JP5603621B2 - シート状モールド位置検出装置、転写装置および転写方法 - Google Patents

Description

本発明は、シート状モールド位置検出装置、この装置を用いた転写装置およびこの装置を用いた転写方法に係り、たとえば、シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写するときに使用されるものに関する。

近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型（モールド）を作製し、被成型品に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（たとえば、非特許文献１参照）。

ナノオーダーの微細なパターン（転写パターン）を低コストで成型する方法としてリソグラフィ技術を用いたインプリント法が考案されている。この成型法は大別して熱インプリント法とＵＶインプリント法とに分類される。

熱インプリント法では、型を基板に押圧し、熱可塑性ポリマからなる樹脂（熱可塑性樹脂）が十分に流動可能となる温度になるまで加熱して微細パターンに樹脂を流入させたのち、型と樹脂をガラス転移温度以下になるまで冷却し、基板に転写された微細パターンを固化したのち型を引き離す。

ＵＶインプリント法では、光を透過できる透明な型を使用し、ＵＶ硬化性液に型を押しつけてＵＶ放射光を加える。適当な時間放射光を加えて液を硬化させ微細パターンを転写したのち型を引き離す。

また、上記転写をするときに、モールドとしてシート状のものを使用する方式が提案されている（たとえば、特許文献１参照）。

特願２００９−１６４５６９

Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199

ところで、上記従来のシート状のモールドを用いた転写装置では、被成型品にシート状モールドの微細な転写パターンを転写する前に、被成型品に対するシート状モールドの位置決めをする必要がある。

そこで、従来の転写装置では、目視でシート状モールドの位置決めを行っているか、もしくは、シート状モールドが巻かれているモールド原反の半径を検出するとともにモールド原反の回転角度を検出することによって、シート状モールドの位置決めを行っている。

しかし、上記位置決めの方式では、シート状モールドの正確な位置決めをすることが困難であるという問題がある。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、微細な転写パターンが形成されているシート状モールドを移送位置決めするときに、シート状モールドを正確に検出することができるシート状モールド位置検出装置およびこのシート状モールド位置検出装置を用いた転写装置、転写方法を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、微細な転写パターンが形成されているシート状モールドを所定の方向に移送して位置決めするときに使用されるシート状モールド位置検出装置において、前記シート状モールドにおける光の透過率または反射率を検出することによって、前記シート状モールドの所定部位を検出するシート状モールド位置検出手段を有し、前記シート状モールド位置検出手段は、前記シート状モールドの表面を測定可能なように、ベース部材に固定して配置されているシート状モールド位置検出装置である。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のシート状モールド位置検出装置を備えている転写装置である。

請求項３に記載の発明は、請求項１に記載のシート状モールド位置検出装置を用いてシート状モールドを位置決めする位置決め工程と、前記位置決め工程で位置決めがされた前記シート状モールドから被成型品に微細な転写パターンを転写する転写工程とを有する転写方法である。

本発明によれば、微細な転写パターンが形成されているシート状モールドを移送位置決めするときに、シート状モールドを正確に検出することができるという効果を奏する。

本発明の実施形態に係る転写システムの概要を示す図である。 転写システムの概要を示す平面図である。 転写システムの概要を示す平面図である。 平板状のシート状モールドと各接触部材等の大きさや位置の関係を示す図である。 平板状のシート状モールドと各接触部材等の大きさや位置の関係を示す図である。 転写装置概略構成を示す斜視図である。 転写装置概略構成を示す斜視図である。 転写装置の断面矢視図である。 転写装置の概要と動作を示す図である。 転写装置の概要と動作を示す図である。 転写装置の概要と動作を示す図である。 転写装置の概要と動作を示す図である。 転写装置の概要と動作を示す図である。 転写装置の概要と動作を示す図である。 転写装置の概要と動作を示す図である。 引き剥がし装置の概要と動作を示す図である。 引き剥がし装置の概要と動作を示す図である。 引き剥がし装置の概要と動作を示す図である。 引き剥がし装置の概要と動作を示す図である。 引き剥がし装置の概要と動作を示す図である。 図９（ａ）におけるＸＸＩ部の拡大図である。 シート状モールド作成装置の概要を示す図である。 変形例に係るシート状モールド作成装置の概要を示す図である。 シート状モールドを示す図である。 シート状モールド作成装置を含む転写システムの概要を示す平面図である。 図２４（ａ）におけるＸＸＶＩ−ＸＸＶＩ断面を示す図である。

図１は、本発明の実施形態に係るシート状モールド位置検出装置１８３が使用される転写システム１の概要を示す図であり、図２、図３は、転写システム１の概要を示す平面図である。

転写システム１は、シート状のモールドＭに形成されている微細な転写パターンＭ１を被成型品Ｗに転写するシステムであり、シート状モールド移送位置決め装置３と転写装置５と引き剥がし装置７とを備えて構成されている。

図６、図７は、転写装置５の概略構成を示す斜視図であり、図８は、転写装置５の断面矢視図であって、図８（ａ）は、図６におけるＶＩＩＩＡ−ＶＩＩＩＡ断面矢視図であり、図８（ｂ）は、図６におけるＶＩＩＩＢ−ＶＩＩＩＢ断面矢視図であり、図８（ｃ）は、図８（ｂ）におけるＣ−Ｃ断面を示す図である。なお、図８（ａ）では、詳しくは後述するベローズ１０７、下側接触部材１０９の表示を省略してある。図９〜図１５は、転写装置５の概要と動作を示す図であり、図１６〜図２０は、引き剥がし装置７の概要と動作を示す図であり、図２１は、図９（ａ）におけるＸＸＩ部の拡大図である。

シート状モールド移送位置決め装置３は、シート状のモールドＭを所定の箇所（たとえばモールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間）で平板状にして、この平板状のシート状モールドＭＡを所定の方向（たとえばモールド原反設置装置９からモールド巻き取り装置１１に向かう水平方向）に移送位置決めする装置である。シート状モールド位置検出装置１８３は、シート状モールド移送位置決め装置３に設けられている。そして、シート状モールド位置検出装置１８３で移送されている平板状のシート状モールドＭＡの所定部位を検出したときに、シート状モールドＭＡの移送を停止して、転写装置５等に対するシート状モールドＭＡの位置決めがされるようになっている。

なお、微細な転写パターンＭ１は、たとえば、多数の微細な凹凸で形成されており、高さやピッチが可視光線の波長程度かもしくは可視光線の波長よりも僅かに大きいか僅かに小さいパターンであり、シート状モールドＭの厚さ方向の一方の面に形成されている。すなわち、図１、図９〜図２０では、平板状のシート状モールドＭＡの下面に微細な転写パターンが形成されている。

転写装置５は、平板状のシート状モールドＭＡに形成されている微細な転写パターンＭ１を被成型品（被転写品）Ｗに、平板状のシート状モールドＭＡで被成型品Ｗを押圧して転写する装置であり、シート状モールド移送位置決め装置３によるシート状モールドＭの移送方向で上流側（図１、図９〜図２０等では左側）に設けられている。

引き剥がし装置（被成型品分離装置）７は、転写装置５による転写がされてお互いが貼り付いているシート状モールドＭＡと被成型品（転写後被成型品）Ｗとを、引き剥がす（シート状モールドＭＡから被成型品Ｗを引き剥がす；分離する）装置であり、シート状モールド移送位置決め装置３によるシート状モールドＭＡの移送方向で下流側（転写装置５から離れて転写装置５よりも下流側；図１、図９〜図２０等では右側）に設けられている。

なお、引き剥がし装置７による引き剥がしは、転写装置５による転写がされた後であってシート状モールド移送位置決め装置３によるシート状モールドＭＡとこのシート状モールドＭＡに貼り付いている被成型品Ｗとの移送位置決めがされた後、転写装置５での次の別の転写がなされているときに行われるようになっている。また、シート状モールド移送位置決め装置３によるシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとの移送位置決めは、平板状のシート状モールドＭＡをモールド巻き取り装置１１で巻き取ることによって行われるようになっている。

また、転写システム１には、転写前被成型品ストッカ（転写前基板ストッカ）１３と転写前被成型品搬送装置１５と転写後被成型品ストッカ（転写済み基板ストッカ）１７と転写後被成型品搬送装置１９とが設けられている。

転写前被成型品ストッカ１３は、転写装置５での転写がなされる前の複数の転写前被成型品Ｗを格納するストッカであり、転写前被成型品搬送装置１５は、転写前被成型品ストッカ１３に格納されている転写前被成型品Ｗを枚葉で（１枚ずつ）転写装置５に供給する装置である。

転写後被成型品ストッカ１７は、転写装置５での転写がなされた後の複数の転写後被成型品Ｗを格納するストッカであり、転写後被成型品搬送装置１９は、引き剥がし装置７でシート状モールドＭＡから引き剥がされた転写後被成型品Ｗを枚葉で転写後被成型品ストッカ１７に供給する装置である。

なお、転写前被成型品搬送装置１５は、ロボット２１とスライダ２３とを備えて構成されている。スライダ２３は、転写前被成型品ストッカ１３に格納されている転写前被成型品Ｗを枚葉で転写前被成型品ストッカ１３から取り出しロボット２１に引き渡す装置である。

また、転写後被成型品搬送装置１９は、ロボット２１とスライダ２５とを備えて構成されている。スライダ２５は、ロボット２１から受け取った転写後被成型品Ｗを、転写後被成型品ストッカ１７に枚葉で格納する装置である。

さらに、転写システム１には、シート状モールド作成装置２７が設けられている。

図２２は、シート状モールド作成装置２７の概要を示す図である。

シート状モールド作成装置２７は、シート状の素材Ｍ２の厚さ方向の一方の面に微細な転写パターンＭ１をたとえば転写によって形成してシート状モールド（シート状の型）Ｍを作成する装置である。転写システム１では、１台のシート状モールド作成装置２７に対して、１台のシート状モールド移送位置決め装置３と１台の転写装置５と１台の引き剥がし装置７とを備えて構成されている１組の移送・転写・引き剥がしユニット２９が、複数組設けられている。

すなわち、図２５で示すように、１台のシート状モールド作成装置２７に対して、複数台の移送・転写・引き剥がしユニット２９が設けられている。そして、シート状モールド作成装置２７で作成されたシート状のモールドＭが各々の移送・転写・引き剥がしユニット２９に供給されるようになっている。シート状モールド作成装置２７と移送・転写・引き剥がしユニット２９との数の比は、シート状モールド作成装置２７のタクトタイムと移送・転写・引き剥がしユニット２９のタクトタイムとを参照して、シート状モールド作成装置２７や移送・転写・引き剥がしユニット２９のあそび時間（アイドリングタイム）が最小になり、最も効率良くシート状モールドＭから被成型品Ｗへの転写がなされるように決められている。

なお、移送・転写・引き剥がしユニット２９が、転写前被成型品ストッカ１３、転写前被成型品搬送装置１５、転写後被成型品ストッカ１７、転写後被成型品搬送装置１９を備えていてもよい。

転写装置５は、たとえば、図９（ａ）で示すように、押圧体３１と被成型品Ｗを設置する被成型品設置体３３とで被成型品Ｗと平板状のシート状モールドＭＡとを挟み込み、転写をするように構成されている。

押圧体３１は、平板状の緩衝材（たとえば、紫外線が透過する硬質ゴムもしくは柔らかい樹脂等の弾性材で構成された緩衝材）３５によって、被成型品Ｗと平板状のシート状モールドＭＡとの挟み込みを行うように構成されている。

被成型品設置体３３と押圧体３１とで、シート状モールドＭＡと被成型品Ｗとを挟み込んでいる状態では、被成型品設置体３３に被成型品Ｗが接触し、被成型品Ｗにシート状モールドＭＡが接触し、シート状モールドＭＡに押圧体３１が接触している（たとえば、図１２（ａ）参照）。

転写装置５の押圧体３１は、図２１に示すように、紫外線が透過するガラス等の剛性の高い材料で構成された平板状の基材（たとえば、バックアップガラス）３７と、この基材３７を覆うように層状に設けられた緩衝材３５と、紫外線が透過しシート状モールドＭに貼り付きにくい（たとえば摩擦係数の小さい材料）材料（たとえば、ガラス、ＰＥＴ樹脂）で構成された平板状のモールド接触材３９とを備えて構成されている。モールド接触材３９は、緩衝材３５を覆うように層状（緩衝材３５の弾性変形に応じて弾性変形する程度の薄い層状）に設けられている。

なお、被成型品設置体３３と押圧体３１とで、シート状モールドＭＡと被成型品Ｗとを挟み込んでいる状態では、モールド接触材３９がシート状モールドＭＡに接触している。

モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間でたとえば水平方向に延出している平板状のシート状モールドＭＡは、シート状モールドＭが巻かれているモールド原反ＭＢから延出しているシート状モールドである（図１等参照）。

図２１で示す微細な転写パターンＭ１は、シート状モールドＭの一部である転写パターン形成領域ＡＥ１に形成されており、転写パターン形成領域以外のシート状モールドＭの部位ＡＥ２の少なくとも一部には、スペーサ（ラミネートフィルム）Ｓ１が設けられている（図２４参照）。なお、図２４（ａ）は、平板状のシート状モールドＭＡの平面図であり、図２４（ｂ）は、図２４（ａ）におけるＢ−Ｂ断面を示す図である。

ラミネートフィルムＳ１は、図２４（ｃ）（モールド原反ＭＢの断面図）で示すように、モールド原反ＭＢになっているシート状モールドＭ（Ｍｘ）の微細な転写パターンＭ１；Ｍｘ１（転写パターン形成領域ＡＥ１）が、この微細な転写パターンＭ１（Ｍｘ１）に隣接して対向しているシート状モールドＭ（Ｍｙ）に押圧されることを防ぐ（たとえば、接触することを防ぐ）ための所定の厚さになっている。

シート状のモールドＭは、すでに理解されるように、所定の幅で長く形成されている。なお、図１、図９〜図２２の紙面に直交する方向がシート状のモールドＭの幅方向になっている。

微細な転写パターンＭ１は、図２４（ａ）で示すように、たとえば、矩形状の領域ＡＥ１に形成されている。この矩形状の転写パターン形成領域ＡＥ１はシート状のモールドＭの幅よりも小さくなっている。シート状のモールドＭの厚さ方向から見ると、転写パターン形成領域ＡＥ１は、この幅方向がシート状のモールドＭの幅方向と一致して、シート状のモールドＭの中程に位置している。シート状のモールドＭの長手方向では、転写パターン形成領域ＡＥ１が、所定の間隔をあけて（ピッチｐ１で）、シート状モールドＭの長手方向に並んでいる。

シート状モールド移送位置決め装置３は、モールド原反ＭＢを設置するモールド原反設置装置（繰り出しローラ）９と、このモールド原反設置装置９に設置されているモールド原反ＭＢから繰り出している（延出している）シート状のモールドＭＡを巻き取るモールド巻き取り装置（巻き取りローラ）１１とを備えて構成されている。そして、前述したように、モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間で、シート状モールドＭＡが延出し、ほぼ平板状になっている（図１等参照）。なお、モールド原反設置装置９、モールド巻き取り装置１１は、ベッド４５に一体的に設けられている。

モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間で、平板状になっているシート状モールド（平板状のシート状モールド）ＭＡには、この長手方向（モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１とをお互いにむすぶたとえば水平な方向）で所定の張力がかかっている。これによって、平板状の形態を保つようになっている。微細な転写パターンＭ１は、図９〜図２０では図示してはいないが、前述したように、平板状のシート状モールドＭＡの下面に形成されている（図２１参照）。

モールド原反（反物状のモールド）ＭＢは、転写装置５での転写に使用される前のロール状のモールドである。モールド原反ＭＢは、シート状のモールドＭを、円柱状の芯材の外周に、この外周の周方向とシート状のモールドＭの長手方向とがお互いに一致するようにして巻き重ね、円筒状もしくは円柱状に形成されている。

モールド巻き取り装置１１で巻き取られた巻き取り済みモールドＭＣは、転写装置５での転写に使用されたモールドであり、モールド原反ＭＢと同様にしてロール状になっている。

モールド原反設置装置９に設置されているモールド原反ＭＢは、この中心軸（たとえば水平方向に延びている軸；図１や図９（ａ）等の紙面に直交する方向に延出している軸）Ｃ１を回転中心にして回転するようになっている。モールド巻き取り装置１１で巻き取られる巻き取り済みモールドＭＣも、この中心軸（軸Ｃ１と平行で水平方向に延びている軸）Ｃ２を回転中心にして回転するようになっている。

モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間に存在している平板状のシート状モールドＭＡは、前述したように、たとえば、厚さ方向が上下方向になっており、長手方向が水平な１方向であってモールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１とをお互いにむすぶ方向になっており、幅方向が水平な他の１方向であって厚さ方向と長手方向とに直交する方向になっている。

平板状のシート状モールドＭＡは、この長手方向であって、モールド原反設置装置９からモールド巻き取り装置１１に向かう方向に、ほぼ平板状の形態を保ったまま、シート状モールド移送位置決め装置３で移送位置決めされるようになっている。

シート状モールド移送位置決め装置３による１回の移送距離は、たとえば、微細な転写パターンＭ１が形成されている領域ＡＥ１のピッチｐ１と等しくなっている。また、シート状モールド移送位置決め装置３による移送がされた後は、次の移送がされるまで、モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間で延出しているシート状モールドＭＡは、所定の張力を保った状態でその位置がほぼ維持されるようになっている。

具体的には、モールド原反設置装置９に設置されているモールド原反ＭＢは、パウダークラッチ等のトルク制御クラッチを介してモータ等のアクチュエータの回転出力軸に連結されて、回転するようになっている。モールド巻き取り装置１１で巻き取られるシート状モールドＭ（巻き取り済みモールドＭＣ）は、サーボモータ等のアクチュエータの回転出力軸に連結されて、回転するようになっている。

そして、モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間で延出している平板状のシート状モールドＭＡを移送する場合には、モールド原反設置装置９のモータを逆回転させておき（平板状のシート状モールドＭＡをモールド原反設置装置９で巻き取るようにモールド原反ＭＢのモータの回転出力軸を回転させておき）、パウダークラッチのトルクを所定の値Ｔ１にしておき、モールド巻き取り装置１１のサーボモータの回転出力軸を、平板状のシート状モールドＭＡを巻き取る方向に所定のトルクＴ２で所定の回転角度だけ回転する。この場合において、モールド原反設置装置９に設置されているモールド原反ＭＢの半径を「Ｒ１」とし、モールド巻き取り装置１１における巻き取り済みモールドＭＣの半径を「Ｒ２」とすると、「Ｔ１／Ｒ１＜Ｔ２／Ｒ２」になっている。これにより、所定の張力Ｆ１（Ｆ１＝Ｔ２／Ｒ２−Ｔ１／Ｒ１）を保って、モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間で延出している平板状のシート状モールドＭＡが、モールド巻き取り装置１１側に移送されるようになっている。

シート状モールド移送位置決め装置３による平板状のシート状モールドＭＡの移送がされておらず、平板状のシート状モールドＭＡがその位置を維持している状態では、モールド巻き取り装置１１のサーボモータの回転出力軸は、所定の保持トルクで停止している。また、モールド原反設置装置９のモータとパウダークラッチとで、平板状のシート状モールドＭＡが所定の張力を得ている。

モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間で延出している平板状のシート状モールドＭＡの移送距離の決定（移送位置決め）は、シート状モールド位置検出手段１９１を備えたシート状モールド位置検出装置１８３（図１、図２６等を参照）を用いてなされるようになっている。

シート状モールド位置検出装置１８３は、平板状のシート状モールドＭＡを所定の方向（シート状モールドＭＡの長手方向；図１、図９、図２６では左から右に向かう方向）に移送して、上記長手方向の位置決めするときに、シート状モールドＭＡの所定部位を検出する装置である。

なお、上記位置決めは、前述したように、シート状モールド移送位置決め装置３によるシート状モールドＭＡの移送を停止することによってなされるものである。すなわち、シート状モールド移送位置決め装置３は、この装置でのシート状モールドＭＡの移送がなされているとき、シート状モールド位置検出手段１９１での検出結果に応じて、制御装置１７９の制御の下、移送位置決め装置３によるシート状モールドＭＡの移送を停止し、シート状モールドＭＡの位置決めをするように構成されている。

シート状モールド位置検出手段１９１は、平板状のシート状モールドＭＡにおける光の透過率の変化、シート状モールドＭＡにおける光の反射率の変化、シート状モールドＭＡに予め形成されているマーク（位置検出マーク；アイマーク）Ｍ３（図２４（ａ）参照）の少なくともいずれかを、たとえば、転写装置５の近傍で検出することによって、シート状モールドＭＡの所定部位（たとえば転写装置に対する、シート状モールドＭＡの位置）を検出するように構成されている。

なお、前記光は、所定の波長の可視光、所定の波長の近赤外線もしくは所定の波長の近紫外線である。
ここで、平板状のシート状モールドＭＡにおける光の透過率を用いたシート状モールド位置検出手段１９１について詳しく説明する。

前述したように、シート状モールドＭＡには、転写パターン形成領域ＡＥ１と転写パターン非形成領域ＡＥ２とが存在している（図２４（ａ）参照）。

シート状モールド位置検出手段１９１は、転写パターン形成領域ＡＥ１と転写パターン非形成領域ＡＥ２とにおける光の透過率の違いを検出することによって、シート状モールドの位置（所定部位）を検出するように構成されている。たとえば、転写パターン形成領域ＡＥ１と転写パターン非形成領域ＡＥ２との境界であるエッジ（所定部位）を検出することによって、シート状モールドの位置を検出するように構成されている。

すなわち、図２６（ａ）で示すように、光透過型センサ１８５の発光部１８５Ａを平板状のシート状モールドＭＡの上側に設置し、光透過型センサ１８５の受光部１８５Ｂを平板状のシート状モールドＭＡの下側に設置してある。なお、発光部１８５Ａと受光部１８５Ｂとの位置を入れ換えてあってもよい。発光部１８５Ａと受光部１８５Ｂとは、転写装置５の近傍で、転写装置５のベース部材４７に一体的に設けられている。

光透過型センサ１８５の発光部１８５Ａと光透過型センサ１８５の受光部１８５Ｂとの間を、平板状のシート状モールドＭＡの転写パターン形成領域ＡＥ１と転写パターン非形成領域ＡＥ２とが、平板状のシート状モールドＭＡの移送によって通過するようになっている。そして、光透過型センサ１８５の発光部１８５Ａと光透過型センサ１８５の受光部１８５Ｂとの間を移送される平板状のシート状モールドＭＡでの光の透過率の違いによって、平板状のシート状モールドＭＡの移送位置決めがなされるようになっている。

更に説明すると、図２４（ａ）の点Ｐ１の位置に光透過型センサ１８５が設けられているとする。光透過型センサ１８５の光の透過率は、転写パターン形成領域ＡＥ１では低く、転写パターン非形成領域ＡＥ２では高くなっているものとする。また、図２４（ａ）に示す状態では、平板状のシート状モールドＭＡが予め移送され位置決めがなされているものとする。

そして、図２４（ａ）で示す状態から、光透過型センサ１８５に対して平板状のシート状モールドＭＡを右方向に所定の距離であるピッチｐ１だけ移送して位置決めするときには、光透過型センサ１８５による光の透過率が始めは低く次に高くなりこの後低くなる。この低くなったときに、平板状のシート状モールドＭＡの移動を停止する。これにより、平板状のシート状モールドＭＡは、１ピッチｐ１だけ移送され位置決めされる。

なお、シート状モールド位置検出手段１９１において、光透過型センサ１８５の代わりに光反射型センサ１８７を採用して（図２６（ｂ）参照）、平板状のシート状モールドＭＡの移送距離の決定（移送位置決め）を行ってもよい。

すなわち、平板状のシート状モールドＭＡに光反射型センサ１８７から光を照射し、この光の平板状のシート状モールドＭＡにおける反射率の違いを、光反射型センサ１８７で検出することによって、平板状のシート状モールドＭＡの所定部位を検出し移送距離の決定を行ってもよい。なお、光反射型センサ１８７も光透過型センサ１８５と同様にして転写装置５の近傍で、転写装置５のベース部材４７に一体的に設けられている。

なお、転写パターン形成領域ＡＥ１における光の反射率は、転写パターン非形成領域ＡＥ２における光の反射率よりも、一般的には低くなっている。

このように、平板状のシート状モールドＭにおける光の透過率の違いや反射率の違いを検出することによってシート状モールドＭの所定部位を検出すれば、シート状モールドＭを、正確に位置決めすることができる。また、転写パターン形成領域ＡＥ１と転写パターン非形成領域ＡＥ２における光の透過率の違いを検出するので、シート状モールドＭに別途マークを設ける必要がなく、シート状モールドＭの製造工程を簡素化することができる。

また、シート状モールド位置検出手段１９１において、転写パターン形成領域ＡＥ１と転写パターン非形成領域ＡＥ２における光の透過率や反射率の違いを検出する代わりに、シート状モールドＭに微細な転写パターンＭ１を形成するときに生成されるエッジラインＬ１（図２４（ａ）参照）を検出することによって、シート状モールドの所定部位を検出するようにしてもよい。この場合においても、光透過型センサ１８５もしくは光反射型センサ１８７で、光の透過率や反射率を測定するものとする。

エッジラインＬ１は、詳しくは後述するが、シート状モールドＭに微細な転写パターンＭ１を形成するときに、たとえば必然的に生成される線分である。

このように、シート状モールドに微細な転写パターンＭ１を形成するときに生成されるエッジラインＬ１を検出することによってシート状モールドＭの所定部位を検出すれば、シート状モールドＭを、正確に位置決めすることができる。また、エッジラインＬ１を検出するので、シート状モールドＭに別途マークを設ける必要がなく、シート状モールドＭの製造工程を簡素化することができる。

なお、エッジラインＬ１を検出するのに、光透過型センサ１８５や光反射型センサ１８７に代えて、図２６（ｃ）で示すカメラ１８９と制御装置１７９内に設けられている画像処理装置とを用いてもよい。なお、カメラ１８９は、転写装置５のベース部材４７に一体的に設けられているものとする。

また、シート状モールド位置検出手段１９１において、平板状のシート状モールドＭＡの所定の位置に、マークＭ３（図２４（ａ）参照）を、たとえば、シート状モールド作成装置２７で予め設けておいて、そのマークＭ３をカメラ１８９（図２６（ｃ）参照）や画像処理装置で検出して、シート状モールドＭの位置決めをするように構成してもよい。

マークＭ３は、微細な転写パターンＭ１をシート状の素材Ｍ２に、たとえば、転写ロール１３１の原型から微細な転写パターンを転写して形成するときに形成されるマークである。

シート状モールドＭの所定部位であるマークＭ３は、図２２や図２３で示すマーカ（インクジェット、レーザマーカ等）１８１によって形成されるようになっている。また、マークＭ３は、図２４（ａ）で示すように、たとえば、所定のピッチｐ１で、転写パターン非形成領域ＡＥ２であってラミネートフィルムＳ１が設けられていない部位（シート状モールドＭの部位）に形成されている。なお、マークＭ３を、転写パターン非形成領域ＡＥ２であってラミネートフィルムＳ１が設けられている部位に設けてあってもよい。

マーカ１８１によるマークＭ３の形成は、図示しない制御装置の制御の下、転写ロール１３１の回転に同期してなされるようになっている。たとえば、転写パターン形成領域ＡＥ１やエッジラインＬ１やマークＭ３のピッチｐ１は、転写ロール１３１が１回転することにより形成されるものである。そこで、マーカ１８１は、転写ロール１３１の回転角度を検出可能な回転角度検出装置（図示しないロータリエンコーダ）で、モータ等のアクチュエータにより転写ロール１３１の１回転を検出し、この検出した１回転毎に、シート状モールドＭ（シート状素材Ｍ２）に、たとえば点状のマークＭ３を形成するようになっている。

このように、シート状モールドＭに形成されているマークＭ３を検出することによってシート状モールドＭの所定部位を検出すれば、シート状モールドＭを、一層正確に位置決めすることができる。

また、マークＭ３を使用して、転写装置５での転写前に、被成型品設置体３３に設置されている被成型品Ｗと、シート状モールドＭＡとの位置決めをするようにしてもよい。

この場合、被成型品Ｗの所定の位置にマークが設けられており、シート状モールドＭＡのマークＭ３と被成型品Ｗのマークとを、図示しないカメラで撮影して、画像処理装置でシート状モールドＭＡのマークＭ３に対する被成型品Ｗのマークの位置ずれ量を測定することができるようになっている。

また、ロードセル９５と下側部材５３との間には、ＸＹステージが設けられており、被成型品設置体３３に設置されている被成型品Ｗを、ＸＹ方向（被成型品Ｗの上面の展開方向）で、移動位置決めすることができるようになっている。そして、制御装置１７９の制御の下、測定した位置ずれ量が無くなるように、ＸＹステージを稼動するようになっている。

さらに、従来のように、モールド巻き取り装置１１に設けられているサーボモータの回転出力軸の回転角度を検出可能なロータリエンコーダを設けるとともに、モールド巻き取り装置１１で巻き取っている巻き取り済みモールドＭＣの外径をセンサで測定することにより、平板状のシート状モールドＭＡの移送距離の決定（移送位置決め）をするようにしてもよい。

ところで、平板状のシート状モールドＭＡの張力Ｆ１は、図９（ａ）等で示すように、テンショナ（張力検出装置）４１で検出されるようになっている。この検出結果に応じて、張力Ｆ１が所定の値になるように、パウダークラッチのトルクが制御されるようになっている。

テンショナ４１は、円柱状のローラ４３と、基台（図示せず）とを備えている。ローラ４３は、軸受け（図示せず）を介して基台（図１に示すベッド４５に一体的に設けられている基台）に設けられており、ローラ４３の中心軸（図９（ａ）等の紙面に直交する方向に延出している軸）Ｃ３を回転中心にして回転するようになっている。

また、基台と軸受けとの間には、ロードセル（図示せず）が設けられており、平板状のシート状モールドＭＡの張力に応じてローラ４３にかかる荷重を検出することができるようになっている。すなわち、ローラ４３には、平板状のシート状モールドＭＡが巻き掛けられている。この巻き掛けられているシート状のモールドＭＡが、ローラ４３の軸受けに荷重をかけるように構成されている。そして、ロードセルにかかる荷重を検出（測定）することによって、平板状のシート状モールドＭＡの張力を検出することができるようになっている。

転写装置５は、図６等で示すように、ベース部材４７と移動体４９と移動体支持体５１とを備えている。ベース部材４７は、下側部材５３と上側部材５５とタイバ（タイロッド）５７とを備えている。下側部材５３と上側部材５５と移動体４９とは、たとえば、矩形な平板状であってお互いがほぼ同形状に形成されている。

下側部材５３と上側部材５５とは、たとえば、厚さ方向が上下方向になるようにして、上下方向で所定の間隔をあけて設けられている。下側部材５３と上側部材５５とを平面視すると、お互いがほぼ重なっている。また、下側部材５３と上側部材５５とは、たとえば４本のタイバ５７によって連結されている。

タイバ５７は、たとえば円柱状に形成されており、中心軸の延伸方向が上下方向になるようにして、下側部材５３と上側部材５５との間で、下側部材５３と上側部材５５とに一体的に設けられている。平面視すると、４本のタイバ５７は、下側部材５３や上側部材５５の角部の近傍に設けられている。また、４本のタイバ５７は、下側部材５３や上側部材５５の中心に対して対称的に配置されている。すなわち、転写装置５での転写の際の押圧によって、タイバ５７に引っ張り応力が発生してごくわずかに弾性変形するのであるが、この引っ張り応力による４本のタイバ５７の僅かな延び量がお互いに等しくなるのである。

移動体支持体５１は、矩形な平板状の基部５９と「コ」字状の側部６１とをそなえてたとえば一体で形成されている。さらに説明すると、基部５９は、下側部材５３や上側部材５５と同様にして矩形な平板状に形成されており、側部６１は、基部５９の側面から基部５９の厚さ方向に起立している。そして、平面視すると（基部５９の厚さ方向から見ると）、側部６１は、「コ」字状になっており、基部５９の１つの辺と、この１つの辺に隣接している２つの辺のところに位置している。また、平面視した場合、「コ」字状の側部６１の一端部は、基部５９の１つの辺に隣接している一方の辺のほぼ中央部に位置しており、「コ」字状の側部６１の他端部は、基部５９の１つの辺に隣接している他方の辺のほぼ中央部に位置している（図８等参照）。

そして、移動体支持体５１は、基部５９の厚さ方向の一方の面（側部６１が延出している側の面）が、下側部材５３の下面に対向するようにして、下側部材５３に一体的に設けられている。また、平面視すると、移動体支持体５１の基部５９は、下側部材５３にほぼ重なっており、移動体支持体５１の側部６１は、下側部材５３から僅かに離れて下側部材５３の外周の半分を囲んでいる（下側部材５３の１つの辺とこの１つの辺に隣接している２つの辺のほぼ半分を囲んでいる）。また、側面視すると、側部６１の先端面（上面；図６参照）６３は、下側部材５３と上側部材５５との間に位置している。

移動体支持体５１と下側部材５３との接合は、下側部材５３や移動体支持体５１の基部５９の中心の近傍のみでなされている。たとえば、移動体支持体５１の基部５９の中心近傍には複数の座（基部５９の上側の面より僅かに突出しているとともに上面が平面になっている部位）６５が設けられている。座６５はたとえば４つ設けられている。平面視すると、４つの座６５は、移動体支持体５１の基部５９の中心（下側部材５３の中心）の近傍周辺に配置されている。また、基部５９の中心を中心とした小さな円を４等配する位置に、各座６５が設けられている。

移動体支持体５１の座６５の上面と下側部材５３の下面の一部とがお互いに面接触して（図８（ｃ）参照）、しかも、移動体支持体５１の他の部位が、下側部材５３等のベース部材４７とは一切接触せず支持されないように離れて、移動体支持体５１が下側部材５３にボルト６７等の締結具によって一体的に設けられている。

移動体４９は、厚さ方向が上下方向になるようにして、下側部材５３と上側部材５５との間に設けられている。平面視すると、移動体４９は下側部材５３や上側部材５５とほぼ重なっている。なお、移動体４９の角部には、切り欠き６９が設けられており、この切り欠き６９によって、移動体４９は、タイバ５７（ベース部材４７）から離れて、タイバ５７とは非接触になっている（図８（ａ）参照）。

また、移動体４９は、リニアガイドベアリング７１を介して、移動体支持体５１に支持されており、上下方向（下側部材５３と上側部材５５とをお互いにむすぶ方向；タイバ５７の中心軸の延伸方向）で移動するようになっている。

すなわち、移動体支持体５１の側部６１の一方の端部には、リニアガイドベアリング７１のレール７３が一体的に設けられている。このレール７３は上下方向に延伸している。移動体支持体５１の側部６１の他方の端部にも、リニアガイドベアリング７１のレール７３が上下方向に延伸して一体的に設けられている（たとえば、図８（ａ）、（ｂ）参照）。

移動体４９には、一対のレール７３と係合している一対のベアリング７５が一体的に設けられている。これによって、移動体４９が、リニアガイドベアリング７１のみで支持されて、下側部材５３と上側部材５５との間で、上下方向に移動自在になっている。また、平面視すると、一対のリニアガイドベアリング７１は、下側部材５３や上側部材５５や移動体４９の中心に対して対称的に（たとえば点対称の位置に）配置されている。

また、移動体４９は、たとえば、ボールねじ７７とサーボモータ７９等のアクチュエータによって、上下方向で移動位置決め自在になっている。

詳しく説明すると、図６〜図８で示すように、ボールねじ７７のねじ軸部８１の中心軸が下側部材５３の中心を通って上下方向に延伸して、ねじ軸部８１が下側部材５３に回転自在に設けられている。ボールねじ７７のねじ軸部８１は、下側部材５３に設置されている軸受け８３を介して、下側部材５３に回転自在に設けられており、下側部材５３から上方に延出している。ボールねじ７７のねじ軸部８１の上側の部位は、移動体４９に一体的に設けられたナット８５に係合している。

ボールねじ７７のねじ軸部８１の下側の部位は、カップリング８７を介してサーボモータ７９の回転出力軸に連結されている。サーボモータ７９の筐体は、筒状のスペーサ８９を介して、下側部材５３の下側で下側部材５３に一体的に設けられている。なお、サーボモータ７９やスペーサ８９と移動体支持体５１との干渉を避けるために、移動体支持体５１の基部５９の中心部には、貫通孔９１が設けられている。各座６５は、貫通孔９１の周辺近傍で、貫通孔９１のできるだけ近くに配置されている。

このように構成されていることによって、移動体４９が上下方向（上側部材５５に対して接近離反する方向）で移動位置決め自在になっている。また、微細な粉塵を発するおそれ（発塵のおそれ）がある部位（ナット８５や軸受け８３やサーボモータ７９）が、移動体４９の下側に配置されており、転写をする際に、被成型品Ｗに微細な異物が混入することを防止することができる。

なお、転写装置５とベッド４５（図１参照）との固定は、下側部材５３、移動体支持体５１の少なくともいずれかが、ベッド４５に係合することによりなされている。たとえば、下側部材５３をボルト等の締結具を用いて、ベッド４５に固定している。

上側部材５５の下面には、図９（ａ）等で示すように、押圧体３１が一体的に設けられている。押圧体３１は、上側部材５５の下面から下方に突出しており、押圧体３１の下面は水平な平面（たとえば、円形や矩形状の平面）になっており、転写をするときに、この平面がシート状のモールドＭＡに面接触するようになっている。

移動体４９の上面には、図９（ａ）等で示すように、ロードセル９５やスペーサ９７を間にして、被成型品設置体３３が一体的に設けられている。平板状のロードセル９５や平板状のスペーサ９７や被成型品設置体３３は、移動体４９の上面から上方に突出しており、被成型品設置体３３の上面は水平な平面（たとえば、円形状や矩形状の平面）になっている。

そして、被成型品Ｗの下面（平板状の被成型品Ｗの厚さ方向の一方の面；図２１で示す基材Ｗ１の下面）が、被成型品設置体３３の上面に面接触し、被成型品Ｗの厚さ方向が上下方向になるようにして、被成型品Ｗが被成型品設置体３３に載置されている。また、被成型品Ｗは、たとえば真空吸着で、被成型品設置体３３に一体的に設置されるようになっている。

上側部材５５の下面には、真空成型室９９（たとえば図１１（ａ）参照）を形成するための筒状のベローズ（上側ベローズ）１０１が下方に突出して設けられている。ベローズ１０１の基端（上端）は、上側部材５５に一体的に設けられており、ベローズ１０１の先端（下端）には、円環状の上側接触部材１０３が一体的に設けられている。上側接触部材１０３の下面は、たとえば水平な円環状の平面になっている。

上側接触部材１０３と上側部材５５とには、たとえば、図９（ａ）で示すように、エアーシリンダ１０５等のアクチュエータが設けられている。エアーシリンダ１０５は、上側部材５５に一体的に設けられており、エアーシリンダ１０５のロッド（ピストンロッド）は、上側接触部材１０３に一体的に設けられている。そして、エアーシリンダ１０５によって、ベローズ１０１が伸縮するようになっている。

エアーシリンダ１０５は、３ポジションタイプのものであり、ロッドのストロークの両端部に加えて、ロッドのストロークの中間部の所定の位置で、シリンダに対するロッドの位置を固定することができるようになっている。

そして、ロッドが最も引っ込んだ状態では、上側接触部材１０３の下面が押圧体３１の下面よりも上方に位置しており（たとえば、図９（ａ）参照）、ロッドが中間部の所定の位置に位置している状態では、上側接触部材１０３の下面が押圧体３１の下面と同じ高さに位置しており（たとえば、図１１（ｂ）参照）、ロッドが最も延出した状態では、上側接触部材１０３の下面が押圧体３１の下面よりも僅かに下方に位置するようになっている（たとえば、図１０（ａ）参照）。

平板状のスペーサ９７は、たとえば、図９（ａ）で示すように、この厚さ方向が上下方向になるようにして、ロードセル９５と被成型品設置体３３とに一体的に設けられている。ロードセル９５は、移動体４９に一体的に設けられている。

スペーサ９７の上面には、真空成型室９９を形成するための筒状のベローズ（上側ベローズと同形状に形成された下側ベローズ）１０７が上方に突出して設けられている。ベローズ１０７の基端（下端）は、スペーサ９７に一体的に設けられており、ベローズ１０７の先端（上端）には、円環状の下側接触部材（上側接触部材１０３と同形状に形成された下側接触部材）１０９が一体的に設けられている。下側接触部材１０９の上面は、たとえば、水平な円環状の平面になっている。

下側接触部材１０９とスペーサ９７とには、エアーシリンダ１１１等のアクチュエータが設けられている。エアーシリンダ１１１のシリンダは、スペーサ９７に一体的に設けられており、エアーシリンダ１１１のロッド（ピストンロッド）は、下側接触部材１０９に一体的に設けられている。そして、エアーシリンダ１１１によって、ベローズ１０７が伸縮するようになっている。

そして、ロッドが最も引っ込んだ状態では、下側接触部材１０９の上面が被成型品設置体３３の上面よりも下方に位置しており（たとえば、図９（ａ）参照）、ロッドが最も延出した状態では、下側接触部材１０９の上面が被成型品設置体３３の上よりも僅かに上方に位置するようになっている（たとえば、図１０（ａ）参照）。

なお、上側ベローズ１０１を伸縮させるエアーシリンダ１０５の推力は、下側ベローズ１０７を伸縮させるエアーシリンダ１１１の推力よりも大きくなっている。したがって、たとえば、下側接触部材１０９で上側接触部材１０３が押されても、上側ベローズ１０１を伸縮させるエアーシリンダ１０５のロッドは引っ込まない（上側ベローズ１０１が縮まず上側接触部材１０３が上方に移動しない）ようになっている。

図２１等で示すように、被成型品Ｗは、たとえば、円形状もしくは矩形状で平板状の基材（たとえばガラス板）Ｗ１と、このガラス板Ｗ１の厚さ方向の一方の面（たとえば全面）に設けられた薄膜状の紫外線硬化樹脂Ｗ２とで構成されている。転写前被成型品ストッカ１３に格納されている転写前被成型品Ｗには、前もって別の装置で、液体状で薄膜状の紫外線硬化樹脂Ｗ２が設けられているものとする。

転写装置５での転写は、薄膜状の紫外線硬化樹脂Ｗ２に微細な転写パターンＭ１を転写してなされるようになっている。なお、図２１等で示す参照符号１１３は、ロボット２１のハンドを示している。

転写装置５で転写がなされる前の状態（転写準備状態）では、移動体４９が下降端に位置している。硬化前の紫外線硬化樹脂Ｗ２が上になるようにして、被成型品Ｗが被成型品設置体３３に載置されている。各ベローズ１０１，１０７は縮んでいる。また、被成型品Ｗと押圧体３１（モールド接触材３９）とは所定の距離だけ離れている（図２１、図９（ｂ）等参照）。モールド原反設置装置９とモールド巻き取り装置１１との間で延出している平板状のシート状モールドＭＡは、移送されることなく停止している。平板状のシート状モールドＭＡは、押圧体３１と被成型品設置体３３に載置されている被成型品Ｗとの間で、押圧体３１からごく僅かに離れて（図９（ａ）に示したように僅かな距離Ｌ２だけ離れて）水平方向に延びている。

転写装置５の転写準備状態や転写している状態で平面視すると、被成型品設置体３３の上面と被成型品Ｗとが同じ大きさになっていて被成型品設置体３３の上面の全面に被成型品Ｗが被さっている。なお、被成型品Ｗのほうが被成型品設置体３３の上面よりも僅かに大きくなっていて、被成型品設置体３３の上面が被成型品Ｗの内側に位置していてもよいし、被成型品Ｗのほうが被成型品設置体３３の上面よりも僅かに小さくなっていて、被成型品設置体３３の上面の内側に被成型品Ｗが位置していてもよい。

また、転写装置５の転写準備状態や転写している状態で平面視すると、押圧体３１の下面と被成型品Ｗとが同じ大きさになっていて押圧体３１の下面の全面に被成型品Ｗが被さっている。なお、被成型品Ｗのほうが押圧体３１の下面よりも僅かに大きくなっていて、押圧体３１の下面が被成型品Ｗの内側に位置していてもよいし、被成型品Ｗのほうが押圧体３１の下面よりも僅かに小さくなっていて、押圧体３１の下面の内側に被成型品Ｗが位置していてもよい。

また、転写装置５の転写準備状態や転写している状態で平面視すると、平板状のシート状モールドＭＡの１つの転写パターン形成領域ＡＥ１と被成型品Ｗとが同じ大きさになっていて、被成型品Ｗの全体に１つの転写パターン形成領域ＡＥ１が被さっている。なお、転写パターン形成領域ＡＥ１のほうが被成型品Ｗよりも僅かに大きくなっていて、転写パターン形成領域ＡＥ１の内側に被成型品Ｗが位置していてもよいし、転写パターン形成領域ＡＥ１のほうが被成型品Ｗよりも僅かに小さくなっていて、被成型品Ｗの内側に転写パターン形成領域ＡＥ１が位置していてもよい。

なお、前述したように、図２４（ａ）等で示すように、転写パターン形成領域ＡＥ１が矩形状に形成されていてもよいし、図４や図５で示すように、円形状に形成されていてもよい。さらに、転写パターン形成領域ＡＥ１が矩形や円形以外の所定の形状に形成されていてもよい。

また、転写準備状態や転写している状態で平面視すると、円形状になっている各ベローズ１０１，１０７がお互いに重なっており、円環状の各接触部材１０３，１０９もお互いに重なっている。さらに、各ベローズ１０１，１０７と各接触部材１０３，１０９の内側に、被成型品設置体３３、被成型品Ｗ、押圧体３１が存在している。また、円環状の各接触部材１０３，１０９の直径よりも平板状のシート状モールドＭＡの幅が大きくなっており、平板状のシート状モールドＭＡの内側に各接触部材１０３，１０９が位置している（図５（ａ）参照）。なお、図５（ａ）は、平板状のシート状モールドＭＡと各接触部材１０３，１０９等の大きさや位置の関係を示す平面図であり、図５（ｂ）は、平板状のシート状モールドＭＡと各接触部材１０３，１０９等の大きさや位置の関係を示す側面図である。

すなわち、図４（ａ）で示すように、平板状のシート状モールドＭＡの幅が円環状の各接触部材１０３，１０９の直径よりも小さいと、図４（ａ）に示す部位ＡＥ３で、僅かな隙間（シート状モールドＭＡの厚みに起因する隙間）が生じてしまい、真空成型室９９の気密性が悪化する。しかし、図５（ａ）で示すように、円環状の各接触部材１０３，１０９の直径よりも平板状のシート状モールドＭＡの幅が大きくすることで、真空成型室９９の気密性を高めることができる。なお、図４（ａ）は、幅の狭い平板状のシート状モールドＭＡと各接触部材１０３，１０９等の大きさや位置の関係を示す平面図であり、図４（ｂ）は、幅の狭い平板状のシート状モールドＭＡと各接触部材１０３，１０９等の大きさや位置の関係を示す側面図である。

円環状の各接触部材１０３，１０９の直径よりも平板状のシート状モールドＭＡの幅を大きくすることで、転写をする直前や転写をするときに、各ベローズ１０１，１０７等によって真空成型室９９が形成されるが、シート状モールドＭＡで仕切られることによって、真空成型室９９は、上側真空成型室１１５と、下側真空成型室１１７とに形成されるようになっている（たとえば、図１１（ｂ）参照）。

上側真空成型室１１５は、内部に押圧体３１が位置する閉空間であり、上側部材５５とベローズ１０１とシート状モールドＭＡとで閉空間が形成される。下側真空成型室１１７は、内部に被成型品設置体３３と被成型品Ｗとが位置する閉空間であり、スペーサ９７とベローズ１０７とシート状モールドＭＡとで閉空間が形成されている。

下側真空成型室１１７と上側真空成型室１１５とは、これらの各真空成型室１１５，１１７の外部に延出している配管１１９によってお互いにつながっている。そして、図１に示す真空ポンプ１２１を用い、配管１１９によって各真空成型室１１５，１１７を同時に真空引きすることができるようになっている。真空引きをしたときには、各真空成型室１１５，１１７が等しい気圧を保って減圧されるようになっている。これにより、シート状モールドＭＡの撓みを無くすことができる。

なお、平面視において、各ベローズ１０１，１０７の中心と各接触部材１０３，１０９の中心と被成型品Ｗの中心と押圧体３１の中心と転写パターン形成領域ＡＥ１の中心とは、たとえば、お互いが一致している。

押圧体３１は、前述したように、また、図２１に示すように、基材３７と緩衝材３５とモールド接触材３９とを備えて構成されており、また、押圧体３１は、押圧体支持体１２３の下側に設けられており、押圧体支持体１２３を介してベース部材４７の上側部材５５に一体的に設けられている。なお、モールド接触材３９を削除した構成であってもよい。

基材３７と緩衝材３５とモールド接触材３９とは、たとえば、矩形な平板状に形成されており、それぞれの厚さ方向がお互いに一致するようにして基材３７、緩衝材３５、モールド接触材３９の順に重ね合わされている。また、押圧体支持体１２３の上部には、被成型品Ｗの紫外線硬化樹脂Ｗ２を硬化する紫外線を発生する紫外線発生装置１２５が設けられている（たとえば、図１２（ａ）参照）。

また、転写装置５には、転写をする場合等に平板状のシート状モールド（移送されずに停止しているシート状モールド）ＭＡの位置ずれが発生することを防止すべく、シート状モールドＭＡを一時的に保持するモールド保持機構１２７が設けられている（たとえば、図１３（ｂ）参照）。

モールド保持機構１２７は、たとえば、ベース部材４７に一体的に設けられている吸着パッド１２９によって構成されており、吸着パッド１２９でシート状モールドＭＡの上面（微細な転写パターンＭ１が形成されている面とは反対側の面）を真空吸着して、シート状モールドＭＡを保持するようになっている。

吸着パッド１２９は、平板状のシート状モールドＭＡの移送方向の上流側と下流側とで、転写装置５（各接触部材１０３，１０９）の近傍に設けられている。また、吸着パッド１２９は、前述したように、ベース部材４７に一体的に設けられているが、ベース部材４７に対して移動するようになっていてもよい。そして、平板状のシート状モールドＭＡが停止しているときには、平板状のシート状モールドＭＡに接触し、平板状のシート状モールドＭＡが移送されるときには、平板状のシート状モールドＭＡから離れるようになっていてもよい。

また、モールド保持機構１２７による平板状のシート状モールドＭＡの保持は、たとえば、転写が終わって真空成型室９９を無くすときになされるようになっている。なお、モールド保持機構１２７は、図１３（ｂ）、図１４、図１５で描いてあり、他の図では、図示を省略してある。

シート状モールド作成装置２７は、図２２で示すように、ロール・ツー・ロール方式（ロールｔｏロール方式）でモールド原反ＭＢを作成する装置であり、軸Ｃ７を中心にして回転する転写ロール１３１と軸Ｃ６を中心にして回転するバックアップロール１３３とシート状の素材（素材原反）Ｍ２を設置する素材原反設置装置１３５とシート状のモールドＭを巻き取るモールド巻き取り装置１３７とを有する。

シート状の素材Ｍ２は、厚さ方向の両面が平面状になっており、モールド原反ＭＢと同様にロール状に形成されており、円柱状の芯材にＰＥＴ樹脂等の樹脂材料で構成されたシート状の素材Ｍ２を巻き付けた素材原反になっている。

素材原反設置装置１３５に設置された素材原反から繰り出したシート状の素材Ｍ２に、微細な転写パターンを転写して設け、この転写がされたシート状の素材をモールド巻き取り装置１３７で巻き取ると、モールド原反ＭＢが生成されるようになっている。

なお、素材原反設置装置１３５に設置された素材原反は、軸Ｃ５を中心にして回転し、モールド巻き取り装置で巻き取られるモールド原反ＭＢは、軸Ｃ９を中心にして回転するようになっている。転写ロール１３１とモールド巻き取り装置１３７との間には、軸Ｃ８を中心にして回転するテンションローラ１３９が設けられている。

さらに説明すると、素材原反設置装置１３５とモールド巻き取り装置１３７との間で、素材原反から繰り出しているシート状の素材Ｍ２の一方の面に、塗工ノズル１４１によって液体状の紫外線硬化樹脂Ｗ２を膜状に塗布するようになっている。続いて、液体状の紫外線硬化樹脂Ｗ２が塗布されたシート状の素材Ｍ２を、転写ロール１３１に巻き掛けるとともに、転写ロール１３１とバックアップロール１３３とで挟み込み、紫外線発生装置１４３が発する紫外線を紫外線硬化樹脂Ｗ２に照射して紫外線硬化樹脂Ｗ２を硬化させ、転写ロール１３１から紫外線硬化樹脂Ｗ２に、転写ロール１３１の円柱側面状の外周面に予め形成されていた微細な転写パターンが転写されるようになっている。そして、図２４（ａ）で示すような、転写パターンＭ１が形成されるようになっている。

また、図２４（ａ）で示してあるエッジラインＬ１は、シート状モールドＭの長手方向で所定の間隔をあけて設けられている転写パターン形成領域ＡＥ１（お互いが隣接する一対の転写パターン形成領域ＡＥ１）の間に形成されている。また、エッジラインＬ１は、転写ロール１３１の外周の継ぎ目（図２２で示す点Ｐ２の箇所で図２２の紙面に直交する方向に直線状に延びている継ぎ目）によって形成されているものである。継ぎ目は、厚さ方向の一方の面に微細な転写パターンが形成されている矩形な薄い平板状の原型を、転写ロール１３１の外周に一体的に設置したときに、前記原型の各端部の突合せ部によって形成されるものである。実際のエッジラインＬ１は、シート状モールドＭ（素材Ｍ２に膜状に貼り付いている硬化した紫外線硬化樹脂）に形成された直線状でごく僅かに突出している凸部、もしくはごく僅かに凹んでいる凹部で形成されている。

なお、図２２で示すシート状モールド作成装置２７において、ラミネートフィルムＳ１を設置するようにしてもよい（図２３参照）。図２３で示したシート状モールド作成装置２７ａでは、微細な転写パターンが転写されたシート状の素材Ｍ２にラミネートフィルムＳ１を供給するようになっている。そして、モールド巻き取り装置１３７で巻き取られて生成されるモールド原反ＭＢには、シート状のモールドＭの間にラミネートフィルムＳ１が入り込むようになっている。

すなわち、軸Ｃ１０を中心にして回転するラミネート原反１４５からラミネートフィルムＳ１が供給されるようになっている。そして、モールド巻き取り装置１３７で巻き取られて生成されるモールド原反ＭＢでは、シート状のモールドＭの厚さ方向、ラミネートフィルムＳ１の厚さ方向が、モールド原反ＭＢの径方向と一致しているとともに、シート状のモールドＭとラミネートフィルムＳ１とが交互に重なっている（図２４（ｃ）参照）。これによって、モールド原反ＭＢにおけるシート状のモールドＭ同士の貼り付きを防止することができ、モールド原反ＭＢからのシート状のモールドＭの繰り出しがしやすくなっている。

ところで、ラミネートフィルムＳ１を、シート状のモールドＭと同じ幅にして、シート状のモールドＭの全面を覆うように設けられていてもよいが、本実施形態では、シート状のモールドＭの一部にラミネートフィルムＳ１を設けてある。

たとえば、ラミネートフィルムＳ１の幅を細くして、ラミネートフィルムＳ１をシート状のモールドＭの幅方向の両端部（転写パターン非形成領域ＡＥ２の一部）にのみ設けてある（図２４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）参照）。これにより、前述したように、モールド原反ＭＢにおいて、図２４（ｃ）で示すように、シート状モールドＭの微細な転写パターンＭ１が、これに対向しているシート状モールドＭの背面（微細な転写パターンＭ１が形成されている面とは反対側の面）に接触しないか接触しにくくなっており、微細な転写パターンＭ１の傷付きを防止することができる。

なお、ラミネートフィルムＳ１の形状を適宜変更してもよい。図２４（ａ）に二点鎖線Ｌ３で示す部位を付加し、ラミネートフィルムＳ１をはしご状（転写パターン形成領域ＡＥ１に相当する部分に、矩形な貫通孔を所定の間隔をあけて設けた形状）に形成し、転写パターン形成領域ＡＥ１を囲むようにしてもよい。

モールド原反ＭＢにラミネートフィルムＳ１を設けた場合には、図９（ａ）に二点鎖線で示すラミネートフィルム剥離装置１４６でラミネートフィルムＳ１を剥離して巻き取るようになっている。

引き剥がし装置７は、図１６（ａ）等で示すように、ベース部材１４７と被成型品保持部１４９とモールド保持部１５１とモールド挟持部１５３と離型部１５５とを備えて構成されている。

被成型品保持部１４９は、平面状の上面を備えた被成型品保持体１５７を備えており、この被成型品保持体１５７が、上下方向で移動位置決め自在なようにベース部材１４７に設けられている。すなわち、被成型品保持体１５７がリニアガイドベアリング１５９を介してベース部材１４７に設けられており、図示しないエアーシリンダ等のアクチュエータで上下方向に移動するようになっている。また、転写装置５での転写後に平板状のシート状モールドＭＡに貼り付いている被成型品Ｗの下面に、被成型品保持体１５７の上面が面接触し、たとえば真空吸着によって被成型品Ｗ（基材Ｗ１）を保持することができるようになっている。

モールド保持部１５１は、平面状の下面を備えたモールド保持体１６１を備えている。また、モールド保持体１６１は、被成型品保持体１５７の上方でベース部材１４７に設けられている。モールド保持体１６１の下面は、被成型品保持体１５７の上方で被成型品保持体１５７の上面と対向している。そして、転写後に被成型品Ｗが貼り付いている平板状のシート状モールドＭＡの上面に、モールド保持体１６１の下面が面接触し、たとえば真空吸着によって平板状のシート状モールドＭＡを保持するようになっている。

なお、これらのお互いが対向している被成型品保持体１５７の上面とモールド保持体１６１の下面との間を、転写後にお互いが貼り付いている平板状のシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとが位置するように、シート状モールドＭＡがシート状モールド移送位置決め装置３で移送位置決めされるようになっている。また、シート状モールドＭＡと被成型品Ｗとの厚さ方向が被成型品保持体１５７の上面やモールド保持体１６１の下面と直交している。

転写装置５で転写がされた被成型品Ｗが、シート状モールドＭＡに貼り付いたまま転写装置５から引き剥がし装置７に移送されるのであるが、転写装置５と引き剥がし装置７との間に、所定の間隔（図２４（ａ）で示すピッチｐ１）をあけて、単数もしくは複数の被成型品（シート状モールドＭＡに貼り付いている被成型品）Ｗが存在していてもよい（たとえば、図５参照）。これによって、転写装置５と引き剥がし装置７との距離を大きくとることができる。

また、すでに理解されるように、被成型品保持体１５７が上昇端に位置しているときには、被成型品保持体１５７の上面が平板状のシート状モールドＭＡに貼り付いている被成型品Ｗに接触するようになっている。一方、被成型品保持体１５７が下降端に位置しているときには、被成型品保持体１５７の上面が平板状のシート状モールドＭＡに貼り付いている被成型品Ｗの下方で被成型品保持体１５７から所定の距離だけ離れている。

モールド保持体１６１は、平板状のシート状モールドＭＡの移送方向の上流側（図１６（ａ）の左側）で平板状のシート状モールドＭＡの幅方向に延伸している軸Ｃ１２を回動中心にして回動するように、ベース部材１４７に設けられている。そして、常態では、モールド保持体１６１の下面が、図示しないストッパによって水平になっており、シート状モールドＭＡの水平な上面に接触している。また、モールド保持体１６１が回動することにより、モールド保持体１６１の下流側が持ち上がり、モールド保持体１６１の下面が僅かに斜めになるようになっている（図１８（ａ）等を参照）。

モールド挟持部１５３は、平板状のシート状モールドＭＡの移送方向の下流側で、モールド保持体１６１に設けられている。モールド挟持部１５３は、棒状のモールド挟持体１６３を備えており、モールド挟持体１６３は、細長い平面状の上面を備えている。この上面はモールド保持体１６１の下面と対向しているとともに、上面の長手方向が平板状のシート状モールドＭＡの幅方向と一致しており、モールド挟持体１６３の上面の幅方向が、平板状のシート状モールドＭＡの長手方向（図１６（ａ）の左右方向）と一致している。

また、モールド挟持体１６３は、モールド保持体１６１に対して接近離反する方向で移動自在なように、図示しないリニアガイドベアリングを介してモールド保持体１６１に設けられている。

そして、エアーシンリンダ１６５等のアクチュエータでモールド挟持体１６３がモールド保持体１６１側に移動することによって、モールド挟持体１６３とモールド保持体１６１とが協働してシート状モールドＭＡを挟み込むようになっている（たとえば、図１７（ｂ）参照）。一方、モールド挟持体１６３がモールド保持体１６１から離れる側に移動することによって、シート状モールドＭＡの挟持が解除されるようになっている。

なお、モールド挟持体１６３は、被成型品保持体１５７とは干渉しない位置に設けられており、また、モールド挟持体１６３とモールド保持体１６１とで、被成型品Ｗを挟み込むことが無いようになっている。

離型部１５５は、平板状のシート状モールドＭＡの移送方向の下流側でベース部材１４７に設けられている。離型部１５５は、離型体１６７を備えており、この離型体１６７をエアーシリンダ１６９等のアクチュエータで上昇させることにより、離型体１６７でモールド保持体１６１（モールド挟持体１６３）を押し上げ、モールド保持体１６１を回動させ、前述したように、モールド保持体１６１の下面を斜めにすることができるようになっている。なお、離型体１６７でモールド保持体１６１を押し上げていない状態では、離型体１６７が下方に位置してモールド保持体１６１（モールド挟持体１６３）から離れている。

また、平板状のシート状モールドＭＡの移送方向における引き剥がし装置７の下流には、モールド長調整装置１７１が設けられている。モールド長調整装置１７１は、ベース部材１４７に一体的に支持されているガイドレール１７３と、ガイドレール１７３に係合して上下方向に移動自在になっている軸受け部材１７５と、この軸受け部材１７５に軸（軸Ｃ１２や図９（ａ）で示す軸Ｃ３に平行な軸）Ｃ４を回転中心にして回転自在に設けられているローラ１７７とを備えて構成されている。ローラ１７７の下方側には、シート状のモールドＭが巻き掛けられている。

さらに、軸受け部材１７５は、図示しない付勢手段によって、たとえば、シート状モールドＭＡを下方に一定の力で付勢している。具体的には、図示しない空気圧シリンダによって、軸受け部材１７５が付勢されている。この空気圧シリンダに供給される圧縮空気の配管部には、図示しないレギュレータとリリーフバルブとが接続されており、空気圧シリンダからのロッドの延出量にかかわらず、常に一定の付勢力を軸受け部材１７５に与えることができるようになっている。

シート状モールド移送位置決め装置３で平板状のシート状モールドＭＡを移送するときには、図１６（ａ）等で示すように、被成型品保持体１５７の上面はシート状モールドＭＡや被成型品Ｗの下方でシート状モールドＭＡや被成型品Ｗから離れており、モールド保持体１６１の下面は、水平になってシート状モールドＭＡの上面に接触しているかもしくはごく僅かに離れている。また、離型体１６７は、下方に位置しており、モールド挟持体１６３も下方に位置してモールドを挟んでいない。

シート状モールド移送位置決め装置３での平板状のシート状モールドＭＡの移送が終了して、シート状モールドＭＡから被成型品Ｗを引き剥がすときには、たとえば、図１７（ａ）で示すように、被成型品保持体１５７が上昇して、真空吸着により被成型品Ｗを保持し、真空吸着によりモールド保持体１６１でシート状モールドＭＡを保持するようになっている。

そして、図１８（ａ）等で示すように、モールド挟持体１６３とモールド保持体１６１とで、シート状モールドＭＡを挟持し、離型体１６７を上昇してモールド保持体１６１（モールド挟持体１６３）を回動し、シート状モールドＭＡと被成型品Ｗとの分離をするようになっている。このときに、モールド原反設置装置９（転写装置５）とモールド巻き取り装置１１との間で延びている平板状のシート状モールドＭＡの長さに変化が生じるので、この変化をモールド長調整装置１７１で吸収し、シート状モールドＭＡにやたらな張力を発生させることなく（張力をほぼ一定にしておいて）、モールド保持体１６１（モールド挟持体１６３）の回動を可能にしている。

なお、モールド引き剥がし装置７のベース部材１４７は、ベッド４５に一体的に設けられている。また、モールド引き剥がし装置７でのシート状モールドＭＡからの被成型品Ｗの引き剥がしは、転写装置５による転写がされているとき（より具体的には、押圧体３１と被成型品設置体３３とで、シート状モールドＭＡと被成型品Ｗとの挟み込みをしているとき）になされるようになっている。

次に、転写システム１の動作を説明する。

初期状態では、図９（ａ）で示すように、モールド原反設置装置９にモールド原反ＭＢが設置されており、モールド巻き取り装置１１とモールド原反設置装置９との間に、平板状のシート状モールドＭＡが適宜の張力で存在している。また、シート状モールドＭＡの転写パターン形成領域ＡＥ１が、転写装置５での転写がなされる位置に位置している。

転写装置５の真空成型室９９は開放されており（各ベローズ１０１，１０７が縮んでおり）、移動体４９は下降しており、紫外線発生装置１２５は、停止して紫外線を発生していない。なお、図９（ａ）で示す距離（押圧体３１の下面と平板状のシート状モールドＭＡの上面との間の距離）Ｌ２は、実際には、ごく僅かな距離になっている。

また、上記初期状態では、図１６（ａ）で示すように、引き剥がし装置７の被成型品保持体１５７は下降しており、モールド保持体１６１は回動しておらず、モールド保持体１６１の下面は水平になっている。モールド挟持体１６３は下方に位置して、シート状モールドＭＡを挟持しておらず、離型体１６７は下方に位置しており、被成型品保持体１５７の押し上げをしていない。さらに、被成型品Ｗが貼り付いているシート状モールドＭＡが、引き剥がし装置７での引き剥がしに適した適宜の位置に位置している。

まず、転写装置５の動作について説明する。

上記初期状態において、制御装置１７９の制御の下、転写前被成型品搬送装置１５によって転写前の被成型品Ｗを、転写装置５の被成型品設置体３３に設置する（図９（ｂ）参照）。

続いて、各エアーシリンダ１０５，１１１で上下の各ベローズ１０１，１０７を延ばし（図１０（ａ）参照）。移動体４９を上昇して真空成型室９９を形成し（図１０（ｂ）参照）、真空成型室９９内を真空ポンプ（図２等参照）１２１によって減圧してほぼ真空の状態にする（図１１（ａ）参照）。

続いて、真空成型室９９を維持したまま、上側のエアーシリンダ１０５を中間位置にし、移動体４９をごく僅かにさらに上昇させ、平板状のシート状モールドＭＡを押圧体３１（モールド接触材３９）に接触させ（図１１（ｂ）等参照）、移動体４９を僅かにさらに上昇し、押圧体３１と被成型品設置体３３とで被成型品Ｗとシート状モールドＭＡとを挟み込んで押圧し、紫外線発生装置１２５が発する紫外線を被成型品Ｗの紫外線硬化樹脂Ｗ２に照射して、紫外線硬化樹脂Ｗ２を硬化させる（図１２（ａ）参照）。

続いて、真空成型室９９を大気圧に戻し（図１２（ｂ）参照）、上側のエアーシリンダ１０５で上側接触部材１０３を下降させるとともに移動体４９をごくわすかに下降して、お互いが貼り付いているシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとを、押圧体３１と被成型品設置体３３から離す（図１３（ａ）参照）。

続いて、モールド保持機構１２７でシート状モールドＭＡを保持し（図１３（ｂ）参照）、各エアーシリンダ１０５，１１１で上下の各ベローズ１０１，１０７を縮めて、真空成型室９９を開放し（無くし、図１４（ａ）参照）、移動体４９をさらに下降する（図１４（ｂ）参照）。

続いて、モールド保持機構１２７でのシート状モールドＭＡの保持を止めて、シート状モールド移送位置決め装置３で、シート状モールドＭＡを被成型品Ｗが貼り付いたまま引き剥がし装置７に移送し（図１５参照）、次の転写にそなえる。

次に、引き剥がし装置７の動作について説明する。

上記初期状態において、制御装置１７９の制御の下、被成型品保持体１５７を上昇して、被成型品保持体１５７とモールド保持体１６１とでシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとを挟み込み（図１６（ｂ）参照）、真空吸着によって被成型品保持体１５７で被成型品Ｗを保持し、真空吸着によってモールド保持体１６１でシート状モールドＭＡを保持する（図１７（ａ）参照）。

続いて、モールド挟持体１６３を上昇して、モールド挟持体１６３とモールド保持体１６１とでシート状モールドＭＡを挟み込み（図１７（ｂ）参照）、離型体１６７を上昇してモールド保持体１６１を回動し、被成型品（転写後被成型品）Ｗからシート状モールドＭＡを引き剥がし（図１８（ａ）参照）、被成型品保持体１５７を下降する（図１８（ｂ）参照）。

続いて、被成型品保持体１５７での真空吸着を停止し（図１９（ａ）参照）、転写後被成型品搬送装置１９によって、被成型品Ｗを搬出し（図１９（ｂ）参照）、離型体１６７を下降してモールド保持体１６１の下面を水平にし、モールド挟持体１６３を下降してシート状モールドＭＡの挟持を止め、モールド保持体１６１での真空吸着を止め（図２０（ａ）参照）、シート状モールド移送位置決め装置３でシート状モールドＭＡを移送し、上述した初期状態になる（図２０（ｂ）参照）。

転写システム１によれば、転写装置５で転写を行い、シート状モールドＭＡと被成型品Ｗとがお互いにくっついている状態でシート状モールドＭＡを移送し、転写装置５から離れて別個に設けられている引き剥がし装置７でシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとの引き剥がし行うので、換言すれば、転写と引き剥がしとを別の箇所の別工程で行うので、転写と引き剥がしとを並行して行うことができ、シート状のモールドＭＡに形成されている微細な転写パターンＭ１を被成型品Ｗに転写するに際し、転写がされた被成型品Ｗを効率よく得ることができる（転写のスループットを短縮することがきる）。

また、引き剥がし装置７を転写装置５から離して設けることができるので、引き剥がし装置７の設置スペースに余裕が生じ、無理の無い設計思想で転写装置５や引き剥がし装置７を作成することができる。また、転写前被成型品搬送装置１５や転写後被成型品搬送装置１９の設置がしやすくなる。

また、転写システム１によれば、処理の能力の高い（タクトタイムの短い）１台のシート状モールド作成装置２７に対して、シート状モールド作成装置２７よりも処理能力が低い（タクトタイムの長い）転写装置５等を複数台設けてあるので（図２５参照）、シート状モールド作成装置２７の台数を少なくすることができ、転写システム１を簡素化し安価にすることができる。

また、転写システム１によれば、転写装置５に緩衝材３５を設けているので、転写の際に均一な圧力でシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとを挟み込むことができ、転写抜けの発生を抑制することができる。

さらに、転写システム１によれば、転写装置５の緩衝材３５にモールド接触材３９を設けてあるので、転写の際におけるシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとの挟み込みをして転写をし、この転写後に押圧体３１をシート状モールドＭＡから離すときに、押圧体３１がシート状モールドＭＡに貼り付きにくくなっており、転写後の挟み込みの開放を確実に行うことができる。

また、転写システム１によれば、ラミネートフィルムＳ１が設けられているので、モールド原反ＭＢにおける微細な転写パターンＭ１の傷付きを回避することができる。

なお、上記説明では、シート状モールド作成装置２７、転写装置５において、ＵＶインプリント法をすることを例に掲げて説明したが、シート状モールド作成装置２７、転写装置５において、熱インプリント法をするようにしてもよい。

１ 転写システム
３ シート状モールド移送位置決め装置
５ 転写装置
７ 引き剥がし装置
２７、２７ａ シート状モールド作成装置
２９ 移送・転写・引き剥がしユニット
３１ 押圧体
３３ 被成型品設置体
３５ 緩衝材
３７ 基材
３９ モールド接触材
１８３ シート状モールド位置検出装置
１９１ シート状モールド位置検出手段
ＡＥ１ 転写パターン形成領域
ＡＥ２ 転写パターン非形成領域
Ｌ１ エッジライン
Ｍ，ＭＡ シート状モールド
Ｍ１ 微細な転写パターン
Ｍ３ マーク
ＭＢ モールド原反
Ｓ１ ラミネートフィルム
Ｗ 被成型品

Claims (3)

1. 微細な転写パターンが形成されているシート状モールドを所定の方向に移送して位置決めするときに使用されるシート状モールド位置検出装置において、
   前記シート状モールドにおける光の透過率または反射率を検出することによって、前記シート状モールドの所定部位を検出するシート状モールド位置検出手段を有し、
   前記シート状モールド位置検出手段は、前記シート状モールドの表面を測定可能なように、ベース部材に固定して配置されていることを特徴とするシート状モールド位置検出装置。
2. 請求項１に記載のシート状モールド位置検出装置を備えていることを特徴とする転写装置。
3. 請求項１に記載のシート状モールド位置検出装置を用いてシート状モールドを位置決めする位置決め工程と、
   前記位置決め工程で位置決めがされた前記シート状モールドから被成型品に微細な転写パターンを転写する転写工程と、
   を有することを特徴とする転写方法。

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