二触媒部１５の酸化性触媒層に含まれるＰｄ及びＰｔの合計量についても同様である。

複数の酸化性触媒層を有する場合、当該複数の酸化性触媒層間の触媒活性成分の質量比は１：０．３～１であることが好ましく、１：０．５～１であることがより好ましい。この質量比は最も多く触媒活性成分を含有する層における触媒活性成分の量に対する、最も触媒活性成分の少ない層における触媒活性成分の量の比である。複数の還元性触媒層を有する場合、当該複数の還元性触媒層間の触媒活性成分の質量比は酸化性触媒層の場合と同様である。

触媒活性成分の量は、例えば、触媒層を全溶解して得られる溶液中の貴金属の量をＩＣＰ－ＡＥＳで測定することにより測定できる。なお、基材の隔壁内に触媒層が含まれる場合には、各触媒層及び基材を全溶解して得られる溶液中の貴金属の量から、基材のみを全溶解して得られる溶液中の貴金属の量を差し引くことにより測定できる。

第一触媒部１４及び第二触媒部１５は、それぞれ、触媒活性成分を担持する触媒担持成分を更に含有することが、触媒活性成分による排ガス浄化性能を効率よく発揮する点で好ましい。ここでいう触媒担持成分としては、金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物粒子を構成する金属酸化物としては、具体的には、酸素貯蔵成分（ＯＳＣ材料ともいう、ＯＳＣはoxygen storage capacityの略）である無機酸化物や、酸素貯蔵成分以外の無機酸化物が挙げられる。なお、本明細書において金属酸化物粒子という場合、個々の粒子のみならず、焼成により金属酸化物粒子同士が結合して焼結体となったものも含む。

本明細書中、金属酸化物粒子が触媒活性成分を「担持」した状態とは、金属酸化物粒子の外表面又は細孔内表面に触媒活性成分が物理的又は化学的に吸着又は保持されている状態をいう。具体的には、金属酸化物粒子が触媒活性成分を担持していることは、例えば排ガス浄化用触媒１０の断面をＥＤＳで分析して得られた元素マッピングにて、金属酸化物成分と触媒活性成分とが同じ領域に存在することを確認することで、金属酸化物粒子が触媒活性成分を「担持」していると判断できる。

酸素貯蔵成分である無機酸化物としては、多価状態を有する金属酸化物であって酸素を貯蔵する能力を有するものであればよく、例えば、ＣｅＯ_２やＣＺ材（Ｃｅ及びＺｒを含有するセリア－ジルコニア複合酸化物や、ＣｅＯ_２とＺｒＯ_２との固溶体）、酸化鉄、酸化銅が挙げられる。これらに加えて、Ｃｅ以外の希土類元素の酸化物が熱的安定性の観点等から好ましく用いられる。Ｃｅ以外の希土類元素の酸化物としては、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｐｒ_６Ｏ_１１、Ｎｄ_２Ｏ_３、Ｓｍ_２Ｏ_３、Ｅｕ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｔｂ_４Ｏ_７、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３及びＬｕ_２Ｏ_３が挙げられる。なお、ＣｅＯ_２－ＺｒＯ_２はＣｅＯ_２とＺｒＯ_２との固溶体である。ＣｅＯ_２及びＺｒＯ_２が固溶体となっていることは、Ｘ線回折装置（ＸＲＤ）を用い、ＣｅＯ_２－ＺｒＯ_２に由来する単相が形成されているか否かにより確認することができる。ＣｅＯ_２－ＺｒＯ_２には前記のＣｅ以外の希土類元素の酸化物が固溶していてもよい。特に、耐熱性とＯＳＣとのバランスの観点から、第一触媒部１４および第二触媒部１５中の好ましいＣｅＯ_２の量は５～４０質量％である。第一触媒部１４および第二触媒部１５中の好ましいＺｒＯ_２の量は１０～８０質量％である。ここでいう好ましいＣｅＯ_２及びＺｒＯ_２の量は、固溶体となっているＣｅＯ_２やＺｒＯ_２の量をそれぞれ含むほか、セリア－ジルコニア複合酸化物を構成するＣｅのＣｅＯ_２換算量及び該複合酸化物を構成するＺｒのＺｒＯ_２換算量をそれぞれ含む。

