JP6332738B2 - アクチュエータ及びその製造方法、並びに、そのアクチュエータを備えた液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
また、特許文献3には、部分的に表面改質した電極上にゾルゲル液をインクジェット方式により部分的に塗布する工程と、部分的に塗布したゾルゲル液を乾燥・熱分解・結晶化する工程とを繰返し行うことにより、所望の膜厚を得るゾルゲル法にて電気機械変換膜を形成する電気機械変換膜の形成方法が開示されている。
なお、本実施形態では、圧電定数d31の変形を利用した横振動(ベンドモード)型の電気機械変換膜を有する電気機械変換素子を例として説明するが、本発明は、この型の電気機械変換膜に限定されることなく適用可能である。更に、本発明は、後述のゾルゲル液以外の塗布液を用いて電気機械変換膜を形成する場合にも適用可能である。また、本発明は、電気機械変換膜以外の膜を形成する場合にも適用可能である。例えば、本発明は、インクジェット技術を利用する三次元造型技術における膜の形成にも適用可能である。
また、電気機械変換膜がPZT膜の場合のPZT前駆体溶液は、非特許文献1に記載されている液を用いてもよい。すなわち、酢酸鉛、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド化合物を出発材料にし、共通溶媒としてメトキシエタノールに溶解させ、均一溶液として得るようにしてもよい。
なお、上記PZT前駆体溶液は「ゾルゲル液」とも呼ばれる。
SAM膜は酸化物薄膜上には形成できず、第1の処理によりPZT膜の無い(露出している)白金膜上のみにSAM膜が形成される。第1のパターンを形成した試料にSAM処理を行った後、PZT前駆体溶液をインクジェット方式により塗り分け塗工を行い、熱処理を施す。所望の膜厚になるまで、塗工と熱処理とを繰り返して行う。この方法によるパターン化は、膜厚が5[μm]の厚さまで形成できる。インクジェット方式でPZT前駆体溶液を塗布することにより、従来法のスピンコーターによる塗布と比較して少量の材料の使用で済み、工程の飛躍的な簡略化が可能である。また、インクジェット方式で形成されたパターンは塗布後は液体状態であるため、乾燥時には断面が中央部が凸で周囲の端部に向けて膜厚が徐々に薄くなるシリンドリカル型の形状(以下、「シリンドリカル形状」という。)となる。
図1の工程Aに示す基板11の表面(上面)には、チオールとの反応性に優れた第1の電極としての図示しない白金族金属からなる白金電極が、例えばスパッタ法により形成されている。この基板11の白金電極の表面に、図1の工程Bに示すようにSAM膜12が形成される。SAM膜12は、アルカンチオール液に基板11をディップして自己配列させることで得られる。本例では、CH3(CH2)−SHのアルカンチオールの分子を一般的な有機溶媒(アルコール、アセトン、トルエンなど)に所定濃度(例えば、数[モル/リットル])で溶解させたアルカンチオール液を用いた。このアルカンチオール液に基板11を浸漬させ、所定時間後に取り出した後、余剰な分子を溶媒で置換洗浄し乾燥することにより、白金電極の表面にSAM膜12を形成することができる。次に、図1の工程Cに示すように、フォトリソグラフィーによりフォトレジスト13をパターン形成する。そして、図1の工程Dに示すようにドライエッチング(例えば、酸素プラズマの照射又はUV光の照射)によりSAM膜12を除去し、加工に用いたフォトレジスト13を除去してSAM膜12のパターニングを終了する。このように形成されたSAM膜12は、純水に対する接触角が例えば92度であり、疎水性を示す。一方、SAM12が除去されて露出した基板11の白金電極の表面は、純水に対する接触角が例えば54度であり、親水性を示す。
例えば、PZT前駆体溶液の塗布の工程と溶媒乾燥の工程と熱分解の工程とを含む膜形成工程を所定回数A(例えば3回)だけ繰り返し実行し、その後に、所定回数Aの膜形成工程で作製した膜に対して結晶化の工程を実行する。そして、所定回数Aの膜形成工程と結晶化の工程とを所定回数B(例えば5回)だけ繰り返し実行し、所定膜厚の電気機械変換膜15を得る。この場合、PZT前駆体溶液の塗布の工程は合計でA×B回(例えば、3×5=15回)だけ実行されることになる。
また例えば、PZT前駆体溶液の塗布の工程と溶媒乾燥の工程とを含む膜形成工程を所定回数A’だけ繰り返し実行し、その後に、所定回数A’の膜形成工程で作製した膜に対して熱分解及び結晶化の工程を実行する。そして、所定回数A’の膜形成工程と熱分解及び結晶化の工程とを所定回数B’だけ繰り返し実行し、所定膜厚の電気機械変換膜15を得る。この場合、PZT前駆体溶液の塗布の工程は合計でA’×B’回だけ実行されることになる。
図6は、PZT膜の変位量を測定するための圧電アクチュエータの断面図である。この圧電アクチュエータは、ベース部材19と、密着層41を介してベース部材19に形成された電気機械変換素子40とから構成されている。ベース部材19はシリコン基板20と振動板30とから形成されており、シリコン基板20の貫通孔20hと振動板30とにより薄肉部23が形成されている。また、電気機械変換素子40は、第1の電極としての下部電極42と、電気機械変換膜としてのPZT膜43と、第2の電極としての上部電極44とから構成されている。上記シリコン基板20の貫通孔20hは、シリコン基板20を振動板30に接合する前にエッチングにより形成してもよいし、シリコン基板20を振動板30に接合した後でエッチングにより形成してもよい。
(態様A)
板状のシリコン基板20及び振動板30などのベース部材19と、ベース部材19の一方の面上に設けられた、下部電極42などの第1の電極、PZT膜43などの電気機械変換膜及び上部電極44などの第2の電極を有する電気機械変換素子40と、を備えたアクチュエータであって、ベース部材19は、前記一方の面における電気機械変換素子40が設けられた部分とは反対側の他方の面側から凹状に形成された薄肉部23を有し、電気機械変換膜は中央部から電気機械変換膜の膜厚方向と交差する少なくとも一方向における両端部に向けて徐々に薄くなるように形成され、電気機械変換膜の膜厚方向と交差する方向であって膜厚が変化している膜厚変化方向における幅をWpとし、電気機械変換膜の膜厚変化方向におけるベース部材19の薄肉部23の幅をWiとしたときに、Wp≧Wiの関係を満たす。
これによれば、上記実施形態について説明したように、ベース部材19の薄肉部23は、その中央部では、薄肉部23の周辺の厚い部分からの拘束を受けにくく変形しやすい。また、薄肉部23の電気機械変換膜の膜厚方向と交差する少なくとも一方向における両端部にいくに従って、薄肉部23は上記厚い部分からの拘束を受けやすくなって変形しにくい。このようにベース部材19の薄肉部23は、その中央部が変形しやすく両端部に向けて徐々に変形し難くなるという変形特性を有する。このベース部材19の薄肉部23の変形特性に合わせて、薄肉部23とともに変形する電気機械変換膜が中央部から両端部に向けて徐々に電圧印加時の変形量が小さくなるように、電気機械変換膜が中央部から両端部に向けて徐々に薄くなるように形成されている。これにより、ベース部材19の薄肉部23の変形しやすい中央部は、電気機械変換膜の電圧印加時の変形量が大きな中央部によって変形させることができるので、薄肉部23の中央部を大きく変形させることができる。また、ベース部材19の薄肉部23の変形しにくい両端部側は、電気機械変換膜の電圧印加時の変形量が小さな両端部側で変形させるため、ベース部材19の薄肉部23に対する電気機械変換膜による無駄な駆動を抑制できる。以上のように、ベース部材19の薄肉部23の変形しにくい両端部側では無駄な駆動を抑制しつつ、薄肉部23の変形しやすい中央部では変形させることできるので、ベース部材19の薄肉部23を効率よく変形させることができる。
更に、上記Wp≧Wiの関係を満たすことにより、ベース部材の薄肉部23の全体に電気機械変換膜が対応させることができるため、ベース部材19の薄肉部23の全体をより確実に効率良く変形させることができる。
以上のように、ベース部材19の薄肉部23を効率良く変形させることができるため、アクチュエータの駆動効率をより向上させることができる。
(態様B)
上記態様Aにおいて、ベース部材19は、シリコン基板20などの基板と、その基板と電気機械変換素子40との間に位置する振動板30と、を有し、ベース部材19の薄肉部23は基板の貫通孔20hと振動板30とにより形成されている。これによれば、上記実施形態について説明したように、振動板30により均一な所定の厚さを有する薄肉部23を簡易に形成することができる。
(態様C)
上記態様A又はBにおいて、電気機械変換膜の少なくとも1つの断面において、膜厚分布形状が、式1:y=−ax2+bで近似される。但し、式1中、xは、断面における、電気機械変換膜の断面中央を0とした、膜厚方向に垂直な方向の座標位置を表し、yは、xにおける電気機械変換膜の膜厚を表す。これによれば、上記実施形態について説明したように、電気機械変換膜が式1の2次関数で近似される膜厚分布形状を有することにより、電気機械変換膜を備えたアクチュエータは、効率の良い振動や変形変位を得ることができる。
(態様D)
上記態様Cにおいて、式1中、aは、前記断面の中央における電気機械変換膜の膜厚Tmと、電気機械変換膜のx軸方向の幅Wと、を用いて、0.8×{(2Tm)/W2}<a<1.2×{(2Tm)/W2}の関係を満たす。これによれば、上記実施形態について説明したように、本態様Dの関係を有する電気機械変換膜を備えたアクチュエータは、更に効率の良い振動や変形変位を得ることができる。
(態様E)
上記態様C又はDにおいて、式1中、bは、前記断面の中央における電気機械変換膜の膜厚Tmを用いて、0.8Tm<b<1.2Tmの関係を満たす。これによれば、上記実施形態について説明したように、本態様Eの関係を有する電気機械変換膜を備えたアクチュエータは、更に効率の良い振動や変形変位を得ることができる。
(態様F)
板状のシリコン基板20及び振動板30などのベース部材19の一方の面上に下部電極42などの第1の電極を形成する工程と、第1の電極上に前駆体ゾルゲル液などの塗布液を塗布する工程と、塗布した塗布液の膜を乾燥させる乾燥工程とを含み、塗布工程と乾燥工程とを含む膜形成工程を繰り返すことにより、PZT膜43などの電気機械変換膜を形成するアクチュエータの製造方法であって、膜形成工程では、電気機械変換膜が中央部から端部に向けて徐々に薄くなるように形成され、第1の電極に対向するように、ベース部材19の一方の面とは反対側の他方の面側から凹状に形成された薄肉部23を、ベース部材19に形成する薄肉部形成工程を更に含み、電気機械変換膜の膜厚方向と交差する方向であって膜厚が変化している膜厚変化方向における幅をWpとし、電気機械変換膜の膜厚変化方向におけるベース部材19の薄肉部の幅をWiとしたときに、Wp≧Wiの関係を満たす。
これによれば、上記実施形態について説明したように、ベース部材19の薄肉部23を効率良く変形させることができる。更に、上記Wp≧Wiの関係を満たすことにより、ベース部材19の薄肉部23に対して電気機械変換膜を確実に対向させることができるため、ベース部材19の薄肉部23をより確実に効率良く変形させることができる。以上のように、ベース部材19の薄肉部23を効率良く変形させることができるため、アクチュエータの駆動効率をより向上させることができる。
(態様G)
上記態様Fにおいて、ベース部材19は、シリコン基板20などの基板と、その基板と第1の電極との間に位置する振動板30と、を有し、ベース部材19の薄肉部23を基板の貫通孔20hと振動板30とにより形成する。これによれば、上記実施形態について説明したように、振動板30により均一な所定の厚さを有する薄肉部23を簡易に形成することができる。
(態様H)
上記態様F又はGにおいて、塗布工程は、パルス電圧が印加される電気機械変換素子を用いたインクジェット方式により塗布液の液滴を塗布する。これによれば、上記実施形態について説明したように、液滴の塗布位置と塗布量とを制御して、電気機械変換膜の膜厚を中央部から端部に向けて徐々に薄くなるように精度よく形成することができる。
(態様I)
上記態様F乃至Hのいずれかにおいて、塗布液はゾルゲル液であり、膜形成工程は、乾燥させた塗布液の膜を熱分解させる熱分解工程を含む。これによれば、上記実施形態について説明したように、ゾルゲル液を塗布して熱分解することによって膜を形成する場合に、膜厚を所定の厚みに形成することができる。
(態様J)
上記態様Iにおいて、熱分解した膜を結晶化させる結晶化工程を更に含み、膜形成工程及び結晶化工程を1回又は2回以上実行する。これによれば、上記実施形態について説明したように、熱分解した膜を結晶化させて最終的な膜を形成する場合に、膜厚を所定の厚みに形成することができる。
(態様K)
上記態様I又はJにおいて、膜形成工程における塗布工程の前に、第1の電極に対して部分的に表面改質を行う表面改質工程を更に含む。これによれば、上記実施形態について説明したように、電気機械変換膜のパターン精度を高めることができる。
(態様L)
上記態様Kにおいて、表面改質工程では、第1の電極上にチオール化合物が形成され、形成されたチオール化合物をフォトリソグラフィーエッチング処理により部分的に除去する。これによれば、上記実施形態について説明したように、電気機械変換膜のパターン精度をより高めることができる。
(態様M)
上記態様F乃至Lのいずれかにおいて、電気機械変換膜の少なくとも1つの断面において、膜厚分布形状が、式1:y=−ax2+bで近似される。但し、式1中、xは、断面における、電気機械変換膜の断面中央を0とした、膜厚方向に垂直な方向の座標位置を表し、yは、xにおける電気機械変換膜の膜厚を表す。これによれば、上記実施形態について説明したように、電気機械変換膜が式1の2次関数で近似される膜厚分布形状を有することにより、電気機械変換膜を備えたアクチュエータは、効率の良い振動や変形変位を得ることができる。
(態様N)
上記態様Mにおいて、式1中、aは、前記断面の中央における電気機械変換膜の膜厚Tmと、電気機械変換膜のx軸方向の幅Wと、を用いて、0.8×{(2Tm)/W2}<a<1.2×{(2Tm)/W2}の関係を満たす。これによれば、上記実施形態について説明したように、本態様Nの関係を有する電気機械変換膜を備えたアクチュエータは、更に効率の良い振動や変形変位を得ることができる。
(態様O)
上記態様M又はNにおいて、式1中、bは、前記断面の中央における電気機械変換膜の膜厚Tmを用いて、0.8Tm<b<1.2Tmの関係を満たす。これによれば、上記実施形態について説明したように、本態様Oの関係を有する電気機械変換膜を備えたアクチュエータは、更に効率の良い振動や変形変位を得ることができる。
(態様P)
インク滴などの液滴を吐出するノズル21と、ノズル21が連通する液室20aなどの加圧室と、加圧室内の液体に圧力を発生させる圧力発生手段と、を備えた液滴吐出ヘッド50において、圧力発生手段は、上記態様A乃至Eのいずれかのアクチュエータ、又は、上記態様F乃至Oのいずれかのアクチュエータの製造方法により得られたアクチュエータである。これによれば、上記実施形態について説明したように、複数のアクチュエータそれぞれによる液滴の吐出特性のばらつきが小さい液滴吐出ヘッドを提供できる。
(態様Q)
上記態様Pの液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置である。これによれば、上記実施形態について説明したように、複数のアクチュエータそれぞれによる液滴の吐出特性のばらつきが小さい液滴吐出ヘッドを提供できる。
(態様R)
液滴吐出ヘッドから画像形成用の液滴を吐出させて記録媒体に画像を形成するインクジェット記録装置100などの画像形成装置であって、液滴吐出ヘッドとして、上記態様Pの液滴吐出ヘッドを備えた。これによれば、上記実施形態について説明したように、複数のアクチュエータそれぞれによるインク滴の吐出特性のばらつきが小さいインク滴吐出ヘッドを有する画像形成装置を提供できる。
12 SAM膜
13 フォトレジスト
14 PZT膜
15 電気機械変換膜
16 塗布対象領域
17 液滴
18 塗布液のドット
19 ベース部材
20 シリコン基板
20a 液室
20h 貫通孔
21 ノズル
23 薄肉部
30 振動板
40 電気機械変換素子(PZT素子)
42 下部電極
43 PZT膜
44 上部電極
50 液滴吐出ヘッド
60 液滴吐出塗布装置
69 液滴吐出ヘッド(製造用)
100 インクジェット記録装置
Claims (16)
- 板状のベース部材と、
前記ベース部材の一方の面上に設けられた、第1の電極、電気機械変換膜及び第2の電極を有する電気機械変換素子と、を備えたアクチュエータであって、
前記ベース部材は、前記一方の面における前記電気機械変換素子が設けられた部分とは反対側の他方の面側から凹状に形成された薄肉部を有し、
前記電気機械変換膜は中央部から該電気機械変換膜の膜厚方向と交差する少なくとも一方向における両端部に向けて徐々に薄くなるように形成され、
前記電気機械変換膜の膜厚方向と交差する方向であって膜厚が変化している前記少なくとも一方向における幅をWpとし、該電気機械変換膜の膜厚変化方向における前記ベース部材の薄肉部の幅をWiとしたときに、Wp≧Wiの関係を満たし、
前記電気機械変換膜の少なくとも1つの断面において、膜厚分布形状が、式1:y=−ax 2 +bで近似される、ことを特徴とするアクチュエータ。
但し、前記式1中、xは、前記断面における、前記電気機械変換膜の断面中央を0とした、前記膜厚方向に垂直な方向の座標位置を表し、
yは、xにおける前記電気機械変換膜の膜厚を表し、
aは、前記断面の中央における前記電気機械変換膜の膜厚Tmと、前記電気機械変換膜のx軸方向の幅Wと、を用いて、0.8×{(2Tm)/W 2 }<a<1.2×{(2Tm)/W 2 }の関係を満たす。 - 請求項1のアクチュエータにおいて、
前記式1中、bは、前記断面の中央における前記電気機械変換膜の膜厚Tmを用いて、0.8Tm<b<1.2Tmの関係を満たす、ことを特徴とするアクチュエータ。 - 板状のベース部材と、
前記ベース部材の一方の面上に設けられた、第1の電極、電気機械変換膜及び第2の電極を有する電気機械変換素子と、を備えたアクチュエータであって、
前記ベース部材は、前記一方の面における前記電気機械変換素子が設けられた部分とは反対側の他方の面側から凹状に形成された薄肉部を有し、
前記電気機械変換膜は中央部から該電気機械変換膜の膜厚方向と交差する少なくとも一方向における両端部に向けて徐々に薄くなるように形成され、
前記電気機械変換膜の膜厚方向と交差する方向であって膜厚が変化している前記少なくとも一方向における幅をWpとし、該電気機械変換膜の膜厚変化方向における前記ベース部材の薄肉部の幅をWiとしたときに、Wp≧Wiの関係を満たし、
前記電気機械変換膜の少なくとも1つの断面において、膜厚分布形状が、式1:y=−ax 2 +bで近似される、ことを特徴とするアクチュエータ。
但し、前記式1中、xは、前記断面における、前記電気機械変換膜の断面中央を0とした、前記膜厚方向に垂直な方向の座標位置を表し、
yは、xにおける前記電気機械変換膜の膜厚を表し、
bは、前記断面の中央における前記電気機械変換膜の膜厚Tmを用いて、0.8Tm<b<1.2Tmの関係を満たす。 - 請求項1乃至3のいずれかのアクチュエータにおいて、
前記ベース部材は、基板と、該基板と前記電気機械変換素子との間に位置する振動板と、を有し、
前記ベース部材の薄肉部は、前記基板に形成された貫通孔と前記振動板とにより形成されていることを特徴とするアクチュエータ。 - 板状のベース部材の一方の面上に第1の電極を形成する工程と、
前記第1の電極上に塗布液を塗布する塗布工程と、
前記塗布した塗布液の膜を乾燥させる乾燥工程とを含み、
前記塗布工程と前記乾燥工程とを含む膜形成工程を繰り返すことにより、電気機械変換膜を形成するアクチュエータの製造方法であって、
前記膜形成工程では、前記電気機械変換膜が中央部から端部に向けて徐々に薄くなるように形成され、
前記第1の電極に対向するように、前記ベース部材の一方の面とは反対側の他方の面側から凹状に形成された薄肉部を、前記ベース部材に形成する薄肉部形成工程を更に含み、
前記電気機械変換膜の膜厚方向と交差する方向であって膜厚が変化している膜厚変化方向における幅をWpとし、該電気機械変換膜の膜厚変化方向における前記ベース部材の薄肉部の幅をWiとしたときに、Wp≧Wiの関係を満たし、
前記膜形成工程では、前記電気機械変換膜の少なくとも1つの断面において、膜厚分布形状が、式1:y=−ax 2 +bで近似される、ことを特徴とするアクチュエータの製造方法。
但し、前記式1中、xは、前記断面における、前記電気機械変換膜の断面中央を0とした、前記膜厚方向に垂直な方向の座標位置を表し、
yは、xにおける前記電気機械変換膜の膜厚を表し、
aは、前記断面の中央における前記電気機械変換膜の膜厚Tmと、前記電気機械変換膜のx軸方向の幅Wと、を用いて、0.8×{(2Tm)/W 2 }<a<1.2×{(2Tm)/W 2 }の関係を満たす。 - 請求項5のアクチュエータの製造方法において、
前記式1中、bは、前記断面の中央における前記電気機械変換膜の膜厚Tmを用いて、0.8Tm<b<1.2Tmの関係を満たす、ことを特徴とするアクチュエータの製造方法。 - 板状のベース部材の一方の面上に第1の電極を形成する工程と、
前記第1の電極上に塗布液を塗布する塗布工程と、
前記塗布した塗布液の膜を乾燥させる乾燥工程とを含み、
前記塗布工程と前記乾燥工程とを含む膜形成工程を繰り返すことにより、電気機械変換膜を形成するアクチュエータの製造方法であって、
前記膜形成工程では、前記電気機械変換膜が中央部から端部に向けて徐々に薄くなるように形成され、
前記第1の電極に対向するように、前記ベース部材の一方の面とは反対側の他方の面側から凹状に形成された薄肉部を、前記ベース部材に形成する薄肉部形成工程を更に含み、
前記電気機械変換膜の膜厚方向と交差する方向であって膜厚が変化している膜厚変化方向における幅をWpとし、該電気機械変換膜の膜厚変化方向における前記ベース部材の薄肉部の幅をWiとしたときに、Wp≧Wiの関係を満たし、
前記膜形成工程では、前記電気機械変換膜の少なくとも1つの断面において、膜厚分布形状が、式1:y=−ax 2 +bで近似される、ことを特徴とするアクチュエータの製造方法。
但し、前記式1中、xは、前記断面における、前記電気機械変換膜の断面中央を0とした、前記膜厚方向に垂直な方向の座標位置を表し、
yは、xにおける前記電気機械変換膜の膜厚を表し、
bは、前記断面の中央における前記電気機械変換膜の膜厚Tmを用いて、0.8Tm<b<1.2Tmの関係を満たす。 - 請求項5乃至7のいずれかのアクチュエータの製造方法において、
前記ベース部材は、基板と、該基板と前記第1の電極との間に位置する振動板と、を有し、
前記ベース部材の薄肉部を前記基板に形成された貫通孔と前記振動板とにより形成することを特徴とするアクチュエータの製造方法。 - 請求項5乃至8のいずれかのアクチュエータの製造方法において、
前記塗布工程は、パルス電圧が印加される電気機械変換素子を用いたインクジェット方式により前記塗布液の液滴を塗布することを特徴とするアクチュエータの製造方法。 - 請求項5乃至9のいずれかのアクチュエータの製造方法において、
前記塗布液はゾルゲル液であり、
前記膜形成工程は、前記乾燥させた塗布液の膜を熱分解させる熱分解工程を含むことを特徴とするアクチュエータの製造方法。 - 請求項10のアクチュエータの製造方法において、
前記熱分解した膜を結晶化させる結晶化工程を更に含み、
前記膜形成工程及び前記結晶化工程を1回又は2回以上実行することを特徴とするアクチュエータの製造方法。 - 請求項10又は11のアクチュエータの製造方法において、
前記膜形成工程における前記塗布工程の前に、前記第1の電極に対して部分的に表面改質を行う表面改質工程を更に含むことを特徴とするアクチュエータの製造方法。 - 請求項12のアクチュエータの製造方法において、
前記表面改質工程では、前記第1の電極上にチオール化合物が形成され、形成された該チオール化合物をフォトリソグラフィーエッチング処理により部分的に除去することを特徴とするアクチュエータの製造方法。 - 液滴を吐出するノズルと、該ノズルが連通する加圧室と、該加圧室内の液体に圧力を発生させる圧力発生手段と、を備えた液滴吐出ヘッドにおいて、
前記圧力発生手段は、請求項1乃至4のいずれかのアクチュエータ、又は、請求項5乃至13のいずれかのアクチュエータの製造方法により得られたアクチュエータであることを特徴とする液滴吐出ヘッド。 - 請求項14の液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置。
- 液滴吐出ヘッドから画像形成用の液滴を吐出させて記録媒体に画像を形成する画像形成装置であって、
前記液滴吐出ヘッドとして、請求項14の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする画像形成装置。
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