JP5638191B2 - 化成処理金属板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
(1) 金属板上に、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出により形成される表面処理層と、Zr、TiおよびSiからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含む無機系表面処理剤を、前記表面処理層上に塗布して形成される無機皮膜層とをこの順で備える化成表面金属板であって、
前記無機皮膜層中の元素(Y)の単位面積当りの元素付着合計量が5〜1000mg/m2である、化成表面金属板。
(2) 前記金属板が、亜鉛系めっき鋼板である、(1)に記載の化成処理金属板。
(3) 前記無機皮膜層が、Zrを含有する化合物を少なくとも一種含む無機系表面処理剤を、前記表面処理層上に塗布して形成され、ジルコニウム元素と酸素元素とを主構成成分とする無機皮膜層である(1)または(2)に記載の化成処理金属板。
(4) 前記無機系表面処理剤が、さらに、V、Mo、Ce、WおよびMnからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属元素を含有する化合物(A)を含有する、(1)〜(3)のいずれかに記載の化成処理金属板。
(5) 前記無機皮膜層中の前記元素(Y)の単位面積当りの元素付着合計量(CY)と、前記無機皮膜層中の前記化合物(A)に含まれる金属元素の単位面積当りの元素付着合計量(CA)との質量比(CA/CY)が0.05〜1.00である、(4)に記載の化成処理金属板。
(6) 前記無機系表面処理剤が、さらに、水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、第1〜3級アミノ基、アミド基、リン酸基およびホスホン酸基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する有機化合物(B)を含有する、(1)〜(5)のいずれかに記載の化成処理金属板。
(7) Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)含む化合物(d)を含有する処理液を用いて、自己析出および/または電解析出により、金属板の表面上に表面処理層を形成する表面処理層形成工程と、
前記表面処理層形成工程後、Zr、TiおよびSiからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含む無機系表面処理剤を前記表面処理層上に塗布して、無機皮膜層を形成する無機皮膜層形成工程と、を備える化成処理金属板の製造方法。
(8) 前記金属板が、亜鉛系めっき鋼板である、(7)に記載の化成処理金属板の製造方法。
図1は、本発明の化成処理金属板の一実施形態の模式的断面図である。
同図に示す化成処理金属板10は、金属板12、表面処理層14、無機皮膜層16をこの順で積層した積層構造を有する。
表面処理層14は、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出により形成された層である。
無機皮膜層16は、Zr、TiおよびSiからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含む無機系表面処理剤を、表面処理層上に塗布して形成される層であり、無機皮膜層中の元素(Y)の単位面積当りの元素付着合計量が5〜1000mg/m2である。
図1において、金属板12、表面処理層14、無機皮膜層16の層厚は該図によっては限定されない。また、図1では、金属板12の一方の表面上にのみ、表面処理層14と無機皮膜層16とが積層されているが、図2に示すように金属板12の両面に表面処理層14および無機皮膜層16を有していてもよい。
まず、化成処理金属板10を構成する、金属板12および各層について説明する。
本発明において適用可能な金属板12は、後述する表面処理層14、無機皮膜層16の各層を積層し、かつ支持するためのものである。
金属板12を構成する金属材料としては、特に限定されないが、例えば、鉄、鉄基合金、アルミニウム、アルミニウム基合金、銅、銅基合金などが挙げられ、任意の金属板上にめっきしためっき金属板を使用することもできる。なかでも、本発明において、亜鉛系めっき鋼板を好適に用いることができる。亜鉛系めっき鋼板としては、亜鉛めっき鋼板、亜鉛−ニッケルめっき鋼板、亜鉛−鉄めっき鋼板、亜鉛−クロムめっき鋼板、亜鉛−アルミニウムめっき鋼板、亜鉛−チタンめっき鋼板、亜鉛−マグネシウムめっき鋼板、亜鉛−マンガンめっき鋼板、亜鉛−アルミニウム−マグネシウムめっき鋼板、亜鉛−アルミニウム−マグネシウム−シリコンめっき鋼板などの亜鉛系めっき鋼板が挙げられる。
さらには、これらのめっき層に少量の異種金属元素または不純物として、コバルト、モリブデン、タングステン、ニッケル、チタン、クロム、アルミニウム、マンガン、鉄、マグネシウム、鉛、ビスマス、アンチモン、錫、銅、カドミウム、ヒ素などを含有したもの、シリカ、アルミナ、チタニア等の無機物を分散させたものが挙げられる。さらには、以上のめっきと他の種類のめっき、例えば、鉄めっき、鉄−りんめっき、ニッケルめっき、コバルトめっきなどと組み合わせた複層めっきにも適用可能である。
めっき方法は特に限定されるものではなく、公知の電気めっき法、溶融めっき法、蒸着めっき法、分散めっき法、真空めっき法などのいずれの方法でもよい。
また、金属板12の大きさや厚さも特に制限されない。
本発明の化成処理金属板10における表面処理層14は、上述した金属板12の上に積層され、主に耐食性を付与する。また、表面処理層14は一度形成されると酸やアルカリに侵されず、曲げ加工に追従し、優れた被覆性を付与するものである。
表面処理層14は、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出により形成された層である。
なお、金属元素(X)の付着量は、蛍光X線分析装置(XRF)によって測定することができる。
なお、表面処理層14は自己析出および/または電解析出により形成される層であり、その製造方法については後述する。
本発明の化成処理金属板10における無機皮膜層16は、上述した表面処理層14の上に積層され、主に、腐食要因の物理的および時間的遮断能を付与するものである。
無機皮膜層16は、Zr(ジルコニウム元素)、Ti(チタン元素)およびSi(ケイ素元素)からなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含む無機系表面処理剤を、表面処理層上に塗布して形成される層であり、無機皮膜層中の元素(Y)の単位面積当りの元素付着合計量が5〜1000mg/m2である。
元素(Y)のなかでも、得られる化成処理金属板の諸性能がより優れる点で、Zr、Siが好ましく、Zrがより好ましい。
なお、元素(Y)の付着量は、蛍光X線分析装置(XRF)によって測定することができる。
なかでも、上述の元素(Y)の単位面積当りの元素付着合計量(CY)と、化合物(A)由来の金属元素の単位面積当りの元素付着合計量(CA)との質量比(CA/CY)が、0.05〜1.00であることが好ましく、0.05〜0.8がより好ましく、0.05〜0.7がさらに好ましい。質量比が上記範囲内であると、バリア性がより優れると共に、化合物(A)由来のインヒビター効果により、さらに優れた耐食性を示す。化合物(A)としては、Vを含有するものがより好ましい。
本発明の化成処理金属板10の皮膜(表面処理層14、無機皮膜層16)には、発明の効果を損なわない範囲で、添加剤を含有させることができる。
例えば、被塗面に均一な皮膜を形成させるための濡れ性向上剤と呼ばれる界面活性剤や、増粘剤、導電性向上剤、意匠性向上のための着色顔料、造膜性向上のための造膜助剤などを含有させることできる。また、潤滑性付与剤として、ポリエチレンワックス、パラフィンワックスなどの有機潤滑剤や、黒鉛、雲母、二硫化モリブデンなどの固体潤滑剤なども配合できる。
これらの官能基を有する化合物としては、特に限定されないが、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類などのC=O基含有化合物、ベンゼンおよびその誘導体、ナフタレンおよびその誘導体、アクリル酸およびメタクリル酸およびその誘導体、アルキルカルボン酸エステル、アルキルアルデヒドなどのC=C基含有化合物、アセチレンアルコールやアセチレン誘導体などのC≡C基含有化合物、アジン、トリアジン、オサゾン染料、トリフェニルメタン染料、クニジン、ピリミジン、ピラゾール、イミダゾール、ピリジニウムおよびキノリニウム化合物などのC=N基含有化合物、エチレンシアンヒドリンなどのC≡N含有化合物、ヒドラジン化合物およびその誘導体などのN−N基含有化合物、アゾ染料などのN=N基含有化合物、スルホン酸、スルフォネート、スルフォアミド、チオ尿素および環状チオ尿素などのS元素含有化合物、などが挙げられる。
本発明の化成処理皮膜の製造方法は、特に限定されないが、主に以下の工程を備える製造方法が好ましい。
(1)Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)含有する処理液を用いて、自己析出および/または電解析出により、金属板の表面上に表面処理層を形成する表面処理層形成工程
(2)表面処理層形成工程後、Zr、TiおよびSiからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含む無機系表面処理剤を表面処理層上に塗布して、無機皮膜層を形成する無機皮膜層形成工程
以下にそれぞれの工程について、使用する材料とともに詳細に説明する。
使用される金属板は、必要に応じて、後述する表面処理層形成工程前に、その表面を洗浄してもよい。この洗浄により、金属板の表面に付着した油分、汚れが取り除かれる。洗浄方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。例えば、脱脂剤や酸性脱脂剤で洗浄する方法、湯洗や溶剤洗浄が挙げられる。
また、金属板の表面を洗浄する前および/または後に、酸、アルカリなどによる表面調整を行ってもよい。このような処理を施すことにより、金属板の表面に形成される表面処理層と金属板との密着性が向上する。さらには、表面処理層の時間当たりの形成(析出)効率が向上する。
なお、上述した金属板の表面の洗浄および/または表面調整を行った後は、洗浄剤などが金属板の表面に残留しないように、さらに水洗いすることが好ましい。
本発明の表面処理層形成工程は、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)含有する処理液を用いて、自己析出および/または電解析出により、金属板の表面上に表面処理層を形成する工程である。この工程によって、上述した所定量の金属元素(X)を含有する表面処理層14が形成される。
表面処理層形成工程では、自己析出反応(態様1)および/または電解析出反応(態様2)によって金属元素(X)を含有する表面処理層が形成される。
以下に、それぞれの反応態様について説明する。
自己析出反応においては、電解処理などの外部からの処理を必要とせず、所定の処理液と金属板とを接触させるだけで、金属板上に表面処理層が形成される。
使用される処理液としては、少なくとも1種のZr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)と、フッ化水素酸、硝酸、硫酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも1つの酸成分(e)とを含有することが好ましい。金属元素(X)を含む化合物(d)は、表面処理層の主成分として作用する。また、酸成分(e)は、金属元素(X)を含む化合物(d)を溶解させ、金属素材表面をエッチングし、自己析出反応の起点となる、などの効果を発揮する。
なかでも、少なくとも1種のZr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)およびフッ素元素を含む処理液が好ましい。
化合物(d)としては、例えば、硝酸ジルコニル、酢酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、炭酸ジルコニウムアンモニウム、ジルコンフッ化水素酸、硫酸チタニル、乳酸とチタニウムアルコキシドとの反応物、チタンラウレート、チタンフッ化水素酸、乳酸ハフニウム、硝酸ハフニウム、フッ化ハフニウム、ハフニウムフッ化水素酸などが挙げられ、なかでもジルコンフッ化水素酸、チタンフッ化水素酸、ハフニウムフッ化水素酸などが好ましい。
なかでも、処理液中における酸成分(e)の含有量(濃度)は、0.005〜20g/Lであることが好ましく、0.02〜10g/Lであることがより好ましい。0.005g/L以上であると、金属板の表面に対する十分なエッチング能を期待できる。20g/L以下であると、エッチング能力が適切となり、均一な表面処理層を析出させることができる。
化合物(f)としては、例えば、過マンガン酸、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム、硝酸マンガン、硫酸マンガン、フッ化マンガン、炭酸マンガン、酢酸マンガン、硝酸マグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、硫酸マグネシウム、酢酸マグネシウム、硝酸アルミニウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、酢酸セリウム(III)、酢酸セリウム(IV)、硝酸セリウム(III)、硝酸セリウム(IV)、塩化ニッケル、硫酸ニッケル、硝酸ニッケル、フッ化ニッケル、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、塩化コバルト、硫酸コバルト、硝酸コバルト、フッ化コバルト、酸化コバルト、水酸化コバルト、塩化銀、硫酸銀、硝酸銀、フッ化銀、酸化銀、水酸化銀、塩化亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛、フッ化亜鉛、酸化亜鉛、水酸化亜鉛などが挙げられる。
式(1) pH≦−0.02×(F/D)+6
処理液がこれらの条件をすべて満たすときに、極めて短時間で、諸性能の優れた皮膜を形成できる。
また、この自己析出用(態様1)の処理液のpHは、酸成分(e)の含有量およびアルカリ性物質の添加によって調整することができる。このアルカリ性物質は限定されず、処理液の性能を大きく劣化させずにpHを調整することができるものであればよい。このようなアルカリ性物質として、アンモニア、炭酸ナトリウム、有機アミン類(ジエタノールアミン、トリエチルアミン等)、無機水酸化物(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)を好ましく例示することができる。
自己析出反応における、上記処理液と金属板との接触方法としては、特に限定されず、スプレー塗布法、ロール塗布法、浸漬法など公知の方法を使用することができる。なかでも、スプレー塗布法が好ましい。
接触条件(接触時間、処理液温度など)は、使用される処理液の種類により適宜最適な条件が選択される。なかでも、0.5〜20秒間であることが好ましく、1〜10秒間であることがより好ましい。この接触時間が短すぎると、処理液と金属板の表面が十分に反応せず、耐食性の優れた表面処理層が得られない場合がある。また、この接触時間が長すぎると、得られる表面処理層の性能向上は見られないうえ、ラインにおける操業効率の点からも好ましくない。
電解析出反応においては、所定の処理液をカソードとした金属板と接触させ、アノードとの間で通電することで、金属板表面上に表面処理層が形成される。
電解析出において使用される処理液としては、少なくとも1種のZr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)と、フッ化水素酸、硝酸、硫酸、りん酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも1つである酸成分(g)とを含有することが好ましい。化合物(d)は、表面処理層の主成分の供給源として作用する。酸成分(g)は、化合物(d)を溶解させる、処理液の導電性を上げる、などの効果を発揮する。
なかでも、少なくとも1種のZr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)およびフッ素元素を含む処理液が好ましい。
処理液中における金属元素(X)を含む化合物(d)の含有量(濃度)は、使用される金属板などの種類によって適宜最適な量が選択される。好ましい含有量は、上述した自己析出の際に使用される処理液中の金属元素(X)の含有量と同じである。
処理液中における酸成分(g)の合計含有量(濃度)は、5〜30g/Lであることが好ましく、10〜25g/Lであることがより好ましい。5g/L以上であると、金属板の表面に対する十分なエッチング能を期待できる。30g/L以下であると、エッチング能力が適切となり、均一な表面処理層を析出させることができる。
電解析出の方法としては、特に限定されず、公知の電解法を適用することができる。
電解条件においては、対極(陽極)としてステンレスかPb系合金を用い、温度を常温〜40℃、電流密度を0.5〜30A/dm2(より好ましくは、1〜10A/dm2)とすることが好ましい。
電解時間は、目的とする化合物(d)に含まれる金属元素(X)の必要量に応じて設定されるが、この電解処理により形成される表面処理層14中での金属元素(X)の合計付着量が2〜50mg/m2となるためには、例えば、3A/dm2の電流密度で0.5〜3秒間程度処理することが好ましい。
表面処理層形成工程の後に、必要に応じて、表面処理層を有する金属板を水洗いし、乾燥する工程(洗浄工程)を実施してもよい。
水洗の方法は特定に限定されないが、例えば公知の浸漬法、およびスプレー法により行うことができる。水洗温度(水洗水の温度)は特に限定されず通常適用される温度でよいが、5〜60℃であることが好ましく、15〜40℃であることがより好ましい。このような温度であると、洗浄効率がより高まる。
水洗に使用する水洗水は、ドレン水、工業用水、市水、または脱イオン水を好適に用いることができる。
また、洗浄時間も特に限定されないが、例えば、浸漬法またはスプレー法の場合は、0.1〜10秒であることが好ましく、1〜5秒であることがより好ましい。水洗時間が短すぎると、表面処理層の表面に残存する余剰の処理液成分の除去が十分に行われず、耐食性に優れた表面処理層を得られないことがある。また、水洗時間が長すぎても、得られる表面処理層の性能向上は見られないうえ、ラインにおける操業効率の点からも好ましくない。
本発明の無機皮膜層形成工程は、表面処理層形成工程後、Zr(ジルコニウム元素)、Ti(チタン元素)およびSi(ケイ素元素)からなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含む無機系表面処理剤を表面処理層上に塗布して、無機皮膜層を形成する工程である。
なお、無機系表面処理剤の構成成分としては、Zr、Ti、およびSiの少なくとも1つの元素を含み、実質的にフッ素元素を含まないことが好ましい。
Tiを含有する化合物としては、例えば、酸化チタン、硫酸チタニル、チタンラクテート、ジイソプロポキシチタニウムビスアセチルアセトン、乳酸とチタニウムアルコキシドとの反応物などが好ましく挙げられる。
Siを含有する化合物としては、コロイダルシリカや気相シリカなどのシリカ、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、モノメチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシランなどのアルコキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、および2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、および3−アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのメルカプトシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどのイソシアネートシラン、ビニルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシランなどのビニル基含有シランなどが好ましく挙げられる。
無機系表面処理剤は、さらに、V、Mo、Ce、WおよびMnからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属元素を含有する化合物(A)を含有することが好ましい。これらの成分は、無機皮膜層による耐食性の底上げに効果がある。
有機化合物(B)としては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール等のアルコール類、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、フルフラール、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル、ジピバロイルメタン、3−メチルペンタンジオン等のカルボニル化合物、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酒石酸、アスコルビン酸、グルコン酸、クエン酸、リンゴ酸等の有機酸、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ピリジン、イミダゾール、ピロール、モルホリン、ピペラジン等のアミン化合物、ホルムアミド、アセトアミド、プロピオンアミド、N−メチルプロピオンアミド等の酸アミド化合物、グリシン、アラニン、プロリン、グルタミン酸等のアミノ酸類、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、1−ヒドロキシエチリデン−1,1´−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、フィチン酸等の有機リン酸、グルコース、マンノース、ガラクトース等の単糖類、麦芽糖、ショ糖等のオリゴ糖類、デンプン、セルロース等の天然多糖類、タンニン酸、フミン酸、リグニンスルホン酸、ポリフェノール等の芳香族化合物、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、水溶性ナイロン等の合成高分子等が挙げられる。これらの有機化合物の中で、上記官能基から選ばれる少なくとも1種を1分子内に2個以上含む有機化合物が好ましく、さらには上記官能基として水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、リン酸基およびホスホン酸基から選ばれる少なくとも1種を1分子内に2個以上含む有機化合物がより好ましい。
無機皮膜層は、上述した表面処理層形成工程後、Zr、TiおよびSiからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含む無機系表面処理剤を表面処理層上に塗布し、必要に応じて乾燥して、形成される。
塗布の方法としては、特に制限されず、スピンコーティング法、ロールコート法、浸漬法、スプレー塗布法、などが挙げられる。
塗膜を形成後、必要に応じて、塗膜を水洗してもよい。
工業的実用的皮膜形成のために、塗布後の塗膜を加熱乾燥することが好ましい。この場合、乾燥温度は、到達板温として30〜300℃が好ましく、40〜250℃がより好ましく、60〜200℃が特に好ましい。乾燥時間に関しては、到達板温が上記条件を満たしていれば特に制限されない。
本発明の化成処理金属板は、上述のように金属板上に表面処理層と無機皮膜層とが積層した構造を備える。このような構成の化成処理金属板は、優れた耐食性、塗膜密着性、サイクル耐食性、耐熱性を示す。このような種々の特性をバランスよく備える金属板は、従来提供されておらず、本発明の化成処理金属板は種々の用途に適用することができる。例えば、家電、建材、自動車用鋼板などが挙げられる。
樹脂としては、水系、溶剤系、粉体系などのいずれの形態のものでもよい。
着色顔料としては、酸化チタンやカーボンブラックなどの無機顔料や、アゾ系顔料といった有機顔料など公知の着色顔料を用いることができる。
防錆顔料としては、ストロンチウムクロメート、ジンクロメートなどのクロメート系防錆顔料、りん酸亜鉛などのりん酸系防錆顔料、モリブデン酸カルシウムなどのモリブデン酸系防錆顔料、水分散性シリカなどの微粒シリカなども用いることができる。
ただし、クロメート系防錆顔料は環境上有毒であるため使用しないことが望ましい。
また、消泡剤、分散補助剤、または、塗料粘度を下げるための希釈剤などの添加剤を適宜配合してもよい。
また、ここでトップコート塗料としては、特に限定されず、公知の塗装用トップコートを使用することができる。例えば、樹脂を含有し、必要に応じてさらに着色顔料や防錆顔料などを含有することができる。樹脂、着色顔料および防錆顔料、ならびに添加物としては、上記プライマーで使用したものと同様のものを用いることができる。
本発明では、金属板上に自己析出および/または電解処理によりZrやTiなどを含有する表面処理層が形成される。耐食性は、主にこの表面処理層が金属板材料表面に緻密に被覆することにより発現すると考えられる。この表面処理層は、酸やアルカリにも侵されず、曲げ加工にも追従し、優れた被覆性を有するが、極めて薄い被膜であるため腐食要因の物理的および時間的遮断能、いわゆるバリア性に関しては十分ではない。バリア性を付与するために表面処理層を厚くすると、表面が疎な表面処理層になるだけでなく、表面処理層内での凝集破壊による剥離などが生じやすくなる。このような性質を有する表面処理層に、上層として無機皮膜層を形成する複層処理を施すことにより、表面処理層にバリア性を付与できる。
一方で、表面処理層と無機皮膜層との層間密着が、樹脂層を使用する場合と比較して非常に強固となる。その理由としては、まず、無機皮膜層を構成する金属元素が、上述の表面処理層を構成する金属元素と同一のZrおよびTi、または、Zrと化学的性質が酷似したSiであり、表面処理層と無機皮膜層との膜の物理的性質が類似しているためと推測される。さらには、表面処理層と無機皮膜層とが共に、ZrやTiのオキソ結合やオール結合などによる高分子化成膜を主としているため、表面処理層と無機皮膜層との間で水素結合、共有結合が形成されやすいためと推測される。
このような特徴を有する無機系表面処理剤を用いることにより本発明の化成処理金属板が、従来の樹脂系表面処理金属板では得られなかった性能バランスを有するものと推測される。
特に、サイクル耐食性に関しては、本発明者らが検討を行ったところ、表面処理層または無機皮膜層の単層構造では十分な性能が出ないことが見出された。つまり、本発明に記載される表面処理層と無機皮膜層との積層構造をとることによって、初めて発揮される効果といえる。
以下の表1に示した市販の素材を用いた。
なお、表1中、「態様1」とは自己析出により表面処理を形成するために使用する鋼板をさし、「態様2」とは電解析出により表面処理を形成するために使用する鋼板をさす。
上記の試験素材の表面(両面)を、水酸化ナトリウム系脱脂剤ファインクリーナーL4460(登録商標:日本パーカライジング株式会社製)を用いて処理し、表面に付着しているゴミや油を除去した。処理条件は、取扱説明書記載の標準濃度、温度40℃の条件で30秒スプレー処理した。処理後、試験素材を純水で30秒間水洗し、乾燥したものを試験板とした。
脱脂処理を行った表1に示す試験板(態様1)を、以下の表2に示す処理液(溶媒:水)および処理液条件にて処理し、表3に示す表面処理層を有する試験板を得た。なお、処理液の使用温度は50〜60℃とし、スプレー処理にて試験板と接触させた。また、処理時間は2秒〜10秒の間で、以下の表3に示す金属元素(X)付着量が得られるまで処理した。
なお、ESCA測定より、表面処理層は主に金属元素(X)(ジルコニウム元素、チタン元素、またはハフニウム元素)およびフッ素元素より構成されることがわかった。
また、表2中の濃度(D)は、金属元素(X)の質量濃度を表し、濃度(F)は使用される各金属の質量濃度を表す。
また、表2中、「式(1)」とは上述した式(1):pH≦−0.02×(F/D)+6を表し、各処理液のpHが式(1)の関係を満足する場合を「成立可否:○」とする。
脱脂処理を行った表1に示す試験板(態様1)を、表4に示す処理液(溶媒:水)および処理液条件にて処理し、表面処理層を有する試験板を得た。処理液の使用温度は50〜60℃とし、試験板を陰極、SUS304製の薄板を陽極として、所定の処理液に浸漬すると同時に、所定量の電流を試験板に通電した。処理時間は2秒〜10秒の間で、表5に示す金属元素(X)付着量が得られるまでとした。
ESCA測定より、Q1〜Q9、およびQ11での表面処理層は主に金属元素(X)(ジルコニウム元素、チタン元素、またはハフニウム元素)およびフッ素元素より構成されることが確認された。また、Q10での表面処理層は、主にジルコニウム元素および酸素元素より構成されることが確認された。なお、表4中の濃度(D)は、金属元素(X)の質量濃度を表す。
以下の比較例(R1〜R3)の処理を実施した。なお、試験板としては、電気亜鉛めっき鋼板(EG)を使用した。
R1:表面処理層無し
R2:反応型クロメート処理
R3:りん酸亜鉛処理
なお、反応型クロメート処理(R2)は、ジンクロム3367(登録商標:日本パーカライジング株式会社製)を用い、取扱説明書に則ってCr付着量で15mg/m2となるように処理した。
また、りん酸亜鉛処理(R3)は、パルボンド3305(登録商標:日本パーカライジング株式会社製)を用い、取扱説明書に則ってクロム酸剥離法による皮膜量が1.0g/m2になるように処理した。
上記の(3−1)〜(3−3)で作製した試験板上に、下記の(S1)〜(S5)で表される無機系表面処理剤、または(S6)で表される比較例用処理剤をバーコーターで塗布し、表面処理層上に無機皮膜層を形成した。
なお、無機皮膜層は、塗布後に到達板温度が150℃になるように焼付けた。
また、ESCA測定より、(S1)〜(S5)で表される無機系表面処理剤を用いて得られる無機皮膜層は、主に元素(Y)(ジルコニウム元素、またはケイ素元素)および酸素元素より構成されることが確認された。
(S1):
炭酸ジルコニウムアンモニウムを固形分が10質量%になるように、純水で希釈して、処理剤を調整した。なお、処理剤のpHは9.5に調整した。
(S2):
上記の無機系表面処理剤(S1)に、メタバナジン酸アンモンを固形分に対して3質量%となるように添加した。なお、処理後の無機皮膜層中の(CA/CY)は、0.09であった。なお、処理剤のpHは9.5に調整した。
(S3):
上記の無機系表面処理剤(S1)にメタバナジン酸アンモンと1−ヒドロキシエチリデン−1,1´−ジホスホン酸とを、それぞれ固形分に対して3質量%、2質量%となるように添加した。なお、処理後の無機皮膜層中の(CA/CY)は、0.09であった。なお、処理剤のpHは9.5に調整した。
(S4):
コロイダルシリカ(日産化学製 スノーテックスUP)を固形分が10質量%になるように、純水で希釈して、処理剤を調整した。なお、処理剤のpHは9.5に調整した。
(S5):
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(2モル)と、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(1モル)をエタノール中(100mL)で反応させ、その後純水と混合し、固形分が10質量%になるように調整した。なお、処理剤のpHは4.5に調整した。
(S6):
ウレタン樹脂(HYDRAN HW−340 株式会社DIC製)に純水を加えて、全固形分が20質量%になるように調整した。
なお、表面処理層中の金属元素(X)の付着量と、無機皮膜層中の元素(Y)の単位面積当たりのZr付着量またはSi付着量を蛍光X線によって測定した。
(5−1)環境負荷性
上記の方法で得られた各化成処理金属板について、以下の判断基準に基づき、金属板中に含有される成分より環境負荷性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
○:クロムを含有しない
×:クロムを含有する
得られた各化成処理金属板に対して、JIS−Z2371に規定された塩水噴霧試験を240時間実施した。次に、白錆発生面積率を目視で測定し評価を行った。ここで白錆発生面積率とは、観察部位の面積(7cm×15cm)に対する白錆発生部位の面積の百分率である。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:白錆発生面積率5%未満
○:白錆発生面積率5%以上、10%未満
△:白錆発生面積率10%以上、50%未満
×:白錆発生面積率50%以上
得られた各化成処理金属板に対して、ファインクリーナーL4460(標準建浴:A剤20g/l、B剤12g/L、温度60℃、2分浸漬後水洗)にて脱脂を行い、JIS−Z2371に規定された塩水噴霧試験を120時間実施した。次に、白錆発生面積率を目視で測定し評価を行った。ここで白錆発生面積率とは、観察部位の面積(7cm×15cm)に対する白錆発生部位の面積の百分率である。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:白錆発生面積率5%未満
○:白錆発生面積率5%以上、10%未満
△:白錆発生面積率10%以上、50%未満
×:白錆発生面積率50%以上
得られた各化成処理金属板に対して、エリクセン試験機にて7mm押出し加工を行い、JIS−Z2371に規定された塩水噴霧試験を120時間実施した。次に、白錆発生面積率を目視で測定し評価を行った。ここで白錆発生面積率とは、観察部位の面積に対する白錆発生部位の面積の百分率である。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:白錆発生面積率5%未満
○:白錆発生面積率5%以上、10%未満
△:白錆発生面積率10%以上、50%未満
×:白錆発生面積率50%以上
塗料(関西ペイント株式会社製アミラック#1000(白塗料))を用いて、得られた各化成処理金属板上に塗装処理を行った。塗装はバーコート塗布で行い、塗装後、140℃で20分間焼付けを行い、乾燥後膜厚で25μmの皮膜を形成した。
次に、各塗装後金属板に対して、1mm角、100個の碁盤目をNTカッターで切り入れ、これをエリクセン試験機で5mm押し出した後、この押し出し凸部に粘着テープによる剥離テストを行い、塗膜剥離個数にて評価した。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:剥離なし
○:剥離個数1個以上、10個未満
△:剥離個数11個以上、50個未満
×:剥離個数51個以上
得られた各化成処理金属板に対して、JASO−M602に規定されたサイクル耐食試験を100サイクル実施した。次に、白錆発生面積率を目視で測定し評価を行った。ここで白錆発生面積率とは、観察部位の面積(7cm×15cm)に対する白錆発生部位の面積の百分率である。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:白錆発生面積率10%未満
○:白錆発生面積率10%以上、20%未満
△:白錆発生面積率20%以上、50%未満
×:白錆発生面積率50%以上
得られた各化成処理金属板に対して、250℃のオーブンにて2時間加熱処理を実施し、その外観を評価した。具体的には、色差計(日本電色工業株式会社製、color meter ZE2000)を用いて、色差(ΔE)より評価した。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:ΔEが1.5未満
○:ΔEが1.5以上、3.0未満
△:ΔEが3.0以上、5.0未満
×:ΔEが5.0以上
比較例においては、比較例6のクロメート処理が本発明の化成処理金属板と同等程度の特性を示したが、クロムを含有する点で、環境負荷性に劣っていた。また、無機皮膜層の代わりに、樹脂系皮膜を使用した比較例2〜4と比較しても、本発明の化成処理金属板は極めて良好な性能バランスを有していることがわかった。
また、表面処理層単層を有する比較例1と無機皮膜層単層を有する比較例5においては、良好なサイクル耐食性が得られなかった。
12 金属板
14 表面処理層
16 無機皮膜層
Claims (8)
- 金属板上に、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出により形成される表面処理層と、Zr、TiおよびSiからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含み、さらに水を含む無機系表面処理剤を、前記表面処理層上に塗布して、到達板温が30〜300℃になるように加熱乾燥して形成される無機皮膜層とをこの順で備える化成表面金属板であって、
前記無機皮膜層中の元素(Y)の単位面積当りの元素付着合計量が190〜1000mg/m2である、化成表面金属板。 - 前記金属板が、亜鉛系めっき鋼板である、請求項1に記載の化成処理金属板。
- 前記無機皮膜層が、Zrを含有する化合物を少なくとも一種含む無機系表面処理剤を、前記表面処理層上に塗布して形成され、ジルコニウム元素と酸素元素とを主構成成分とする無機皮膜層である請求項1または2に記載の化成処理金属板。
- 前記無機系表面処理剤が、さらに、V、Mo、Ce、WおよびMnからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属元素を含有する化合物(A)を含有する、請求項1〜3のいずれかに記載の化成処理金属板。
- 前記無機皮膜層中の前記元素(Y)の単位面積当りの元素付着合計量(CY)と、前記無機皮膜層中の前記化合物(A)に含まれる金属元素の単位面積当りの元素付着合計量(CA)との質量比(CA/CY)が0.05〜1.00である、請求項4に記載の化成処理金属板。
- 前記無機系表面処理剤が、さらに、水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、第1〜3級アミノ基、アミド基、リン酸基およびホスホン酸基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する有機化合物(B)を含有する、請求項1〜5のいずれかに記載の化成処理金属板。
- Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)を含有する処理液を用いて、自己析出および/または電解析出により、金属板の表面上に表面処理層を形成する表面処理層形成工程と、
前記表面処理層形成工程後、Zr、TiおよびSiからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素(Y)を含有する化合物を少なくとも1種含み、さらに水を含む無機系表面処理剤を前記表面処理層上に塗布して、到達板温が30〜300℃になるように加熱乾燥して、前記元素(Y)の単位面積当りの元素付着合計量が190〜1000mg/m2である無機皮膜層を形成する無機皮膜層形成工程と、を備える化成処理金属板の製造方法。 - 前記金属板が、亜鉛系めっき鋼板である、請求項7に記載の化成処理金属板の製造方法。
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