ＣｅＯ_２及びＺｒＯ_２の量は、例えば、触媒層を全溶解して得られる溶液中のＣｅ及びＺｒの量をＩＣＰ－ＡＥＳで測定し、酸化物換算することにより測定できる。なお、基材の隔壁内に触媒層が含まれる場合には、各触媒層及び基材を全溶解して得られる溶液中のＣｅ及びＺｒの量から、基材のみを全溶解して得られる溶液中のＣｅ及びＺｒの量を差し引くことにより測定できる。

第一触媒部１４に含まれうる酸素貯蔵成分以外の無機酸化物としては、酸素貯蔵成分以外の金属酸化物が挙げられ、アルミナ、シリカ、シリカ－アルミナ、チタニア、アルミノシリケート類が挙げられる。特にアルミナが耐熱性に優れるという観点で好ましく用いられる。第一触媒部１４及び第二触媒部１５中における酸素貯蔵成分以外の無機酸化物の含有量は、好ましくは４～５０質量％である。

アルミナの量は、例えば、触媒層を全溶解して得られる溶液中のアルミニウムの量をＩＣＰ－ＡＥＳで測定し、酸化物換算することにより測定できる。なお、基材の隔壁内に触媒層が含まれる場合には、各触媒層及び基材を全溶解して得られる溶液中のＡｌの量から、基材のみを全溶解して得られる溶液中のＡｌの量を差し引くことにより測定できる。

ＰＭ捕集能を一層高める点や排ガス浄化性能を一層高める点から、第一触媒部１４は、隔壁２３の内部ではなく、主に隔壁２３の表面に存在することが好ましい。第一触媒部１４が主に隔壁２３の表面に存在するとは、第一触媒部１４が設けられた基材１１の断面において、基材１１の隔壁２３の表面に存在する第一触媒部１４の質量が隔壁２３の内部に存在する第一触媒部１４の質量よりも多いことをいう。例えば第一触媒部１４が設けられた隔壁の断面を、上述した走査型電子顕微鏡で観察すると共に、ＥＤＳ分析し、基材にのみ存在する元素（例えばＳｉ、Ｍｇ等）と触媒層にのみ存在する元素（例えばＣｅ、Ｚｒ等）との境界をライン分析することや、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）により分析する方法等によって、第一触媒部１４が主に隔壁２３の表面に存在していることを確認できる。同様に、第二触媒部１５は、隔壁２３の内部ではなく、主に隔壁２３の表面に存在することが好ましい。図３～図５では、第一触媒部１４が主に隔壁２３の表面に存在し、第二触媒部１５が主に隔壁２３の表面に存在する状態を模式的に示している。

第一触媒部１４を隔壁２３の内部ではなく、主に隔壁２３の表面に存在させるためには例えば第一触媒部１４及び第二触媒部１５を構成する触媒担持用の金属酸化物粒子として、隔壁２３の細孔を通り難い粒径のものを用いればよい。また触媒層形成時に隔壁２３の細孔よりも粒径が大きな有機造孔材を用いることによっても、隔壁２３の表面に存在させる触媒層の量を隔壁２３内部に存在する量に対して高めやすくなる。

次いで、以下、本発明の排ガス浄化用触媒の好ましい製造方法について説明する。
例えば図３に示す実施形態の排ガス浄化用触媒１０の好適な製造方法は、以下の（１）～（３）の工程を有する。その他の形態についても下記方法を適宜変更すればよい。（１）の工程と（２）及び（３）の工程とはいずれを先に行ってもよい。（２）及び（３）の工程においては、一方の触媒活性成分としてＲｈを用い、他方の触媒活性成分としてＰｄ又はＰｔを用いる。
（１）触媒活性成分と、金属酸化物粒子とを含有する第一触媒部１４用スラリーを、流入側セル２１側の隔壁２３における少なくともＸ方向上流側の表面に塗布した後、乾燥又は焼成する工程。
（２）触媒活性成分と、金属酸化物粒子とを含有する第二触媒部１５用の下層用スラリーを、流出側セル２２側の隔壁２３における少なくともＸ方向下流側の表面に塗布して乾燥又は焼成させる工程。
（３）（２）の後、触媒活性成分と、金属酸化物粒子とを含有する第二触媒部１５用の上層用スラリーを、流出側セル２２側の隔壁２３における第二触媒部１５用の下層用スラリー塗布箇所の少なくとも一部に塗布し、乾燥又は焼成させる工程。

