JP5661238B2 - 表面処理亜鉛系めっき鋼板 - Google Patents
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- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 title description 43
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 title description 43
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 115
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 90
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 88
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 88
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 87
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 81
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 76
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 70
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 69
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 description 64
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 57
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 57
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 53
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 49
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 description 47
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 46
- 239000010408 film Substances 0.000 description 44
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 42
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 42
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 36
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 33
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 33
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 33
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 30
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 29
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 28
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 26
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 24
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 24
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 23
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 22
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 20
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 20
- 241001163841 Albugo ipomoeae-panduratae Species 0.000 description 19
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 19
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 18
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 18
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 17
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 15
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 15
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 8
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 8
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 8
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 6
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 4
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 4
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 4
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 239000013527 degreasing agent Substances 0.000 description 3
- 238000005237 degreasing agent Methods 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- YQDTZZSMPWCRNH-UHFFFAOYSA-N hafnium hydrofluoride Chemical compound F.[Hf] YQDTZZSMPWCRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 3
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 3
- BFDQRLXGNLZULX-UHFFFAOYSA-N titanium hydrofluoride Chemical compound F.[Ti] BFDQRLXGNLZULX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H zinc phosphate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 3
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002211 L-ascorbic acid Substances 0.000 description 2
- 235000000069 L-ascorbic acid Nutrition 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004264 Petrolatum Substances 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 2
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009388 chemical precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.O[Cr](O)(=O)=O WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 description 2
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 229940066842 petrolatum Drugs 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 2
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L zinc fluoride Chemical compound F[Zn]F BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Zn+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MFWFDRBPQDXFRC-LNTINUHCSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;vanadium Chemical compound [V].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O MFWFDRBPQDXFRC-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWIAAIUASRVOIA-UHFFFAOYSA-N 2-aminonaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(N)=CC=C21 GWIAAIUASRVOIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJJIBYYAHJOUMY-UHFFFAOYSA-N 2-aminopropane-1-thiol Chemical compound CC(N)CS DJJIBYYAHJOUMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-(4-chlorophenyl)-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(CN)C1=CC=C(Cl)C=C1 JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGYTJNNHPZFKR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropanenitrile Chemical compound OCCC#N WSGYTJNNHPZFKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQPAGWSPXCBGS-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylsilylpropane-1-thiol Chemical compound SCCC[SiH2]S VXQPAGWSPXCBGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFLUYMXTEHNVBB-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylsulfanylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)SCCCS OFLUYMXTEHNVBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical class C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] Chemical compound C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910021503 Cobalt(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021583 Cobalt(III) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- 229910021569 Manganese fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N Propanolamine Chemical compound NCCCO WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021551 Vanadium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021542 Vanadium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000611 Zinc aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOKSMMGULAYSTD-UHFFFAOYSA-N [SiH4].N=C=O Chemical compound [SiH4].N=C=O NOKSMMGULAYSTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000000475 acetylene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M acetyloxyaluminum;dihydrate Chemical compound O.O.CC(=O)O[Al] HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N alumane;zinc Chemical compound [AlH3].[Zn] HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229940009827 aluminum acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N anhydrous guanidine Natural products NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- BIOOACNPATUQFW-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Ca+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O BIOOACNPATUQFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K cerium(3+);triacetate Chemical compound [Ce+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIQQDCNENMVPX-UHFFFAOYSA-J cerium(4+);tetraacetate Chemical compound [Ce+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O RSIQQDCNENMVPX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LQCIDLXXSFUYSA-UHFFFAOYSA-N cerium(4+);tetranitrate Chemical compound [Ce+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O LQCIDLXXSFUYSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQIPXGFHRRCVHY-UHFFFAOYSA-N chromium zinc Chemical compound [Cr].[Zn] DQIPXGFHRRCVHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000151 chromium(III) phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- IKZBVTPSNGOVRJ-UHFFFAOYSA-K chromium(iii) phosphate Chemical compound [Cr+3].[O-]P([O-])([O-])=O IKZBVTPSNGOVRJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YCYBZKSMUPTWEE-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) fluoride Chemical compound F[Co]F YCYBZKSMUPTWEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ASKVAEGIVYSGNY-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Co+2] ASKVAEGIVYSGNY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N cysteamine Chemical compound NCCS UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- CMMUKUYEPRGBFB-UHFFFAOYSA-L dichromic acid Chemical compound O[Cr](=O)(=O)O[Cr](O)(=O)=O CMMUKUYEPRGBFB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTNMMTCXUUFYAP-UHFFFAOYSA-L difluoromanganese Chemical compound F[Mn]F CTNMMTCXUUFYAP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KHEMNHQQEMAABL-UHFFFAOYSA-J dihydroxy(dioxo)chromium Chemical compound O[Cr](O)(=O)=O.O[Cr](O)(=O)=O KHEMNHQQEMAABL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- AMGXTMFXWTXVHS-UHFFFAOYSA-J dodecanoate titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O AMGXTMFXWTXVHS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSKARZJHFHDKAL-UHFFFAOYSA-J hafnium(4+) 2-hydroxypropanoate Chemical compound C(C(O)C)(=O)[O-].[Hf+4].C(C(O)C)(=O)[O-].C(C(O)C)(=O)[O-].C(C(O)C)(=O)[O-] YSKARZJHFHDKAL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QHEDSQMUHIMDOL-UHFFFAOYSA-J hafnium(4+);tetrafluoride Chemical compound F[Hf](F)(F)F QHEDSQMUHIMDOL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- TZNXTUDMYCRCAP-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);tetranitrate Chemical compound [Hf+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O TZNXTUDMYCRCAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910001853 inorganic hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- KFZAUHNPPZCSCR-UHFFFAOYSA-N iron zinc Chemical compound [Fe].[Zn] KFZAUHNPPZCSCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003903 lactic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000008258 liquid foam Substances 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N malic acid Chemical compound OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000011656 manganese carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000006748 manganese carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229940093474 manganese carbonate Drugs 0.000 description 1
- 229940099596 manganese sulfate Drugs 0.000 description 1
- 239000011702 manganese sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000007079 manganese sulphate Nutrition 0.000 description 1
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000016 manganese(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L manganese(II) sulfate Chemical compound [Mn+2].[O-]S([O-])(=O)=O SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L manganese(ii) carbonate Chemical compound [Mn+2].[O-]C([O-])=O XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALTWGIIQPLQAAM-UHFFFAOYSA-N metavanadate Chemical compound [O-][V](=O)=O ALTWGIIQPLQAAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- UPXAZUFKXWLNMF-UHFFFAOYSA-N n'-propan-2-ylmethanediimine Chemical compound CC(C)N=C=N UPXAZUFKXWLNMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) fluoride Chemical compound F[Ni]F DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N nitric acid;oxozirconium Chemical compound [Zr]=O.O[N+]([O-])=O.O[N+]([O-])=O UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- LYTNHSCLZRMKON-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);zirconium(4+);diacetate Chemical compound [O-2].[Zr+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O LYTNHSCLZRMKON-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- XUCQTRUISKSFOC-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl 3-oxobutaneperoxoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OOC(=O)C=C XUCQTRUISKSFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229940096017 silver fluoride Drugs 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M silver monofluoride Chemical compound [F-].[Ag+] REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000367 silver sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L silver sulfate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])(=O)=O YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UKHWJBVVWVYFEY-UHFFFAOYSA-M silver;hydroxide Chemical compound [OH-].[Ag+] UKHWJBVVWVYFEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N sodium metavanadate Chemical compound [Na+].[O-][V](=O)=O CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NVKTUNLPFJHLCG-UHFFFAOYSA-N strontium chromate Chemical compound [Sr+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NVKTUNLPFJHLCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- YJVLWFXZVBOFRZ-UHFFFAOYSA-N titanium zinc Chemical compound [Ti].[Zn] YJVLWFXZVBOFRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 1
- GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N vanadium dioxide Chemical compound O=[V]=O GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001456 vanadium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JBIQAPKSNFTACH-UHFFFAOYSA-K vanadium oxytrichloride Chemical compound Cl[V](Cl)(Cl)=O JBIQAPKSNFTACH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K vanadium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+3] HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L vanadyl sulfate Chemical compound [V+2]=O.[O-]S([O-])(=O)=O UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L zinc hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Zn+2] UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021511 zinc hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940007718 zinc hydroxide Drugs 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/34—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing fluorides or complex fluorides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- Materials Engineering (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
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- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
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Description
(1) 亜鉛系めっき鋼板上に、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出により形成される表面処理層と、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を前記表面処理層上に塗布して形成されるケイ素含有層とをこの順で備える表面処理亜鉛系めっき鋼板であって、
