JP6958444B2 - コントローラおよび画像処理システム - Google Patents
コントローラおよび画像処理システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6958444B2 JP6958444B2 JP2018045333A JP2018045333A JP6958444B2 JP 6958444 B2 JP6958444 B2 JP 6958444B2 JP 2018045333 A JP2018045333 A JP 2018045333A JP 2018045333 A JP2018045333 A JP 2018045333A JP 6958444 B2 JP6958444 B2 JP 6958444B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lighting
- unit
- lighting unit
- controller
- area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 22
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 33
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 7
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 claims description 4
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 62
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 27
- 230000006870 function Effects 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
- G03F7/7065—Defects, e.g. optical inspection of patterned layer for defects
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/41875—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by quality surveillance of production
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/0006—Industrial image inspection using a design-rule based approach
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/50—Depth or shape recovery
- G06T7/55—Depth or shape recovery from multiple images
- G06T7/586—Depth or shape recovery from multiple images from multiple light sources, e.g. photometric stereo
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N2021/0106—General arrangement of respective parts
- G01N2021/0112—Apparatus in one mechanical, optical or electronic block
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
- G01N2021/8812—Diffuse illumination, e.g. "sky"
- G01N2021/8816—Diffuse illumination, e.g. "sky" by using multiple sources, e.g. LEDs
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/02—Mechanical
- G01N2201/024—Modular construction
- G01N2201/0245—Modular construction with insertable-removable part
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Circuit Arrangement For Electric Light Sources In General (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Fastening Of Light Sources Or Lamp Holders (AREA)
- Arrangement Of Elements, Cooling, Sealing, Or The Like Of Lighting Devices (AREA)
Description
図1を参照して、本発明の適用例について説明する。図1は、照明装置4の点灯制御を行うためのコントローラ100の構成例を示す図である。ここで、照明装置4は、対象物の外観検査を行なう画像計測において用いられ、予め定められた配置規則に従って照明ユニット6を着脱可能に保持する。図1には、照明装置4の底面図を示し、実線で示した位置に照明ユニット6が接続されており、破線で示す位置には、照明ユニット6が接続されていないものとする。なお、図1においては、一部符号を省略している。
<A.画像処理システム構成>
図2は、画像処理システム1の基本構成を示す模式図である。画像処理システム1は、主たる構成要素として、コントローラ100とカメラ8と、照明装置4とを含む。コントローラ100とカメラ8とは互いにデータ通信可能に接続される。照明装置4は、カメラ8を介してコントローラ100に制御される。なお、照明装置4がカメラ8を介してコントローラ100に制御される構成である必要はなく、照明装置4は、直接コントローラ100に制御されてもよい。