金属酸化物粒子としては、第一触媒部１４及び第二触媒部１５の構成成分として上述した酸素貯蔵成分又は酸素貯蔵成分以外の無機酸化物の粒子が挙げられる。前記の各工程における触媒活性成分は、硝酸塩などの水溶性塩の状態で金属酸化物粒子と混合してそれぞれ第一触媒部１４用スラリー及び第二触媒部１５用スラリーを得て、これらを基材１１に塗布した後、乾燥又は焼成を行ってもよい。あるいは、触媒活性成分は、予め金属酸化物粒子に担持させ、担持後の金属酸化物粒子をスラリーとしてもよい。触媒活性成分を予め担持する場合は金属酸化物粒子を触媒活性成分の水溶性塩の水溶液に含浸させたのち、３５０～５５０℃で焼成する方法が挙げられる。

前記の各スラリーには、基材に触媒活性成分を担持した金属酸化物粒子を密着させる目的で、バインダーを含有させてもよい。バインダーとしては、例えばアルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、シリカゾル等が挙げられる。前記の各スラリーは、造孔材を含有させてもよい。造孔材としては、例えば架橋ポリ（メタ）アクリル酸メチル粒子、架橋ポリ（メタ）アクリル酸ブチル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリアクリル酸エステル粒子などを用いることができる。

前記のスラリーを基材１１に塗布するためには、当該スラリー中に基材１１の排ガス流通方向上流側又は下流側を浸漬させる方法が挙げられる。当該浸漬と同時に基材の反対側からスラリーを吸引してもよい。このような方法により、スラリーを所望の位置に塗布できる。前記の各工程においてスラリーの乾燥温度は、いずれも４０～１２０℃が好ましく、焼成温度は、いずれも３５０～５５０℃が好ましい。

更に本実施形態の排ガス浄化用触媒１０においては、第一触媒部１４の質量は、触媒活性成分の量に応じて制御すればよいが、乾燥後の質量で、第一触媒部１４を形成した部分の基材の体積１Ｌあたり１０ｇ以上であることが好ましく、特に２０ｇ以上であることがより好ましい。第一触媒部１４の質量は、乾燥後の質量で、基材の体積１Ｌあたり８０ｇ以下であることが圧力損失の低減の観点、及び、高速運転時の排ガス浄化性能の向上などの点で好ましく、６０ｇ以下であることがより好ましい。第二触媒部１５の質量は、触媒活性成分の量に応じて制御すればよいが、乾燥後の質量で、基材の体積１Ｌあたり２０ｇ以上であることが好ましく、３０ｇ以上であることがより好ましい。圧力損失の低減のために、第二触媒部１５の質量は、乾燥後の質量で、第二触媒部１５を形成した部分の基材の体積１Ｌあたり８０ｇ以下であることが好ましく、６０ｇ以下であることがより好ましい。

第一触媒部１４又は第二触媒部１５が酸化性触媒層及び還元性触媒層を合計で２層以上有する場合、最も質量が多い層と、最も質量が少ない層とのの質量比は例えば前者：後者が１：０．２～１、より好ましくは１：０．５～１であることが、排ガス浄化性能がより向上するという観点から好ましい。

このように製造された排ガス浄化用触媒１０は、その排ガス浄化性能を活かし、ガソリンエンジンなど化石燃料を動力源とする内燃機関の排ガス浄化用触媒として、種々の用途に用いることができる。また、本実施形態によれば、このような排ガス浄化用触媒１０を用いた排ガス浄化方法も提供することができる。例えば、排ガス浄化用触媒１０を、ガソリンエンジン、特に車両のＧＤＩエンジンなどの内燃機関の排気経路に設けて、ＧＰＦ等として用いることで、ガソリンエンジンからの排ガスを良好に浄化することが可能となる。