前記有機ケイ素化合物(Y)が、1分子内に、式−SiR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基または水酸基を表し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つはアルコキシ基を表す。)で表される官能基(a)を2個以上と、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、アミノ基、カルボキシル基、りん酸基、ホスホン酸基、スルホン基、ポリオキシエチレン鎖およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性官能基(b)とを含有し、前記官能基(b)1個当たりの分子量が100〜10000である化合物であり、
前記表面処理層の前記金属元素(X)の元素付着合計量と、前記ケイ素含有層の前記有機ケイ素化合物(Y)に由来するSi付着量との質量比〔Y/X〕が0.1〜100.0であることを特徴とする、表面処理亜鉛系めっき鋼板。
(2) 亜鉛系めっき鋼板上に、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m 2 であり、自己析出および/または電解析出により形成される表面処理層と、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を前記表面処理層上に塗布して形成されるケイ素含有層とをこの順で備える表面処理亜鉛系めっき鋼板であって、
前記有機ケイ素化合物(Y)が、1分子内に、式−SiR 1 R 2 R 3 (式中、R 1 、R 2 およびR 3 は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基または水酸基を表し、R 1 、R 2 およびR 3 のうち少なくとも1つはアルコキシ基を表す。)で表される官能基(a)を2個以上と、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、アミノ基、カルボキシル基、りん酸基、ホスホン酸基、スルホン基、ポリオキシエチレン鎖およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性官能基(b)とを含有し、前記官能基(b)1個当たりの分子量が100〜10000である化合物であり、
前記表面処理層の前記金属元素(X)の元素付着合計量と、前記ケイ素含有層の前記有機ケイ素化合物(Y)に由来するSi付着量との質量比〔Y/X〕が0.1〜100.0であることを特徴とする、表面処理亜鉛系めっき鋼板(ただし、前記表面処理層が、グアニジン化合物を含有する場合を除く)。
(3) 前記有機ケイ素化合物(Y)が、少なくとも1種の反応性官能基と式−SiR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は前記と同義である)で表される官能基(a)とを有する、少なくとも1種の有機シラン化合物(A)と、前記反応性官能基と反応可能な官能基を有する少なくとも1種の化合物(B)とを反応させて、得られる化合物である、(1)または(2)に記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
(4) 前記有機シラン化合物(A)の前記反応性官能基、および前記化合物(B)の前記官能基が、それぞれ独立に、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、グリシジル基、1級アミノ基、2級アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基、イミド基、アミド基、カルボニル基およびビニル基からなる群から選択される少なくとも1種である、(3)に記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
(5) 前記有機シラン化合物(A)が、一般式(I)で表される化合物である、(3)または(4)に記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
(一般式(I)中、Xは、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、ビニル基、およびイソシアネート基からなる群から選択されるいずれかの官能基を表す。Lは、2価の連結基、または単なる結合手を表す。Yは、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、水素原子、または水酸基を表す。)
(6) 前記水系金属表面処理剤が、2価以上の金属イオンを含有する金属化合物(C)、および/または、フッ化水素酸、有機酸およびりん酸からなる群から選択される少なくとも1種の酸(D)を含有する、(1)〜(5)のいずれかに記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
(7) 前記金属化合物(C)に含有される金属イオンが、Ti、Zr、Hf、V、Mg、Mn、Zn、W、Mo、Al、Ni、Co、CeおよびCaイオンからなる群から選択される少なくとも1種である、(6)に記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
(8) Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)を含有する処理液を用いて、自己析出および/または電解析出により、亜鉛系めっき鋼板の表面上に前記金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m 2 である表面処理層を形成する表面処理層形成工程と、
前記表面処理層形成工程後、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を前記表面処理層上に塗布して、ケイ素含有層を形成するケイ素含有層形成工程と、を備える表面処理亜鉛系めっき鋼板の製造方法であって、
前記有機ケイ素化合物(Y)が、1分子内に、式−SiR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基または水酸基を表し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つはアルコキシ基を表す。)で表される官能基(a)を2個以上と、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、アミノ基、カルボキシル基、りん酸基、ホスホン酸基、スルホン基、ポリオキシエチレン鎖およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性官能基(b)とを含有し、前記官能基(b)1個当たりの分子量が100〜10000である化合物である、表面処理亜鉛系めっき鋼板の製造方法。
図1は、本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板の一実施形態の模式的断面図である。
同図に示す表面処理亜鉛系めっき鋼板10は、亜鉛系めっき鋼板12、表面処理層14、ケイ素含有層16をこの順で積層した積層構造を有する。表面処理層14は、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出により形成された層である。また、ケイ素含有層16は、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を表面処理層上に塗布して形成される層である。
図1において、亜鉛系めっき鋼板12、表面処理層14、ケイ素含有層16の層厚は該図によっては限定されない。また、図1では、亜鉛系めっき鋼板12の一方の表面上にのみ、表面処理層14とケイ素含有層16とが積層されているが、図2に示すように亜鉛系めっき鋼板12の両面に表面処理層14およびケイ素含有層16を有していてもよい。
まず、表面処理亜鉛系めっき鋼板10を構成する、亜鉛系めっき鋼板12および各層について説明する。
本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板に用いられる亜鉛系めっき鋼板12は、後述する表面処理層14、ケイ素含有層16の各層を積層し、かつ支持するためのものである。
亜鉛系めっき鋼板12の種類としては、特に限定されないが、例えば、亜鉛めっき鋼板、亜鉛−ニッケルめっき鋼板、亜鉛−鉄めっき鋼板、亜鉛−クロムめっき鋼板、亜鉛−アルミニウムめっき鋼板、亜鉛−チタンめっき鋼板、亜鉛−マグネシウムめっき鋼板、亜鉛−マンガンめっき鋼板、亜鉛−アルミニウム−マグネシウムめっき鋼板、亜鉛−アルミニウム−マグネシウム−シリコンめっき鋼板などの亜鉛系めっき鋼板などが挙げられる。
さらに、これらのめっき層に少量の異種金属元素または不純物として、コバルト、モリブデン、タングステン、ニッケル、チタン、クロム、アルミニウム、マンガン、鉄、マグネシウム、鉛、ビスマス、アンチモン、錫、銅、カドミウム、ヒ素などを含有したもの、シリカ、アルミナ、チタニア等の無機物を分散させたものが挙げられる。また、上記のようなめっきのうち、同種または異種のものを2層以上めっきした複層めっき鋼板を用いることもできる。
めっき方法は特に限定されるものではなく、公知の電気亜鉛めっき法、溶融亜鉛めっき法などが挙げられる。
また、亜鉛系めっき鋼板12の大きさや厚さも特に制限されない。
本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板10における表面処理層14は、上述した亜鉛系めっき鋼板12の上に積層され、主に、耐食性を付与する。また、表面処理層14は一度形成されると酸やアルカリに侵されず、曲げ加工に追従し、優れた被覆性を付与するものである。
表面処理層14は、より詳細には、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出した層である。
なお、金属元素(X)の付着量は、蛍光X線分析装置(XRF)によって測定することができる。
なお、表面処理層14は自己析出および/または電解析出により形成される層であり、その製造方法については後述する。
本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板10におけるケイ素含有層16は、上述した表面処理層14の上に積層され、主に、耐指紋性やバリア性を付与するものである。
ケイ素含有層16は、後述する有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を表面処理層上に塗布して形成される層であり、主として有機ケイ素化合物(Y)により構成されている。
なお、Si付着量は、蛍光X線分析装置(XRF)によって測定することができる。
これらの官能基を有する化合物としては、特に限定されないが、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類などのC=O基含有化合物、ベンゼンおよびその誘導体、ナフタレンおよびその誘導体、アクリル酸およびメタクリル酸およびその誘導体、アルキルカルボン酸エステル、アルキルアルデヒドなどのC=C基含有化合物、アセチレンアルコールやアセチレン誘導体などのC≡C基含有化合物、アジン、トリアジン、オサゾン染料、トリフェニルメタン染料、クニジン、ピリミジン、ピラゾール、イミダゾール、ピリジニウムおよびキノリニウム化合物などのC=N基含有化合物、エチレンシアンヒドリンなどのC≡N含有化合物、ヒドラジン化合物およびその誘導体などのN−N基含有化合物、アゾ染料などのN=N基含有化合物、スルホン酸、スルフォネート、スルフォアミド、チオ尿素および環状チオ尿素などのS元素含有化合物、などが挙げられる。
本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板の製造方法は、特に限定されないが、主に以下の工程を備える製造方法が好ましい。
(1)Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)を含有する処理液を用いて、亜鉛系めっき鋼板の表面上に、自己析出および/または電解析出により表面処理層を形成する表面処理層形成工程
(2)表面処理層形成工程後、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を上記表面処理層上に塗布して、ケイ素含有層を形成するケイ素含有層形成工程
以下に、各工程およびその他の任意の工程について、使用する材料とともに詳細に説明する。
使用される亜鉛系めっき鋼板は、必要に応じて、後述する表面処理層形成工程前に、その表面を洗浄してもよい。この洗浄により、亜鉛系めっき鋼板の表面に付着した油分、汚れが取り除かれる。洗浄方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。例えば、脱脂剤や酸性脱脂剤で洗浄する方法、湯洗や溶剤洗浄が挙げられる。
また、亜鉛系めっき鋼板の表面を洗浄する前および/または後に、酸、アルカリなどによる表面調整を行ってもよい。このような処理を施すことにより、亜鉛系めっき鋼板の表面に形成される表面処理層と亜鉛系めっき鋼板との密着性が向上する。さらには、表面処理層の時間当たりの形成(析出)効率が向上する。
なお、上述した亜鉛系めっき鋼板の表面の洗浄および/または表面調整を行った後は、洗浄剤などが亜鉛系めっき鋼板の表面に残留しないように、さらに水洗いすることが好ましい。
本発明の表面処理層形成工程は、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)を含有する処理液を用いて、亜鉛系めっき鋼板の表面上に、自己析出および/または電解析出により表面処理層を形成する工程である。この工程によって、上述した所定量の金属元素(X)を含有する表面処理層14が形成される。
表面処理層形成工程では、自己析出反応(態様1)および/または電解析出反応(態様2)によって金属元素(X)を含有する表面処理層が形成される。
以下に、それぞれの反応態様について説明する。
自己析出反応においては、電解処理などの外部からの処理を必要とせず、所定の処理液と亜鉛系めっき鋼板とを接触させるだけで、亜鉛系めっき鋼板上に表面処理層が形成される。
使用される処理液としては、少なくとも1種のZr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)と、フッ化水素酸、硝酸、硫酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも1つの酸成分(e)とを含有することが好ましい。金属元素(X)を含む化合物(d)は、表面処理層の主成分として作用する。また、酸成分(e)は、金属元素(X)を含む化合物(d)を溶解させ、金属素材表面をエッチングし、自己析出反応の起点となる、などの効果を発揮する。
なかでも、少なくとも1種のZr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)およびフッ素元素を含む処理液が好ましい。
化合物(d)としては、例えば、硝酸ジルコニル、酢酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、炭酸ジルコニウムアンモニウム、ジルコンフッ化水素酸、硫酸チタニル、乳酸とチタニウムアルコキシドとの反応物、チタンラウレート、チタンフッ化水素酸、乳酸ハフニウム、硝酸ハフニウム、フッ化ハフニウム、ハフニウムフッ化水素酸などが挙げられ、なかでもジルコンフッ化水素酸、チタンフッ化水素酸、ハフニウムフッ化水素酸などが好ましい。
なかでも、処理液中における酸成分(e)の含有量(濃度)は、0.005〜20g/Lであることが好ましく、0.02〜10g/Lであることがより好ましい。0.005g/L以上であると、金属板の表面に対する十分なエッチング能を期待できる。20g/L以下であると、エッチング能力が適切となり、均一な表面処理層を析出させることができる。
化合物(f)としては、例えば、過マンガン酸、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム、硝酸マンガン、硫酸マンガン、フッ化マンガン、炭酸マンガン、酢酸マンガン、硝酸マグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、硫酸マグネシウム、酢酸マグネシウム、硝酸アルミニウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、酢酸セリウム(III)、酢酸セリウム(IV)、硝酸セリウム(III)、硝酸セリウム(IV)、塩化ニッケル、硫酸ニッケル、硝酸ニッケル、フッ化ニッケル、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、塩化コバルト、硫酸コバルト、硝酸コバルト、フッ化コバルト、酸化コバルト、水酸化コバルト、塩化銀、硫酸銀、硝酸銀、フッ化銀、酸化銀、水酸化銀、塩化亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛、フッ化亜鉛、酸化亜鉛、水酸化亜鉛などが挙げられる。
式(1) pH≦−0.02×(F/D)+6
処理液がこれらの条件をすべて満たすときに、極めて短時間で、諸性能の優れた皮膜を形成できる。
また、この自己析出用(態様1)の処理液のpHは、酸成分(e)の含有量およびアルカリ性物質の添加によって調整することができる。このアルカリ性物質は限定されず、処理液の性能を大きく劣化させずにpHを調整することができるものであればよい。このようなアルカリ性物質として、アンモニア、炭酸ナトリウム、有機アミン類(ジエタノールアミン、トリエチルアミン等)、無機水酸化物(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)を好ましく例示することができる。
自己析出反応における、上記処理液と亜鉛系めっき鋼板との接触方法としては、特に限定されず、スプレー塗布法、ロール塗布法、浸漬法など公知の方法を使用することができる。なかでも、スプレー塗布法が好ましい。
接触条件(接触時間、処理液温度など)は、使用される処理液の種類により適宜最適な条件が選択される。なかでも、0.5〜20秒間であることが好ましく、1〜10秒間であることがより好ましい。この接触時間が短すぎると、処理液と亜鉛系めっき鋼板の表面が十分に反応せず、耐食性の優れた表面処理層が得られない場合がある。また、この接触時間が長すぎると、得られる表面処理層の性能向上は見られないうえ、ラインにおける操業効率の点からも好ましくない。
電解析出反応においては、所定の処理液をカソードとした亜鉛系めっき鋼板と接触させ、アノードとの間で通電することで、亜鉛系めっき鋼板表面上に表面処理層が形成される。
電解析出において使用される処理液としては、少なくとも1種のZr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)と、フッ化水素酸、硝酸、硫酸、りん酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも1つである酸成分(g)とを含有することが好ましい。化合物(d)は、表面処理層の主成分の供給源として作用する。酸成分(g)は、化合物(d)を溶解させる、処理液の導電性を上げる、などの効果を発揮する。
なかでも、少なくとも1種のZr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)およびフッ素元素を含む処理液が好ましい。
処理液中における金属元素(X)を含む化合物(d)の含有量(濃度)は、使用される亜鉛系めっき鋼板などの種類によって適宜最適な量が選択される。好ましい含有量は、上述した自己析出の際に使用される処理液中の金属元素(X)の含有量と同じである。
処理液中における酸成分(g)の合計含有量(濃度)は、5〜30g/Lであることが好ましく、10〜25g/Lであることがより好ましい。5g/L以上であると、金属板の表面に対する十分なエッチング能を期待できる。30g/L以下であると、エッチング能力が適切となり、均一な表面処理層を析出させることができる。
電解析出の方法としては、特に限定されず、公知の電解法を適用することができる。
電解条件においては、対極(陽極)としてステンレスかPb系合金を用い、温度を常温〜40℃、電流密度を0.5〜30A/dm2(より好ましくは、1〜10A/dm2)とすることが好ましい。
電解時間は、目的とする化合物(d)に含まれる金属元素(X)の必要量に応じて設定されるが、この電解処理により形成される表面処理層中での金属元素(X)の合計付着量が2〜50mg/m2となるためには、例えば、3A/dm2の電流密度で0.5〜3秒間程度処理することが好ましい。
表面処理層形成工程の後に、必要に応じて、表面処理層を有する亜鉛系めっき鋼板を水洗いし、乾燥する工程(洗浄工程)を実施してもよい。
水洗の方法は特定に限定されないが、例えば公知の浸漬法、スプレー法により行うことができる。水洗温度(水洗水の温度)は特に限定されず通常適用される温度でよいが、5〜60℃であることが好ましく、15〜40℃であることがより好ましい。このような温度であると、洗浄効率がより高まる。
水洗に使用する水洗水は、ドレン水、工業用水、市水、または脱イオン水を好適に用いることができる。
また、洗浄時間も特に限定されないが、例えば、浸漬法またはスプレー法の場合は、0.1〜10秒であることが好ましく、1〜5秒であることがより好ましい。水洗時間が短すぎると、表面処理層の表面に残存する余剰の処理液成分の除去が十分に行われず、耐食性に優れた表面処理層を得られないことがある。また、水洗時間が長すぎても、得られる表面処理層の性能向上は見られないうえ、ラインにおける操業効率の点からも好ましくない。
本発明のケイ素含有層形成工程は、表面処理層形成工程後、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を上記表面処理層上に塗布して、ケイ素含有層を形成する工程である。
なお、有機ケイ素化合物(Y)は、1分子内に、式−SiR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基または水酸基を表し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つはアルコキシ基を表す。)で表される官能基(a)を2個以上と、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、アミノ基、カルボキシル基、りん酸基、ホスホン酸基、スルホン基、ポリオキシエチレン鎖およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性官能基(b)とを含有し、官能基(b)1個当たりの分子量が100〜10000である化合物である。
まず、有機ケイ素化合物(Y)について説明する。
有機ケイ素化合物(Y)は、1分子内に、式−SiR1R2R3で表される官能基(a)を2個以上有する。
式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基または水酸基を表し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つはアルコキシ基を表す。なかでも、アルコキシ基が好ましい。
アルキル基およびアルコキシ基の炭素数は特に制限されないが、炭素数1〜6が好ましく、炭素数1〜4がより好ましく、炭素数1または2が特に好ましい。
親水性官能基(b)としては、アミノ基が好ましい。
なお、上記分子量の測定方法としては、GPCを用いて測定することができる。
なお、有機シラン化合物(A)および化合物(B)は、それぞれ1種のみを使用してもよいし、複数を併用してもよい。
反応性官能基は、他の官能基と反応して結合を形成する基であれば、特に限定されないが、例えば、水酸基、グリシジル基、1級アミノ基、2級アミノ基、メルカプト基、イソシアナト基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基、イミド基、アミド基、カルボニル基およびビニル基からなる群から選択される官能基が好ましい。なかでも、グリシジル基、1級アミノ基、メチロール基などが好ましい。
Lで表される連結基としては、例えば、アルキレン基(炭素数1〜20が好ましい)、−O−、−S−、アリーレン基、−CO−、−NH−、−SO2−、−COO−、−CONH−、またはこれらを組み合わせた基が挙げられる。なかでも、アルキレン基が好ましい。単なる結合手の場合、一般式(I)のXがSi(ケイ素原子)と直接連結することをさす。
なお、反応可能な官能基としては、特に限定されないが、例えば、水酸基、グリシジル基、1級アミノ基、2級アミノ基、メルカプト基、イソシアナト基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基、イミド基、アミド基、カルボニル基およびビニル基からなる群から選択される官能基が好ましい。
化合物(B)の分子量は、特に制限されないが、取り扱いやすさの点から、100〜3000が好ましい。
これら有機シラン化合物(A)と化合物(B)との反応条件は、使用される化合物によって適宜最適な条件が選択される。また、反応の際に、溶媒(例えば、アルコールなど)などを使用してもよい。
水系金属表面処理剤は、さらに、2価以上の金属イオンを含有する金属化合物(C)を含むことが好ましい。金属化合物(C)を含有することにより、水系金属表面処理剤で処理した金属材料の耐食性が向上する。
金属化合物(C)に含有される2価以上の金属イオンは、Ti、Zr、Hf、V、Mg、Mn、Zn、W、Mo、Al、Ni、CoおよびCaイオンから選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
2価以上の金属イオンを含有する金属化合物(C)としては、上記の金属と、フルオロ酸、りん酸、硝酸および硫酸などの無機酸、ギ酸、酢酸、酪酸、シュウ酸、コハク酸、乳酸、L−アスコルビン酸、酒石酸、クエン酸、DL−リンゴ酸、マロン酸、マレイン酸、フタル酸などの有機酸との塩、または、上記の金属のアルコキシド、アルキルアセトネート、アルカンジオレート、ラクテート、アミネートまたはステアレートなどの錯塩などが挙げられる。例えば、Vイオン(バナジウムイオン)含有化合物としては、特に限定するものではないが、五酸化バナジウムV2O5、メタバナジン酸HVO3、メタバナジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、オキシ三塩化バナジウムVOCl3、三酸化バナジウムV2O3、二酸化バナジウムVO2、オキシ硫酸バナジウムVOSO4、バナジウムオキシアセチルアセトネートVO(OC(=CH2)CH2COCH3))2、バナジウムアセチルアセトネートV(OC(=CH2)CH2COCH3))3、三塩化バナジウムVCl3、リンバナドモリブデン酸などを例示することができる。また、5価のバナジウム化合物を用いる場合には、これを水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、1〜3級アミノ基、アミド基、リン酸基およびホスホン酸基よりなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する有機化合物により、2価〜4価に還元したものも使用可能である。
これらの金属化合物(C)は、単独でも、2種以上組み合わせて使用してもよい。
水系金属表面処理剤中における金属化合物(C)の含有量は、特に制限されないが、ケイ素含有層の形成速度の点から、処理剤中の固形分全量に対して0.5〜20質量%が好ましく、1〜10質量%がより好ましい。なお、固形分とは、処理剤中で溶媒(例えば、水)を除いたケイ素含有層を構成する成分をさす。
フッ化水素酸は、エッチング効果の他に、キレート作用を発揮し、表面処理亜鉛系めっき鋼板の耐食性を向上させる。有機酸は、酸の中では比較的酸性度の低い酸であるため、金属表面を強力にエッチングすることはないが、表面にある不均一な極薄い酸化膜を取り除くので表面処理亜鉛系めっき鋼板の耐食性を向上させる。リン酸は、金属表面上にごくわずかであるがリン酸塩系化成皮膜を形成させ、表面処理亜鉛系めっき鋼板の耐食性を向上させる。
水系金属表面処理剤中における酸(D)の含有量は、特に制限されないが、ケイ素含有層の形成速度の点から、処理剤中の固形分全量に対して、0.5〜20質量%が好ましく、1〜10質量%がより好ましい。なお、固形分とは、処理剤中で溶媒(例えば、水)を除いたケイ素含有層を構成する成分をさす。
ケイ素含有層は、上述した表面処理層形成工程後、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を表面処理層上に塗布し、必要に応じて乾燥して、形成される。
塗布の方法としては、特に制限されず、スピンコーティング法、ロールコート法、浸漬法、スプレー塗布法、などが挙げられる。
塗膜を形成後、必要に応じて、塗膜を水洗してもよい。
工業的実用的皮膜形成のために、塗布後の塗膜を加熱乾燥することが好ましい。この場合、乾燥温度は、到達板温として30〜300℃が好ましく、40〜250℃がより好ましく、60〜200℃が特に好ましい。乾燥時間に関しては、到達板温が上記条件を満たしていれば特に制限されない。
本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板は、上述のように亜鉛系めっき鋼板上に表面処理層とケイ素含有層とが積層した構造を備える。このような構成の表面処理亜鉛系めっき鋼板は、優れた耐食性、耐指紋性、導電性、塗膜密着性を示す。このような種々の特性をバランスよく備える亜鉛系めっき鋼板は、従来提供されておらず、本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板は種々の用途に適用することができる。例えば、家電、建材、自動車用鋼板などが挙げられる。
樹脂としては、水系、溶剤系、粉体系などのいずれの形態のものでもよい。
着色顔料としては、酸化チタンやカーボンブラックなどの無機顔料や、アゾ系顔料といった有機顔料など公知の着色顔料を用いることができる。
防錆顔料としては、ストロンチウムクロメート、ジンクロメートなどのクロメート系防錆顔料、りん酸亜鉛などのりん酸系防錆顔料、モリブデン酸カルシウムなどのモリブデン酸系防錆顔料、水分散性シリカなどの微粒シリカなども用いることができる。
ただし、クロメート系防錆顔料は環境上有毒であるため使用しないことが望ましい。
また、消泡剤、分散補助剤、または、塗料粘度を下げるための希釈剤などの添加剤を適宜配合してもよい。
また、ここでトップコート塗料としては、特に限定されず、公知の塗装用トップコートを使用することができる。例えば、樹脂を含有し、必要に応じてさらに着色顔料や防錆顔料などを含有することができる。樹脂、着色顔料および防錆顔料、ならびに添加物としては、上記プライマーで使用したものと同様のものを用いることができる。
なお、本発明者らが、検討した結果、本発明のケイ素化合物(Y)を含有する表面処理層の単層構造の表面処理亜鉛系めっき鋼板では、特に、耐指紋性や耐食性が悪化し、上記のような性能バランスは得られなかった。つまり、本発明のように積層構造にすることによって、初めて諸特性の性能バランスに優れた表面処理亜鉛系めっき鋼板が得られる。
以下の表1に示した市販の素材を用いた。
なお、表1中、「態様1」とは自己析出により表面処理を形成するために使用する鋼板をさし、「態様2」とは電解析出により表面処理を形成するために使用する鋼板をさす。
上記の試験素材の表面(両面)を、水酸化ナトリウム系脱脂剤ファインクリーナーL4460(登録商標:日本パーカライジング株式会社製)を用いて処理し、表面に付着しているゴミや油を除去した。処理条件は、取扱説明書記載の標準濃度、温度40℃の条件で30秒スプレー処理した。処理後、試験素材を純水で30秒間水洗し、乾燥したものを試験板として使用した。
脱脂処理を行った表1に示す試験板(態様1)を、以下の表2に示す処理液(溶媒:水)および処理液条件にて処理し、表3に示す表面処理層を有する試験板を得た。なお、処理液の使用温度は50〜60℃とし、スプレー処理にて試験板と接触させた。また、処理時間は2秒〜10秒の間で、以下の表3に示す金属元素(X)付着量が得られるまで処理した。
なお、ESCA測定より、表面処理層は主に金属元素(X)(ジルコニウム元素、チタン元素、またはハフニウム元素)およびフッ素元素より構成されることがわかった。
また、表2中の濃度(D)は、金属元素(X)の質量濃度を表し、濃度(F)は使用される各金属の質量濃度を表す。
また、表2中、「式(1)」とは上述した式(1):pH≦−0.02×(F/D)+6を表し、各処理液のpHが式(1)の関係を満足する場合を「成立可否:○」とする。
脱脂処理を行った表1に示す試験板(態様1)を、表4に示す処理液(溶媒:水)および処理液条件にて処理し、表5に示す表面処理層を有する試験板を得た。処理液の使用温度は50〜60℃とし、試験板を陰極、SUS304の薄板を陽極として、所定の処理液に浸漬すると同時に、所定量の電流を試験板に通電した。処理時間は2秒〜10秒の間で、表5に示す金属元素(X)付着量が得られるまでとした。
なお、ESCA測定より、Q1〜Q9、およびQ11での表面処理層は主に金属元素(X)(ジルコニウム元素、チタン元素、またはハフニウム元素)およびフッ素元素より構成されることが確認された。また、Q10での表面処理層は、主にジルコニウム元素および酸素元素より構成されることが確認された。なお、表4中の濃度(D)は、金属元素(X)の質量濃度を表す。
以下の比較例(R1〜R4)の処理を実施した。なお、試験板としては、電気亜鉛めっき鋼板(EG)を使用した。
R1:表面処理層無し
R2:反応型クロメート処理
R3:りん酸亜鉛処理
R4:前述のP1の処理液に後述のS1を5g/L添加した処理液
なお、反応型クロメート処理(R2)は、ジンクロム3367(登録商標:日本パーカライジング株式会社製)を用い、取扱説明書に則ってCr付着量で15mg/m2となるように処理した。
また、りん酸亜鉛処理(R3)は、パルボンド3305(登録商標:日本パーカライジング株式会社製)を用い、取扱説明書に則ってクロム酸剥離法による皮膜量が1.0g/m2になるように処理した。
上記の(3−1)〜(3−3)で作製した試験板上に、下記の(S1)〜(S3)で表される水系金属表面処理剤、または(S4)で表される比較例用処理剤をバーコーターで塗布し、表面処理層上にケイ素含有層を形成した。
なお、ケイ素含有層は、塗布後に到達板温度が150℃になるように焼付けた。
(S1):
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(2モル)と、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(1モル)をエタノール中(100mL)で反応させ有機ケイ素化合物(Y)を合成し、その後純水と混合し、固形分が10質量%になるように調整した。生成物である有機ケイ素化合物(Y)は、アミノ基、水酸基を有しており、含まれる官能基(a)数は3個で、官能基(b)1個当たりの分子量は700であった。
(S2):
上記の水系金属表面処理剤(S1)に、りん酸を固形分に対して5質量%となるように添加した。
(S3):
上記の水系金属表面処理剤(S1)に、りん酸とメタバナジン酸アンモンを、それぞれ固形分に対して5質量%、2質量%となるように添加した。
(S4):
ウレタン樹脂(HYDRAN HW−340 株式会社DIC製)に、コロイダルシリカ(スノーテックスN 日産化学株式会社製)を固形分に対して15質量%となるように添加した。処理剤中に純水を加えて、全固形分が20質量%になるように調整した。
なお、表面処理層中の金属元素(X)の単位面積当たりの合計付着量と、ケイ素含有層中の単位面積当たりのSi付着量とを蛍光X線によって測定し、その質量比[Y/X]を求めた。
(5−1)環境負荷性
上記の方法で得られた各表面処理亜鉛系めっき鋼板について、以下の判断基準に基づき、鋼板中に含有される成分より環境負荷性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
○:クロムを含有しない
×:クロムを含有する
得られた各表面処理亜鉛系めっき鋼板に対して、JIS−Z2371に規定された塩水噴霧試験を240時間実施した。次に、白錆発生面積率を目視で測定し評価を行った。ここで白錆発生面積率とは、観察部位の面積(7cm×15cm)に対する白錆発生部位の面積の百分率である。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:白錆発生面積率5%未満
○:白錆発生面積率5%以上、10%未満
△:白錆発生面積率10%以上、50%未満
×:白錆発生面積率50%以上
得られた各表面処理亜鉛系めっき鋼板に対して、ファインクリーナーL4460(標準建浴:A剤20g/L、B剤12g/L、温度60℃、2分浸漬後水洗)にて脱脂を行い、JIS−Z2371に規定された塩水噴霧試験を120時間実施した。次に、白錆発生面積率を目視で測定し評価を行った。ここで白錆発生面積率とは、観察部位の面積(7cm×15cm)に対する白錆発生部位の面積の百分率である。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:白錆発生面積率5%未満
○:白錆発生面積率5%以上、10%未満
△:白錆発生面積率10%以上、50%未満
×:白錆発生面積率50%以上
得られた各表面処理亜鉛系めっき鋼板に対して、エリクセン試験機にて7mm押出し加工を行い、JIS−Z2371に規定された塩水噴霧試験を120時間実施した。次に、白錆発生面積率を目視で測定し評価を行った。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:白錆発生面積率5%未満
○:白錆発生面積率5%以上、10%未満
△:白錆発生面積率10%以上、50%未満
×:白錆発生面積率50%以上
得られた各表面処理亜鉛系めっき鋼板上にワセリンと塗布し、色差計(日本電色工業株式会社製、color meter ZE2000)にて、ワセリン塗布前後のL値増減(△L)を測定した。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎=△Lが1.0未満
○=△Lが1.0以上2.0未満
△=△Lが2.0以上3.0未満
×=△Lが3.0以上
得られた各表面処理亜鉛系めっき鋼板に対して、層間抵抗測定機(TOEI KOGYO製、LRT−1A)を用いて、層間抵抗を測定した。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎=層間抵抗が1.0Ω未満
○=層間抵抗が1.0Ω以上2.0Ω未満
△=層間抵抗が2.0Ω以上3.0Ω未満
×=層間抵抗が3.0Ω未満
塗料(関西ペイント株式会社製アミラック#1000(白塗料))を用いて、得られた各表面処理亜鉛系めっき鋼板上に塗装処理を行った。塗装はバーコート塗布で行い、塗装後、140℃で20分間焼付けを行い、乾燥後膜厚で25μmの皮膜を形成した。
次に、各塗装後亜鉛系めっき鋼板に対して、1mm角、100個の碁盤目をNTカッターで切り入れ、これをエリクセン試験機で5mm押し出した後、この押し出し凸部に粘着テープによる剥離テストを行い、塗膜剥離個数にて評価した。評価基準は以下のとおりである。
<評価基準>
◎:剥離なし
○:剥離個数1個以上、10個未満
△:剥離個数11個以上、50個未満
×:剥離個数51個以上
比較例においては、比較例6のクロメート処理が本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板と同等程度の特性を示したが、クロムを含有する点で、環境負荷性に劣っていた。また、ケイ素含有層の代わりに、樹脂系皮膜を使用した比較例2〜4と比較しても、本発明の表面処理亜鉛系めっき鋼板は極めて良好な性能バランスを有していることがわかった。さらに、比較例1および比較例5のように、表面処理層またはケイ素含有層単層のみでは、十分な性能は得られなかった。
また、表面処理層を形成する処理液とケイ素含有層を形成する処理液とを混合して、単層構造とした比較例8では、耐食性および耐指紋性に劣っていた。
12 亜鉛系めっき鋼板
14 表面処理層
16 ケイ素含有層
Claims (7)
- 亜鉛系めっき鋼板上に、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出により形成される表面処理層と、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を前記表面処理層上に塗布して形成されるケイ素含有層とをこの順で備える表面処理亜鉛系めっき鋼板であって、
前記有機ケイ素化合物(Y)が、1分子内に、式−SiR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基または水酸基を表し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つはアルコキシ基を表す。)で表される官能基(a)を2個以上と、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、アミノ基、カルボキシル基、りん酸基、ホスホン酸基、スルホン基、ポリオキシエチレン鎖およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性官能基(b)とを含有し、前記官能基(b)1個当たりの分子量が100〜10000である化合物であり、
前記水系金属表面処理剤が、2価以上の金属イオンを含有する金属化合物(C)、および/または、フッ化水素酸、有機酸およびりん酸からなる群から選択される少なくとも1種の酸(D)を含有し、
前記表面処理層の前記金属元素(X)の元素付着合計量と、前記ケイ素含有層の前記有機ケイ素化合物(Y)に由来するSi付着量との質量比〔Y/X〕が0.1〜100.0であることを特徴とする、表面処理亜鉛系めっき鋼板。 - 亜鉛系めっき鋼板上に、Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2であり、自己析出および/または電解析出により形成される表面処理層と、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を前記表面処理層上に塗布して形成されるケイ素含有層とをこの順で備える表面処理亜鉛系めっき鋼板であって、
前記有機ケイ素化合物(Y)が、1分子内に、式−SiR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基または水酸基を表し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つはアルコキシ基を表す。)で表される官能基(a)を2個以上と、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、アミノ基、カルボキシル基、りん酸基、ホスホン酸基、スルホン基、ポリオキシエチレン鎖およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性官能基(b)とを含有し、前記官能基(b)1個当たりの分子量が100〜10000である化合物であり、
前記水系金属表面処理剤が、2価以上の金属イオンを含有する金属化合物(C)、および/または、フッ化水素酸、有機酸およびりん酸からなる群から選択される少なくとも1種の酸(D)を含有し、
前記表面処理層の前記金属元素(X)の元素付着合計量と、前記ケイ素含有層の前記有機ケイ素化合物(Y)に由来するSi付着量との質量比〔Y/X〕が0.1〜100.0であることを特徴とする、表面処理亜鉛系めっき鋼板(ただし、前記表面処理層が、グアニジン化合物を含有する場合を除く)。 - 前記有機ケイ素化合物(Y)が、少なくとも1種の反応性官能基と式−SiR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は前記と同義である)で表される官能基(a)とを有する、少なくとも1種の有機シラン化合物(A)と、前記反応性官能基と反応可能な官能基を有する少なくとも1種の化合物(B)とを反応させて、得られる化合物である、請求項1または2に記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
- 前記有機シラン化合物(A)の前記反応性官能基、および前記化合物(B)の前記官能基が、それぞれ独立に、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、グリシジル基、1級アミノ基、2級アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基、イミド基、アミド基、カルボニル基およびビニル基からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項3に記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
- 前記有機シラン化合物(A)が、一般式(I)で表される化合物である、請求項3または4に記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
(一般式(I)中、Xは、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、ビニル基、およびイソシアネート基からなる群から選択されるいずれかの官能基を表す。Lは、2価の連結基、または単なる結合手を表す。Yは、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、水素原子、または水酸基を表す。) - 前記金属化合物(C)に含有される金属イオンが、Ti、Zr、Hf、V、Mg、Mn、Zn、W、Mo、Al、Ni、Co、CeおよびCaイオンからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1〜5のいずれかに記載の表面処理亜鉛系めっき鋼板。
- Zr、TiおよびHfからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素(X)を含む化合物(d)を含有する処理液を用いて、自己析出および/または電解析出により、亜鉛系めっき鋼板の表面上に前記金属元素(X)の単位面積当りの元素付着合計量が2〜50mg/m2である表面処理層を形成する表面処理層形成工程と、
前記表面処理層形成工程後、有機ケイ素化合物(Y)を含有する水系金属表面処理剤を前記表面処理層上に塗布して、ケイ素含有層を形成するケイ素含有層形成工程と、を備える表面処理亜鉛系めっき鋼板の製造方法であって、
前記有機ケイ素化合物(Y)が、1分子内に、式−SiR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基または水酸基を表し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つはアルコキシ基を表す。)で表される官能基(a)を2個以上と、水酸基(官能基(a)に含まれ得るものとは別個のもの)、アミノ基、カルボキシル基、りん酸基、ホスホン酸基、スルホン基、ポリオキシエチレン鎖およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性官能基(b)とを含有し、前記官能基(b)1個当たりの分子量が100〜10000である化合物であり、
前記水系金属表面処理剤が、2価以上の金属イオンを含有する金属化合物(C)、および/または、フッ化水素酸、有機酸およびりん酸からなる群から選択される少なくとも1種の酸(D)を含有する、表面処理亜鉛系めっき鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008284587A JP5661238B2 (ja) | 2008-11-05 | 2008-11-05 | 表面処理亜鉛系めっき鋼板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008284587A JP5661238B2 (ja) | 2008-11-05 | 2008-11-05 | 表面処理亜鉛系めっき鋼板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010111904A JP2010111904A (ja) | 2010-05-20 |
JP5661238B2 true JP5661238B2 (ja) | 2015-01-28 |
Family
ID=42300689
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008284587A Active JP5661238B2 (ja) | 2008-11-05 | 2008-11-05 | 表面処理亜鉛系めっき鋼板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5661238B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102363882A (zh) * | 2011-11-08 | 2012-02-29 | 大连三达奥克化学股份有限公司 | 镀锌钢板喷涂涂装前综合处理剂及制备方法 |
CN103046040B (zh) * | 2012-09-24 | 2014-09-17 | 中国海洋石油总公司 | 一种无铬型金属表面处理组合物 |
EP3052674B1 (de) * | 2013-09-30 | 2018-09-26 | BASF Coatings GmbH | Verfahren zur autophoretischen beschichtung von metallischen substraten unter nachbehandlung der beschichtung mit einer wässrigen sol-gel-zusammensetzung |
EP3336219B1 (de) * | 2016-12-19 | 2019-04-17 | Henkel AG & Co. KGaA | Verfahren zur korrosionsschützenden und reinigenden vorbehandlung von metallischen bauteilen |
JP6923432B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2021-08-18 | 株式会社神戸製鋼所 | 塗装亜鉛めっき鋼板 |
JP6923433B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2021-08-18 | 株式会社神戸製鋼所 | 塗装亜鉛めっき鋼板 |
KR102777023B1 (ko) * | 2021-10-29 | 2025-03-10 | 현대제철 주식회사 | 도금강판 표면처리용 코팅용액, 표면처리된 도금강판 및 도금강판의 표면처리 방법 |
TWI864496B (zh) | 2021-11-22 | 2024-12-01 | 日商日本製鐵股份有限公司 | 表面處理鋼材 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05169585A (ja) * | 1991-10-24 | 1993-07-09 | Sekisui Chem Co Ltd | 積層体 |
JP2003293168A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-15 | Nisshin Steel Co Ltd | 耐食性に優れた塗装Al−Si合金めっき鋼板 |
AU2003236248A1 (en) * | 2002-04-16 | 2003-11-17 | Nippon Paint Co., Ltd. | Thermostabilized metal plate of high corrosion resistance, metal plate with organic coating and phosphated galvanized metal plate |
JP4492224B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2010-06-30 | 東洋製罐株式会社 | 表面処理金属材料及びその表面処理方法、並びに樹脂被覆金属材料 |
WO2007061011A1 (ja) * | 2005-11-22 | 2007-05-31 | Nihon Parkerizing Co., Ltd. | 化成処理金属板およびその製造方法 |
JP2007262577A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-10-11 | Nippon Paint Co Ltd | 金属表面処理用組成物、金属表面処理方法、及び金属材料 |
-
2008
- 2008-11-05 JP JP2008284587A patent/JP5661238B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010111904A (ja) | 2010-05-20 |
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