図3〜図6を参照して、照明装置4の構成について説明する。図3は、照明装置4の構成を説明するための図である。
照明ユニット6は、照明ユニット6から照射される光の主波長の違い、すなわち照射される光の色により分類することができる。図7は、照射される光によって分類される複数種類の照明ユニット6を示す図である。図7には、照明ユニット6の断面の模式図が示されている。照明ユニット6は、赤色の光を照射する赤色照明ユニット6r、緑色の光を照射する緑色照明ユニット6g、青色の光を照射する青色照明ユニット6b、白色の光を照射する白色照明ユニット6wに分類することできる。
照明ユニット6は、照射する光の主波長の違い、光学設計の違い、および筐体62の形状の違いなどによって、複数種類に分類される。そのため、複数の連結部24の各々に、複数種類の照明ユニット6のうち、いずれの種類の照明ユニット6が装着されているかが、ユーザは照明ユニット6を装着しているうちに分からなくなってしまう虞がある。このような課題を解決するため、各照明ユニット6は、照明ユニット6の種類を特定するための識別機構を備えている。
図10は、コントローラ100の機能構成の一例を示す図である。コントローラ100は、照明ユニット6が装着されている位置および装着されている照明ユニット6の種類を特定する特定部110と、表示部102に情報を表示するとともにマウス104による操作を受け付ける受付手段120を備える。
本実施の形態においては、照明ユニット6が接続部68および連結部24などの保持機構によって着脱可能に保持される。すなわち、照明ユニット6を連結部24の設けられた位置に着脱可能に接続することができる。その結果、照射したい照射パターンを実現するために必要な照明ユニット6だけを用意すればよく、コストを削減することができる。
上記実施の形態において、照明ユニット6が保持機構を有する基板部材2に着脱可能に保持される例を示した。保持機構は、照明ユニットと一体に形成され、複数の照明ユニットを互いに予め定められた配置規則に従って連結する構成であってもよい。図16は、保持機構の変形例を示す図である。
本実施の形態において、識別機構は、照明ユニット6の種類に対応する抵抗器Riであるとした。たとえば、識別機構は、照明ユニット6の種類に関する識別情報が予め記憶されたメモリや、照明ユニット6の全体または一部の形状であってもよい。照明装置4は、識別機構の種類に応じた読み取り機構を有していればよい。
本実施の形態において、上面の形状が異なる3種類の照明ユニット6の各々の高さおよび底面の形状は、対応する連結部24に装着した場合に、複数の拡散板66によって形成される面がドーム形状となるように構成されているとした。なお、上面の形状が異なる3種類の照明ユニット6の各々の高さは等しく、かつ、各照明ユニット6の拡散板の形状は、上面の形状と一致する形状であってもよい。すなわち、照明装置4は、基板部材2に設けられた複数の連結部24の全てに照明ユニット6を装着した場合の、拡散板66により構成される発光面の形状が所謂リング照明のような形状となるようなものであってもよい。また、本実施の形態においては、リング状に連結部24が配置されている例を示したが、四角枠状に配置されているものであってもよく、この場合には、照明ユニット6の筐体62の形状は、直方体や、四角錐台などであってもよい。
本実施の形態においては、すべての情報を一の記憶部130に保存するものとして説明したが、複数の記憶部130を備え、複数の情報のうち少なくとも一部を異なる記憶部130に保存するような構成であってもよい。
以上のように、照明装置4においては、照明ユニット6を予め定められた配置規則に従って装着することができる。そのため、照射したい照射パターンを実現するために必要な照明ユニット6だけを用意すればよく、コストを削減することができる。また、照明ユニット6が着脱可能に装着されるため、照明設計の自由度を上げることができる。
以上のように、本実施の形態は以下のような開示を含む。
対象物(W)の外観検査を行なう画像計測において、前記対象物(W)に光を照射するための照明装置(4)に予め定められた配置規則に従って着脱可能に保持される照明ユニット(6)の点灯制御を行うコントローラ(100)であって、
前記照明ユニット(6)が接続されている位置を特定する特定部(110)と、
前記特定部(110)が特定した位置に基づいて、前記照明ユニット(6)が接続されている点灯可能領域(352)を、前記照明ユニットが接続されていない点灯不可能領域(354)とを異なる態様で提示するとともに、前記点灯可能領域(352)に対する点灯条件の設定を受け付ける受付手段(120)とを備える、コントローラ。
前記受付手段(120)は、前記特定部(110)が特定した位置に基づいて、前記対象物(W)に対して照射可能な1以上の照射パターンをさらに提示する(370)とともに、当該照射パターンの指定をさらに受け付ける、構成1に記載のコントローラ。
前記照明ユニット(6)は、
照射される主波長が第1波長の第1照明ユニット(6r)と、
照射される主波長が前記第1波長とは異なる第2波長の第2照明ユニット(6g,6b)とを含み、
前記特定部(110)は、前記第1照明ユニット(6r)および前記第2照明ユニット(6g,6b)のうち、いずれの照明ユニットが前記照明装置と接続されているかをさらに特定し、
前記受付手段(120)は、前記特定部が特定した前記照明ユニット(6)が接続されている位置と、接続している種類(134)とに基づいて、前記対象物に対して照射可能な1以上の照射パターンをさらに提示するとともに、当該照射パターンの指定をさらに受け付ける、構成1に記載のコントローラ。
前記照明装置(4)に接続されている前記照明ユニット(6)に電力を供給する電力供給部(140)と、
前記照明装置(4)に接続されている前記照明ユニット(6)へ供給される電力の過不足を判定するとともに、判定結果を出力する判定部(150)とをさらに備える、構成1〜構成3のうちいずれか1に記載のコントローラ。