本発明の排ガス浄化用触媒１０を用いる排ガス浄化処理システムの一例を図６に示す。排ガス浄化用触媒１０は、内燃機関の排気系に設けられている。図６は、内燃機関１００と、該内燃機関１００の排気系に設けられた排ガス浄化用触媒１０を模式的に示す図である。

本実施形態に係る内燃機関であるエンジンには、酸素と燃料ガスとを含む混合ガスが供給される。内燃機関は、この混合ガスを燃焼させ、燃焼エネルギーを力学的エネルギーに変換する。燃焼された混合ガスは排ガスとなって排気系に排出される。図６に示す構成の内燃機関１００は、自動車のガソリンエンジンを主体として構成されている。前記内燃機関１００を排気系に連通させる不図示の排気ポートには、エキゾーストマニホールド３が接続されている。エキゾーストマニホールド３は、排ガスが流通する排気管４に接続されている。エキゾーストマニホールド３と排気管４とにより内燃機関１００の排ガスの流通経路が形成されている。図中の矢印は排ガス流通方向を示している。排ガス浄化用触媒１０は、前記内燃機関１００の排気系に設けられている。排ガス浄化処理システム１は、本実施形態に係る排ガス浄化用触媒１０に加えて、本実施形態とは別の排ガス浄化用触媒２を有している。排ガス浄化用触媒１０は別の排ガス浄化用触媒２の排ガス流通方向下流側に位置しており、当該別の排ガス浄化用触媒２と隣接して設けられている。排ガス浄化用触媒２は排ガス中に含まれる三元成分（ＮＯ_ｘ、ＨＣ、ＣＯ）を浄化可能なものとして構成されている。排ガス浄化用触媒２の種類は特に限定されず、例えば、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｄ）等の貴金属が担持された触媒であってもよい。排ガス浄化用触媒２としてはウォールフロー構造を有しないものを用いることができる。一方、排ガス浄化用触媒１０は、ＰＭ捕集性能を有し、ＧＰＦとして作用する。
以上の構成によれば、排ガス浄化用触媒１０の優れた排ガス浄化性能により、触媒活性成分の量を増加させずに排ガス中の有害成分を効果的に浄化できる。

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲は、かかる実施例に制限されない。下記実施例及び比較例において乾燥及び焼成はすべて大気中で行った。また触媒活性成分の使用量は、各触媒層中の触媒活性成分量が表１に示す量となるように調整した。また、隔壁２３と直接接触する酸化性触媒層については、基材１１の隔壁２３の表面に存在する酸化性触媒層の質量が、隔壁２３の内部に存在する酸化性触媒層の質量よりも多くなるように、第２のスラリーに用いる金属酸化物粒子の粒径及び造孔材の粒径を調整した。隔壁２３と直接接触する還元性触媒層についても、同様に、第１のスラリーに用いる金属酸化物粒子の粒径及び造孔材の粒径を調整した。
また下記の各実施例において、酸化性触媒層及び還元性触媒層を積層させる場合には、積層された酸化性触媒層及び還元性触媒層のそれぞれのＸ方向両端部の位置はほぼ同じであった（積層された酸化性触媒層及び還元性触媒層のそれぞれの長さはほぼ同じであった。）。

＜実施例１＞
〔１．スラリーの調製〕
（第１のスラリー）
ＣｅＯ_２－ＺｒＯ_２固溶体粉末（ＣｅＯ_２－ＺｒＯ_２固溶体中にＣｅＯ_２１５質量％、ＺｒＯ_２７０質量％、Ｃｅ以外の希土類元素の酸化物１５質量％を含有）及びアルミナ粉末を用意した。ＣｅＯ_２－ＺｒＯ_２固溶体粉末とアルミナ粉末とを質量比１０：１で混合し、硝酸ロジウム水溶液中に含浸させた。
次いで、この混合液と、該混合液の固形分に対して１０質量％の造孔材（架橋ポリ（メタ）アクリル酸メチル粒子）と、該混合液の固形分に対して３質量％のアルミナゾルと、該混合液の固形分に対して５質量％のジルコニアゾルと、液媒として水と、を混合して、第１のスラリーを調製した。

