JP6288947B2 - 水蒸気管理のための排気ガスサンプリングシステムおよびサンプリング方法 - Google Patents
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Description
matter:PM)をいう。PMは、一般に、エンジンから排出され、素成分(すなわち煤)の形態をなす炭素質物質、揮発性および半揮発性炭化水素化合物(可溶性有機留分(soluble Organic fraction:SOF))の形態をなす炭素質物質、および他の有機および無機化合物(例えばスルフェート)を含む。前記メイクアップ空気は、含水量が判明しているか容易に決定できる任意の種類の希釈剤例えば大気を使用できる。
14 メイクアップガス(メイクアップ空気)
16 排気ガス
18 エンジン
38 充填回路
48 サンプルバッグ
50 読取り回路
56 エミッション分析器
58 コントローラ
60 充填ガス源
Claims (12)
- サンプリング導管(12)と、
充填回路(38)と、
読取り回路(50)と、
少なくとも1つのサンプルバッグ(48)と、
前記サンプリング導管、前記充填回路、前記読取り回路、および前記少なくとも1つのサンプルバッグの各々内に凝縮が生じることを防止すべく、各々の最小希釈比を予測するようにプログラムされ、かつ、予測された前記各々の最小希釈比のうちの最大値に等しいか、これより大きい、選択された最小希釈比で、排気ガスのサンプルをメイクアップガスで希釈するように試験手順を実行すべくプログラムされたコントローラ(58)と、
を備えていることを特徴とする排気ガスサンプリングシステム(10)。 - 前記選択された最小希釈比は、予測された最小希釈比の前記最大値に等しいことを特徴とする請求項1記載の排気ガスサンプリングシステム。
- 前記選択された最小希釈比は、メイクアップガスと排気ガスとの比が1:1と10:1との間の範囲内にあることを特徴とする請求項1記載の排気ガスサンプリングシステム。
- 前記コントローラに連結されたポンプを更に有し、コントローラは、ポンプ(42)が、選択された最小希釈比に従って一定量のメイクアップガスをサンプリング導管内に吸引する命令を出すようにプログラムされていることを特徴とする請求項1記載の排気ガスサンプリングシステム。
- 充填回路(38)、読取り回路(50)、サンプリング導管(12)および少なくとも1つのサンプルバッグ(48)を備える排気ガスサンプリングシステムで、排気ガスが、サンプリング導管内でメイクアップガスにより希釈される、または排気ガスが、サンプリング導管の下流側の位置で、小型希釈器(62)によりメイクアップガスで希釈される、排気ガスサンプルを希釈する方法において、
前記充填回路、前記読取り回路、前記サンプリング導管および前記少なくとも1つのサンプルバッグの各々内の凝縮を防止するための各々の最小希釈比を、コントローラ(58)により予測する段階と、
試験手順中に、排気ガスを、予測された各々の最小希釈比のうちの最大値に等しいか、これより大きい比でメイクアップガスにより希釈する段階とを有することを特徴とする排気ガスサンプルを希釈する段階を含む方法。 - 前記DRCVS−MINは、メイクアップガスと排気ガスとの比が1:1と10:1との間の範囲内にあることを特徴とする請求項10記載の方法。
- 試験手順中に、少なくとも1つのサンプルバッグ内の水濃度の積分値に基づいて、少なくとも1つのサンプルバッグ内に凝縮が生じるか否かを決定する段階を更に有することを特徴とする請求項5記載の方法。
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