点灯条件(136)を記憶する記憶部(130)と、
前記特定部(110)が特定した前記照明装置(4)に接続されている前記照明ユニット(6)の接続態様と、前記記憶部(130)に記憶された点灯条件(136)を成立させるための前記照明ユニット(6)の接続とを比較するとともに、比較結果を出力する比較部(160))とさらに備える、構成1〜構成4のうちいずれか1に記載のコントローラ。
対象物(W)の外観画像に基づいて画像計測を行なう画像処理システム(1)であって、
前記対象物(W)を撮像する撮像部(8)と、
前記対象物(W)に光を照射するための照明装置(4)と、
前記対象物(W)に光を照射する1または複数の光源(64)を有する照明ユニット(6)と、
複数の前記照明ユニット(6)の各々に含まれる前記1または複数の光源(64)を発光させることで前記照明装置(4)から前記対象物(W)に光を照射するように制御するコントローラ(100)とを備え、
前記照明ユニット(6)は、前記照明装置(4)によって予め定められた配置規則に従って保持され、
前記コントローラ(100)は、
前記照明ユニット(6)が接続されている位置を特定する特定部(110)と、
前記特定部(110)が特定した位置に応じて、前記照明ユニット(6)が接続されている点灯可能領域(352)を、前記照明ユニットが接続されていない点灯不可能領域(354)とを異なる態様で提示するとともに、前記点灯可能領域(352)に対する点灯条件の設定を受け付ける受付手段(120)と、
前記受付手段(120)が受け付けた点灯条件の下で前記撮像部(8)が撮像して得られる画像を表示する表示部(102,380)とを備える、画像処理システム。
Claims (6)
- 対象物の外観検査を行なう画像計測において、前記対象物に光を照射するための照明装置に予め定められた配置規則に従って着脱可能に保持される照明ユニットの点灯制御を行うコントローラであって、
前記照明ユニットが接続されている位置を特定する特定部と、
前記特定部が特定した位置に基づいて、前記照明ユニットが接続されている点灯可能領域と、前記照明ユニットが接続されていない点灯不可能領域とを異なる態様で提示するとともに、前記点灯可能領域に対する点灯条件の設定を受け付ける受付手段とを備える、コントローラ。 - 前記受付手段は、前記特定部が特定した位置に基づいて、前記対象物に対して照射可能な1以上の照射パターンをさらに提示するとともに、当該照射パターンの指定をさらに受け付ける、請求項1に記載のコントローラ。
- 前記照明ユニットは、
照射される主波長が第1波長の第1照明ユニットと、
照射される主波長が前記第1波長とは異なる第2波長の第2照明ユニットとを含み、
前記特定部は、前記第1照明ユニットおよび前記第2照明ユニットのうち、いずれの照明ユニットが前記照明装置と接続されているかをさらに特定し、
前記受付手段は、前記特定部が特定した前記照明ユニットが接続されている位置と、接続している種類とに基づいて、前記対象物に対して照射可能な1以上の照射パターンをさらに提示するとともに、当該照射パターンの指定をさらに受け付ける、請求項1に記載のコントローラ。 - 前記照明装置に接続されている前記照明ユニットに電力を供給する電力供給部と、
前記照明装置に接続されている前記照明ユニットへ供給される電力の過不足を判定するとともに、判定結果を出力する判定部とをさらに備える、請求項1〜請求項3のうちいずれか1に記載のコントローラ。 - 点灯条件を記憶する記憶部と、
前記特定部が特定した前記照明装置に接続されている前記照明ユニットの接続態様と、前記記憶部に記憶された点灯条件を成立させるための前記照明ユニットの接続とを比較するとともに、比較結果を出力する比較部とさらに備える、請求項1〜請求項4のうちいずれか1に記載のコントローラ。 - 対象物の外観画像に基づいて画像計測を行なう画像処理システムであって、
前記対象物を撮像する撮像部と、
前記対象物に光を照射するための照明装置と、
前記対象物に光を照射する1または複数の光源を有する照明ユニットと、
複数の前記照明ユニットの各々に含まれる前記1または複数の光源を発光させることで前記照明装置から前記対象物に光を照射するように制御するコントローラとを備え、
前記照明ユニットは、前記照明装置によって予め定められた配置規則に従って保持され、
前記コントローラは、
前記照明ユニットが接続されている位置を特定する特定部と、
前記特定部が特定した位置に応じて、前記照明ユニットが接続されている点灯可能領域と、前記照明ユニットが接続されていない点灯不可能領域とを異なる態様で提示するとともに、前記点灯可能領域に対する点灯条件の設定を受け付ける受付手段と、
前記受付手段が受け付けた点灯条件の下で前記撮像部が撮像して得られる画像を表示する表示部とを備える、画像処理システム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018045333A JP6958444B2 (ja) | 2018-03-13 | 2018-03-13 | コントローラおよび画像処理システム |
CN201910031391.6A CN110274909B (zh) | 2018-03-13 | 2019-01-14 | 控制器以及图像处理系统 |
EP19151753.1A EP3540515B1 (en) | 2018-03-13 | 2019-01-15 | Controller and image processing system |
US16/249,913 US10748020B2 (en) | 2018-03-13 | 2019-01-17 | Controller and image processing system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018045333A JP6958444B2 (ja) | 2018-03-13 | 2018-03-13 | コントローラおよび画像処理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019158575A JP2019158575A (ja) | 2019-09-19 |