（第２のスラリー）
ＣｅＯ_２－ＺｒＯ_２固溶体粉末（ＣｅＯ_２－ＺｒＯ_２固溶体中にＣｅＯ_２４０質量％、ＺｒＯ_２５０質量％、Ｃｅ以外の希土類元素の酸化物１０質量％を含有）及びアルミナ粉末を質量比３：１で混合し、硝酸パラジウム水溶液中に含浸させた。
次いで、この混合液と、該混合液の固形分に対して２５質量％の造孔材（架橋ポリ（メタ）アクリル酸メチル粒子）と、該混合液の固形分に対して３質量％のアルミナゾルと、該混合液の固形分に対して３質量％のジルコニアゾルと、液媒として水と、を混合して、第２のスラリーを調製した。

〔２．焼成前の第一触媒部の形成〕
基材１１として、図１に示す構造を有し、厚さが２００μｍの隔壁で区画された軸方向に延びるセルを、軸方向と直交する面において、３００セル／ｉｎｃｈ^２有し、体積が１．４Ｌである基材１１を用いた。基材１１は、流入側端面におけるひとつの流入側セル２１の開口部の面積と、流出側端面におけるひとつの流出側セル２２の開口部の面積とが概ね同じであった。

第１のスラリー中に基材１１の排ガス流通方向の上流側端部を浸漬し、下流側から吸引した後に７０℃で１０分乾燥させた。これにより隔壁２３における流入側セル２１に臨む面に、第１のスラリーの固形分からなる層（焼成前の第一触媒部）を設けた。

〔３．焼成前の第二触媒部の形成〕
乾燥後の基材１１の排ガス流通方向の下流側端部を、第２のスラリー中に浸漬し、上流側から吸引した後に７０℃で１０分乾燥させた。これにより隔壁２３における流出側セル２２に臨む面に、第２のスラリーの固形分からなる下層を設けた。
続いて第２のスラリー乾燥後の基材１１における排ガス流通方向の下流側端部を今度は第１のスラリーに浸漬し、再度上流側から吸引した後に７０℃で１０分乾燥させた。これにより前記下層と第１のスラリー固形分からなる上層との積層体（焼成前の第二触媒部）を形成した。

〔４．焼成〕
その後、基材１１を、４５０℃、１時間で焼成した。これにより、基材１１上に第一触媒部１４及び第二触媒部１５が形成されてなる実施例１の排ガス浄化用触媒１０を得た。得られた第一触媒部１４は、単層の還元性触媒層からなる。一方、第二触媒部１５は、酸化性触媒層である下層１５Ａの外表面に還元性触媒層である上層１５Ｂが積層した積層体からなる。

また、実施例１の排ガス浄化用触媒において、排ガス浄化用触媒１０の第一触媒部１４は、排ガス流通方向Ｘの上流側端部Ｒ１から下流側に全長Ｌの４５％までの範囲にかけて、流入側セル２１側の隔壁２３の表面に形成されており、第一触媒部１４が形成された部分の基材の体積に対する第一触媒部１４の質量は乾燥後の質量で５５ｇ／Ｌであった。表１においては、この第一触媒部１４は「第一触媒部」の「下層」として記載し、第一触媒部１４の質量は「ＷＣ量」（ウォッシュコート量）として記載した。
排ガス浄化用触媒１０の第二触媒部１５における下層１５Ａ及び上層１５Ｂは、排ガス流通方向Ｘの下流側端部Ｒ２から上流側に全長Ｌの７０％までの範囲にかけて、流出側セル２２側の隔壁２３の表面に形成されていた。第二触媒部１５が形成された部分の基材の体積に対する質量は乾燥後で下層１５Ａが３３ｇ／Ｌ、上層１５Ｂが１７ｇ／Ｌであった。表１においては、この下層１５Ａは「第二触媒部」の「下層」、上層１５Ｂは「第二触媒部」の「上層」として記載し、それぞれの質量を「ＷＣ量」（ウォッシュコート量）として記載した。

＜実施例２＞
〔３．焼成前の第二触媒部の形成〕時に、第１のスラリーと第２のスラリーの塗布の順序を入れ替えた。それ以外は実施例１と同様にして、実施例２の排ガス浄化用触媒１０を得た。

