JP5716265B2 - ポリアミド樹脂組成物 - Google Patents
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Description
即ち本発明は、キシリレンジアミン又はビス(アミノメチル)シクロヘキサンを70モル%以上含むジアミン成分と、炭素数4〜20の脂肪族ジカルボン酸を70モル%以上含むジカルボン酸成分から形成されるポリアミド(X)100重量部に対して、ビス(ベンジリデン)ソルビトールおよびビス(アルキルベンジリデン)ソルビトールから選ばれる1種以上のビス(ベンジリデン)ソルビトール(A)を0.005〜2重量部添加した樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた成形体に関する。
尚、ここで言う相対粘度は、ポリアミド1gを96%硫酸100mLに溶解し、キャノンフェンスケ型粘度計にて25℃で測定した落下時間(t)と、同様に測定した96%硫酸そのものの落下時間(t0)の比であり、次式で示される。
相対粘度=t/t0 ・・・(イ)
(1)ポリアミド樹脂の相対粘度
ポリアミド樹脂1gを精秤し、96%硫酸100mlに20〜30℃で攪拌溶解した。完全に溶解した後、速やかにキャノンフェンスケ型粘度計に溶液5ccを取り、25℃の恒温漕中で10分間放置後、落下速度(t)を測定した。また、96%硫酸そのものの落下速度(t0 )も同様に測定した。tおよびt0 から次式(イ)により相対粘度を算出した。
相対粘度=t/t0 (イ)
JIS−K−7105に準じた。ボトルの場合、胴部より切り出したシート(厚み約300〜400ミクロン)について、日本電色工業社製の曇値測定装置(型式:COH−300A)にて測定し、300ミクロンあたりの曇値として換算した。フィルムに関しては(厚み約100ミクロン)については、100ミクロンあたりの曇値として換算した。
(株)島津製作所製、DSC-60を用い、昇温速度10℃/分で窒素気流下にて10℃〜260℃DSC測定(示差走査熱量測定)を行い、融解に起因する吸熱ピークから融点を求めた。
半結晶化時間測定装置MK701(コタキ製作所)を用い、脱偏光強度法によって100ミクロンのフィルムを5枚重ねたものを260℃の熱風環境で3分間溶融した後、160℃のオイルバスにて結晶化させたときの半結晶化時間を求めた。
ASTM D3985に準じた。測定装置は、モダンコントロールズ社製(型式:OX−TRAN 2/21SH)のものを使用した。測定条件は、ボトルOTR(cc/(0.21atm・bottle・day))及びカップOTR(cc/(0.21atm・package・day))の場合、温度:23℃、相対湿度:ボトル外60%、ボトル内100%、フィルムOTR(cc・mm/(m2・day・atm))の場合、温度:23℃、相対湿度:60%にて測定した。
(ポリアミドの溶融重合)
攪拌機、分縮器、全縮器、温度計、滴下ロート及び窒素導入管、ストランドダイを備えた内容積50リットルの反応容器に、精秤したアジピン酸15000g(10.6mol)、次亜リン酸ナトリウム5.174g(0.0488mol)、酢酸ナトリウム2.803g(0.0342mol)を入れ、十分に窒素置換した後、さらに少量の窒素気流下で系内を攪拌しながら1 70℃まで加熱した。これにメタキシリレンジアミン13974g(102.6mol)を攪拌下に滴下し、生成する縮合水を系外へ除きながら系内を連続的に昇温した。メタキシリレンジアミンの滴下終了後、内温を260℃として40分反応を継続した。その後、系内を窒素で加圧し、ストランドダイからポリマーを取り出してこれをペレット化し、約24kgのポリアミドを得た。
(ポリアミドの固相重合)
次いで、窒素ガス導入管、真空ライン、真空ポンプ、内温測定用の熱電対を設けたジャケット付きのタンブルドライヤーに前記ポリアミドを仕込み、一定速度で回転させつつ、タンブルドライヤー内部を純度が99容量% 以上の窒素ガスで十分に置換した後、同窒素ガス気流下でタンブルドライヤーを加熱し、約150分かけてペレット温度を150℃ に昇温した。ペレット温度が150℃に達した時点で系内の圧力を1torr以下に減圧した。さらに昇温を続け、約70分かけてペレット温度を200℃まで昇温した後、200℃で30分保持した。次いで、系内に純度が99容量% 以上の窒素ガスを導入して、タンブルドライヤーを回転させたまま冷却して相対粘度が2.6のN−MXD6を得た。
得られたN−MXD6ペレット100重量部に対して、ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトール(商品名:ゲルオールMD-LM30 新日本理化製)0.4重量部をドライブレンドし、30mmφ2軸押出機により、押出温度260℃〜270℃、スクリュー回転数70rpm、フィードスクリュー回転数14rpm、引き取り速度1.2m/minで製膜し、巾300mm、厚み95〜105μmの無延伸フィルムを作製した。このフィルムの融点、半結晶化時間、酸素透過係数及び、曇値(Haze)を表1に示した。
また、同様に、厚み235〜245μmのフィルムを試作し、このフィルムを(株)東洋精機製作所製の二軸延伸装置(テンター法)を用いて、延伸温度130℃ でMD方向に4倍、TD方向に4倍延伸し、210℃で30秒熱固定した2軸延伸フィルムを得た。この2軸延伸フィルムの成形性及び酸素透過係数も表1に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにビス(p−エチルベンジリデン)ソルビトール(商品名:NC−4 三井化学製)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトール(商品名:Millad NX8000 Milliken製)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトールの添加量が0.2重量部であること以外は実施例3と同様の方法で無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトールの添加量が0.8重量部であること以外は実施例3と同様の方法で無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにビス(p−イソプロピルベンジリデン)ソルビトール(日本ファインケム製)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにビス(p−イソブチルベンジリデン)ソルビトール(日本ファインケム製)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
米国特許第3,721,682号明細書に記載の方法に準じて、2,4−ジメチルベンズアルデヒド(三菱ガス化学(株)製)とD−ソルビトールからビス(2,4−ジメチルベンジリデン)ソルビトールを調製した。ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにビス(2,4−ジメチルベンジリデン)ソルビトールを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにビス(3,4−ジメチルベンジリデン)ソルビトール(商品名:Millad 3988 Milliken製)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
米国特許第3,721,682号明細書に記載の方法に準じて、2,4,5−トリメチルベンズアルデヒド(三菱ガス化学(株)製)とD−ソルビトールからビス(2,4,5−トリメチルベンジリデン)ソルビトールを調製した。ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにこのビス(2,4,5−トリメチルベンジリデン)ソルビトールを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
米国特許第3,721,682号明細書に記載の方法に準じて、2,4,6−トリメチルベンズアルデヒド(三菱ガス化学(株)製)とD−ソルビトールからビス(2,4,6−トリメチルベンジリデン)ソルビトールを調製した。ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにこのビス(2,4,6−トリメチルベンジリデン)ソルビトールを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
米国特許第3,721,682号明細書に記載の方法に準じて、4−ビフェニルベンズアルデヒド(三菱ガス化学(株)製)とD−ソルビトールからビス(4−ビフェニルベンジリデン)ソルビトールを調製した。ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりにこのビス(4−ビフェニルベンジリデン)ソルビトールを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
実施例1と同様の方法で、イソフタル酸を6mol%共重合したN−MXD6を重合した。この共重合品100重量部に、ビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトール(商品名:Millad NX8000 Milliken製)を5重量部添加したこと以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
実施例1と同様の方法でN−MXD6を重合したもの80重量部と、非晶性ポリアミド樹脂(商品名:シーラPA 3426 三井デュポンポリケミカル製、)20重量部を、ドライブレンドし、混合樹脂を調製した。この混合樹脂100重量部に対して、0.4重量部のビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトール(商品名:Millad NX8000 Milliken製)を実施例1と同様の方法で添加した無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製した。この無延伸フィルムの半結晶化時間、酸素透過係数、及び曇値(Haze)と、2軸延伸フィルムの酸素透過係数を表2に示した。
実施例1と同様の方法で、イソフタル酸を6mol%共重合したN−MXD6を重合した。この共重合品30重量部とナイロン6(商品名:UBESTA 1024B 宇部興産製)70重量部の混合物にビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトール5重量部をブレンドしたこと以外は、実施例1と同様の方法で無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例14と同様に評価した。結果を表2に示した。
3台の押出機、フィードブロック、Tダイ、冷却ロール、巻き取り機等を備えた多層シート製造装置を用い、1台目の押出機からPP(日本ポリプロ社製、商品名;ノバテックPP、グレード名;FY6、メルトインデックス;2.3)100重量部に0.4重量部のビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトール(商品名:Millad NX8000 Milliken製)を添加したものを240℃で、2台目の押出機から接着性樹脂(三井化学社製、商品名;アドマー、グレード;QB550)を230℃で、3台目の押出機からイソフタル酸を6mol%共重合した以外は実施例1と同様の方法で重合したイソフタル酸6mol%共重合N−MXD6(ガスバリヤー層を形成)100重量部に0.4重量部のMillad NX8000を添加したものを250℃でそれぞれ押し出し、フィードブロックを介してPP層/接着性樹脂層/ガスバリヤー層/接着性樹脂層/PP層の3種5層構造の多層シートを製造した。なお各層の厚みは、425/25/80/25/425(μm)とした。次いで、プラグアシストを備えた真空圧空成形機を使用して、シート表面温度が170℃に達した時点で熱成形を行い、口径62mm×底径52mm×深さ28mm、表面積73cm2、容積70mlのカップ状容器を得た。該容器の曇値(Haze)及び酸素透過率を表3に示した。
予め150℃で4時間乾燥(除湿乾燥機使用、露点−40℃)し、水分を94ppmに調整したポリエチレンテレフタレート樹脂(Invista社製、グレード:1101E、固有粘度0.80)95重量部に対し、ポリアミドとしてMXナイロン(三菱ガス化学(株)社製、グレードS6007、水分300ppm、相対粘度2.65)5重量部をタンブラーにより混合したもの100重量部に対して、0.4重量部のビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトール(商品名:Millad NX8000 Milliken製)を添加したものを、背圧4.0MPa、スクリュー回転数150rpm、射出速度100cc/sec、樹脂温度280℃、金型温度15℃の条件にてパリソン(長さ96mm、肉厚4.0mm、外形直径22.5mm、重量27g)射出成形した(装置:(株)名機製作所製 M200PDM−MJ)。
このパリソンを、ブロー成形装置((株)フロンティア製EFB1000ET)により二軸延伸ブロー成形して、高さ223mm、同径65mm、容量500mL、平均厚さ約300μmの二軸延伸中空容器を得た。該容器の曇値(Haze)(300μmあたり)及び酸素透過率を表4に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールを添加しないこと以外は、実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりに、粉状タルク(商品名:DG−5000 松村産業製)を添加したこと以外は実施例1と同様の方法で、無延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。同様に2軸延伸フィルムを作製しようとしたが、フィルムが破断したため、OTRの測定ができなかった。結果を表1に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりに、エチレンビスステアリルアマイド(商品名:アルフローH−50T、日本油脂製)を0.1重量部添加したこと以外は実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトールの代わりに、ステアリン酸アンモニウム塩で有機化処理したモンモリロナイトを1重量部添加したこと以外は実施例1と同様の方法で、無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトールを添加しないこと以外は実施例13と同様の方法で無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示した。
ビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトールを添加しないこと以外は実施例14と同様の方法で無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例14と同様に評価した。結果を表2に示した。
ビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトールを添加しないこと以外は実施例15と同様の方法で無延伸フィルム及び2軸延伸フィルムを作製し、実施例14と同様に評価した。結果を表2に示した。
ビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトールをイソフタル酸共重合N−MXD6に添加しないこと以外は、実施例16と同様の方法でカップ状容器を得た。該容器の曇値(Haze)及び酸素透過率を表3に示した。
ビス(N−プロピルベンジリデン)ソルビトールを添加しないこと以外は、実施例17と同様の方法でポリエチレンテレフタレートとN−MXD6とのブレンド二軸延伸中空容器を得た。該容器の曇値(Haze)(300μmあたり)及び酸素透過率を表4に示した。
Claims (4)
- キシリレンジアミン又はビス(アミノメチル)シクロヘキサンを70モル%以上含むジアミン成分と、炭素数4〜20の脂肪族ジカルボン酸を70モル%以上含むジカルボン酸成分から形成されるポリアミド(X)100重量部に対して、ビス(ベンジリデン)ソルビトール(A)としてビス(アルキルベンジリデン)ソルビトールから選ばれる1種以上を0.005〜5重量部添加した樹脂組成物であって、
前記ビス(アルキルベンジリデン)ソルビトールから選ばれる1種以上のものが、ビス(p−メチルベンジリデン)ソルビトール、ビス(p−エチルベンジリデン)ソルビトール、ビス(n−プロピルベンジリデン)ソルビトール、ビス(p−イソプロピルベンジリデン)ソルビトール、ビス(p−イソブチルベンジリデン)ソルビトール、ビス(2,4−ジメチルベンジリデン)ソルビトール、ビス(3,4−ジメチルベンジリデン)ソルビトール、ビス(2,4,5−トリメチルベンジリデン)ソルビトール、ビス(2,4,6−トリメチルベンジリデン)ソルビトールから選ばれる1種以上のものである、樹脂組成物。 - 更にポリアミド(X)以外のポリアミドを含む請求項1に記載の樹脂組成物。
- 更にポリエステルを含む請求項1または2に記載の樹脂組成物。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂組成物を用いた成形体。
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