JP6958444B2 true JP6958444B2 (ja) | 2021-11-02 |
Family
ID=65030938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018045333A Active JP6958444B2 (ja) | 2018-03-13 | 2018-03-13 | コントローラおよび画像処理システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10748020B2 (ja) |
EP (1) | EP3540515B1 (ja) |
JP (1) | JP6958444B2 (ja) |
CN (1) | CN110274909B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7073785B2 (ja) * | 2018-03-05 | 2022-05-24 | オムロン株式会社 | 画像検査装置、画像検査方法及び画像検査プログラム |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11295047A (ja) * | 1998-04-06 | 1999-10-29 | Omron Corp | 照明装置 |
EP1455179A1 (en) * | 2003-03-07 | 2004-09-08 | MV Research Limited | A machine vision inspection system and method |
US7019826B2 (en) * | 2003-03-20 | 2006-03-28 | Agilent Technologies, Inc. | Optical inspection system, apparatus and method for reconstructing three-dimensional images for printed circuit board and electronics manufacturing inspection |
JP4826750B2 (ja) | 2005-04-08 | 2011-11-30 | オムロン株式会社 | 欠陥検査方法およびその方法を用いた欠陥検査装置 |
US20080238338A1 (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Stephen Andrew Latham | Method and system for providing scalable and configurable illumination |
JP2009049270A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Tokushin Denki Kogyo Kk | Led照明装置 |
JP4257374B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2009-04-22 | シャープ株式会社 | 表示制御装置、検査システム、表示制御方法、プログラム、及び該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2009117228A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Aitec System:Kk | 照明装置 |
US7986102B2 (en) * | 2008-09-12 | 2011-07-26 | General Electric Company | Adjustable color solid state lighting |
US8439520B2 (en) * | 2010-10-21 | 2013-05-14 | Rambus Delaware Llc | Color-configurable lighting assembly |
US8573766B2 (en) * | 2011-09-16 | 2013-11-05 | Lumen Dynamics Group Inc. | Distributed light sources and systems for photo-reactive curing |
US20140307431A1 (en) * | 2013-04-16 | 2014-10-16 | Xeralux, Inc. | Field Configurable Industrial LED Light Fixture |
JP6210767B2 (ja) * | 2013-07-17 | 2017-10-11 | オリンパス株式会社 | 光源装置 |
US20150305116A1 (en) * | 2014-04-18 | 2015-10-22 | Sanjaykumar J. Vora | Lighting Control System and Method |
JP6424020B2 (ja) * | 2014-06-09 | 2018-11-14 | 株式会社キーエンス | 画像検査装置、画像検査方法、画像検査プログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体並びに記録した機器 |
US20160025286A1 (en) * | 2014-07-22 | 2016-01-28 | Orion Energy Systems, Inc. | Outdoor lighting fixture |
KR102227773B1 (ko) * | 2014-10-21 | 2021-03-16 | 삼성전자주식회사 | 발광장치 |
TWM514535U (zh) * | 2015-09-25 | 2015-12-21 | Well Shin Technology Co Ltd | 燈具及照明模組 |
JP2017067632A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | キヤノン株式会社 | 検査装置および物品製造方法 |