＜実施例３＞
〔２．焼成前の第一触媒部の形成〕時において、基材１１の排ガス流通方向の上流側端部を、第２のスラリー（Ｐｄ含有スラリー）に浸漬させて乾燥させた後、更に第１のスラリー（Ｒｈ含有スラリー）中に浸漬し、上流側から吸引した後に７０℃で１０分乾燥させた。これにより、基材１１上に下層（第２のスラリーからなる層）及び上層（第１のスラリーからなる層）を積層させた。また〔３．焼成前の第二触媒部の形成〕時に、基材１１における排ガス流通方向の下流側端部を第１のスラリーに浸漬し、上流側から吸引した後に７０℃で１０分乾燥させて下層を形成した。上層は形成しなかった。各層の質量（ＷＣ量）はそれぞれ表１に示す量とした。それら以外は実施例１と同様にして、実施例３の排ガス浄化用触媒１０を得た。

＜実施例４＞
実施例１において、〔２．焼成前の第一触媒部の形成〕を実施例３と同じ工程に変更した。その点以外は実施例１と同様にして、実施例４の排ガス浄化用触媒１０を得た。

＜比較例１＞
実施例１において、〔３．焼成前の第二触媒部の形成〕で、第１のスラリー（Ｒｈ含有スラリー）及び第２のスラリー（Ｐｄ含有スラリー）を、固形分質量比で第１のスラリー：第２のスラリー＝１：２で混合し、混合スラリーを得た。焼成前の第一触媒部を形成した基材１１の排ガス流通方向の下流側端部を、得られた混合スラリーに浸漬し、上流側から吸引した後に７０℃で１０分乾燥させて下層を形成した。下層の質量は実施例１の下層１５Ａ及び上層１５Ｂの合計と同じ量とした。上層は形成しなかった。それら以外は実施例１と同様にして、比較例１の排ガス浄化用触媒１０を得た。

＜比較例２＞
実施例１において、〔３．焼成前の第二触媒部の形成〕で、上層を形成しなかった。下層の質量は実施例１の下層１５Ａ及び上層１５Ｂの合計と同じ量とした。それら以外は実施例１と同様にして、比較例２の排ガス浄化用触媒を得た。

＜比較例３＞
第一触媒部と第二触媒部とを入れ替えた以外は比較例２と同様にして、比較例３の排ガス浄化用触媒１０を得た。

実施例及び比較例の排ガス浄化用触媒を下記評価に供した。

［ＰＭ捕集性能］
排ガス浄化用触媒を用いた車両を、国際調和排ガス試験モード（ＷＬＴＣ）の運転条件に従って運転した。運転開始から、５８９秒までの低速運転時、運転開始５８９秒から１０２２秒までの中速運転時、運転開始１０２２秒から１４７７秒までの高速運転時、運転開始から１４７７秒から１８００秒までの超高速運転時のそれぞれにおける排ガス浄化用触媒を通過した排ガス中のＰＭ粒子数（ＰＮ_ｃａｔ）を測定した。さらに、エンジンから直接排出されるＰＭ粒子数（ＰＮ_ａｌｌ）を測定し、下記式によりＰＭ捕集率を求めた。結果を表１に示す。
ＰＭ捕集率（％）＝１００－（ＰＮ_ｃａｔ／ＰＮ_ａｌｌ）×１００
（ＰＭ捕集率測定条件）
・評価車両：１．５Ｌ直噴ターボエンジン
・使用ガソリン：認証試験用燃料
・ＰＭ測定装置：堀場製作所社製

［ＮＯ_ｘ、ＮＭＨＣ及びＣＯ排出量の測定］
実施例及び比較例の排ガス浄化用触媒を、エンジンの排気経路に配置し、１０～２０万キロ走行を想定した劣化処理として、次のような耐久条件を課した。
（耐久条件）
・耐久用エンジン：乗用ＮＡ２Ｌガソリンエンジン
・使用ガソリン：市販レギュラーガソリン
・耐久温度・時間：９００℃、１００ｈｒ

前記条件にて耐久試験を行った後に、耐久後の排ガス浄化用触媒を下記車両に設置した。次いで、該車両を、国際調和排ガス試験モード（ＷＬＴＣ）の運転条件に従って運転した。運転開始から、５８９秒までの低速運転時、運転開始５８９秒から１０２２秒までの中速運転時、運転開始１０２２秒から１４７７秒までの高速運転時、運転開始から１４７７秒から１８００秒までの超高速運転時のそれぞれにおける排ガス浄化用触媒を通過した排ガス中の窒素酸化物（ＮＯ_ｘ）、非メタン系炭化水素（ＮＭＨＣ）、及び一酸化炭素（ＣＯ）の排出量（エミッション値）を測定した。ＮＯ_ｘ、ＮＭＨＣ及びＣＯそれぞれの総排出量を表１に示す。また、運転開始から１４７７秒から１８００秒までの超高速運転の間のみにおけるＮＯ_ｘの排出量も測定した。測定した排出量を、表１に、ＮＯ_ｘＥｘ－ｈｉｇｈとして示す。
（浄化率測定条件）
・評価車両：１．５Ｌ直噴ターボエンジン
・使用ガソリン：認証試験用燃料
・排ガス測定装置：堀場製作所社製

１０排ガス浄化用触媒
１１基材
１４第一触媒層
１４Ａ下層
１４Ｂ上層
１５第二触媒層
１５Ａ下層
１５Ｂ上層
２１流入側セル
２２流出側セル
２３隔壁

Claims

基材と該基材に設けられた触媒部とを備え、
前記基材は、
排ガス流通方向の流入側が開口し且つ流出側が閉塞されている空間からなる流入側セルと、
排ガス流通方向の流入側が閉塞されており且つ流出側が開口している空間からなる流出側セルと、
該流入側セルと該流出側セルとを隔てる多孔質の隔壁とを有し、
前記触媒部は、
前記隔壁における前記流入側セルに臨む面の少なくとも一部に設けられた第一触媒部と、
前記隔壁における前記流出側セルに臨む面の少なくとも一部に設けられた第二触媒部とを有する排ガス浄化用触媒であって、
前記第一触媒部及び前記第二触媒部の一方が、酸化性触媒層と還元性触媒層との積層体を有し、
他方が、酸化性触媒層単層、還元性触媒層単層、又は、酸化性触媒層と還元性触媒層との積層体である、排ガス浄化用触媒。
以下ア又はイの構造を有する請求項１に記載の排ガス浄化用触媒。
ア：前記第一触媒部が、前記隔壁上に形成されたＰｄを含む酸化性触媒層と、該酸化性触媒層における該隔壁と反対側の表面に形成されたＲｈを含む還元性触媒層とを有し、前記第二触媒部が、前記隔壁上に形成されたＲｈを含む還元性触媒層を有する。
イ：前記第一触媒部が前記隔壁上に形成されたＲｈを含む還元性触媒層を有し、前記第二触媒部が前記隔壁上に形成されたＰｄを含む酸化性触媒層と、該酸化性触媒層における該隔壁と反対側の表面に形成されたＲｈを含む還元性触媒層とを有する。
前記第一触媒部が有する酸化性触媒層及び還元性触媒層の合計層数と、前記第二触媒部が有する酸化性触媒層及び還元性触媒層の合計層数とが異なる、請求項１又は２に記載の排ガス浄化用触媒。
前記第一触媒部が有する還元性触媒層及び酸化性触媒層の合計層数と、前記第二触媒部が有する還元性触媒層及び酸化性触媒層の合計層数とがいずれも２以上である、請求項１～３の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒。
前記第一触媒部の排ガス流通方向の長さが、前記基材の該排ガス流通方向の長さに対して１０～８０％であり、
前記第二触媒部の排ガス流通方向の長さが、前記基材の該排ガス流通方向の長さに対して３０～９０％である、請求項１～４の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒。
前記第一触媒部及び前記第二触媒部がそれぞれ酸素貯蔵成分を含む、請求項１～５の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒。
請求項１～６の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒と、他の排ガス浄化用触媒とを有する排ガス浄化処理システムであって、内燃機関の排ガス流通経路において、請求項１～６の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒を、他の排ガス浄化用触媒に対して排ガス流通方向下流側に配置している排ガス浄化処理システム。