JP5814963B2 - インクジェットヘッド、インクジェット記録装置、およびインクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 114
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 232
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 24
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 24
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 24
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 22
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 20
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 16
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 4
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020215 Pb(Mg1/3Nb2/3)O3PbTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N dioxido(oxo)titanium;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][Ti]([O-])=O NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000334 poly[3-(3'-N,N,N-triethylamino-1-propyloxy)-4-methylthiophene-2,5-diyl hydrochloride] polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
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- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
- B41J2002/1425—Embedded thin film piezoelectric element
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41J2002/1437—Back shooter
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2002/14491—Electrical connection
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- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
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Description
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
Claims (6)
- インクを収容する圧力室を有する基材と、
前記圧力室を塞ぐ振動板と、前記振動板上にあって電圧が印加されたときに前記振動板を変形させることで前記圧力室の容積を変化させる所定のパターンに形成された圧電駆動素子と、前記振動板および前記圧電駆動素子を覆い、前記圧電駆動素子に起因する表面に段差を有する保護膜と、前記振動板および前記保護膜の少なくとも一方にあって前記圧力室に連通するノズルと、を有し、前記圧電駆動素子以外の領域の前記保護膜の表面と前記振動板との間の第1の距離が、前記保護膜の表面と前記圧電駆動素子との間の第2の距離よりも大きいノズルプレートと、
を具備することを特徴とするインクジェットヘッド。 - 前記第1の距離は、前記圧電駆動素子の厚さよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のインクジェットヘッド。
- 前記保護膜のヤング率は、前記振動板のヤング率よりも小さいことを特徴とする請求項1または2に記載のインクジェットヘッド。
- 前記保護膜は、樹脂によって形成されることを特徴とする請求項1または3に記載のインクジェットヘッド。
- 請求項1ないし4のいずれか一つに記載のインクジェットヘッドと、
前記圧力室に接続されるとともにインクを収容するインクタンクと、
前記圧電駆動素子に電圧を印加する制御部と、
を具備することを特徴とするインクジェット記録装置。 - 基材の一つの面に振動板を形成し、
電圧が印加されたときに前記振動板を変形させることが可能な所定のパターンに形成された圧電駆動素子を、前記振動板上に形成し、
前記振動板および前記駆動素子を覆い、前記圧電駆動素子に起因する表面に段差を有する保護膜を、前記圧電駆動素子以外の領域の前記保護膜の表面と前記振動板との間の第1の距離が前記保護膜と前記圧電駆動素子との間の第2の距離よりも大きくなるように、スピンコーティングによって形成し、
前記振動板および前記保護膜の少なくとも一方にノズルを形成し、
前記振動板に塞がれるとともに前記ノズルが連通する圧力室を、前記基材に形成する、
ことを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013047246A JP5814963B2 (ja) | 2013-03-08 | 2013-03-08 | インクジェットヘッド、インクジェット記録装置、およびインクジェットヘッドの製造方法 |
US14/201,338 US9227403B2 (en) | 2013-03-08 | 2014-03-07 | Ink jet head and ink jet printing apparatus having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013047246A JP5814963B2 (ja) | 2013-03-08 | 2013-03-08 | インクジェットヘッド、インクジェット記録装置、およびインクジェットヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014172297A JP2014172297A (ja) | 2014-09-22 |
JP5814963B2 true JP5814963B2 (ja) | 2015-11-17 |
Family
ID=51487346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013047246A Active JP5814963B2 (ja) | 2013-03-08 | 2013-03-08 | インクジェットヘッド、インクジェット記録装置、およびインクジェットヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9227403B2 (ja) |
JP (1) | JP5814963B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017196800A (ja) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッドおよびインクジェット記録装置 |
JP2017209828A (ja) * | 2016-05-24 | 2017-11-30 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、および、液体噴射装置 |
JP6117403B1 (ja) * | 2016-05-25 | 2017-04-19 | 株式会社東芝 | インクジェット式記録ヘッド |
EP3468803A4 (en) * | 2016-07-12 | 2020-06-17 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | MULTI-LAYER NOZZLE LIQUID DISPENSER |
JP2018048926A (ja) | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 東芝テック株式会社 | 液滴噴射装置 |
JP2018048928A (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 東芝テック株式会社 | 液滴噴射装置 |
JP6827748B2 (ja) | 2016-09-23 | 2021-02-10 | 東芝テック株式会社 | 液滴噴射ヘッド及び液滴噴射装置 |
JP6833425B2 (ja) | 2016-09-23 | 2021-02-24 | 東芝テック株式会社 | 液滴噴射装置 |
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JP5703266B2 (ja) | 2011-09-21 | 2015-04-15 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッドおよびインクジェット記録装置 |
US20130222481A1 (en) | 2012-02-27 | 2013-08-29 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Inkjet head and method of manufacturing the same |
JP5732428B2 (ja) | 2012-04-17 | 2015-06-10 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド |
JP5663538B2 (ja) | 2012-08-31 | 2015-02-04 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド |
-
2013
- 2013-03-08 JP JP2013047246A patent/JP5814963B2/ja active Active
-
2014
- 2014-03-07 US US14/201,338 patent/US9227403B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140253640A1 (en) | 2014-09-11 |
US9227403B2 (en) | 2016-01-05 |
JP2014172297A (ja) | 2014-09-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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