JP5538391B2

JP5538391B2 - 排ガス浄化用触媒

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Publication number: JP5538391B2
Application number: JP2011523688A
Authority: JP
Inventors: 悟司松枝; 章雅平井; 健一滝; 慶一成田; あすか堀; 正裕日下
Original assignee: Cataler Corp
Current assignee: Cataler Corp
Priority date: 2009-07-24
Filing date: 2010-07-22
Publication date: 2014-07-02
Anticipated expiration: 2030-07-22
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Description

本発明は、排ガス浄化用触媒に関する。

自動車などの自動推進車両の多くは、排ガス浄化用触媒として三元触媒を搭載している。三元触媒は、触媒金属として貴金属を含んでいる。貴金属は、炭化水素（ＨＣ）及び一酸化炭素（ＣＯ）の酸化反応並びに窒素酸化物（ＮＯ_x）の還元反応を促進する。

特開昭６３−１１６７４１号、特開平０１−２４２１４９号及び特開平１０−２０２１０１号には、酸化セリウムと酸化ジルコニウムとの複合酸化物と、この複合酸化物に担持された貴金属とを含んだ排ガス浄化用触媒が記載されている。これら排ガス浄化用触媒において、複合酸化物は、酸素貯蔵能を有している酸素貯蔵材料である。酸素貯蔵材料は、先の還元反応及び酸化反応を最適化し得る。

上述した排ガス浄化用触媒において、例えば、酸性酸化物と貴金属を担持した酸素貯蔵材料とを混合して使用すると、硫黄による貴金属の被毒を抑制することができる。しかしながら、本発明者らは、そのような排ガス浄化用触媒には、長期間に亘る使用後におけるＮＯ_x浄化性能について改善の余地があると考えている。

そこで、本発明は、長期間に亘る使用後におけるＮＯ_x浄化性能を向上させるのに有利な技術を提供することを目的とする。

本発明の一側面によると、酸素貯蔵材料からなる複数の第１粒子と、前記複数の第１粒子間に位置し、１つ以上の酸性酸化物からなる複数の第２粒子と、前記複数の第１粒子間に位置し、１つ以上の貴金属元素からなる複数の第３粒子とを含み、エネルギー分散型Ｘ線分光法を用いた線分析を５００ｎｍの長さに亘って行うことによって得られる、前記１つ以上の酸性酸化物の酸素以外の構成元素の１つの第１特性Ｘ線強度のスペクトル及び前記１つ以上の貴金属元素の１つの第２特性Ｘ線強度のスペクトルは、０．７０以上の相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を有しており、前記相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）は等式：

から算出され、この等式において、Ｉ_AO（Ａｖ）及びＩ_PM（Ａｖ）は、それぞれ、５００ｎｍの長さについて得られる前記第１及び第２特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_AO（ｎ）及びＩ_PM（ｎ）は、それぞれ、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られる前記第１特性Ｘ線強度の平均値及び前記第２特性Ｘ線強度の平均値を表している排ガス浄化用触媒が提供される。

本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒を概略的に示す斜視図。図１に示す排ガス浄化用触媒の一部を拡大して示す断面図。図１に示す排ガス浄化用触媒の一部を更に拡大して示す図。一変形例に係る排ガス浄化用触媒の一部を拡大して示す断面図。白金に対するパラジウムの質量比が耐久試験後のＮＯ_x浄化性能に及ぼす影響の例を示すグラフ。貴金属に対するセリウム以外の希土類元素の質量比が耐久試験後のＮＯ_x浄化性能に及ぼす影響の例を示すグラフ。白金に対するパラジウムの質量比が耐久試験後のＮＯ_x浄化性能に及ぼす影響の他の例を示すグラフ。貴金属に対する酸性酸化物の質量比が耐久試験後のＮＯ_x浄化性能に及ぼす影響の例を示すグラフ。

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら説明する。なお、全ての図面を通じて同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。

図１は、本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒を概略的に示す斜視図である。図２は、図１に示す排ガス浄化用触媒の一部を拡大して示す断面図である。図３は、図１に示す排ガス浄化用触媒の一部を更に拡大して示す断面図である。

図１乃至図３に示す排ガス浄化用触媒１は、モノリス触媒である。この排ガス浄化用触媒１は、モノリスハニカム基材などの基材２を含んでいる。基材２は、典型的には、コージェライトなどのセラミックス製である。

基材２の隔壁上には、触媒層３が形成されている。触媒層３は、複数の第１粒子３１と、複数の第２粒子３２と、複数の第３粒子３３とを含んでいる。

第１粒子３１は、触媒層３中で均一に分布している。粒子３１の各々は、酸素貯蔵材料からなる。酸素貯蔵材料は、酸素過剰条件下で酸素を吸蔵し、酸素希薄条件下で酸素を放出して、ＨＣ及びＣＯの酸化反応並びにＮＯ_xの還元反応を最適化する。

酸素貯蔵材料は、例えば、セリア、セリアと他の金属酸化物との複合酸化物、又はそれらの混合物である。複合酸化物としては、例えば、セリアとジルコニアとの複合酸化物を使用することができる。

粒子３１の平均粒径は、例えば０．００５μｍ乃至０．１μｍの範囲内にあり、典型的には０．０１μｍ乃至０．０３μｍの範囲内にある。なお、この「平均粒径」は、後述する「一次粒子」の平均粒径であり、以下の方法によって得られる値を意味している。

まず、排ガス浄化用触媒１から触媒層３の一部を除去する。次に、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、この試料のＳＥＭ像を、５００００倍乃至２０００００倍の範囲内の倍率で撮影する。次いで、このＳＥＭ像に写っている酸素貯蔵材料の中から、全体が見えている粒子を選択し、選択した各粒子の面積を求める。これら面積と等しい面積を有している円の直径をそれぞれ算出し、更に、これら直径の算術平均を求める。この算術平均を平均粒径とする。

第２粒子３２は、酸性酸化物からなる。酸性酸化物は、貴金属の硫黄による被毒を抑制する。粒子３２は、酸性酸化物を１つのみ含んでいてもよく、酸性酸化物を２つ以上含んでいてもよい。酸性酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化珪素又は酸化タングステンを使用することができる。

粒子３２は、第１粒子３１に担持されており、粒子３１間に位置している。典型的には、粒子３２は、粒子３１と均一に混合されている。例えば、粒子３１及び３２は、それらの一方のみからなる集合体を殆ど生じることなしに、均一な混合物を形成している。即ち、触媒層３では、例えば、酸素貯蔵材料のみからなる二次粒子と酸性酸化物のみからなる二次粒子とは殆ど存在しておらず、酸素貯蔵材料からなる一次粒子と酸性酸化物からなる一次粒子とが均一な混合物を形成している。

触媒層３の質量又は粒子３１乃至３４の質量の和に対する粒子３２の質量の比は、例えば０．１質量％乃至５質量％の範囲内にあり、典型的には０．１質量％乃至３質量％の範囲内にある。また、粒子３３の質量に対する粒子３２の質量の比は、例えば０．２乃至１０の範囲内にあり、典型的には０．２乃至６の範囲内にある。これら質量比を上記の範囲内とすると、これら質量比を先の範囲外とした場合と比較して、長期間に亘る使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を高めることができる。

粒子３２の平均粒径は、例えば０．００５μｍ乃至０．０５０μｍの範囲内にあり、典型的には０．０１μｍ乃至０．０２μｍの範囲内にある。なお、この「平均粒径」は、上述した「一次粒子」の平均粒径であり、酸素貯蔵材料の平均粒径について説明したのと同様の方法によって得られる値を意味している。

第３粒子３３は、貴金属元素からなる。粒子３３は、粒子３１及び３２の少なくとも一方に担持されており、粒子３１間に位置している。典型的には、粒子３３は、粒子３１と均一に混合されている。例えば、粒子３１及び３３は、それらの一方のみからなる集合体を殆ど生じることなしに、均一な混合物を形成している。即ち、触媒層３では、例えば、酸素貯蔵材料のみからなる二次粒子と貴金属のみからなる二次粒子とは殆ど存在しておらず、酸素貯蔵材料からなる一次粒子と貴金属からなる一次粒子とが均一な混合物を形成している。

貴金属元素は、ＨＣ及びＣＯの酸化反応並びにＮＯ_xの還元反応を促進する。また、酸素貯蔵材料に担持されている貴金属元素は、酸素貯蔵材料の酸素貯蔵能を向上させる。

貴金属元素は、例えば、パラジウム、白金及びロジウムなどの白金族元素である。粒子３３は、貴金属元素を１つのみ含んでいてもよく、貴金属元素を２つ以上含んでいてもよい。例えば、粒子３３は、貴金属元素として、パラジウムのみを含んでいてもよく、パラジウムと白金との混合物を含んでいてもよい。

粒子３３がパラジウムと白金との混合物からなる場合、パラジウムと白金との質量比は、例えば２乃至８０の範囲内とし、典型的には１０乃至４０の範囲内とする。パラジウムと白金との質量比を上記の範囲内とすると、この質量比を先の範囲外とした場合と比較して、長期間に亘る使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を高めることができる。

粒子３３の平均粒径は、粒子３１の平均粒径と比較してより小さい。粒子３３の平均粒径は、例えば０．５ｎｍ乃至１０ｎｍの範囲内にあり、典型的には１ｎｍ乃至５ｎｍの範囲内にある。なお、この「平均粒径」は、上述した「一次粒子」の平均粒径であり、酸素貯蔵材料の平均粒径について説明したのと同様の方法によって得られる値を意味している。

粒子３２及び３３が粒子３１と均一に混合されている場合、例えば、粒子３１乃至３３は、それらの１つのみからなる集合体を殆ど生じることなしに、均一な混合物を形成している。即ち、触媒層３では、例えば、酸素貯蔵材料のみからなる二次粒子と酸性酸化物のみからなる二次粒子と貴金属元素のみからなる二次粒子とは殆ど存在しておらず、酸素貯蔵材料からなる一次粒子と酸性酸化物からなる一次粒子と貴金属元素からなる一次粒子とが均一な混合物を形成している。

この排ガス浄化用触媒１の触媒層３では、粒子３１乃至３３の各々は比較的均一に分布している。具体的には、この触媒層３に対して、エネルギー分散型Ｘ線分光法を用いた線分析を５００ｎｍの長さに亘って行った場合、酸性酸化物が含んでいる酸素以外の元素の１つについて得られる第１特性Ｘ線強度のスペクトルと、貴金属元素の１つについて得られる第２特性Ｘ線強度のスペクトルとは、０．７０以上の相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を有している。そして、粒子３２が酸性酸化物を２つ以上含んでいるか、又は、粒子３３が貴金属元素を２つ以上含んでいる場合、典型的には、粒子３２が含んでいる酸素以外の元素と粒子３３が含んでいる貴金属元素との全ての組み合わせについて、第１及び第２特性Ｘ線強度のスペクトルは、０．７０以上の相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を有している。
ここで、相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）は、下記等式（１）から算出される値である。

この等式（１）において、Ｉ_AO（Ａｖ）及びＩ_PM（Ａｖ）は、それぞれ、５００ｎｍの長さについて得られる第１及び第２特性Ｘ線強度の平均値を表している。Ｉ_AO（ｎ）及びＩ_PM（ｎ）は、それぞれ、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られる第１特性Ｘ線強度の平均値及び第２特性Ｘ線強度の平均値を表している。

なお、エネルギー分散型Ｘ線分光法を用いた線分析は、触媒層３の表面に対して行ってもよく、触媒層３の断面に対して行ってもよい。後者の場合、線分析の方向は、触媒層３の厚さ方向であってもよく、厚さ方向に対して垂直な方向であってもよい。

この触媒層３では、上記の通り、粒子３１乃至３３の各々は比較的均一に分布している。そのため、この触媒層３では、粒子３３のうち粒子３２の近傍に位置しているものの割合が高い。従って、硫黄による貴金属の被毒を効果的に抑制することができる。

また、この触媒層３では、隣り合った粒子３２間に粒子３１が存在している確率が高く、隣り合った粒子３３間に粒子３１が存在している確率も高い。それゆえ、粒子３１及び粒子３２のシンタリングは生じ難い。

従って、この排ガス浄化用触媒１は、優れたＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を長期間に亘って発揮し得る。

上述した排ガス浄化用触媒１には、様々な変形が可能である。
図４は、一変形例に係る排ガス浄化用触媒の一部を拡大して示す断面図である。

図４に示す排ガス浄化用触媒１は、触媒層３が複数の第４粒子３４を更に含んでいること以外は、図１乃至図３を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒１と同様である。

第４粒子３４は、セリウム以外の希土類元素及び／又はその化合物からなる。粒子３４は、セリウム以外の希土類元素を１つのみ含んでいてもよく、２つ以上含んでいてもよい。或いは、粒子３４は、セリウム化合物以外の希土類元素化合物を１つのみ含んでいてもよく、２つ以上含んでいてもよい。或いは、粒子３４は、セリウム以外の１つ以上の希土類元素とセリウム化合物以外の１つ以上の希土類元素化合物との混合物であってもよい。セリウム以外の希土類元素としては、例えば、ランタン又はネオジムを使用することができる。

セリウム以外の希土類元素及び／又はその化合物は、水蒸気改質反応及び水性ガスシフト反応を促進する。これら反応によって生じる水素は、ＮＯ_xの浄化に利用され得る。なお、粒子３４は、粒子３１と比較して酸素貯蔵能が低い。典型的には、粒子３４は酸素貯蔵能を有していない。

第４粒子３４は、第１粒子３１に担持されており、粒子３１間に位置している。典型的には、粒子３４は、粒子３１と均一に混合されている。例えば、粒子３１及び３４は、それらの一方のみからなる集合体を殆ど生じることなしに、均一な混合物を形成している。即ち、触媒層３では、例えば、酸素貯蔵材料のみからなる二次粒子とセリウム以外の希土類元素及び／又はその化合物のみからなる二次粒子とは殆ど存在しておらず、酸素貯蔵材料からなる一次粒子とセリウム以外の希土類元素及び／又はその化合物からなる一次粒子とが均一な混合物を形成している。

触媒層３の質量又は粒子３１乃至３４の質量の和に対する粒子３４が含んでいる希土類元素の質量の比は、例えば０．１質量％乃至１２質量％の範囲内にあり、典型的には０．１質量％乃至１０質量％の範囲内にある。また、粒子３３の質量に対する粒子３４が含んでいる希土類元素の質量の比は、例えば０．１乃至１２の範囲内にあり、典型的には０．１乃至１０の範囲内にある。これら質量比を上記の範囲内とすると、これら質量比を先の範囲外とした場合と比較して、長期間に亘る使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を高めることができる。

粒子３４の平均粒径は、例えば０．００５μｍ乃至０．０５０μｍの範囲内にあり、典型的には０．０１μｍ乃至０．０２μｍの範囲内にある。なお、この「平均粒径」は、上述した「一次粒子」の平均粒径であり、酸素貯蔵材料の平均粒径について説明したのと同様の方法によって得られる値を意味している。

この排ガス浄化用触媒１の触媒層３では、粒子３１乃至３４の各々は比較的均一に分布している。

具体的には、この触媒層３に対して、エネルギー分散型Ｘ線分光法を用いた線分析を５００ｎｍの長さに亘って行った場合、酸性酸化物が含んでいる酸素以外の元素の１つについて得られる第１特性Ｘ線強度のスペクトルと、貴金属元素の１つについて得られる第２特性Ｘ線強度のスペクトルとは、０．７０以上の相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を有している。そして、粒子３２が酸性酸化物を２つ以上含んでいるか、又は、粒子３３が貴金属元素を２つ以上含んでいる場合、典型的には、粒子３２が含んでいる酸性酸化物の酸素以外の元素と粒子３３が含んでいる貴金属元素との全ての組み合わせについて、第１及び第２特性Ｘ線強度のスペクトルは、０．７０以上の相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を有している。

また、セリウム以外の希土類元素の１つについて得られる第３特性Ｘ線強度のスペクトルと、貴金属元素の１つについて得られる第２特性Ｘ線強度のスペクトルとは、例えば０．６８以上の、典型的には０．７０以上の相関係数σ（ＲＥ，ＰＭ）を有している。そして、粒子３４がセリウム以外の希土類元素を２つ以上含んでいるか、又は、粒子３３が貴金属元素を２つ以上含んでいる場合、典型的には、セリウム以外の希土類元素と貴金属元素との全ての組み合わせについて、第２及び第３特性Ｘ線強度のスペクトルは、例えば０．６８以上の、典型的には０．７０以上の相関係数σ（ＲＥ，ＰＭ）を有している。
ここで、相関係数σ（ＲＥ，ＰＭ）は、下記等式（２）から算出される値である。

この等式（２）において、Ｉ_RE（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られる第３特性Ｘ線強度の平均値を表している。Ｉ_RE（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られる第３特性Ｘ線強度の平均値を表している。

この触媒層３では、上記の通り、粒子３１乃至３４の各々は比較的均一に分布している。従って、この構成を採用すると、図１乃至図３を参照しながら説明したのと同様の効果を得ることができる。また、この触媒層３では、粒子３４のうち粒子３３の近傍に位置しているものの割合が高い。それゆえ、水蒸気改質反応及び水性ガスシフト反応によって生じる水素を、ＮＯ_xの浄化により効果的に利用することができる。

図１乃至図４を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒１では、触媒層３は単層構造を有している。その代わりに、触媒層３は、多層構造を有していてもよい。この場合、触媒層３が含んでいる層の１つ以上が図１乃至図４を参照しながら説明した構成を有していれば、上述した効果を得ることができる。

また、図１乃至図４を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒１はモノリス触媒であるが、上述した技術はペレット触媒に適用することも可能である。

以下、本発明の例について説明する。
＜触媒Ｃ１の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ３００ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ３００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ４０ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これに酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のランタンを含んだ５０ｇの硝酸ランタン溶液と、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液とを添加した。この混合液に濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

次いで、得られた共沈物を濾過によって溶液から分離し、これを純水で洗浄した。この共沈物を１１０℃で乾燥させた後、大気中、７００℃で５時間に亘って焼成して、粉末状の焼成品を得た。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を３００ｇから３４０ｇに変更し、硝酸ランタン溶液の量を５０ｇから１０ｇに変更したこと以外は、触媒Ｃ１について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を３００ｇから３４９ｇに変更し、硝酸ランタン溶液の量を５０ｇから１ｇに変更したこと以外は、触媒Ｃ１について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を３００ｇから２５０ｇに変更し、硝酸ランタン溶液の量を５０ｇから１００ｇに変更したこと以外は、触媒Ｃ１について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を３００ｇから２３０ｇに変更し、硝酸ランタン溶液の量を５０ｇから１２０ｇに変更したこと以外は、触媒Ｃ１について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ６の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を３００ｇから３５０ｇに変更し、硝酸ランタン溶液を使用しなかったこと以外は、触媒Ｃ１について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ６」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ７の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ３００ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ３００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ４０ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これに酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のランタンを含んだ５０ｇの硝酸ランタン溶液を添加した。この混合液に濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

次に、この粉末を４００ｍＬのイオン交換水中に分散させ、この分散液に５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液を添加した。これにより、分散液中の粉末にパラジウムを吸着させた。この分散液を吸引濾過し、濾液を誘導結合高周波プラズマ（ＩＣＰ）分光分析に供した。その結果、分散液中のパラジウムのほぼ全てが濾過ケーク中に存在していることが分かった。

次に、濾過ケークを１１０℃で１２時間に亘って乾燥させた。続いて、これを、大気中、５００℃で１時間焼成して、粉末状の焼成品を得た。

その後、この焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ７」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ８の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ３００ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ３００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ４０ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これに５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液を添加した。この混合液に濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

次に、この粉末を１００ｍＬのイオン交換水中に分散させ、この分散液に酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のランタンを含んだ５０ｇの硝酸ランタン溶液を添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ８」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ９の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ３００ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ３００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ４０ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、得られた共沈物を濾過によって溶液から分離し、これを純水で洗浄した。この共沈物を１１０℃で乾燥させた後、大気中、７００℃で５時間に亘って焼成して、粉末状の焼成品を得た。

次に、この粉末を４００ｍＬのイオン交換水中に分散させ、この分散液に酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のランタンを含んだ５０ｇの硝酸ランタン溶液と５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液とを添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ９」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１０の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ３００ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ３００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ４０ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、これに、酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のランタンを含んだ５０ｇの硝酸ランタン溶液を添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

続いて、この共沈物を含んだ混合液に、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液を添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１０」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１１の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ３００ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ３００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ４０ｇの硝酸イットリウム溶液と、酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のランタンを含んだ５０ｇの硝酸ランタン溶液と、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１１」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１２の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を３００ｇから４９０ｇに変更し、硝酸セリウム溶液の量を３００ｇから２２５ｇに変更し、硝酸イットリウム溶液を使用しなかったこと以外は、触媒Ｃ１について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１２」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１３の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１９．８ｇの硝酸パラジウム溶液と、５質量％の濃度で白金を含んだ０．２０ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１３」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１４の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１９．８ｇの硝酸パラジウム溶液と、５質量％の濃度で白金を含んだ０．２５ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１４」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１５の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１９．５ｇの硝酸パラジウム溶液と、５質量％の濃度で白金を含んだ０．４９ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１５」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１６の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１９．０ｇの硝酸パラジウム溶液と、５質量％の濃度で白金を含んだ０．９５ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１６」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１７の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１８．２ｇの硝酸パラジウム溶液と、５質量％の濃度で白金を含んだ１．８ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１７」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１８の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１３．３ｇの硝酸パラジウム溶液と、５質量％の濃度で白金を含んだ６．７ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１８」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１９の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液と、５質量％の濃度で白金を含んだ１０ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ１９」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２０の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度で白金を含んだ２０ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２０」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２１の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でロジウムを含んだ２０ｇの硝酸ロジウム溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１２について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２１」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２２の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を３００ｇから４９０ｇに変更し、硝酸セリウム溶液の量を３００ｇから２２５ｇに変更し、硝酸イットリウム溶液を使用しなかったこと以外は、触媒Ｃ１０について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２２」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２３の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１９．５ｇの硝酸パラジウム溶液と、５質量％の濃度で白金を含んだ０．４９ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１０について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２３」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２４の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度で白金を含んだ２０ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１０について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２４」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２５の製造＞
５質量％の濃度でパラジウムを含んだ２０ｇの硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でロジウムを含んだ２０ｇの硝酸ロジウム溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１０について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２５」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２６の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６９９ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ９５ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これにｎ−プロピルアルコール及び酸化チタン（ＴｉＯ₂）換算濃度で５質量％のチタンイソプロポキシドを含んだ２ｇのアルコール溶液と５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液とを同時に添加した。これにより、先の混合液中で共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２６」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２７の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を６９９ｇから６９５ｇに変更し、アルコール溶液の量を２ｇから１０ｇに変更したこと以外は、触媒Ｃ２６について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２７」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２８の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を６９９ｇから６９０ｇに変更し、アルコール溶液の量を２ｇから２０ｇに変更したこと以外は、触媒Ｃ２６について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２８」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２９の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を６９９ｇから６７０ｇに変更し、アルコール溶液の量を２ｇから６０ｇに変更したこと以外は、触媒Ｃ２６について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ２９」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３０の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を６９９ｇから６５０ｇに変更し、アルコール溶液の量を２ｇから１００ｇに変更したこと以外は、触媒Ｃ２６について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３０」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３１の製造＞
オキシ硝酸ジルコニウム溶液の量を６９９ｇから７００ｇに変更し、アルコール溶液を使用しなかったこと以外は、触媒Ｃ２６について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３１」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３２の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６９０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ９５ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これにｎ−プロピルアルコール及び酸化チタン（ＴｉＯ₂）換算濃度で５質量％のチタンイソプロポキシドを含んだ２０ｇのアルコール溶液を添加した。これにより、先の混合液中で共沈を生じさせた。

続いて、この混合液を十分に攪拌しながら、これに５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液を添加した。これにより、先の混合液中で共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３２」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３３の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６９０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ９５ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これに５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液を添加した。この混合液に濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

次に、この粉末を５００ｍＬのイオン交換水中に分散させ、この分散液を十分に攪拌しながら、これにｎ−プロピルアルコール及び酸化チタン（ＴｉＯ₂）換算濃度で５質量％のチタンイソプロポキシドを含んだ２０ｇのアルコール溶液を添加した。これにより、先の分散液中で共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３３」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３４の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６９０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ９５ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

次に、この粉末を５００ｍＬのイオン交換水中に分散させ、この分散液に、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液を添加した。これにより、分散液中の粉末にパラジウムを吸着させた。この分散液を吸引濾過し、濾液をＩＣＰ分光分析に供した。その結果、分散液中のパラジウムのほぼ全てが濾過ケーク中に存在していることが分かった。

その後、この焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３４」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３５の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６９０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ９５ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

次に、この粉末を５００ｍＬのイオン交換水中に分散させ、この分散液を十分に攪拌しながら、これにｎ−プロピルアルコール及び酸化チタン（ＴｉＯ₂）換算濃度で５質量％のチタンイソプロポキシドを含んだ２０ｇのアルコール溶液と５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液とを同時に添加した。これにより、先の分散液中で共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３５」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３６の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６９０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ９５ｇの硝酸イットリウム溶液と、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに
ｎ−プロピルアルコール及び酸化チタン（ＴｉＯ₂）換算濃度で５質量％のチタンイソプロポキシドを含んだ２０ｇのアルコール溶液と濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液とを室温下で同時に添加して、共沈を生じさせた。水酸化カリウム水溶液の添加量は、共沈物生成後の混合液のｐＨ値が１１乃至１２になるように調節した。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３６」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３７の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６６０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ９５ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これに、ｎ−プロピルアルコール及び酸化チタン（ＴｉＯ₂）換算濃度で５質量％のチタンイソプロポキシドを含んだ２０ｇのアルコール溶液と、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液と、酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のランタンを含んだ３０ｇの硝酸ランタン溶液とを同時に添加した。これにより、先の混合液中で共沈を生じさせた。

得られた共沈物を濾過によって溶液から分離し、これを純水で洗浄した。この共沈物を１１０℃で乾燥させた後、大気中、７００℃で５時間に亘って焼成して、粉末状の焼成品を得た。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３７」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３８の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６６０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ９５ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液と、酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のランタンを含んだ３０ｇの硝酸ランタン溶液とを同時に添加した。これにより、先の混合液中で共沈を生じさせた。

その後、この焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３８」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３９の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ８４０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ５０ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ５０ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これにｎ−プロピルアルコール及び酸化珪素（ＳｉＯ₂）換算濃度で５質量％のテトラメトキシシランを含んだ１０ｇのアルコール溶液と５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液とを同時に添加した。これにより、先の混合液中で共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ３９」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４０の製造＞
混合液中にアルコール溶液と硝酸パラジウム溶液とを同時に添加する代わりに、アルコール溶液及び硝酸パラジウム溶液の順に添加したこと以外は、触媒Ｃ３９について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４０」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４１の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ５２５ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ２００ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化ネオジム（Ｎｄ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のネオジムを含んだ３０ｇの硝酸ネオジム溶液と、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のイットリウムを含んだ３０ｇの硝酸イットリウム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これに、酸化タングステン（ＷＯ₃）換算濃度で５質量％のタングステンを含んだ２０ｇのタングステン酸アンモニウム溶液と、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液とを同時に添加した。これにより、先の混合液中で共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４１」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４２の製造＞
混合液中にタングステン酸アンモニウム溶液と硝酸パラジウム溶液とを同時に添加する代わりに、タングステン酸アンモニウム溶液及び硝酸パラジウム溶液の順に添加したこと以外は、触媒Ｃ４１について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４２」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４３の製造＞
排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）換算濃度で１０質量％のジルコニウムを含んだ６４０ｇのオキシ硝酸ジルコニウム溶液と、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）換算濃度で２０質量％のセリウムを含んだ１５０ｇの硝酸セリウム溶液と、酸化ネオジム（Ｎｄ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のネオジムを含んだ５０ｇの硝酸ネオジム溶液とを１３００ｍＬのイオン交換水に添加した。この混合液を十分に攪拌しながら、これに濃度が２０質量％の水酸化カリウム水溶液をｐＨ値が１２になるまで室温下で添加して、共沈を生じさせた。

この共沈物を含んだ混合液を７０℃で６０分間に亘って攪拌した後、この混合液を十分に攪拌しながら、これに、ｎ−プロピルアルコール及び酸化チタン（ＴｉＯ₂）換算濃度で５質量％のチタンイソプロポキシドを含んだ１０ｇのアルコール溶液と、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ１０ｇの硝酸パラジウム溶液とを同時に添加した。これにより、先の混合液中で共沈を生じさせた。

その後、焼成品を圧縮成形し、この成形品を粒径が０．５ｍｍ乃至１．０ｍｍのペレットへと粉砕した。以上のようにして、排ガス浄化用触媒としてペレット触媒を得た。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４３」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４４の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ９．９０ｇの硝酸パラジウム溶液と５質量％の濃度で白金を含んだ０．１０ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４４」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４５の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ９．８８ｇの硝酸パラジウム溶液と５質量％の濃度で白金を含んだ０．１２ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４５」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４６の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ９．７６ｇの硝酸パラジウム溶液と５質量％の濃度で白金を含んだ０．２４ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４６」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４７の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ９．５２ｇの硝酸パラジウム溶液と５質量％の濃度で白金を含んだ０．４８ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４７」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４８の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ９．０９ｇの硝酸パラジウム溶液と５質量％の濃度で白金を含んだ０．９１ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４８」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４９の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ６．６７ｇの硝酸パラジウム溶液と５質量％の濃度で白金を含んだ３．３３ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ４９」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５０の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ５．００ｇの硝酸パラジウム溶液と５質量％の濃度で白金を含んだ５．００ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５０」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５１の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度で白金を含んだ１０ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５１」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５２の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でロジウムを含んだ１０ｇの硝酸ロジウム溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５２」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５３の製造＞
混合液中にアルコール溶液と硝酸パラジウム溶液とを同時に添加する代わりに、アルコール溶液及び硝酸パラジウム溶液の順に添加したこと以外は、触媒Ｃ４３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５３」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５４の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でパラジウムを含んだ９．７６ｇの硝酸パラジウム溶液と５質量％の濃度で白金を含んだ０．２４ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液との混合液を使用したこと以外は、触媒Ｃ５３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５４」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５５の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度で白金を含んだ１０ｇのジニトロジアミン白金硝酸溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ５３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５５」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５６の製造＞
硝酸パラジウム溶液の代わりに、５質量％の濃度でロジウムを含んだ１０ｇの硝酸ロジウム溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ５３について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５６」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５７の製造＞
硝酸ランタン溶液の代わりに、酸化ネオジム（Ｎｄ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のネオジムを含んだ５０ｇの硝酸ネオジム溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ１について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５７」と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５８の製造＞
硝酸ランタン溶液の代わりに、酸化ネオジム（Ｎｄ₂Ｏ₃）換算濃度で１０質量％のネオジムを含んだ５０ｇの硝酸ネオジム溶液を使用したこと以外は、触媒Ｃ７について説明したのと同様の方法によりペレット触媒を製造した。以下、このペレット触媒を「触媒Ｃ５８」と呼ぶ。

＜分散性評価１＞
触媒Ｃ１乃至Ｃ２５、Ｃ５７及びＣ５８の各々について、エネルギー分散型Ｘ線分光法、具体的にはＦＥ−ＳＥＭ−ＥＤＸ（field emission-scanning electron microscope-energy dispersive X-ray analysis）を用いた線分析を５００ｎｍの長さに亘って行った。これら線分析には、日立ハイテクノロジーズ社製の超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡Ｓ−４８００を使用した。

そして、セリウムについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルと貴金属元素の各々について得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（Ｃｅ，ＰＭ）を、下記等式（３）に従って算出した。

触媒Ｃ１乃至Ｃ２５については、セリウムについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとランタンについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（Ｃｅ，Ｌａ）を、下記等式（４）に従って算出した。更に、ランタンについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルと貴金属元素の各々について得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（Ｌａ，ＰＭ）を、下記等式（５）に従って算出した。

また、触媒Ｃ５７及びＣ５８については、セリウムについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとネオジムについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（Ｃｅ，Ｎｄ）を、下記等式（６）に従って算出した。更に、ネオジムについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルと貴金属元素の各々について得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（Ｎｄ，ＰＭ）を、下記等式（７）に従って算出した。

なお、等式（３）、（４）及び（６）において、Ｉ_Ce（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られるセリウムの特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_Ce（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られるセリウムの特性Ｘ線強度の平均値を表している。等式（３）、（５）及び（７）において、Ｉ_PM（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られるパラジウム、白金又はロジウムの特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_PM（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られるパラジウム、白金又はロジウムの特性Ｘ線強度の平均値を表している。等式（４）及び（５）において、Ｉ_La（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られるランタンの特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_La（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られるランタンの特性Ｘ線強度の平均値を表している。等式（６）及び（７）において、Ｉ_Nd（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られるネオジムの特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_Nd（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られるネオジムの特性Ｘ線強度の平均値を表している。
これら相関係数を、各触媒の組成と共に以下の表１乃至表３及び表７に纏める。

＜耐久性評価１＞
触媒Ｃ１乃至Ｃ２５、Ｃ５７及びＣ５８の性能を以下の方法により調べた。
まず、触媒Ｃ１乃至Ｃ２５、Ｃ５７及びＣ５８の各々を流通式の耐久試験装置内に設置し、窒素を主成分としたガスを触媒床に５００ｍＬ／分の流量で２０時間流通させた。この間、触媒床温度は８５０℃に維持した。また、触媒床に流通させるガスとしては、リーンガスとリッチガスとを使用し、これらガスは５分毎に切り替えた。なお、リーンガスは、窒素に１％の酸素を加えてなる混合ガスであり、リッチガスは、窒素に２％の一酸化炭素を加えてなる混合ガスである。

その後、触媒Ｃ１乃至Ｃ２５、Ｃ５７及びＣ５８の各々を、常圧固定床流通反応装置内に配置した。次いで、触媒床にモデルガスを流通させながら、触媒床温度を１００℃から５００℃まで１２℃／分の速度で昇温させ、その間の排ガス浄化率を連続的に測定した。なお、モデルガスとしては、空燃比（Ａ／Ｆ）が１５のリーン雰囲気に相当するガスを使用した。その結果を、以下の表１乃至表３及び表７に纏める。

また、上述した耐久試験後の触媒Ｃ１乃至Ｃ２５、Ｃ５７及びＣ５８の各々について、Ｘ線回折ピークから、貴金属粒子の平均粒径を算出した。その結果を、以下の表１乃至表３及び表７に纏める。

＜分散性評価２＞
触媒Ｃ２６乃至Ｃ５６の各々について、分散性評価１において行ったのと同様の線分析を行った。

そして、セリウムについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルと貴金属元素の各々について得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（Ｃｅ，ＰＭ）を、下記等式（８）に従って算出した。また、セリウムについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルと、チタン、珪素又はタングステンについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（Ｃｅ，ＡＯ）を、下記等式（９）に従って算出した。更に、チタン、珪素又はタングステンについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルと貴金属元素の各々について得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を、下記等式（１０）に従って算出した。

そして、触媒Ｃ３７及びＣ３８については、ランタンについて得られた特性Ｘ線強度のスペクトルと貴金属元素の各々について得られた特性Ｘ線強度のスペクトルとの相関係数σ（Ｌａ，ＰＭ）を、下記等式（１１）に従って更に算出した。

なお、等式（８）及び（９）において、Ｉ_Ce（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られるセリウムの特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_Ce（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られるセリウムの特性Ｘ線強度の平均値を表している。等式（８）、（１０）及び（１１）において、Ｉ_PM（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られるパラジウム、白金又はロジウムの特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_PM（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られるパラジウム又は白金の特性Ｘ線強度の平均値を表している。等式（９）及び（１０）において、Ｉ_AO（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られるチタン、珪素又はタングステンの特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_AO（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られるチタン、珪素又はタングステンの特性Ｘ線強度の平均値を表している。等式（１１）において、Ｉ_La（Ａｖ）は、５００ｎｍの長さについて得られるランタンの特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_La（ｎ）は、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られるランタンの特性Ｘ線強度の平均値を表している。
これら相関係数を、各触媒の組成と共に以下の表４乃至表７に纏める。

＜耐久性評価２＞
触媒Ｃ２６乃至Ｃ５６の性能を以下の方法により調べた。
まず、触媒Ｃ２６乃至Ｃ５６の各々を流通式の耐久試験装置内に設置し、窒素を主成分としたガスを触媒床に５００ｍＬ／分の流量で２０時間流通させた。この間、触媒床温度は９００℃に維持した。また、触媒床に流通させるガスとしては、リーンガスとリッチガスとを使用し、これらガスは５分毎に切り替えた。なお、リーンガスは、窒素に０．０３％の二酸化硫黄と３％の酸素とを加えてなる混合ガスであり、リッチガスは、窒素に０．０３％の二酸化硫黄と６％の一酸化炭素とを加えてなる混合ガスである。

その後、触媒Ｃ２６乃至Ｃ５６の各々を、常圧固定床流通反応装置内に配置した。次いで、触媒床にモデルガスを流通させながら、触媒床温度を１００℃から５００℃まで１２℃／分の速度で昇温させ、その間の排ガス浄化率を連続的に測定した。なお、モデルガスとしては、空燃比（Ａ／Ｆ）が１５のリーン雰囲気に相当するガスを使用した。その結果を、以下の表４乃至表７に纏める。

また、上述した耐久試験後の触媒Ｃ２６乃至Ｃ５６の各々について、Ｘ線回折ピークから、貴金属粒子の平均粒径を算出した。その結果を、以下の表４乃至表７に纏める。

表１乃至表７の「組成」と表記した欄において、「ＣＺＹ」はセリウムとジルコニウムとイットリウムとを含んだ複合酸化物を表し、「ＺＣ」はジルコニウムとセリウムとを含んだ複合酸化物を表し、「ＣＺＮ」はセリウムとジルコニウムとネオジムとを含んだ複合酸化物を表し、「ＣＺＮＹ」はセリウムとジルコニウムとネオジムとイットリウムとを含んだ複合酸化物を表している。また、「ＰＭ濃度」は貴金属濃度を表し、「ＡＯ濃度」は酸性酸化物濃度を表し、「Ｌａ／ＰＭ」は貴金属に対するランタンの質量比を表し、「Ｎｄ／ＰＭ」は貴金属に対するネオジムの質量比を表し、「ＡＯ／ＰＭ」は貴金属に対する酸性酸化物の質量比を表している。「５０％浄化温度」と表記した列には、モデルガスに含まれる各成分の５０％以上を浄化できた触媒床の最低温度を記載している。「ＨＣ」及び「ＮＯ_x」と表記した列には、それぞれ、炭化水素及び窒素酸化物についてのデータを記載している。そして、「貴金属の平均粒径」と表記した列における「ＮＤ」は、回折ピークが検出されなかったことを示している。

表１に示すように、触媒Ｃ１は、触媒Ｃ６乃至Ｃ１１と同一の組成を有しているが、触媒Ｃ６乃至Ｃ１１と同等以上の相関係数σ（Ｃｅ，ＰＭ）及びσ（Ｃｅ，Ｌａ）を有しており、触媒Ｃ６乃至Ｃ１１と比較してより大きな相関係数σ（Ｌａ，ＰＭ）を有している。そして、触媒Ｃ１は、触媒Ｃ６乃至Ｃ１１と比較して、長期使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能がより優れており、長期使用後における貴金属の平均粒径がより小さい。以上から、相関係数σ（Ｃｅ，ＰＭ）、σ（Ｃｅ，Ｌａ）及びσ（Ｌａ，ＰＭ）が、特には相関係数σ（Ｌａ，ＰＭ）が、触媒の耐久性に影響を及ぼすことが分かる。

表１に示すように、触媒Ｃ１は、触媒Ｃ６乃至Ｃ１１と同一の組成を有している。しかしながら、触媒Ｃ１は、触媒Ｃ６乃至Ｃ１１と同等以上の相関係数σ（Ｃｅ，ＰＭ）及びσ（Ｃｅ，Ｌａ）を有しており、触媒Ｃ６乃至Ｃ１１と比較してより大きな相関係数σ（Ｌａ，ＰＭ）を有している。一般に、相関係数σ（ＲＥ，ＰＭ）が大きいほど、セリウム以外の希土類元素及び貴金属の各々の分散度は大きく、希土類元素又はその化合物からなる粒子と貴金属元素からなる粒子とはより均一な混合物を形成している。

また、ＦＥ−ＳＥＭ−ＥＤＸを用いた測定の結果から、触媒Ｃ１では、ランタン及び貴金属元素は、セリウムとジルコニウムとイットリウムとの複合酸化物からなる粒子間に位置していることが分かっている。

そして、触媒Ｃ１は、触媒Ｃ６乃至Ｃ１１と比較して、長期使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能がより優れており、長期使用後における貴金属の平均粒径がより小さい。

以上から明らかなように、セリウム以外の希土類元素及び／又はその化合物からなる粒子と貴金属元素からなる粒子とを酸素貯蔵材料からなる粒子間に位置させるのに加え、相関係数σ（ＲＥ，ＰＭ）をより大きくすることにより、長期使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を向上させることが可能となる。

表４に示すように、触媒Ｃ２８は、触媒Ｃ３２乃至Ｃ３６と同一の組成を有している。しかしながら、触媒Ｃ２８は、触媒Ｃ３２乃至Ｃ３６と同等以上の相関係数σ（Ｃｅ，ＰＭ）及びσ（Ｃｅ，ＡＯ）を有しており、触媒Ｃ３２乃至Ｃ３６と比較してより大きな相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を有している。一般に、相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）が大きいほど、酸性酸化物及び貴金属の各々の分散度は大きく、酸性酸化物からなる粒子と貴金属元素からなる粒子とはより均一な混合物を形成している。

また、ＦＥ−ＳＥＭ−ＥＤＸを用いた測定の結果から、触媒Ｃ２８では、酸性酸化物が含んでいる酸素以外の元素と貴金属元素とは、セリウムとジルコニウムとイットリウムとの複合酸化物からなる粒子間に位置していることが分かっている。

そして、触媒Ｃ２８は、触媒Ｃ３２乃至Ｃ３６と比較して、長期使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能がより優れており、長期使用後における貴金属の平均粒径がより小さい。

以上から明らかなように、酸性酸化物からなる粒子と貴金属元素からなる粒子とを酸素貯蔵材料からなる粒子間に位置させるのに加え、相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）をより大きくすることにより、長期使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を向上させることが可能となる。

このように、セリウム以外の希土類元素及び／又はその化合物からなる粒子と貴金属元素からなる粒子とを酸素貯蔵材料からなる粒子間に位置させるのに加え、相関係数σ（ＲＥ，ＰＭ）をより大きくすることにより、長期使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を向上させることができる。また、酸性酸化物からなる粒子と貴金属元素からなる粒子とを酸素貯蔵材料からなる粒子間に位置させるのに加え、相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）をより大きくすることにより、長期使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を向上させることができる。従って、酸性酸化物からなる粒子とセリウム以外の希土類元素及び／又はその化合物からなる粒子と貴金属元素からなる粒子とを酸素貯蔵材料からなる粒子間に位置させるのに加え、相関係数σ（ＲＥ，ＰＭ）及びσ（ＡＯ，ＰＭ）をより大きくすることにより、長期使用後におけるＨＣ及びＮＯ_x浄化性能を更に向上させることが可能となる。

図５は、白金に対するパラジウムの質量比が耐久試験後のＮＯ_x浄化性能に及ぼす影響の例を示すグラフである。図６は、貴金属に対するセリウム以外の希土類元素の質量比が耐久試験後のＮＯ_x浄化性能に及ぼす影響の例を示すグラフである。

図５及び図６に示すグラフは、表１乃至表３に示すデータの一部を利用して作成されている。図５に示すグラフにおいて、横軸は白金に対するパラジウムの質量比を表し、縦軸はＮＯ_xに関する５０％浄化温度を表している。また、図６に示すグラフにおいて、横軸は貴金属に対するランタンの質量比を表し、縦軸はＮＯ_xに関する５０％浄化温度を表している。

ランタンを含んだ触媒Ｃ１３乃至Ｃ１９では、図５に示すように、白金に対するパラジウムの質量比が２乃至８０の範囲内にある場合に、３４８℃以下の５０％浄化温度を達成することができた。そして、この質量比が１０乃至４０の範囲内にある場合に、３３５℃乃至３３６℃の５０％浄化温度を達成することができた。

また、触媒Ｃ１乃至Ｃ６では、図６に示すように、貴金属に対するランタンの質量比が０．１乃至１２の範囲内にある場合に、３２４℃以下の５０％浄化率を達成することができた。そして、この質量比が０．１乃至１０の範囲内にある場合に、３０６℃以下の５０％浄化率を達成することができた。

図７は、白金に対するパラジウムの質量比が耐久試験後のＮＯ_x浄化性能に及ぼす影響の他の例を示すグラフである。図８は、貴金属に対する酸性酸化物の質量比が耐久試験後のＮＯ_x浄化性能に及ぼす影響の例を示すグラフである。

図７及び図８に示すグラフは、表４乃至表７に示すデータの一部を利用して作成されている。図７に示すグラフにおいて、横軸は白金に対するパラジウムの質量比を表し、縦軸はＮＯ_xに関する５０％浄化温度を表している。また、図８に示すグラフにおいて、横軸は貴金属に対する酸性酸化物の質量比を表し、縦軸はＮＯ_xに関する５０％浄化温度を表している。

チタンを含んだ触媒Ｃ４４乃至Ｃ５０では、図７に示すように、白金に対するパラジウムの質量比が２乃至８０の範囲内にある場合に、３４２℃以下の５０％浄化温度を達成することができた。そして、この質量比が１０乃至４０の範囲内にある場合に、３３０℃乃至３３１℃の５０％浄化温度を達成することができた。

また、触媒Ｃ２６乃至Ｃ３１では、図８に示すように、貴金属に対する酸性酸化物の質量比が０．２乃至１０の範囲内にある場合に、３７２℃以下の５０％浄化率を達成することができた。そして、この質量比が０．２乃至６の範囲内にある場合に、３５６℃以下の５０％浄化率を達成することができた。

更なる利益及び変形は、当業者には容易である。それゆえ、本発明は、そのより広い側面において、ここに記載された特定の記載や代表的な態様に限定されるべきではない。従って、添付の請求の範囲及びその等価物によって規定される本発明の包括的概念の真意又は範囲から逸脱しない範囲内で、様々な変形が可能である。

Claims

酸素貯蔵材料からなる複数の第１粒子と、前記複数の第１粒子間に位置し、１つ以上の酸性酸化物からなる複数の第２粒子と、前記複数の第１粒子間に位置し、１つ以上の貴金属元素からなる複数の第３粒子とを含み、
エネルギー分散型Ｘ線分光法を用いた線分析を５００ｎｍの長さに亘って行うことによって得られる、前記１つ以上の酸性酸化物の酸素以外の構成元素の１つの第１特性Ｘ線強度のスペクトル及び前記１つ以上の貴金属元素の１つの第２特性Ｘ線強度のスペクトルは、０．７０以上の相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を有しており、
前記相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）は等式：

から算出され、この等式において、Ｉ_AO（Ａｖ）及びＩ_PM（Ａｖ）は、それぞれ、５００ｎｍの長さについて得られる前記第１及び第２特性Ｘ線強度の平均値を表し、Ｉ_AO（ｎ）及びＩ_PM（ｎ）は、それぞれ、一列に並び且つ各々が２０ｎｍの長さを有している２５個の直線区間のうち第ｎ番目の直線区間について得られる前記第１特性Ｘ線強度の平均値及び前記第２特性Ｘ線強度の平均値を表している排ガス浄化用触媒。
前記酸性酸化物は、チタン、珪素及びタングステンの少なくとも１つを含んだ酸化物である請求項１に記載の排ガス浄化用触媒。
前記１つ以上の酸性酸化物はチタンを含み、前記１つ以上の貴金属元素はパラジウムを含み、前記第１及び第２特性Ｘ線強度はそれぞれチタン及びパラジウムの特性Ｘ線強度である請求項２に記載の排ガス浄化用触媒。
前記１つ以上の貴金属元素はパラジウム及び白金である請求項１に記載の排ガス浄化用触媒。
パラジウムと白金との質量比は２乃至８０の範囲内にある請求項４に記載の排ガス浄化用触媒。
前記１つ以上の酸性酸化物は２つ以上の酸性酸化物であるか、前記１つ以上の貴金属元素は２つ以上の貴金属元素であるか、又は、前記１つ以上の酸性酸化物は２つ以上の酸性酸化物であり且つ前記１つ以上の貴金属元素は２つ以上の貴金属元素であり、エネルギー分散型Ｘ線分光法を用いた線分析を５００ｎｍの長さに亘って行うことによって得られる、前記１つ以上の酸性酸化物が含んでいる酸素以外の構成元素の各々の第１特性Ｘ線強度のスペクトル及び前記１つ以上の貴金属元素の各々の第２特性Ｘ線強度のスペクトルは、０．７０以上の相関係数σ（ＡＯ，ＰＭ）を有している請求項１乃至４の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒。
前記複数の第１乃至第３粒子の質量の和に対する前記１つ以上の酸性酸化物の質量の比は０．１質量％乃至３質量％の範囲内にある請求項１乃至６の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒。
前記１つ以上の貴金属元素に対する前記１つ以上の酸性酸化物の質量比は０．２乃至６の範囲内にある請求項１乃至７の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒。