JP6748419B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
高精細化の方法として、硫黄原子含有化合物を添加する方法(例えば特許文献1)が開示されているが、微細なフォトスペーサーを形成すると密着性が著しく低下する。
しかし、ODF方式においては、セルギャップから計算して見積もった所定量の液晶を滴下して狭持するため、その際にガラス基板上に配置されたフォトスペーサーに圧力変化がかかる。この圧力変化に対して、形状が塑性変形しないよう、高い弾性回復特性を有することがフォトスペーサーに対して望まれる。
しかし、いずれの方法でも、フォトスペーサーとガラスなどの基板との密着性を低下させるため、高弾性と高解像性および十分な密着性が両立し得るフォトスペーサー形成用の感光性樹脂組成物は得られていない。
すなわち、本発明は、ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、および少なくとも300〜400nmの範囲内に吸収極大波長を有するベンゾフェノン型光重合開始剤(C)を必須成分として含有することを特徴とするアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物;並びにこれらの感光性樹脂組成物を硬化させて液晶表示素子上に形成されたフォトスペーサーおよびカラーフィルター用保護膜である。
本発明における第1の必須成分であるラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)における親水性の指標はHLBにより規定され、一般にこの数値が大きいほど親水性が高いことを示す。
(A)のHLB値は、好ましくは4〜19、さらに好ましくは5〜18、特に好ましくは6〜17である。4以上であればフォトスペーサーの現像を行う際に、現像性がさらに良好であり、19以下であれば硬化物の耐水性がさらに良好である。
HLB値は有機化合物の有機性の値と無機性の値との比率から計算することができる。
HLB=10×無機性/有機性
HLBを導き出すための有機性の値及び無機性の値については前記「界面活性剤入門」213頁に記載の表の値を用いて算出できる。
「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE,February,1974,Vol.14,No.2,Robert F. Fedors(147〜154頁)」
SP値が近いもの同士はお互いに混ざりやすく(分散性が高い)、この数値が離れているものは混ざりにくい。
例えば、分子中にエポキシ基を有するノボラック型のエポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、さらにフタル酸や無水フタル酸などの多価カルボン酸や多価カルボン酸無水物を反応が挙げられる。
このような多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)としては、2官能(メタ)アクリレート(B1)、3官能(メタ)アクリレート(B2)、4〜6官能(メタ)アクリレート(B3)及び7〜10官能(メタ)アクリレート(B4)が挙げられる。
なお、多価アルコールの水酸基のすべてを(メタ)アクリル酸、アルキレンオキサイド付加物などと反応させる必要はなく、未反応の水酸基が残っていてもよい。
なお、2つ以上の極大吸収波長を有する光重合開始剤の場合は、そのうちの1つがこの範囲に属していればよい。
300nm未満にしか極大吸収波長を有しない重合開始剤では硬化性と弾性回復率が悪く、400nmを超える領域にしか極大吸収波長を有しない重合開始剤では解像性が悪くなる。
また、後述するベンゾフェノン型以外の光重合開始剤(E)[例えば、α−ヒドロキシアルキルフェノン型(E1)、α−アミノアルキルフェノン型(E2)など]だけでは、 硬化性と弾性回復率が不十分となる。
加水分解性アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基およびフェノキシ基等が挙げられる。
R5は、脂肪族飽和炭化水素基、脂環式飽和炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す。R6は炭素数が1〜4のアルキル基を表す。
mは0または1である。
直鎖アルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−オクチルおよびn−ドデシル基、分岐アルキル基としてはイソプロピル、イソブチル、sec−ブチルおよび2−エチルヘキシル基など、並びに環式飽和炭化水素基としてはシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基およびメチルシクロヘキシル基などが挙げられる。
アリール基としてはフェニル、ビフェニル、ナフチル基およびこれらのフッ素もしくは塩素の各置換体;アラルキル基としてはトリル、キシリル、メシチル基およびこれらのフッ素もしくは塩化物;並びに、アルキルアリール基としてはメチルフェニルおよびエチルフェニル基などが挙げられる。
mが0、すなわちアルコキシ基を3個有する3官能シラン化合物としては、3−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
mが0、すなわちアルコキシ基を3個有する3官能シラン化合物としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等
mが0、すなわちアルコキシ基を3個有する3官能シラン化合物としては、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
mが0、すなわちアルコキシ基を3個有する3官能シラン化合物としては、N−2アミノエチルγーアミノプロピルトリメトキシシラン、N−2アミノエチルγーアミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂「EOCN―102S」(日本化薬(株)製 エポキシ当量200)200部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート245部を仕込み、110℃まで加熱して均一に溶解させた。続いて、アクリル酸76部(1.07モル部)、トリフェニルホスフィン2部及びp−メトキシフェノール0.2部を仕込み、110℃にて10時間反応させた。
反応物にさらにテトラヒドロ無水フタル酸91部(0.60モル部)を仕込み、90℃にて5時間反応させ、その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで親水性樹脂含有量が50重量%となるように希釈して、本発明のアクリロイル基とカルボキシル基を有する親水性樹脂として、カルボキシル基含有クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(A−1)の50%溶液を得た。
この樹脂の純分換算した酸価は88.4であった。GPCによる数平均分子量(Mn)は2,200であった。なお、SP値は11.3、HLB値は6.4であった。
加熱冷却・撹拌装置、還流冷却管、窒素導入管を備えたガラス製フラスコに、メタクリル酸メチル6部、メタクリル酸70部、メタクリル酸シクロヘキシル172部及びジエチレングリコールジメチルエーテル454部を仕込んだ。系内の気相部分を窒素で置換したのち、2、2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)16部をジエチレングリコールジメチルエーテル159部に溶解した溶液175部を添加し、90℃に加熱し、更に同温度で4時間反応させた。
さらに得られた溶液にグリシジルメタクリレート31部、トリエチルアミン10部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート82部を添加し、90℃で6時間反応させ、メタアクリロイル基とカルボキシル基を有するアクリル樹脂として、アクリル樹脂(A−2)の30%溶液を得た。
このアクリル樹脂の固形分換算した酸価は112.9であった。GPCによる数平均分子量(Mn)は4,700であった。なお、SP値は10.2、HLB値は5.2であった。
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、3−アクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン46部(0.2モル部)、ジフェニルジメトキシシラン160部(0.65モル部)とイオン交換水45g(2.5モル部)と、シュウ酸0.1部(0.001モル部)を仕込み、60℃、6時間の条件で加熱撹拌し、さらにエバポレーターを用いて、加水分解により副生したメタノールを減圧下で2時間かけて除去し、アクリル変性ポリシロキサン(D−1)(Mn:2,100)を得た。
表1の配合部数に従い、ガラス製の容器に製造例1で製造した親水性樹脂(A−1)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート50%溶液、(B−1)、(C−1)、(E−1)、さらに製造例3で製造したシロキサン化合物(D−1)を仕込み、均一になるまで攪拌し、さらに追加の溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)を添加して、実施例1の感光性樹脂組成物を得た。
また同様の装置を用いて、実施例2〜7、および比較例1〜3の感光性樹脂組成物を得た。
(B−1):「ネオマーDA−600」(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート:三洋化成工業(株)社製;官能基数が6個)
(B−2):「ネオマーEA−300」(ペンタエリスリトールテトラアクリレート:三洋化成工業(株)社製;官能基数が4個)
(B−3):「ライトアクリレートPE−3A」(ペンタエリスリトールトリアクリレート:共栄社化学(株)社製;官能基数が3個)
(B’−1):「ライトアクリレートPO−A」(フェノキシエチルアクリレート:共栄社化学(株)社製;官能基数が1個)
(C−1):「SP−PI 705」(4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、極大吸収波長315nm:SHUANG−BANG社製)
(C−2):「SB−PI 701」(4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、極大吸収波長374nm:SHUANG−BANG社製)
(C’−1):「SB−PI 712」(4−メチルベンゾフェノン、極大吸収波長257nm:SHUANG−BANG社製)
(E−1):「Irgacure 369」(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、極大吸収波長320nm:BASF(株)社製)
(E−2):「Irgacure 907」(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、極大吸収波長305nm:BASF(株)社製)
(F−1):「KF−352A」(ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン:信越化学(株)社製)
(F−2):「メガファックTF−2066」(ポリエーテル変性フッ素化合物:DIC(株)社製)
[フォトスペーサーの作製]
10cm×10cm四方のガラス基板上にスピンコーターにより塗布し、乾燥し、乾燥膜厚5μmの塗膜を形成した。この塗膜をホットプレート上で80℃、3分間加熱した。
得られた塗膜に対し、1cm2あたり10000個、直径7、8、9および10μmの開口部を有する複数のフォトスペーサー形成用のマスクを通して超高圧水銀灯の光を60mJ/cm2照射した(i線換算で照度22mW/cm2)。
なお、マスクと基板の間隔(露光ギャップ)は100μmで露光した。
その後0.05%KOH水溶液を用いてアルカリ現像した。水洗したのち、230℃で30分間ポストベークを行い、ガラス基板上に1cm2あたり10,000個フォトスペーサーを形成した。
なお、マスク開口径を調整することにより所望の下底径を有するフォトスペーサーを形成することができる。
LCDの小型化・高精細化に伴い、基板上に作製されるフォトスペーサーのサイズに10μmあるいはそれ以下のサイズが要求されるようになってきた。ところが、基板とフォトスペーサーとの接地面積が小さいほど、高い密着性が必要となる。
すなわち密着性が高いフォトスペーサーほど、スペーサーの下底径が小さくなっても、擦りなどによって剥がれにくくなる性能に優れる。
そこで密着性は、スペーサーの下底径を直径8μmに設定し、以下の綿棒こすり試験によって評価することとした。
(1)フォトスペーサーを形成したガラス基板の裏側に油性ペンで縦1cm、横1cmの十文字の印を付ける。
(2)アセトンをしみ込ませた綿棒で、十文字の印の付いたガラス基板の表側の表面を、まず縦線の上から下方向に毎秒2cmの速度で10回擦りつける。
次に横線の左から右方向に毎秒2cmの速度で10回擦りつける。
(3)上記(2)において擦った部分が交差する点を光学顕微鏡で剥離せずに残存するフォトスペーサーの数を数える。
なお、1個も剥がれがない場合はガラス基板上には1mm2あたり100個(10個×10個)のスペーサーが存在する。
フォトスペーサーの弾性回復特性は、下記数式(1)で定義された一定の圧力がかかった時の「弾性回復率」によって評価することができる。弾性回復率(%)の値の高い方が弾性回復特性に優れる。
弾性回復特性は0.5mN/μm2の圧力条件下での弾性回復率を測定して評価した。
この際に、2mN/秒の負荷速度で、30秒かけて60mNまで荷重をかけ、5秒間保持した。
荷重がかかった状態でのフォトスペーサーの初期位置からの変形量を測定した。このときの変化量を総変形量T0(μm)とする。
(2)次に、2mN/秒の除荷速度で30秒かけて荷重を0まで解除し、その状態で5秒間保持した。この時のフォトスペーサーの変形量を塑性変形量T1(μm)とする。
(3)上記のようにして測定したT0とT1から、下記数式(1)を用いて弾性回復率を算出した。
なお、この評価条件では、70%以上が好ましい。
LCDの小型化・高精細化が進み、画素サイズが小さくなってきたことから、微細なフォトスペーサーを形成することができる、すなわち解像度として、10μmあるいはそれ以下のサイズでのパターニングが要求されるようになってきた。
すなわち解像度が高いスペーサーほど、マスクの開口径が小さくなっても、マスクの開口径と同じ大きさのフォトスペーサーを形成できる性能に優れる。
そこで解像度は、マスクの開口径を10μmに設定し、上記の方法によりフォトスペーサーを形成したときのフォトスペーサーの下底径を測定することで評価した。下底径が小さいほど解像度が高いといえる。
なお、この評価条件では、12μm以下が好ましい。
その一方で、本発明のベンゾフェノン型光重合開始剤を含まない比較例1および極大吸収波長が300nm以下のベンゾフェノン型光重合開始剤を使用した比較例2では弾性回復率を満足しない。また、多官能アクリレートの代わりに単官能アクリレートを用いた比較例3は弾性回復率および解像度を満足しない。
Claims (8)
- ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、少なくとも300〜400nmの範囲内に吸収極大波長を有するベンゾフェノン型光重合開始剤(C)、並びに2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、および2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1からなる群から選ばれる少なくとも1種である光重合開始剤(E)を含有してなり、前記多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)が、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート及びペンタエリスリトールトリアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種であって、前記(A)〜(C)の合計重量に基づいて、(A)が15〜70重量%であるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物。
- 光重合開始剤(C)が下記一般式(1)で表される化合物である請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- (A)〜(C)の合計重量に基づいて、光重合開始剤(C)を1〜15重量%含有する請求項1または2いずれか記載の感光性樹脂組成物。
- さらに、2個以上の加水分解性アルコキシ基を有するポリシロキサン化合物(D)を含有する請求項1〜3いずれか記載の感光性樹脂組成物。
- (A)〜(D)の合計重量に基づいて、ポリシロキサン化合物(D)を0.2〜15重量%含有する請求項4記載の感光性樹脂組成物。
- さらに、レベリング剤(F)を含有してなり、前記レベリング剤(F)が ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン及びポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜5のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜6のいずれか記載の感光性樹脂組成物を硬化させてなるフォトスペーサ。
- 請求項1〜6のいずれか記載の感光性樹脂組成物を硬化させてなるカラーフィルター用保護膜。
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