CN113217827B (zh) * | 2016-04-22 | 2023-08-08 | 纳米格有限公司 | 用于连接和控制可配置照明单元的系统和方法 |
JP6759812B2 (ja) * | 2016-07-29 | 2020-09-23 | オムロン株式会社 | 欠陥検査装置、および欠陥検査方法 |
-
2018
- 2018-03-13 JP JP2018045333A patent/JP6958444B2/ja active Active
-
2019
- 2019-01-14 CN CN201910031391.6A patent/CN110274909B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2019-01-15 EP EP19151753.1A patent/EP3540515B1/en active Active
- 2019-01-17 US US16/249,913 patent/US10748020B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110274909B (zh) | 2022-04-05 |
US10748020B2 (en) | 2020-08-18 |
JP2019158575A (ja) | 2019-09-19 |
EP3540515A2 (en) | 2019-09-18 |
EP3540515B1 (en) | 2022-05-11 |
US20190286929A1 (en) | 2019-09-19 |
CN110274909A (zh) | 2019-09-24 |
EP3540515A3 (en) | 2019-10-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9970745B2 (en) | Measurement target measuring program, measurement target measuring method, and magnifying observation device | |
JP5818651B2 (ja) | 画像処理装置 | |
US20120194673A1 (en) | Dimension Measuring Apparatus, Dimension Measuring Method, And Program For Dimension Measuring Apparatus | |
JP2009042089A (ja) | 基板外観検査装置 | |
US9726873B2 (en) | Microscope and magnifying observation method using the same | |
US20150185464A1 (en) | Magnifying Observation Apparatus, Magnified Image Observing Method And Computer-Readable Recording Medium | |
JP2019148438A (ja) | 画像処理システムおよび設定方法 | |
JP7067148B2 (ja) | 照明装置、および画像処理システム | |
US8878977B2 (en) | Image processing apparatus having a candidate focus position extracting portion and corresponding focus adjusting method | |
JP2018081115A (ja) | 画像測定器 | |
CN108701346B (zh) | 接线检查作业支援系统 | |
JP6958444B2 (ja) | コントローラおよび画像処理システム | |
US9019382B2 (en) | Diagnosis unit for an electronic camera and camera system | |
CN110544248B (zh) | 插槽检测方法及系统 | |
JP6325817B2 (ja) | 拡大観察装置、拡大画像観察方法、拡大画像観察プログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体 | |
JP6871953B2 (ja) | 照明条件再現カメラスタンド及び生産ジョブの最適化方法 | |
KR102109189B1 (ko) | 주변장치 제어를 포함하는 프로그램이 가능한 응용 카메라 | |
JP6190721B2 (ja) | 拡大観察装置及びこれを用いた観察方法 | |
WO2021171907A1 (ja) | 投影装置、投影方法、及び制御プログラム | |
KR200384722Y1 (ko) | 인쇄회로 기판의 메탈/에스알 패턴 동시 검사장치 및 이에적용되는 조명장치 | |
JP2023167390A (ja) | 画像測定装置 | |
JP2023167384A (ja) | 画像測定装置 | |
JP2023167387A (ja) | 画像測定装置 | |
JP6234167B2 (ja) | 顕微鏡システム | |
JPH04255242A (ja) | ボンディング状態検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200306 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210309 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210907 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210920 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6958444 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |