JP6186743B2 - カラーフィルタ形成基板と表示装置、およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 - Google Patents
カラーフィルタ形成基板と表示装置、およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 Download PDFInfo
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Description
本発明は、表示装置用のカラーフィルタ形成基板と表示装置に関し、特に、透明基板からなる基材の一面側において、画素区分用遮光部（ブラックマトリクスとも言う）により区分けされた領域にカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層を配して表示用領域を形成し、該表示用領域の外側に、非表示用領域として遮光性の額縁部を備えているカラーフィルタ形成基板で、且つ、前記基材の一面側ではない他面側を、最も外側（観察者側）として、モバイル電子機器の表示装置（表示部とも言う）に用いられるカラーフィルタ形成基板に関する。
近年、表示装置の普及がめざましい中、フラットディスプレイパネルとして液晶表示装置等の表示装置が用いられている。
特に、液晶表示装置は、透明基板の一面に、遮光性の着色樹脂層等からなる画素区分用遮光部とカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層とを配設しているカラーフィルタ形成基板と、対向電極基板（ＴＦＴ基板とも言う）とを所定の間隙をもたせて向かい合わせて配し、該隙部に液晶を封止した構造で、各色の着色樹脂層の画素の光透過率の制御を液晶の配向を電気的に制御することによりカラー画像を表示するもので、広く用いられている。
また、有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ発光層をＴＦＴで制御して、画素毎に選択的に発光させて表示するものであるが、自己発光性であるために視認性が優れ、バックライトが不要なため、薄く、軽くでき、構造が簡単で低コスト化が期待でき、動画表示にも適していることから、近年、盛んに研究開発、商品化が進められている。
このような表示装置においては、高い表示品質が求められている。
特に、液晶表示装置は、透明基板の一面に、遮光性の着色樹脂層等からなる画素区分用遮光部とカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層とを配設しているカラーフィルタ形成基板と、対向電極基板（ＴＦＴ基板とも言う）とを所定の間隙をもたせて向かい合わせて配し、該隙部に液晶を封止した構造で、各色の着色樹脂層の画素の光透過率の制御を液晶の配向を電気的に制御することによりカラー画像を表示するもので、広く用いられている。
また、有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ発光層をＴＦＴで制御して、画素毎に選択的に発光させて表示するものであるが、自己発光性であるために視認性が優れ、バックライトが不要なため、薄く、軽くでき、構造が簡単で低コスト化が期待でき、動画表示にも適していることから、近年、盛んに研究開発、商品化が進められている。
このような表示装置においては、高い表示品質が求められている。
一方、最近では、モバイル機種であるノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）の普及が盛んになってきており、なかでも図６に示すようなタブレット型の多機能端末機器は急速な普及が見込まれるようになってきており、これらの端末機器（以下、モバイル電子機器と言う）の表示装置（表示部とも言う）は、高い表示品質に加えてより良い意匠性が求められている。
最近普及しているモバイル電子機器においては、これまで、高付加価値化として高精細化、省エネ化や小型化( 軽量化) などの取り組みが行われている。
モバイル電子機器の使用される環境は屋内にとどまらず、屋外での使用頻度も格段に多いため、太陽光下での視認性改善（コントラストアップ）は実施されていた。
しかしながら、意匠性の観点での改善のための取り組みはほとんどなされていない。
最近普及しているモバイル電子機器においては、これまで、高付加価値化として高精細化、省エネ化や小型化( 軽量化) などの取り組みが行われている。
モバイル電子機器の使用される環境は屋内にとどまらず、屋外での使用頻度も格段に多いため、太陽光下での視認性改善（コントラストアップ）は実施されていた。
しかしながら、意匠性の観点での改善のための取り組みはほとんどなされていない。
これらモバイル電子機器の表示装置としては、従来より、透明基板を基材としてその一面側に、表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するための遮光性の黒色の額縁部を設けたカバーガラスを用い、その基材側を最も外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態があるが、これらモバイル電子機器の軽量化要求に対応して、このようなカバーガラスを用いずに、透明基板を基材としてその一面側に、カラーフィルタ用の各色の着色層を表示用領域に配し、且つ、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するため遮光性の黒色の額縁部を配したカラーフィルタ形成基板を用い、前記基材の一面側でない他面側を最も外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態もある。 しかし、いずれの形態の表示装置の場合も、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えが良くなく、特に額縁部においては、屋内外、室内光下、太陽光下で、前記遮光性の額縁部の黒色の締りがよくなく、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることが難しく、これが問題となっていた。
カバーガラスを用いないモバイル電子機器の表示装置の場合は、例えば、簡略化して断面構成を示すと、図８（ａ）に示すように、カラーフィルタ形成基板１１０の基材側１１１を外側（観察者側）にして、カラーフィルタ形成基板１１０、ＴＦＴ基板１５０の順の位置関係となっている。
また、カバーガラスを用いるモバイル電子機器の表示装置の場合は、簡略化して断面構成を示すと、図８（ｂ）に示すように、カバーガラス１３０を外側（観察者側）にして、カバーガラス１３０、カラーフィルタ形成基板１１０、ＴＦＴ基板１５０の順の位置関係となっている。
また、カバーガラスを用いないイン・セル・タッチパネル型のモバイル電子機器の表示装置の場合は、例えば、簡略化して断面構成を示すと、図９（ａ）に示すように、カラーフィルタ形成基板１１０の基材側１１１を外側（観察者側）にして、カラーフィルタ形成基板１１０とタッチパネル１４０とを一体化した部材、ＴＦＴ基板１５０の順の位置関係となっている。
一方、カバーガラスを用いるタッチパネル型のモバイル電子機器の表示装置の場合は、簡略化して断面構成を示すと、図９（ｂ）に示すように、カバーガラスを外側（観察者側）にして、カバーガラス１３０とタッチパネル１４０とを一体化した部材、カラーフィルタ形成基板１１０、ＴＦＴ基板１５０の順の位置関係となっている。
尚、図８（ａ）、図８（ｂ）、図９（ａ）、図９（ｂ）は、簡略化して、上記各部の位置関係だけを離間して示している。
また、カバーガラスを用いるモバイル電子機器の表示装置の場合は、簡略化して断面構成を示すと、図８（ｂ）に示すように、カバーガラス１３０を外側（観察者側）にして、カバーガラス１３０、カラーフィルタ形成基板１１０、ＴＦＴ基板１５０の順の位置関係となっている。
また、カバーガラスを用いないイン・セル・タッチパネル型のモバイル電子機器の表示装置の場合は、例えば、簡略化して断面構成を示すと、図９（ａ）に示すように、カラーフィルタ形成基板１１０の基材側１１１を外側（観察者側）にして、カラーフィルタ形成基板１１０とタッチパネル１４０とを一体化した部材、ＴＦＴ基板１５０の順の位置関係となっている。
一方、カバーガラスを用いるタッチパネル型のモバイル電子機器の表示装置の場合は、簡略化して断面構成を示すと、図９（ｂ）に示すように、カバーガラスを外側（観察者側）にして、カバーガラス１３０とタッチパネル１４０とを一体化した部材、カラーフィルタ形成基板１１０、ＴＦＴ基板１５０の順の位置関係となっている。
尚、図８（ａ）、図８（ｂ）、図９（ａ）、図９（ｂ）は、簡略化して、上記各部の位置関係だけを離間して示している。
そして、カバーガラスを用いない図８（ａ）、図９（ａ）に示すモバイル電子機器の表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板は、通常、図１０に示すような形態をしている。
尚、図１０（ａ）は、カラーフィルタ形成基板の平面図で、図１０（ｂ）、図１０（ｃ）は、それぞれ、図１０（ａ）のＥ１−Ｅ２、Ｅ３−Ｅ４において矢印の方向に見た図で、図１０（ｄ）は、図１０（ａ）のＥ５部の拡大図で、図１０（ｅ）は図１０（ａ）のＥ６部の拡大図である。
通常、カラーフィルタ用の各色の着色層、画素区分用遮光部用の着色層、額縁部用の着色層の形成は、フォトリソ工程により形成されており、表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域として遮光性の額縁部１１２も、同様に所定の着色層の形成をフォトリソ工程により行っていた。
通常、額縁部１１２と画素区分用遮光部（図示していない）とは、同じフォトリソ工程にて一緒に形成するが、場合によっては、額縁部１１２と画素区分用遮光部（図示していない）とは、同じフォトリソ工程にて一緒に形成しなくても良い。
尚、図１０（ａ）は、カラーフィルタ形成基板の平面図で、図１０（ｂ）、図１０（ｃ）は、それぞれ、図１０（ａ）のＥ１−Ｅ２、Ｅ３−Ｅ４において矢印の方向に見た図で、図１０（ｄ）は、図１０（ａ）のＥ５部の拡大図で、図１０（ｅ）は図１０（ａ）のＥ６部の拡大図である。
通常、カラーフィルタ用の各色の着色層、画素区分用遮光部用の着色層、額縁部用の着色層の形成は、フォトリソ工程により形成されており、表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域として遮光性の額縁部１１２も、同様に所定の着色層の形成をフォトリソ工程により行っていた。
通常、額縁部１１２と画素区分用遮光部（図示していない）とは、同じフォトリソ工程にて一緒に形成するが、場合によっては、額縁部１１２と画素区分用遮光部（図示していない）とは、同じフォトリソ工程にて一緒に形成しなくても良い。
上記のように、最近では、モバイル機種であるノートパソコンや多機能端末機器（高機能端機器とも言う）の普及が盛んになってきており、なかでもタブレット型の多機能端末機器は急速な普及が見込まれるようになってきており、これらモバイル電子機器の表示装置として液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置が用いられているが、高い表示品質に加えてより良い意匠性が求められている。
このような中、透明基板からなる基材の一面側に、カラーフィルタ用の各色の着色層を表示用領域に配し、且つ、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するため遮光性の黒色の額縁部を配したカラーフィルタ形成基板を用い、前記基材の一面側ではない他面側を外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態のモバイル電子機器の表示装置においては、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えが良くなく、特に、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りがよくなく、製品に高級感がでないという不具合があり、この対応が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、特に、透明基板からなる基材の一面側に、カラーフィルタ用の各色の着色層を表示用領域に配し、且つ、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するため遮光性の黒色の額縁部を配したカラーフィルタ形成基板を用い、前記基材の一面側ではない他面側を外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態のモバイル電子機器の表示装置において、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えを良くして、屋内外、室内光下、太陽光下でも、遮光性の額縁部の黒色の締りを良くして、製品に高級感を持たせることができるカラーフィルタ形成基板を提供しようとするものである。
同時に、このようなカラーフィルタ形成基板を用いた表示装置を提供しようとするものである。
このような中、透明基板からなる基材の一面側に、カラーフィルタ用の各色の着色層を表示用領域に配し、且つ、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するため遮光性の黒色の額縁部を配したカラーフィルタ形成基板を用い、前記基材の一面側ではない他面側を外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態のモバイル電子機器の表示装置においては、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えが良くなく、特に、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りがよくなく、製品に高級感がでないという不具合があり、この対応が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、特に、透明基板からなる基材の一面側に、カラーフィルタ用の各色の着色層を表示用領域に配し、且つ、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するため遮光性の黒色の額縁部を配したカラーフィルタ形成基板を用い、前記基材の一面側ではない他面側を外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態のモバイル電子機器の表示装置において、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えを良くして、屋内外、室内光下、太陽光下でも、遮光性の額縁部の黒色の締りを良くして、製品に高級感を持たせることができるカラーフィルタ形成基板を提供しようとするものである。
同時に、このようなカラーフィルタ形成基板を用いた表示装置を提供しようとするものである。
本発明のカラーフィルタ形成基板は、透明基板からなる基材の一面側において、画素区分用遮光部により区分けされた領域にカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層を配して表示用領域を形成し、該表示用領域の外側に、非表示用領域として遮光性の額縁部を備えているカラーフィルタ形成基板で、且つ、前記基材の一面側ではない他面側を外側（観察者側）として表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板であって、前記額縁部に、あるいは、前記額縁部と前記画素区分用遮光部に、前記基材の一面側から、順に、樹脂組成物からなる反射抑制層と樹脂組成物からなる黒色の遮光層とを積層した積層構造を有し、前記基材の屈折率ｎｓ 、前記反射抑制層の複素屈折率の実数部をｎ１ 、前記遮光層の複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であることを特徴とするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記反射抑制層は、１種以上の色材を分散させて含有する樹脂層であることを特徴とするものであり、前記反射抑制層は、青色材を分散させて含有する青色の樹脂層であることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記黒色の遮光層は、樹脂中にカーボンブラックを分散して含有するものであることを特徴とするものである。（尚、ここでの「波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、「屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係」とは、部分的に、波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍ内の一部の狭い波長域において、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より大なる関係があっても、該一部の狭い波長域の影響は無視できる程度である場合をも、含むことを意味している。）
そして、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記反射抑制層は、１種以上の色材を分散させて含有する樹脂層であることを特徴とするものであり、前記反射抑制層は、青色材を分散させて含有する青色の樹脂層であることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記黒色の遮光層は、樹脂中にカーボンブラックを分散して含有するものであることを特徴とするものである。（尚、ここでの「波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、「屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係」とは、部分的に、波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍ内の一部の狭い波長域において、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より大なる関係があっても、該一部の狭い波長域の影響は無視できる程度である場合をも、含むことを意味している。）
本発明の表示装置は、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板を用いて、表示部を形成していることを特徴とするものである。
（作用）
請求項１の発明のカラーフィルタ形成基板は、このような構成にすることにより、透明基板からなる基材の一面側に、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層を表示用領域に配し、且つ、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するため遮光性の黒色の額縁部を配したカラーフィルタ形成基板を用い、前記基材の一面側ではない他面側を最も外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態の表示装置において、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えを良くして、特に、屋内外、室内光下、太陽光下でも、遮光性の額縁部の黒色の締りを良くして、製品に高級感を持たせることができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能としている。
モバイル電子機器のように、屋内外で用いられもので、高品質、意匠性が求められる表示部には有効としている。
具体的には、額縁部に、あるいは、額縁部と画素区分用遮光部に、基材の一面側から、順に、樹脂組成物からなる反射抑制層と樹脂組成物からなる黒色の遮光層とを積層した積層構造を有し、前記基材の屈折率ｎｓ 、前記反射抑制層の複素屈折率の実数部をｎ１ 、前記遮光層の複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であることを特徴とするものであることにより、これを達成可能としている。
従来のカラーフィルタ形成基板の場合、額縁部は、図２（ａ）に示すように、基材１１、遮光層１６Ｂが積層された構造で、外光Ｌ０の反射光は、基材１１と遮光層１６Ｂの界面で反射される反射光ｒｅｆ０からの光が出射される反射光Ｒｅｆ０となるが、反射光Ｒｅｆ０が大きいために、反射光Ｒｅｆ０に起因して、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りがよくなく、表示装置に用いられた際には、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることが難しく、これが問題となっていた。
これに対して、図２（ｂ）に示すように、基材１１、反射抑制層１６Ｒ、遮光層１６Ｂがこの順に積層された構造の場合、外光Ｌ０の反射光は、基材１１と反射抑制層１６Ｒの界面で反射される反射光ｒｅｆ１からの光が出射される反射光Ｒｅｆ１と、基材１１側から反射抑制層１６Ｒを通過し、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２から光が出射される反射光Ｒｅｆ２との和で、それ以外の外光Ｌ０から入射された光は、反射抑制層１６Ｒ、遮光層１６Ｂにて、吸収される。
本発明のカラーフィルタ形成基板は、額縁部あるいは額縁部と画素区分用遮光部とが、図２（ｂ）に示す層構成であって、基材１１の屈折率ｎｓ、反射抑制層１６Ｒの複素屈折率の実数部をｎ１ 、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であることにより、人の視感度が大きい波長領域において、基材１１と反射抑制層１６Ｒの界面で反射される反射光ｒｅｆ１からの出射光Ｒｅｆ１と、基材１１側から反射抑制層１６Ｒを通過し、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２から出射される反射光Ｒｅｆ２とを、少なく抑えることができ、これにより、図２（ｂ）に示す、反射光Ｒｅｆ１と反射光Ｒｅｆ２との、見た目の外光の影響を、図２（ａ）に示す反射光Ｒｅｆ０の、見た目の外光の影響より、小とすることができ、結果、表示装置に用いられた際には、外光の反射光に起因して、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りを良くでき、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることができることを見出して成したものである。
尚、ここでは、ガラス基板上に屈折率を測定する層を形成して、（有）テクノシナジー社製の光学膜厚測定システムＤＦ−１０４２ＲＴを用いて測定することにより、各層の複素屈折率を求めている。
請求項１の発明のカラーフィルタ形成基板は、このような構成にすることにより、透明基板からなる基材の一面側に、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層を表示用領域に配し、且つ、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するため遮光性の黒色の額縁部を配したカラーフィルタ形成基板を用い、前記基材の一面側ではない他面側を最も外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態の表示装置において、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えを良くして、特に、屋内外、室内光下、太陽光下でも、遮光性の額縁部の黒色の締りを良くして、製品に高級感を持たせることができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能としている。
モバイル電子機器のように、屋内外で用いられもので、高品質、意匠性が求められる表示部には有効としている。
具体的には、額縁部に、あるいは、額縁部と画素区分用遮光部に、基材の一面側から、順に、樹脂組成物からなる反射抑制層と樹脂組成物からなる黒色の遮光層とを積層した積層構造を有し、前記基材の屈折率ｎｓ 、前記反射抑制層の複素屈折率の実数部をｎ１ 、前記遮光層の複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であることを特徴とするものであることにより、これを達成可能としている。
従来のカラーフィルタ形成基板の場合、額縁部は、図２（ａ）に示すように、基材１１、遮光層１６Ｂが積層された構造で、外光Ｌ０の反射光は、基材１１と遮光層１６Ｂの界面で反射される反射光ｒｅｆ０からの光が出射される反射光Ｒｅｆ０となるが、反射光Ｒｅｆ０が大きいために、反射光Ｒｅｆ０に起因して、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りがよくなく、表示装置に用いられた際には、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることが難しく、これが問題となっていた。
これに対して、図２（ｂ）に示すように、基材１１、反射抑制層１６Ｒ、遮光層１６Ｂがこの順に積層された構造の場合、外光Ｌ０の反射光は、基材１１と反射抑制層１６Ｒの界面で反射される反射光ｒｅｆ１からの光が出射される反射光Ｒｅｆ１と、基材１１側から反射抑制層１６Ｒを通過し、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２から光が出射される反射光Ｒｅｆ２との和で、それ以外の外光Ｌ０から入射された光は、反射抑制層１６Ｒ、遮光層１６Ｂにて、吸収される。
本発明のカラーフィルタ形成基板は、額縁部あるいは額縁部と画素区分用遮光部とが、図２（ｂ）に示す層構成であって、基材１１の屈折率ｎｓ、反射抑制層１６Ｒの複素屈折率の実数部をｎ１ 、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であることにより、人の視感度が大きい波長領域において、基材１１と反射抑制層１６Ｒの界面で反射される反射光ｒｅｆ１からの出射光Ｒｅｆ１と、基材１１側から反射抑制層１６Ｒを通過し、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２から出射される反射光Ｒｅｆ２とを、少なく抑えることができ、これにより、図２（ｂ）に示す、反射光Ｒｅｆ１と反射光Ｒｅｆ２との、見た目の外光の影響を、図２（ａ）に示す反射光Ｒｅｆ０の、見た目の外光の影響より、小とすることができ、結果、表示装置に用いられた際には、外光の反射光に起因して、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りを良くでき、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることができることを見出して成したものである。
尚、ここでは、ガラス基板上に屈折率を測定する層を形成して、（有）テクノシナジー社製の光学膜厚測定システムＤＦ−１０４２ＲＴを用いて測定することにより、各層の複素屈折率を求めている。
尚、屈折率ｎ０１の均質、等方性である媒質から屈折率ｎ０２の媒質へ角度θｉ（入射角）で入射し、角度θt （出射角）に屈折する光を考えると、入射光平面波の電気ベクトルの入射面に含まれる成分をＰ偏光、入射面に垂直な成分をＳ偏光と呼び、それぞれのエネルギー反射率であるＰ偏光エネルギー反射率ｒｐ 、Ｓ偏光エネルギー反射率ｒｓ は、それぞれ、以下の式（１）、式（２）で表される。
そして、反射率をｒｐ とｒｓ の和の１／２と表す。
式（１）、式（２）からは、屈折率ｎ０１と屈折率ｎ０２の差が小さいほど反射率も小さくなることが分かる。
したがって、図２（ｂ）において、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、基材１１の屈折率ｎｓ と反射抑制層１６Ｒの屈折率ｎ１ との差が、基材１１の屈折率ｎｓ と遮光層１６Ｂの屈折率ｎ２ との差より小の場合、反射抑制層１６Ｒでは、吸収があることから、波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍのほぼ全域において、基材１１と反射抑制層１６Ｒの界面で反射される反射光ｒｅｆ１の強度と、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２の強度との和は、図２（ａ）に示す、基材１１と遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ０の強度よりも、小となる。
そして、反射率をｒｐ とｒｓ の和の１／２と表す。
したがって、図２（ｂ）において、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、基材１１の屈折率ｎｓ と反射抑制層１６Ｒの屈折率ｎ１ との差が、基材１１の屈折率ｎｓ と遮光層１６Ｂの屈折率ｎ２ との差より小の場合、反射抑制層１６Ｒでは、吸収があることから、波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍのほぼ全域において、基材１１と反射抑制層１６Ｒの界面で反射される反射光ｒｅｆ１の強度と、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２の強度との和は、図２（ａ）に示す、基材１１と遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ０の強度よりも、小となる。
尚、カラーフィルタ形成用のいずれの色の着色層の屈折率ｎも、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎとの差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を満たし、また、これらの着色層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であることから、人の視感度が大きい波長領域において、図２（ｂ）に示す、基材と反射抑制層との界面からの反射光ｒｅｆ１を少なくすることができるものとし、反射抑制層として有効である。
特に、反射抑制層として青色の着色樹脂層を用いた場合には、反射抑制層の光吸収性は大きく（表１のＹ値を参照）、更に、屈折率ｎ１ と屈折率ｎ２ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有することにより、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２から出射される反射光Ｒｅｆ２を効果的に抑制することができるものとしている。
これより、反射抑制層として青色の着色樹脂層を用いた場合、他の色の着色樹脂層を反射抑制層として用いた場合に比べて、人の視感度が大きい波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、図２（ｂ）に示す、反射光Ｒｅｆ１と反射光Ｒｅｆ２とによる見た目の外光の影響を一層少なくでき、結果、表示装置に用いられた際には、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りを一層良くでき、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることができる。
特に、反射抑制層として青色の着色樹脂層を用いた場合には、反射抑制層の光吸収性は大きく（表１のＹ値を参照）、更に、屈折率ｎ１ と屈折率ｎ２ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有することにより、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２から出射される反射光Ｒｅｆ２を効果的に抑制することができるものとしている。
これより、反射抑制層として青色の着色樹脂層を用いた場合、他の色の着色樹脂層を反射抑制層として用いた場合に比べて、人の視感度が大きい波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、図２（ｂ）に示す、反射光Ｒｅｆ１と反射光Ｒｅｆ２とによる見た目の外光の影響を一層少なくでき、結果、表示装置に用いられた際には、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りを一層良くでき、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることができる。
後述する実施例や比較例についての表３に示すように、遮光層（ＢＭ層）、不透明樹脂層１〜不透明樹脂層４についてみると、遮光層（ＢＭ層）、色材のない透明樹脂層（透明層）以外の層は、図３に示す、ＳＣＩ方式の測定によるＹ値（Ｄ６５光源）は、見た目が良いとされる５. ０以下を確保することができるが、特に、Ｙ値（Ｄ６５光源）からは、ＢＬＵＥ（青色）の層が反射抑制層として好ましいことが分かる。
また、表２においては、分光透過率測定から求めたＹ値（Ｄ６５光源）からは、不透明樹脂層３（着色層３、ＢＬＵＥ（青色）の層）が反射抑制層として好ましいことが分かる。
ここでは、各層の分光透過率を求めて、各層での減衰の程度の評価としている。
また、表２においては、分光透過率測定から求めたＹ値（Ｄ６５光源）からは、不透明樹脂層３（着色層３、ＢＬＵＥ（青色）の層）が反射抑制層として好ましいことが分かる。
ここでは、各層の分光透過率を求めて、各層での減衰の程度の評価としている。
ここで、ＳＣＩ方式（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ Ｉｎｃｌｕｄｅ方式の略）とは、図３に示すようにして、分光測色計により正反射光と拡散反射光の合計を検出する測定方式で、外光の反射光の反射率の分光特性の測定結果から計算により得られた、ＪＩＳＺ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹの値の小さいほど良く、外光反射による見た目の評価方法として用いられている。
ＳＣＩ方式は物体色を測定する場合に広く用いられている。
尚、場合によっては、拡散反射成分を検出できる正反射光除去方式（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ Ｅｘｃｌｕｄｅ方式（以後はＳＣＥ方式と略す））による外光の反射光の反射率の分光特性の測定を行い、該測定の結果から計算により得られた、ＪＩＳＺ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹの値の小さいほど良いとして、外光反射による見た目を評価する方法とすることもある。
尚、図３においては、太線実線矢印は、光源６２からの入射光６２Ｌを示し、点線矢印は各点からの光の向きを示し、細線実線矢印は、検出器６３へ入射する検出光６３Ｌを示している。
また、ここでは、分光透過率の測定は、顕微分光測光装置としてＯＳＰ−ＳＰ２０００（ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製）を用いて行った。
各層の分光透過率を求めて、得られた結果から、計算により、透過光のＪＩＳＺ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹの値を求め、これを、各層での減衰の程度の評価とした。
各層の分光透過率を求めて、得られた結果から、計算により、透過光のＪＩＳＺ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹの値を求め、これを、各層での減衰の程度の評価とした。
ＳＣＩ方式は物体色を測定する場合に広く用いられている。
尚、場合によっては、拡散反射成分を検出できる正反射光除去方式（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ Ｅｘｃｌｕｄｅ方式（以後はＳＣＥ方式と略す））による外光の反射光の反射率の分光特性の測定を行い、該測定の結果から計算により得られた、ＪＩＳＺ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹの値の小さいほど良いとして、外光反射による見た目を評価する方法とすることもある。
尚、図３においては、太線実線矢印は、光源６２からの入射光６２Ｌを示し、点線矢印は各点からの光の向きを示し、細線実線矢印は、検出器６３へ入射する検出光６３Ｌを示している。
また、ここでは、分光透過率の測定は、顕微分光測光装置としてＯＳＰ−ＳＰ２０００（ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製）を用いて行った。
各層の分光透過率を求めて、得られた結果から、計算により、透過光のＪＩＳＺ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹの値を求め、これを、各層での減衰の程度の評価とした。
各層の分光透過率を求めて、得られた結果から、計算により、透過光のＪＩＳＺ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹの値を求め、これを、各層での減衰の程度の評価とした。
また、反射抑制層としては、１種以上の色材を分散させて含有する樹脂層が挙げられるが、青色材を分散させて含有する青色の樹脂層である場合には、特に、反射抑制層として好ましい。
また、前記黒色の遮光層としては、樹脂中にカーボンブラックを分散して含有するものが挙げられる。
遮光層は、必要とされる光学濃度（通常は４以上）を確保でき、且つ、表示装置に用いられた際に、ＴＦＴの誤動作の原因ともなる内部反射の少ないものが好ましく、例えば、粒子径が小さいものを、あるいは、カーボンブラックに樹脂を被膜したものを、ピグメントとして樹脂中に分散させて含有するものが好ましい。
そして、光学濃度にあわせた厚さとする。
また、前記反射抑制層としては、青色の着色樹脂層からなるものが、好ましい。
また、前記黒色の遮光層としては、樹脂中にカーボンブラックを分散して含有するものが挙げられる。
遮光層は、必要とされる光学濃度（通常は４以上）を確保でき、且つ、表示装置に用いられた際に、ＴＦＴの誤動作の原因ともなる内部反射の少ないものが好ましく、例えば、粒子径が小さいものを、あるいは、カーボンブラックに樹脂を被膜したものを、ピグメントとして樹脂中に分散させて含有するものが好ましい。
そして、光学濃度にあわせた厚さとする。
また、前記反射抑制層としては、青色の着色樹脂層からなるものが、好ましい。
本発明の表示装置は、このような構成にすることにより、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えを良くして、特に、屋内外、室内光下、太陽光下でも、遮光性の額縁部の黒色の締りを良くして、製品に高級感を持たせることができる表示部を有する表示装置の提供を可能としている。
本発明は、このように、特に、透明基板からなる基材の一面側に、カラーフィルタ用の各色の着色層を表示用領域に配し、且つ、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域を形成するため遮光性の黒色の額縁部を配したカラーフィルタ形成基板を用い、前記基材の一面側ではない他面側を外側（観察者側）に配して非表示用領域を形成する形態のモバイル電子機器の表示装置において、非表示用領域としての額縁部や表示用領域における外光による反射の見栄えを良くして、屋内外、室内光下、太陽光下でも、遮光性の額縁部の黒色の締りを良くして、製品に高級感を持たせることができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能とした。
同時に、このようなカラーフィルタ形成基板を用いた表示装置の提供を可能とした。
同時に、このようなカラーフィルタ形成基板を用いた表示装置の提供を可能とした。
先ず、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例のカラーフィルタ形成基板は、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器の表示装置（液晶表示装置）に用いられるカラーフィルタ形成基板であり、図１（ａ）に示すように、ガラス基板からなる透明基板を基材１１として、該基材１１の一面側において、表示用領域１３Ｓにカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層（１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ）と画素区分用遮光部（ブラックマトリクスとも言う）１４を配し、且つ、該表示用領域１３Ｓの外側に非表示用領域として遮光性の額縁部１２を設けており、図１（ｂ）、図１（ｃ）に示すように、表示用領域１３Ｓの着色樹脂層１３と、額縁部１２とを覆うように平坦状に保護層（オーバーコート層、あるいはＯＣ層とも言う）１５を配している。
そして、基材１１の前記一面ではない他面側を最も外側（観察者側）として、図８（ａ）に示す形態、あるいは、図９（ａ）に示す形態のモバイル電子機器の表示装置に用いられる。
本例では、特に、図１（ｅ）に示されるように、画素区分用遮光部１４および額縁部１２は、基材１１側から、順に、樹脂組成物からなる反射抑制層１６Ｒと樹脂組成物からなる黒色の遮光層１６Ｂとを積層した層構造を有し、且つ、基材１１の屈折率ｎｓ、反射抑制層１６Ｒの複素屈折率の実数部をｎ１ 、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有する。
そして、ここでは、反射抑制層１６Ｒは、波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層である。
また、黒色の遮光性の遮光層１６Ｂとしては、樹脂成分にピグメントとしてカーボンブラック粒子を分散させた遮光性の樹脂層を用いており、必要とされる光学濃度（通常は４以上）を確保できる光学濃度にあわせた膜厚としている。
本例のカラーフィルタ形成基板は、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器の表示装置（液晶表示装置）に用いられるカラーフィルタ形成基板であり、図１（ａ）に示すように、ガラス基板からなる透明基板を基材１１として、該基材１１の一面側において、表示用領域１３Ｓにカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層（１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ）と画素区分用遮光部（ブラックマトリクスとも言う）１４を配し、且つ、該表示用領域１３Ｓの外側に非表示用領域として遮光性の額縁部１２を設けており、図１（ｂ）、図１（ｃ）に示すように、表示用領域１３Ｓの着色樹脂層１３と、額縁部１２とを覆うように平坦状に保護層（オーバーコート層、あるいはＯＣ層とも言う）１５を配している。
そして、基材１１の前記一面ではない他面側を最も外側（観察者側）として、図８（ａ）に示す形態、あるいは、図９（ａ）に示す形態のモバイル電子機器の表示装置に用いられる。
本例では、特に、図１（ｅ）に示されるように、画素区分用遮光部１４および額縁部１２は、基材１１側から、順に、樹脂組成物からなる反射抑制層１６Ｒと樹脂組成物からなる黒色の遮光層１６Ｂとを積層した層構造を有し、且つ、基材１１の屈折率ｎｓ、反射抑制層１６Ｒの複素屈折率の実数部をｎ１ 、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有する。
そして、ここでは、反射抑制層１６Ｒは、波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層である。
また、黒色の遮光性の遮光層１６Ｂとしては、樹脂成分にピグメントとしてカーボンブラック粒子を分散させた遮光性の樹脂層を用いており、必要とされる光学濃度（通常は４以上）を確保できる光学濃度にあわせた膜厚としている。
本例のカラーフィルタ形成基板１０は、基材１１の屈折率ｎｓ、反射抑制層１６Ｒの複素屈折率の実数部をｎ１ 、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍで、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、反射抑制層１６Ｒは、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であることにより、表示装置に用いられて、図２（ｂ）に示すように、外光Ｌ０が入射された場合において、人の視感度が大きい波長領域において、基材１１と反射抑制層１６Ｒの界面で反射される反射光ｒｅｆ１からの光が出射される反射光Ｒｅｆ１と、基材１１側から反射抑制層１６Ｒを通過し、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの界面で反射される反射光ｒｅｆ２からの光が出射される反射光Ｒｅｆ２とを、少なく抑えることができ、これにより、反射光Ｒｅｆ１と反射光Ｒｅｆ２との、見た目の外光の影響を、図２（ａ）に示す反射光Ｒｅｆ０の、見た目の外光の影響より、小とすることができる。
その結果、表示装置に用いられた際には、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りを一層良くでき、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることができるものとしており、特に、モバイル電子機器のように、屋内外で用いられるもので、高品質、意匠性が求められる表示部には有効である。
その結果、表示装置に用いられた際には、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光性の額縁部の黒色の締りを一層良くでき、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることができるものとしており、特に、モバイル電子機器のように、屋内外で用いられるもので、高品質、意匠性が求められる表示部には有効である。
本例のカラーフィルタ形成基板１０の額縁部１２、画素区分用遮光部１４は、図２（ｂ）（図１（ｅ）と同じ）に示すような層構造をしており、且つ、基材１１の屈折率ｎｓ 、反射抑制層１６Ｒの複素屈折率の実数部をｎ１ 、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍで、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、反射抑制層１６Ｒは、波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層とする理由は、特に人の視感度が大きい波長領域において、基材１１と反射抑制層１６Ｒとの境界における屈折率差が、図２（ａ）に示す従来の層構造の場合における、基材１１と遮光層１６Ｂとの境界における屈折率差より小さいことにより、基材１１と反射抑制層１６Ｒとの境界における反射光ｒｅｆ１と、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの境界における反射光ｒｅｆ２とを、見た目で少なく抑え、これにより、人の視感度が大きい波長領域において、基材１１と反射抑制層１６Ｒとの境界での反射光ｒｅｆ１と、反射抑制層１６Ｒと遮光層１６Ｂとの境界での反射光ｒｅｆ２との、見た目の影響を、図２（ａ）に示す従来の積層構造の基材１１と遮光層１６Ｂとの境界での反射光ｒｅｆ０の見た目の影響より少なくして、見た目で、外光の反射光の影響を少なくできるためである。
即ち、本例のカラーフィルタ形成基板１０の額縁部１２、画素区分用遮光部１３Ｍは、各層の境界における屈折率差が小さいほど、該境界における反射が小となることと、人の視感度は、明るい所では、５５５ｎｍをピークとして、図５に示すような波長特性をしていることをふまえて、このような層構造としているのである。
即ち、本例のカラーフィルタ形成基板１０の額縁部１２、画素区分用遮光部１３Ｍは、各層の境界における屈折率差が小さいほど、該境界における反射が小となることと、人の視感度は、明るい所では、５５５ｎｍをピークとして、図５に示すような波長特性をしていることをふまえて、このような層構造としているのである。
図５からも分かるように、観察者の感じる外光の反射光を低減するには、視感度の大きい５５５ｎｍ波長近辺の波長領域での光量を少なくすることが必要となる。
図５から、特に、波長範囲５０５ｎｍ〜６０５ｎｍで、外光の反射光を低減することが効果的と判断される。
尚、図５における比視感度は、５５５ｎｍを視感度を１として、他の波長の視感度を相対的に表したものである。
また、例えば、基材１１の屈折率をｎｓ とし、赤色、緑色、青色の各色の着色樹脂層（単に着色層とも言う）からなる不透明樹脂層１（着色層１あるいはＲＥＤ層とも言う）、不透明樹脂層２（着色層２あるいはＧＲＥＥＮ層とも言う）、不透明樹脂層３（着色層３あるいはＢＬＵＥ層とも言う）、および、不透明樹脂層４（着色層４あるいはＧＲＡＹ層とも言う）、透明樹脂層、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）を、それぞれ、ｎＲ 、ｎＧ 、ｎＢ 、ｎｂ 、ｎｃ 、ｎ２ とした場合、図４に示すような分光特性になる。
遮光層１６Ｂで樹脂層の割合を増やした不透明樹脂層４とし、遮光層１６Ｂの樹脂層のみの透明な樹脂層を透明樹脂層としている。
図４に示す、実施例あるいは比較例の不透明樹脂層３（着色層３）、不透明樹脂層１（着色層１）、不透明樹脂層２（着色層２）、不透明樹脂層３（着色層４）は、５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍで、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、実施例、比較例において示す、表１に示すように、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係をみたしている。
これより、Ｇ、Ｂ、Ｒの各色の着色樹脂層は、反射抑制層１６Ｒとして適用可能と判断される。
図５から、特に、波長範囲５０５ｎｍ〜６０５ｎｍで、外光の反射光を低減することが効果的と判断される。
尚、図５における比視感度は、５５５ｎｍを視感度を１として、他の波長の視感度を相対的に表したものである。
また、例えば、基材１１の屈折率をｎｓ とし、赤色、緑色、青色の各色の着色樹脂層（単に着色層とも言う）からなる不透明樹脂層１（着色層１あるいはＲＥＤ層とも言う）、不透明樹脂層２（着色層２あるいはＧＲＥＥＮ層とも言う）、不透明樹脂層３（着色層３あるいはＢＬＵＥ層とも言う）、および、不透明樹脂層４（着色層４あるいはＧＲＡＹ層とも言う）、透明樹脂層、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）を、それぞれ、ｎＲ 、ｎＧ 、ｎＢ 、ｎｂ 、ｎｃ 、ｎ２ とした場合、図４に示すような分光特性になる。
遮光層１６Ｂで樹脂層の割合を増やした不透明樹脂層４とし、遮光層１６Ｂの樹脂層のみの透明な樹脂層を透明樹脂層としている。
図４に示す、実施例あるいは比較例の不透明樹脂層３（着色層３）、不透明樹脂層１（着色層１）、不透明樹脂層２（着色層２）、不透明樹脂層３（着色層４）は、５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍで、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、実施例、比較例において示す、表１に示すように、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係をみたしている。
これより、Ｇ、Ｂ、Ｒの各色の着色樹脂層は、反射抑制層１６Ｒとして適用可能と判断される。
一方、反射抑制層の吸収性の面からは、反射抑制層の分光透過率から計算された、視感度を考慮したＪＩＳ Ｚ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹが低い方が好ましいが、表２のように、実施例あるいは比較例における不透明樹脂層３（着色層３）、不透明樹脂層１（着色層１）、不透明樹脂層２（着色層２）、不透明樹脂層３（着色層４）は、いずれも、５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍで、光吸収性を十分有するものである。
表２のように、中でもＢ色（青色）の着色樹脂層は、分光透過率から計算された、視感度を考慮したＪＩＳ Ｚ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹが低く、特に好ましい。
尚、表２では、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の着色樹脂層を、それぞれ、着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）としている。
表２のように、中でもＢ色（青色）の着色樹脂層は、分光透過率から計算された、視感度を考慮したＪＩＳ Ｚ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹが低く、特に好ましい。
尚、表２では、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の着色樹脂層を、それぞれ、着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）としている。
また、ここでは、表示装置に用いられた際に、表示領域となる領域を表示用領域１３Ｓとしており、図１（ａ）の額縁部１２の内側の領域を意味する。
また、表示領域とはならない額縁部１２の領域を非表示用領域としている。
また、着色部１３は、カラーフィルタ用の赤色、緑色、青色の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂと画素区分用遮光部１４とを総称している。
また、表示用領域には、図１（ｄ）に示すように、カラーフィルタ用の赤色、緑色、青色の各色の着色層（着色樹脂層とも言う）１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは、画素区分用遮光部１４により分離されるように所定の配列に形成されている。
画素区分用遮光部１４の開口パターン形状や各色の着色層の配列は、図１（ｄ）に示す形態に限定はされない。
画素区分用遮光部１４の開口パターン形状がストライプ状の形状ものや、くの字形状や、デルタ配列などの様に着色層の配列を変えたものも挙げられる。
また、表示領域とはならない額縁部１２の領域を非表示用領域としている。
また、着色部１３は、カラーフィルタ用の赤色、緑色、青色の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂと画素区分用遮光部１４とを総称している。
また、表示用領域には、図１（ｄ）に示すように、カラーフィルタ用の赤色、緑色、青色の各色の着色層（着色樹脂層とも言う）１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは、画素区分用遮光部１４により分離されるように所定の配列に形成されている。
画素区分用遮光部１４の開口パターン形状や各色の着色層の配列は、図１（ｄ）に示す形態に限定はされない。
画素区分用遮光部１４の開口パターン形状がストライプ状の形状ものや、くの字形状や、デルタ配列などの様に着色層の配列を変えたものも挙げられる。
次に各部の材料について述べる。
＜基板１１＞
第１の例に用いられる透明基板からなる基材１１としては、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができ、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。
無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
上記基板は、通常、透明な透明基板が用いられている。
＜基板１１＞
第１の例に用いられる透明基板からなる基材１１としては、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができ、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。
無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
上記基板は、通常、透明な透明基板が用いられている。
＜画素区分用遮光部１４および額縁部１２＞
（遮光層１６Ｂ）
遮光性の樹脂層からなる遮光層１６Ｂとしては、例えば、ここでは、エポキシ樹脂等の樹脂で被覆したカーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものが用いられている。
カーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものは、膜厚を比較的薄くして遮光性の樹脂層を形成することができる。
ここでは、光学濃度（通常４．０以上）を確保できる膜厚とする。
ここでは、画素区分用遮光部１４および額縁部１２における遮光性の樹脂層からなる遮光層１６Ｂの形成をフォトリソグラフィー法を用いているが、この場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有するブラックマトリクス形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、画素区分用遮光部１４および額縁部１２の遮光性の樹脂層からなる遮光層の、両方を、あるいは、一方のみを印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合もあるが、この場合には、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
（反射抑制層１６Ｒ）
反射抑制層１６Ｒとしては、例えば、各色の色材をバインダ樹脂に、に分散させたものが用いられているが、基材１１の屈折率ｎｓ、反射抑制層１６Ｒの複素屈折率の実数部をｎ１ 、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であれば、特に限定はされないが、ここでは、反射抑制層１６Ｒとしては、カラーフィルタ用の青色の着色樹脂層１３Ｂを用いている。
該青色の着色樹脂層１３Ｂについては、続く、カラーフィルタ形成用の各色の着色樹脂層について説明に記す。
（遮光層１６Ｂ）
遮光性の樹脂層からなる遮光層１６Ｂとしては、例えば、ここでは、エポキシ樹脂等の樹脂で被覆したカーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものが用いられている。
カーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものは、膜厚を比較的薄くして遮光性の樹脂層を形成することができる。
ここでは、光学濃度（通常４．０以上）を確保できる膜厚とする。
ここでは、画素区分用遮光部１４および額縁部１２における遮光性の樹脂層からなる遮光層１６Ｂの形成をフォトリソグラフィー法を用いているが、この場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有するブラックマトリクス形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、画素区分用遮光部１４および額縁部１２の遮光性の樹脂層からなる遮光層の、両方を、あるいは、一方のみを印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合もあるが、この場合には、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
（反射抑制層１６Ｒ）
反射抑制層１６Ｒとしては、例えば、各色の色材をバインダ樹脂に、に分散させたものが用いられているが、基材１１の屈折率ｎｓ、反射抑制層１６Ｒの複素屈折率の実数部をｎ１ 、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であれば、特に限定はされないが、ここでは、反射抑制層１６Ｒとしては、カラーフィルタ用の青色の着色樹脂層１３Ｂを用いている。
該青色の着色樹脂層１３Ｂについては、続く、カラーフィルタ形成用の各色の着色樹脂層について説明に記す。
＜カラーフィルタ形成用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ＞
本例では、カラーフィルタ形成用の各色の着色樹脂層（単に着色層とも言う）は、赤色の着色層１３Ｒ、緑色の着色層１３Ｇ、青色の着色層１３Ｂの３色である。
各色の着色樹脂層は、各色の顔料や染料等の着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものであり、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成されるものである。
上記着色樹脂層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、着色剤および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
上記各色の着色樹脂層の膜厚は、通常、１μｍ〜５μｍ程度で設定される。
着色樹脂層の色としては、ここでは、赤色、緑色、青色の３色としているが、赤色、緑色、青色の３色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、赤色、緑色、青色の３色、または、赤色、緑色、青色、黄色もしくは、赤色、緑色、青色、白色の４色、または、赤色、緑色、青色、黄色、シアンの５色等とすることもできる。
尚、赤色（Ｒとも記載）の着色樹脂層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色（Ｇとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色（Ｂとも記載）の着色樹脂層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
本例では、カラーフィルタ形成用の各色の着色樹脂層（単に着色層とも言う）は、赤色の着色層１３Ｒ、緑色の着色層１３Ｇ、青色の着色層１３Ｂの３色である。
各色の着色樹脂層は、各色の顔料や染料等の着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものであり、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成されるものである。
上記着色樹脂層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、着色剤および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
上記各色の着色樹脂層の膜厚は、通常、１μｍ〜５μｍ程度で設定される。
着色樹脂層の色としては、ここでは、赤色、緑色、青色の３色としているが、赤色、緑色、青色の３色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、赤色、緑色、青色の３色、または、赤色、緑色、青色、黄色もしくは、赤色、緑色、青色、白色の４色、または、赤色、緑色、青色、黄色、シアンの５色等とすることもできる。
尚、赤色（Ｒとも記載）の着色樹脂層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色（Ｇとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色（Ｂとも記載）の着色樹脂層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
＜保護層１５＞
保護層１５用の材料としては、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物は、カラーフィルタ形成基板を面付けして作製後に、個片化する切断をするのに好ましい。
保護層１５用の光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、第１の例では、カラーフィルタ形成基板は面付けして赤色、緑色、青色の各着色樹脂層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、及び、画素区分用遮光部１４および、額縁部１２を形成した後に、樹脂組成物をスピンコーテインング法により塗布するが、各カラーフィルタ基板間に保護層の切れ目を設けておき、該切れ目において分離して個片化するため、保護層用の樹脂組成物を光硬化性樹脂組成物として、塗布後、乾燥し、所定領域のみ選択的に光照射して、現像して形成しているが、保護層の形成方法はこれに限定はされない。
保護層用の熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊（昭和６２年）等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス−［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、および２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ（４−メチルゼンゾイル）ペーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルエキサネート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカルボネート、ｔ−ブチル−４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。
保護層１５用の材料としては、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物は、カラーフィルタ形成基板を面付けして作製後に、個片化する切断をするのに好ましい。
保護層１５用の光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、第１の例では、カラーフィルタ形成基板は面付けして赤色、緑色、青色の各着色樹脂層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、及び、画素区分用遮光部１４および、額縁部１２を形成した後に、樹脂組成物をスピンコーテインング法により塗布するが、各カラーフィルタ基板間に保護層の切れ目を設けておき、該切れ目において分離して個片化するため、保護層用の樹脂組成物を光硬化性樹脂組成物として、塗布後、乾燥し、所定領域のみ選択的に光照射して、現像して形成しているが、保護層の形成方法はこれに限定はされない。
保護層用の熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊（昭和６２年）等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス−［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、および２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ（４−メチルゼンゾイル）ペーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルエキサネート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカルボネート、ｔ−ブチル−４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。
図１に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法の一般的な例を、図７に基づいて、簡単に説明しておく。
図１に示すカラーフィルタ形成基板の場合は、反射抑制層１６Ｒがカラーフィルタ用の青色の着色層（着色樹脂層）１３Ｂであるが、はじめに、反射抑制層１６Ｒをカラーフィルタ用の青色の着色層と同じ工程で一緒に形成しない場合の例について説明する。
先ず、基材１１の一面上にネガ型の感光性樹脂である反射抑制層形成用の樹脂組成物１６Ｒａを塗膜しておき（図７（ａ））、所定のフォトマスク１７を用いて選択露光し、更に、現像処理、加熱乾燥処理等を行い（図７（ｂ））所定の形状に、画素区分用遮光部の反射抑制層１６Ｒを形成する。（図７（ｃ））
次いで、反射抑制層１６Ｒを覆うように全面に、ネガ型の感光性樹脂である画素区分用遮光部の遮光部形成用の樹脂組成物１６Ｂａを塗膜し（図７（ｄ））、所定のフォトマスク１７Ａを用いて選択露光し（図７（ｅ））、更に、現像処理、加熱乾燥処理を行い、前記反射抑制層１６Ｒを覆う形状に、画素区分用遮光部１４の遮光層１６Ｂを形成する。（図７（ｆ））
このようにフォトリソ法により、前記反射抑制層１６Ｒ、前記遮光層１６Ｂを併せた画素区分用遮光部１２を形成する。
次いで、カラーフィルタ形成用の赤色、緑色、青色の各着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを、それぞれ、感光性の硬化型樹脂組成物を用いて、フォトリソ法により形成する。（図示していない）
表示用領域１３Ｓにおける各部の形成を上記のようにしているが、非表示用領域の額縁部１２の形成は、画素区分用遮光部１４の形成と同様で、ここでは、画素区分用遮光部１４の形成の工程において、額縁部１２の形成を一緒に行う。
図１に示すカラーフィルタ形成基板の場合は、反射抑制層１６Ｒがカラーフィルタ用の青色の着色層（着色樹脂層）１３Ｂであるが、はじめに、反射抑制層１６Ｒをカラーフィルタ用の青色の着色層と同じ工程で一緒に形成しない場合の例について説明する。
先ず、基材１１の一面上にネガ型の感光性樹脂である反射抑制層形成用の樹脂組成物１６Ｒａを塗膜しておき（図７（ａ））、所定のフォトマスク１７を用いて選択露光し、更に、現像処理、加熱乾燥処理等を行い（図７（ｂ））所定の形状に、画素区分用遮光部の反射抑制層１６Ｒを形成する。（図７（ｃ））
次いで、反射抑制層１６Ｒを覆うように全面に、ネガ型の感光性樹脂である画素区分用遮光部の遮光部形成用の樹脂組成物１６Ｂａを塗膜し（図７（ｄ））、所定のフォトマスク１７Ａを用いて選択露光し（図７（ｅ））、更に、現像処理、加熱乾燥処理を行い、前記反射抑制層１６Ｒを覆う形状に、画素区分用遮光部１４の遮光層１６Ｂを形成する。（図７（ｆ））
このようにフォトリソ法により、前記反射抑制層１６Ｒ、前記遮光層１６Ｂを併せた画素区分用遮光部１２を形成する。
次いで、カラーフィルタ形成用の赤色、緑色、青色の各着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを、それぞれ、感光性の硬化型樹脂組成物を用いて、フォトリソ法により形成する。（図示していない）
表示用領域１３Ｓにおける各部の形成を上記のようにしているが、非表示用領域の額縁部１２の形成は、画素区分用遮光部１４の形成と同様で、ここでは、画素区分用遮光部１４の形成の工程において、額縁部１２の形成を一緒に行う。
図１に示すカラーフィルタ形成基板の別の作製方法としては、反射抑制層１６Ｒがカラーフィルタ用の青色の着色層１３Ｂと同じであることから、図７に示す画素区分用遮光部１２を形成方法において、カラーフィルタ用の青色の着色樹脂層１３Ｂと、反射抑制層１６Ｒの形成を同じフォトリソ法の工程で一緒に行い、図７に示す方法と同様のフォトリソ法により前記遮光層１６Ｂの形成を行い、前記反射抑制層１６Ｒ、前記遮光層１６Ｂを併せた画素区分用遮光部１２を形成した後、カラーフィルタ形成用の赤色、緑色の各着色層１３Ｒ、１３Ｇを、それぞれ、感光性の硬化型樹脂組成物を用いて、フォトリソ法により形成する方法も挙げられる。
本発明のカラーフィルタ形成基板は、図１に示す本例に限定されない。
例えば、図１に示す例の反射抑制層としての青色の着色層（着色層３、不透明樹脂層３）１３Ｂに代えて、緑色の着色層（着色層２、不透明樹脂層２）１３Ｇ、赤色の着色層（着色層１、不透明樹脂層１）や、遮光層１６Ｂで樹脂層の割合を増やした不透明樹脂層４を用いる形態も挙げられる。
例えば、図１に示す例の反射抑制層としての青色の着色層（着色層３、不透明樹脂層３）１３Ｂに代えて、緑色の着色層（着色層２、不透明樹脂層２）１３Ｇ、赤色の着色層（着色層１、不透明樹脂層１）や、遮光層１６Ｂで樹脂層の割合を増やした不透明樹脂層４を用いる形態も挙げられる。
［実施例］
実施例を挙げて、本発明を更に説明する。
（実施例１）
実施例１は、図１に示す１例のカラ−フィルタ形成基板を作製したもので、以下のように、光硬化性の硬化性樹脂組成物Ａを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Ａを用いて、カラーフィルタ形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物、青色硬化性樹脂組成物、画素区分用遮光部および額縁部における遮光性の樹脂遮光膜形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらを用いて、各硬化性樹脂組成物毎にフォトリソ法を行い、カラーフィルタ用の各着色樹脂層、画素区分用遮光部および額縁部を形成したものです。
ここでは、画素区分用遮光部１４および額縁部１２を形成した後、表示用領域１３Ｓのカラーフィルタ用の赤色の着色樹脂層１３Ｒ、緑色の着色樹脂層１３Ｇ、青色の着色樹脂層１３Ｂを、それぞれフォトリソ工程で形成した。
尚、表示領域１３Ｓの画素区分用遮光部１４の遮光層１６Ｂの幅は７．０μｍで、開口率は、６０％とした。
実施例を挙げて、本発明を更に説明する。
（実施例１）
実施例１は、図１に示す１例のカラ−フィルタ形成基板を作製したもので、以下のように、光硬化性の硬化性樹脂組成物Ａを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Ａを用いて、カラーフィルタ形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物、青色硬化性樹脂組成物、画素区分用遮光部および額縁部における遮光性の樹脂遮光膜形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらを用いて、各硬化性樹脂組成物毎にフォトリソ法を行い、カラーフィルタ用の各着色樹脂層、画素区分用遮光部および額縁部を形成したものです。
ここでは、画素区分用遮光部１４および額縁部１２を形成した後、表示用領域１３Ｓのカラーフィルタ用の赤色の着色樹脂層１３Ｒ、緑色の着色樹脂層１３Ｇ、青色の着色樹脂層１３Ｂを、それぞれフォトリソ工程で形成した。
尚、表示領域１３Ｓの画素区分用遮光部１４の遮光層１６Ｂの幅は７．０μｍで、開口率は、６０％とした。
（硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２’ーアゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
・ 上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） ：１６重量部
・ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）
：２４重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０） ：４重量部
・ ２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン ：４重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：５２重量部
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２’ーアゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
・ 上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） ：１６重量部
・ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）
：２４重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０） ：４重量部
・ ２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン ：４重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：５２重量部
（画素区分用遮光部１４および額縁部１２の形成）
先ず、基材１１であるガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ材）の一面上に、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３（ＢＬＵＥ層）を形成した。
青色の着色層の形成は、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、図７（ａ）〜図７（ｃ）に示すフォトリソ法により、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、画素区分用遮光部形成領域に青色のレリーフパターンを形成した。
基材１１の一面上に、青色硬化性樹脂組成物１６Ｂａをスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた後、形成された膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより、２．０ｋＷの超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した（図７（ｂ）参照）後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施し、反射抑制層１６Ｒを形成した。
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６ ：４重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２５重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部
先ず、基材１１であるガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ材）の一面上に、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３（ＢＬＵＥ層）を形成した。
青色の着色層の形成は、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、図７（ａ）〜図７（ｃ）に示すフォトリソ法により、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、画素区分用遮光部形成領域に青色のレリーフパターンを形成した。
基材１１の一面上に、青色硬化性樹脂組成物１６Ｂａをスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた後、形成された膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより、２．０ｋＷの超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した（図７（ｂ）参照）後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施し、反射抑制層１６Ｒを形成した。
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６ ：４重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２５重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部
次いで、下記のようにした作製された、遮光層１６Ｂ形成用の黒色の遮光性の光硬化性樹脂組成物を用いて、形成された前記青色のレリーフパターンを覆うように全面に塗布し、図７（ｄ）〜図７（ｆ）に示すフォトリソ法により、形成膜厚が１．５μｍとなるように、画素区分用遮光部形成領域に青色のレリーフパターンを形成した。
＜遮光層１６Ｂ形成用の黒色の遮光性の光硬化性樹脂組成物の作製＞
先ず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液Ｂを調整した。
・ 樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ） ：２０重量部
・ 高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社 Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １６３） ：５重量部
・ 溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル） ：７５重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の樹脂遮光膜形成用の組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液Ｂ ：４３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：１９重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
基材１１の一面に形成された反射抑制層１６Ｒ上に、上記遮光性の樹脂遮光膜形成用の組成物１６Ｂａをスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、遮光性の着色樹脂層を形成した。
当該遮光性の着色樹脂層を塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより、２．０ｋＷの超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、画素区分用遮光部１４と額縁部の遮光層１６Ｂを所定形状に形成した。
これより、画素区分用遮光部１４と額縁部１２が形成された。
尚、上記の樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ）は、平均粒径２５ｎｍである。
粒径は、例えば、日機装社製のレーザードップラー散乱光解析粒度分析計（商品名「Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ９３４ＵＰＡ」）を用い、通常は、着色組成物に含まれる溶剤（希釈溶剤と呼ぶ）で希釈し、着色組成物の顔料粒径の累積が５０％を占める粒径を５０％平均粒径とし、その値を測定して求める。
＜遮光層１６Ｂ形成用の黒色の遮光性の光硬化性樹脂組成物の作製＞
先ず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液Ｂを調整した。
・ 樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ） ：２０重量部
・ 高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社 Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １６３） ：５重量部
・ 溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル） ：７５重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の樹脂遮光膜形成用の組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液Ｂ ：４３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：１９重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
基材１１の一面に形成された反射抑制層１６Ｒ上に、上記遮光性の樹脂遮光膜形成用の組成物１６Ｂａをスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、遮光性の着色樹脂層を形成した。
当該遮光性の着色樹脂層を塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより、２．０ｋＷの超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、画素区分用遮光部１４と額縁部の遮光層１６Ｂを所定形状に形成した。
これより、画素区分用遮光部１４と額縁部１２が形成された。
尚、上記の樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ）は、平均粒径２５ｎｍである。
粒径は、例えば、日機装社製のレーザードップラー散乱光解析粒度分析計（商品名「Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ９３４ＵＰＡ」）を用い、通常は、着色組成物に含まれる溶剤（希釈溶剤と呼ぶ）で希釈し、着色組成物の顔料粒径の累積が５０％を占める粒径を５０％平均粒径とし、その値を測定して求める。
次いで、以下のようにして、カラ−フィルタ用の各色の着色樹脂層を形成した。
（１）赤色の着色樹脂層１３Ｒの形成
ブラックマトリックス上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。
次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋｗの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後、基板を２３０℃の雰囲気下に15分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素パターンを表示用領域１３Ｓに形成した。
形成膜厚は２．０μｍとなった。
＜赤色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７ ：３重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４ ：４重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２３重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部
（２）緑色の着色樹脂層１３Ｇの形成
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、緑色画素を表示用領域に緑色の着色層からなるレリーフパターンを形成した。
＜緑色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８ ：７重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８ ：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２２重量部
・ 酢酸ー３−メトキシブチル ：６７重量部
（３）青色の着色樹脂層１３Ｂの形成
更に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、表示用領域に青色のレリーフパターンを形成した。
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６ ：４重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２５重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部
（１）赤色の着色樹脂層１３Ｒの形成
ブラックマトリックス上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。
次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋｗの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後、基板を２３０℃の雰囲気下に15分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素パターンを表示用領域１３Ｓに形成した。
形成膜厚は２．０μｍとなった。
＜赤色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７ ：３重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４ ：４重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２３重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部
（２）緑色の着色樹脂層１３Ｇの形成
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、緑色画素を表示用領域に緑色の着色層からなるレリーフパターンを形成した。
＜緑色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８ ：７重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８ ：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２２重量部
・ 酢酸ー３−メトキシブチル ：６７重量部
（３）青色の着色樹脂層１３Ｂの形成
更に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、表示用領域に青色のレリーフパターンを形成した。
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６ ：４重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２５重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部
（保護膜１５の形成）
上記のようにして着色樹脂層１３を形成した基板上に、前述の硬化性樹脂組成物Ａをスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜２．０μｍの塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物Ａの塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて保護層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液２３℃）中に1 分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後基板を２３０℃の雰囲気中に１５分間放置することにより加熱処理を施して保護膜を形成した。
このようにして、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製した。
上記のようにして着色樹脂層１３を形成した基板上に、前述の硬化性樹脂組成物Ａをスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜２．０μｍの塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物Ａの塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて保護層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液２３℃）中に1 分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後基板を２３０℃の雰囲気中に１５分間放置することにより加熱処理を施して保護膜を形成した。
このようにして、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製した。
次に、以下のようにして、作製された図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０の保護層１５上に所定高さのスペーサを配設し、液晶表示装置を作製した。
( スペーサの形成）
上記のようにして着色層及び保護層を形成したカラーフィルタ形成基板１０の保護層１５上に、硬化性樹脂組成物Ａをスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物Ａの塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物Ａの塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後基板を２３０℃の雰囲気中３０分間放置することにより加熱処理を施して所定の個数密度となるように形成した。
（液晶表示装置の作製）
上記のようにして得られたカラーフィルタ形成基板の着色層形成側の表面に、配向膜（日産化学社製、ＳＥ−６２１０）を形成した。
次いでＴＦＴを形成したガラス基板（ＴＦＴ基板）上にＩＰＳ液晶を必要量滴下し、上記カラーフィルタを重ね合わせ、ＵＶ硬化性樹脂( スリーボンド社製、Ｔｈｒｅｅ Ｂｏｎｄ ３０２５）をシール材として用い、常温で０．３ｋｇｆ／ｃｍ2 の圧力をかけながら４００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で露光することにより接合してセル組みし、偏光板、バックライトユニット、カバーを設置し、液晶表示装置を得た。
( スペーサの形成）
上記のようにして着色層及び保護層を形成したカラーフィルタ形成基板１０の保護層１５上に、硬化性樹脂組成物Ａをスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物Ａの塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物Ａの塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後基板を２３０℃の雰囲気中３０分間放置することにより加熱処理を施して所定の個数密度となるように形成した。
（液晶表示装置の作製）
上記のようにして得られたカラーフィルタ形成基板の着色層形成側の表面に、配向膜（日産化学社製、ＳＥ−６２１０）を形成した。
次いでＴＦＴを形成したガラス基板（ＴＦＴ基板）上にＩＰＳ液晶を必要量滴下し、上記カラーフィルタを重ね合わせ、ＵＶ硬化性樹脂( スリーボンド社製、Ｔｈｒｅｅ Ｂｏｎｄ ３０２５）をシール材として用い、常温で０．３ｋｇｆ／ｃｍ2 の圧力をかけながら４００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で露光することにより接合してセル組みし、偏光板、バックライトユニット、カバーを設置し、液晶表示装置を得た。
（実施例２）
実施例２は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３に代えて、緑色の着色層である着色層２（ＧＲＥＥＮ層）とし、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
該反射抑制層１６Ｒとしての緑色の着色層である着色層２は、カラーフィルタ形成用の緑色の着色樹脂層と同じものを用いた。
実施例２は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３に代えて、緑色の着色層である着色層２（ＧＲＥＥＮ層）とし、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
該反射抑制層１６Ｒとしての緑色の着色層である着色層２は、カラーフィルタ形成用の緑色の着色樹脂層と同じものを用いた。
（実施例３）
実施例３は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３に代えて、赤色の着色層である着色層１（ＲＥＤ層）とし、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
該反射抑制層１６Ｒとしての赤色の着色層である着色層１は、カラーフィルタ形成用の赤色の着色樹脂層と同じものを用いた。
実施例３は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３に代えて、赤色の着色層である着色層１（ＲＥＤ層）とし、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
該反射抑制層１６Ｒとしての赤色の着色層である着色層１は、カラーフィルタ形成用の赤色の着色樹脂層と同じものを用いた。
（実施例４）
実施例４は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３に代えて、遮光層の成分の色材の量を少なくした組成の着色層４（ＧＲＡＹ層、不透明樹脂層とも言う）とし、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
該反射抑制層１６Ｒとしての不透明樹脂層形成用の組成物は、下記分量の成分を十分混合して、不透明樹脂層形成用の組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液Ｂ ：１４重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：４８重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
その他は、実施例１と同じである。
実施例４は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３に代えて、遮光層の成分の色材の量を少なくした組成の着色層４（ＧＲＡＹ層、不透明樹脂層とも言う）とし、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
該反射抑制層１６Ｒとしての不透明樹脂層形成用の組成物は、下記分量の成分を十分混合して、不透明樹脂層形成用の組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液Ｂ ：１４重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：４８重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
その他は、実施例１と同じである。
（比較例１）
比較例１は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒがない従来の構造のもので、他は実施例１と同じである。
実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
比較例１は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒがない従来の構造のもので、他は実施例１と同じである。
実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
（比較例２）
比較例２は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３に代えて、遮光層の成分の色材の量をゼロとした組成の透明樹脂層とし、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
該反射抑制層１６Ｒとしての透明樹脂層形成用の組成物は、下記分量の成分を十分混合して、透明樹脂層形成用の組成物を得た。
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：６２重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
その他は、実施例１と同じである。
比較例２は、実施例１において、反射抑制層１６Ｒとしての青色の着色層である着色層３に代えて、遮光層の成分の色材の量をゼロとした組成の透明樹脂層とし、図１に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、実施例１と同様にして、液晶表示装置を作製した。
該反射抑制層１６Ｒとしての透明樹脂層形成用の組成物は、下記分量の成分を十分混合して、透明樹脂層形成用の組成物を得た。
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：６２重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
その他は、実施例１と同じである。
上記実施例１〜実施例４、比較例２のようにして作製されたカラーフィルタ形成基板において、反射抑制層として用いた、青色、緑色、赤色の着色層である着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）、着色層４（ＧＲＡＹ層）、透明樹脂層、遮光層１６Ｂについて、複素屈折率を測定して、その実数項を屈折率として求めたが、図４のようになった。
尚、ここでは、ガラス基板上に屈折率を測定する層を形成して、（有）テクノシナジー社製の光学膜厚測定システムＤＦ−１０４２ＲＴを用いて測定することにより、各層の複素屈折率を求めている。
基材１１としてのガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ材）の屈折率は、公知の資料を参照としている。
図４では、基材１１の屈折率をｎｓ とし、また、赤色、緑色、青色の着色層である着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）、前述の着色層４（ＧＲＡＹ層）、透明樹脂層および、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）を、それぞれ、ｎＲ 、ｎＧ 、ｎＢ 、ｎｂ 、ｎｃ 、ｎ２ としている。
尚、ここでは、ガラス基板上に屈折率を測定する層を形成して、（有）テクノシナジー社製の光学膜厚測定システムＤＦ−１０４２ＲＴを用いて測定することにより、各層の複素屈折率を求めている。
基材１１としてのガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ材）の屈折率は、公知の資料を参照としている。
図４では、基材１１の屈折率をｎｓ とし、また、赤色、緑色、青色の着色層である着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）、前述の着色層４（ＧＲＡＹ層）、透明樹脂層および、遮光層１６Ｂの複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）を、それぞれ、ｎＲ 、ｎＧ 、ｎＢ 、ｎｂ 、ｎｃ 、ｎ２ としている。
図４に屈折率が示される、赤色、緑色、青色の着色層である着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）、前述の着色層４（ＧＲＡＹ層）、透明樹脂層は、表１から分かるように、いずれも、５５５ｎｍにおいて、基材との屈折率差の絶対値が、基材と遮光膜との屈折率の差の絶対値よりも小さい。
また、上記実施例１〜実施例４、比較例１、比較例２のようにして作製されたカラーフィルタ形成基板において、反射抑制層として用いた、青色、緑色、赤色の着色層である着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）、および着色層４（ＧＲＡＹ層）、透明樹脂層について、分光透過率を測定して、得られたデータから計算して、Ｄ６５光源におけるＪＩＳ Ｚ８７０１のＸＹＺ表色系での色度（ｘ、ｙ）と明るさＹを求めたが、表２のようになった。
表２では、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の着色樹脂層を、それぞれ、着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）としている。
尚、分光測色計としては、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製、顕微分光測光装置 ＯＳＰ−２０００を用いた。
表２において、分光透過率から計算された、ＪＩＳ Ｚ８７０１のＸＹＺ表色系における明るさＹが低い層ほど、層中での減衰は大きい。
表２では、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の着色樹脂層を、それぞれ、着色層１（ＲＥＤ層）、着色層２（ＧＲＥＥＮ層）、着色層３（ＢＬＵＥ層）としている。
尚、分光測色計としては、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製、顕微分光測光装置 ＯＳＰ−２０００を用いた。
一方、上記実施例１〜４、比較例１、比較例２の各カラーフィルタ形成基板の画素区分用遮光部１４や額縁部１２の層構造と、それぞれ、同じ層構造のサンプルＳ１〜Ｓ６を作製して、これらのサンプルについて、図３に示す分光測色計を用いたＳＣＩ測定により、分光反射率の測定を行い、得られた測定結果から計算により、Ｄ６５光源におけるＪＩＳ Ｚ８７０１のＸＹＺ表色系での、額縁部の色度（ｘ、ｙ）と明るさＹを求めたが、表３のようになった。
更に、上記の各サンプル対応に対応する層構造の、上記実施例１〜実施例４、比較例１、比較例２のようにして作製されたカラーフィルタ形成基板について、額縁部の黒色の締りについて視認性の合否判定を行った結果も、表３に示す。
尚、分光測色計としては、コニカミノルタ（株）製のＣＭ−２５００ｄを用いた。
＜測定条件：分光測色計＞
測定器 ： コニカミノルタ( 株) 製、分光測色計「ＣＭ−２５００ｄ」
照明の受光条件 ： ｄ／８°( ＪＩＳ Ｚ８７２２条件ｃ)
第１の照射領域 ： 測定径＝直径１１ｍｍの円形
第２の照射領域 ： 第１の照射領域と同じ測定径＝直径１１ｍｍの円形
測定領域 ： 照射領域中の８ｍｍの円形（重心位置は照射領域、直径１１ｍｍの円形と同じ）
また、額縁部の黒色の締りについて視認性の評価は、遮光部を形成した側とは反対側ガラス基板面側から、ＧＥＮＴＯＳ ＳｕｐｅｒＦｉｒｅ Ｘ（（株）サンジェルマン製）を光源として照射して、その反射光を、目視し、目視による視認性で額縁部の黒色の締りを判断したもので、良いとされるものを○印で、良くないとされるものを×印で、一番良いものを◎印で示している。
光源は上記のものに限定されるものではなく、太陽光下と同じ結果が得られるものであればよい。
更に、上記の各サンプル対応に対応する層構造の、上記実施例１〜実施例４、比較例１、比較例２のようにして作製されたカラーフィルタ形成基板について、額縁部の黒色の締りについて視認性の合否判定を行った結果も、表３に示す。
＜測定条件：分光測色計＞
測定器 ： コニカミノルタ( 株) 製、分光測色計「ＣＭ−２５００ｄ」
照明の受光条件 ： ｄ／８°( ＪＩＳ Ｚ８７２２条件ｃ)
第１の照射領域 ： 測定径＝直径１１ｍｍの円形
第２の照射領域 ： 第１の照射領域と同じ測定径＝直径１１ｍｍの円形
測定領域 ： 照射領域中の８ｍｍの円形（重心位置は照射領域、直径１１ｍｍの円形と同じ）
また、額縁部の黒色の締りについて視認性の評価は、遮光部を形成した側とは反対側ガラス基板面側から、ＧＥＮＴＯＳ ＳｕｐｅｒＦｉｒｅ Ｘ（（株）サンジェルマン製）を光源として照射して、その反射光を、目視し、目視による視認性で額縁部の黒色の締りを判断したもので、良いとされるものを○印で、良くないとされるものを×印で、一番良いものを◎印で示している。
光源は上記のものに限定されるものではなく、太陽光下と同じ結果が得られるものであればよい。
表３に示す、ＳＣＩ方式で測定して得られた反射光の分光特性から求めたＸＹＺ表色系における明るさＹ（Ｄ６５光源）が、５．０以下であるものが、額縁部の黒色の締りが良いと判断される。
特に、Ｙ値（Ｄ６５光源）が低いＢＬＵＥ（青色）の層が反射抑制層として用いた実施例１が、最も好ましいことが分かる。
次いで、反射抑制層として緑色の着色層である着色層２を用いた実施例２、反射抑制層として赤色の着色層である着色層１を用いた実施例３、反射抑制層として着色層（ＧＲＡＹ層）を用いた実施例４の順に良い。
また、反射抑制層を配していない比較例１（従来品）、反射抑制層として前述の透明樹脂層を用いた比較例２は、いずれも、分光反射率測定のデータから求めたＹ値（Ｄ６５光源）が大きく、目視判定で、黒色の締りは良くなかった。
特に、Ｙ値（Ｄ６５光源）が低いＢＬＵＥ（青色）の層が反射抑制層として用いた実施例１が、最も好ましいことが分かる。
次いで、反射抑制層として緑色の着色層である着色層２を用いた実施例２、反射抑制層として赤色の着色層である着色層１を用いた実施例３、反射抑制層として着色層（ＧＲＡＹ層）を用いた実施例４の順に良い。
また、反射抑制層を配していない比較例１（従来品）、反射抑制層として前述の透明樹脂層を用いた比較例２は、いずれも、分光反射率測定のデータから求めたＹ値（Ｄ６５光源）が大きく、目視判定で、黒色の締りは良くなかった。
上記表３の結果を、図４に示す屈折率、表２に示す分光透過率から計算されたＹ値（Ｄ６５光源）と対応してみると、目視判定で、黒色の締りを良くするには、前記基材の屈折率ｎｓ 、前記反射抑制層の複素屈折率の実数部をｎ１ 、前記遮光層の複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、更に、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、分光透過率特性から求めたＤ６５光源の明るさＹが低い反射抑制層ほど、好ましいことが分かる。
通常、分光透過率特性から求めたＤ６５光源の明るさＹとしては、８０以下であることが好ましい。
通常、分光透過率特性から求めたＤ６５光源の明るさＹとしては、８０以下であることが好ましい。
１０ カラーフィルタ形成基板
１１ 基材（透明基板）
１２ 額縁部
１３ 着色部
１３Ｒ 赤色の着色層（赤色の着色樹脂層とも言う）
１３Ｇ 緑色の着色層（緑色の着色樹脂層とも言う）
１３Ｂ 青色の着色層（青色の着色樹脂層とも言う）
１４ 画素区分用遮光部（ブラックマトリクスとも言う）
１３Ｓ 表示用領域
１３Ａ （測定用の）膜部
１５ 保護槽（オーバーコート層、あるいはＯＣ層とも言う）
１６Ｂ 遮光層
１６Ｒ 反射抑制層
２０ 屈折率調整用オイル
３０ 黒色の板
６１ 積分球
６２ 光源
６２Ｌ 入射光
６３ 検出器
６３Ｌ 検出光
６４ トラップ
θ 角度
ｎｓ 基材の屈折率
ｎＲ 赤色の着色層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎＧ 緑色の着色層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎＢ 青色の着色層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎ２ 遮光層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎｂ 不透明樹脂層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎｃ 透明樹脂層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
１１０ カラーフィルタ形成基板
１１０ａ （カラーフィルタ形成基板の額縁部）
１１１ 基材（透明基板）
１１２ 額縁部
１１３ 着色層
１１３Ｒ 赤色の着色層（着色樹脂層とも言う）
１１３Ｇ 緑色の着色層（着色樹脂層とも言う）
１１３Ｂ 青の着色層（着色樹脂層とも言う）
１１３Ｓ 表示用領域
１１３Ｍ 画素区分用遮光部（ブラックマトリクスとも言う）
１１４ 保護槽（オーバーコート層、あるいはＯＣ層とも言う）
１３０ カバーガラス
１３０ａ （カバーガラスの）額縁部
１４０ タッチパネル
１５０ ＴＦＴ基板
１１ 基材（透明基板）
１２ 額縁部
１３ 着色部
１３Ｒ 赤色の着色層（赤色の着色樹脂層とも言う）
１３Ｇ 緑色の着色層（緑色の着色樹脂層とも言う）
１３Ｂ 青色の着色層（青色の着色樹脂層とも言う）
１４ 画素区分用遮光部（ブラックマトリクスとも言う）
１３Ｓ 表示用領域
１３Ａ （測定用の）膜部
１５ 保護槽（オーバーコート層、あるいはＯＣ層とも言う）
１６Ｂ 遮光層
１６Ｒ 反射抑制層
２０ 屈折率調整用オイル
３０ 黒色の板
６１ 積分球
６２ 光源
６２Ｌ 入射光
６３ 検出器
６３Ｌ 検出光
６４ トラップ
θ 角度
ｎｓ 基材の屈折率
ｎＲ 赤色の着色層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎＧ 緑色の着色層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎＢ 青色の着色層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎ２ 遮光層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎｂ 不透明樹脂層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
ｎｃ 透明樹脂層の複素屈折率の実数項（単に屈折率とも言う）
１１０ カラーフィルタ形成基板
１１０ａ （カラーフィルタ形成基板の額縁部）
１１１ 基材（透明基板）
１１２ 額縁部
１１３ 着色層
１１３Ｒ 赤色の着色層（着色樹脂層とも言う）
１１３Ｇ 緑色の着色層（着色樹脂層とも言う）
１１３Ｂ 青の着色層（着色樹脂層とも言う）
１１３Ｓ 表示用領域
１１３Ｍ 画素区分用遮光部（ブラックマトリクスとも言う）
１１４ 保護槽（オーバーコート層、あるいはＯＣ層とも言う）
１３０ カバーガラス
１３０ａ （カバーガラスの）額縁部
１４０ タッチパネル
１５０ ＴＦＴ基板
Claims (3)
- 透明基板からなる基材の一面側において、画素区分用遮光部により区分けされた領域にカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層を配して表示用領域を形成し、該表示用領域の外側に、非表示用領域として遮光性の額縁部を備えているカラーフィルタ形成基板で、且つ、前記基材の一面側ではない他面側を外側（観察者側）として表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板であって、前記額縁部に、あるいは、前記額縁部と前記画素区分用遮光部に、前記基材の一面側から、順に、樹脂組成物からなる反射抑制層と樹脂組成物からなる黒色の遮光層とを積層した積層構造を有し、前記基材の屈折率ｎｓ 、前記反射抑制層の複素屈折率の実数部をｎ１ 、前記遮光層の複素屈折率の実数部をｎ２ とした場合、明るい所での視感度が高い５５５ｎｍを中心とする波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ１ との差の絶対値が、屈折率ｎｓ と屈折率ｎ２ との差の絶対値より小なる関係を有し、且つ、前記反射抑制層は、前記波長領域５０５ｎｍ〜６０５ｎｍにおいて光吸収性を有する不透明樹脂層であり、前記反射抑制層は、黒色材を分散させて含有する前記不透明樹脂層であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記黒色の遮光層は、樹脂中にカーボンブラックを分散して含有するものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ形成基板を用いて、表示部を形成していることを特徴とする表示装置。
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| JP2013031757A JP6186743B2 (ja) | 2013-02-21 | 2013-02-21 | カラーフィルタ形成基板と表示装置、およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2014163950A JP2014163950A (ja) | 2014-09-08 |
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2013
- 2013-02-21 JP JP2013031757A patent/JP6186743B2/ja not_active Expired - Fee Related
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