JP5365291B2 - 潜像形成体とその真偽判定方法及びこれを用いた媒体 - Google Patents

Description

本発明は、物品の偽造防止及び真贋判定を行うための隠し文字や隠しパターンを、フィルタを用いることによって表示させることを目標とした潜像を用いた潜像形成体に関するものであり、隠し文字や隠しパターンの中にさらなる潜像を備えた潜像形成体とその検証方法に関するものである。

従来から、銀行券、商品券、パスポート等の有価証券や認証媒体は、偽造防止対策として偽造の困難な媒体の貼付を行ってきた。そこでは、目視による判定（オバート機能）又は検証器を用いた判定（コバート機能）を用いて真贋判定を行っている。

しかし、目視による真贋判定が行える偽造防止媒体は、施された偽造防止技術が視認されてしまうが故に、偽造防止技術に気づかれ易く、それにより偽造もされ易いという現状がある。そこで、近年は、検証器を用いた真贋判定を行う偽造防止媒体に注目が集まっており、偏光技術を用いて潜像を形成し、偏光フィルムを重ねることにより潜像を出現させて真贋判定を行う潜像形成体が出現している。

特開２０００−３１４８１０号公報

しかしながら、偏光技術を用いて潜像を形成した潜像形成体であっても、時間の経過、技術の進歩等にともない、偽造されてしまう可能性があり、それが問題となっている。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、偏光技術を用いた潜像を、単純な画像ではなく複雑な画像にする等、画像自体に工夫を凝らし、さらに偽造が困難な潜像形成体を提供することにある。

上述した課題を解決するために、本発明は、透明若しくは半透明の基材上に偏光子からなる偏光層を具備する潜像形成体であって、該偏光層は、少なくとも、偏光状態が一定の偏光潜像部を有し、該偏光潜像部は、万線で構成され且つ万線背景部と万線潜像部とを有し、該万線潜像部を構成する万線と、該万線背景部を構成する万線とは、万線角度、ピッチ、万線位相のいずれか１つ以上が異なり、偏光潜像部を形成している万線は、デザインに支障がない程度の微細な線となっていることを特徴とする潜像形成体としたものである。

また本発明は、前記偏光層は、さらに偏光背景部を有し、前記偏光潜像部と該偏光背景部とでは、偏光状態が異なることを特徴とする前記潜像形成体としたものである。

また本発明は、前記潜像形成体に偏光シートを重ね、基材の裏側から透過してきた光による偏光潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする潜像形成体の真偽判定方法としたものである。

また本発明は、さらに万線パターンからなる顕像化用パターンを形成してなる顕像化用シートを重ね、万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする前記潜像形成体の真偽判定方法としたものである。

また本発明は、前記潜像形成体に、検証デバイスを重ね、基材の裏側から透過してきた光による偏光潜像及び万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする潜像形成体の真偽判定方法としたものである。

また本発明は、前記検証デバイスが、偏光子で形成された前記顕像化用パターンを有することを特徴とする前記潜像形成体の真偽判定方法としたものである。

また本発明は、前記検証デバイスが、厚みのある透明シートを備えることを特徴とする前記潜像形成体の真偽判定方法としたものである。

また本発明は、可とう性を有する支持体上に、前記潜像形成体と、偏光シート及び顕像化用パターンとを設けたことを特徴とする媒体としたものである。

また本発明は、可とう性を有する支持体上に、前記潜像形成体と、検証デバイスとを設けたことを特徴とする媒体

本発明は、以上説明したような構成であるから、以下に示す如き効果がある。

即ち、本発明の潜像形成体は、特定の偏光状態を有する偏光層を有するため、対応する偏光シートを重ねると、偏光潜像部が顕像化する。さらに偏光潜像部が万線で構成され、万線潜像部と万線背景部を有するため、顕像化用パターンが形成された顕像化用シートを重ねると、万線潜像が顕像化することにより、さらに偽造が困難で、且つ施した全ての潜像に気づかれ難い潜像形成体を提供することが可能となる。

本発明における潜像形成体の一実施形態例を示す概要図である。 本発明における潜像形成体の一実施形態例を示す概要図である。 本発明における潜像形成体の一実施形態例を示す概要図である。 図１ 乃至 図３に示した潜像形成体に偏光シートを重ねた際の光の進路を示した図である。 本発明の潜像形成体に偏光シートを重ねた際の見え方を示す模式図である。 本発明で使用している万線の角度、ピッチ及び位相について説明するための図である。 本発明における偏光潜像部の一実施形態例を示す拡大模式図である。 本発明における潜像形成体の検証方法を説明する図である。

以下、本発明における潜像形成体の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。

本発明における潜像形成体は、特定の偏光状態を作り出す偏光層を有し、偏光層は少なくとも偏光潜像部を、又は偏光潜像部と偏光背景部とを有している。

図１は、本発明における潜像形成体の一実施例を示す概観図である。図１に示した潜像形成体は、基材上に偏光層を積層したもので、偏光層は偏光子からなっている。

図１（ａ）及び（ｂ）に示した偏光層は偏光潜像部のみを有しており、偏光潜像部内においては、一定の偏光方向を有する直線偏光を作り出す偏光子が用いられる。図１（ｃ）及び（ｄ）に示した偏光層は、偏光潜像部と偏光背景部とを有しており、偏光潜像部と偏光背景部とでは、偏光子の偏光方向が異なる。

図１（ａ）及び（ｃ）に示した潜像形成体は、基材上に直接偏光層が形成されている。このため、基材が不透明な場合には、偏光層側から入射した光が偏光され、基材で一部の光が反射する。また、基材が透明若しくは半透明である場合には、基材の裏側から透過してきた光が偏光されることとなる。

図１（ｂ）及び（ｄ）の潜像形成体は、偏光層の片面に反射層を積層してなり、自然光が潜像形成体に入射し、反射される過程で光が偏光されることになる。なお、反射層は全面に設けられていても、パターン状に設けられていても良い。

図１に示した潜像形成体に、偏光子からなる偏光シートを重ねると、例えば図４（ａ）に示したように光は進行する。即ち、偏光シートと同じ偏光方向を有する偏光背景部を通過してきた光は、偏光シートを通過するが、偏光シートと異なる偏光方向を有する偏光潜像部を通過してきた光は、偏光シートを通過することが出来ず、遮断される。これにより、偏光潜像部と偏光背景部とが、異なる偏光方向に設けられていれば、偏光シートを適切な角度で重ねることにより偏光潜像を顕像化させることが可能となる。

図２は、本発明における潜像形成体の別の実施例を示す概観図である。図２に示した潜像形成体においては、偏光層が、位相差子上に偏光子を積層したものからなる。

図２（ａ）及び（ｂ）に示した偏光層は偏光潜像部のみを有しており、図２（ｃ）及び（ｄ）に示した偏光層は、偏光潜像部と偏光背景部とを有している。偏光子は、一定の偏光方向を有する直線偏光を作り出す。位相差子は、偏光潜像部内又は偏光背景部内においては、光軸が一定の方向に配向されており、偏光潜像部と偏光背景部とでは、光軸の配向方向が異なる。

図２（ａ）及び（ｃ）に示した潜像形成体は、基材上に偏光層が形成されている。これにより、基材が透明又は半透明である場合には、裏面から透過してきた光が、偏光子によって偏光され、位相差子によって位相差がついた光となる。また、基材が不透明である場合には、偏光層側から入射した自然光は、位相差子の影響を受けずに偏光子に入り、偏光されて基材で一部の光が反射され、再度位相差子を通過する際に位相差子の影響を受けることとなる。

図２（ｂ）及び（ｄ）の潜像形成体においては、自然光は、まず位相差子に入射するが、自然光は位相差子の影響を受けないため、そのまま偏光子に入射し、偏光され、反射されて再度位相差子を通る際に位相差がついた光となる。なお、反射層は、全面に設けられていても良いし、パターン状に設けられていても良い。

図２に示した潜像形成体に、対応した偏光子からなる偏光シート又は位相差子及び偏光子からなる偏光シートを重ねると、図４（ｂ）及び（ｃ）において矢印で示したように光が進み、光が偏光潜像部及び偏光背景部のいずれに入射するかによって、偏光シートを通過するか否かが変わってくる。

図４（ｂ）について一例を用いて詳しく説明する。ここでは、偏光層が、直線偏光を作り出す偏光子と、１／２λの位相差値をもつ位相差子とからなり、偏光潜像部と偏光背景部とでは、位相差子の光軸方向が４５°ずれており、且つ偏光背景部の光軸方向は、直線偏光の偏光方向と同じになるように配置された潜像形成体を例にあげる。

直線偏光は、位相差子の光軸に対して４５°ずれて入射すると、１／２λの位相差を受けてその偏光面が９０°回転する。一方で、位相差子の光軸と直線偏光の偏光方向が同じである場合には、直線偏光は位相差子の影響を受けずに、そのまま通過する。

よって、図４（ｂ）に示した潜像形成体においては、偏光層の偏光子を通過した直線偏光は、偏光層の位相差子を通る際に、偏光潜像部では、偏光面が９０°回転し、偏光背景部はそのまま通過することとなり、一定の直線偏光のみを透過する偏光子からなる偏光シートを重ねた際に、その重ねる角度によって光が透過されるか否かが変わり、偏光潜像が顕像化する。

なお、自然光は位相差子の影響を受けないため、基材側から透過した光でも、偏光層側から入射し、反射される光であっても同様な偏光状態が生じるものである。ここで、位相差子の位相差値及び偏光潜像部と偏光背景部での光軸方向のずれは、同様の光学効果を呈するのであれば、特にこれに限定されるものでは無い。

次に、図４（ｃ）について一例を用いて詳しく説明する。ここでは、偏光層が、直線偏光を作り出す偏光子と、１／４λの位相差値を持つ位相差子とからなり、偏光潜像部と偏光背景部とでは、位相差子の光軸が９０°ずらして配置され、且つ偏光層の偏光子の偏光方向と、偏光潜像部及び偏光背景部での位相差子の光軸方向とは、各々４５°ずれている潜像形成体を例にあげる。また、偏光シートとして、偏光子と、１／４λの位相差値を持つ位相差子とを積層した偏光シートを用いる。

偏光層側の位相差子の光軸と偏光シート側の位相差子の光軸とが平行であれば、入射した直線偏光は偏光シートの位相差子及び偏光層の位相差子を通過する中で、１／２λ（＝１／４λ＋１／４λ）の位相差をうけることとなり、偏光面が９０°回転することとなる。一方で、偏光層側の位相差子の光軸と偏光シート側の位相差子の光軸とが直行する場合には、直線偏光が受ける位相差は０（＝１／４λ−１／４λ）となり、直線偏光は結果的にそのまま出てくることになる。

よって、偏光シートの位相差子の光軸が、偏光潜像部の位相差子の光軸と平行になるように偏光シートを重ねた場合には、偏光潜像部を通過した光は、偏光面が９０°回転し、偏光シートに遮断されることとなり、偏光背景部を通過した光は偏光シートを通過可能となるため、偏光潜像が顕像化する。

また、偏光層が直線偏光を作り出す偏光子と１／４λの位相差値を持つ位相差子からなる場合、右円偏光又は左円偏光を選択的に透過又は反射する性質を有する偏光シートを用いても偏光潜像を顕像化することが可能となる。

なお、自然光は位相差子の影響を受けないため、基材側から透過した光でも、偏光層側から入射し、反射される光であっても同様な偏光状態が生じるものである。ここでも、偏光層及び偏光シートに設けられた２つの位相差子を通過した光が同様の光学効果を受けるのであれば、偏光層の位相差子及び偏光シートの位相差子の位相差値の組み合わせは、これに限定されるものではない。

図３は、本発明における潜像形成体のさらに別の実施例を示す概観図である。図３に示した潜像形成体では、偏光潜像部と偏光背景部とが、それぞれ右円偏光又は左円偏光のいずれかを反射する、異なる特性を有する。

図３（ａ）に示した偏光層は、偏光潜像部のみを有しており、図３（ｂ）に示した偏光層は、偏光潜像部及び偏光背景部を有している。

右円偏光状態又は左円偏光状態を作り出すものとしては、例えば、右円偏光又は左円偏光のいずれかを反射し、他の光を透過する性質を持つコレステリック液晶を使用することができ、偏光潜像部及び偏光背景部の偏光状態を変えるためには、例えば、偏光潜像部には右円偏光を反射するコレステリック液晶を、偏光背景部には左円偏光を反射するコレステリック液晶を用いれば良い。

図３に示した潜像形成体は、偏光層と基材との間に吸収層を有する。これにより、偏光層側から入射した光は、その偏光層の性質により、右円偏光又は左円偏光のみが反射され、他の光は透過され、吸収層で吸収されることとなる。

吸収層は、有色の層で、インキを塗布しても、印刷等により設けても良く、その形成方法は特に限定はしないが、黒、紺、茶等の通常の目視で視認可能な光多くを吸収するような色であると、潜像のコントラストが強くなる為好ましい。

図３に示した潜像形成体における光の進行を、図４（ｄ）を用いて説明する。ここで、潜像形成体の偏光層は、偏光潜像部が右円偏光を反射し、偏光背景部が左円偏光を反射する性質を有しているものとする。

まず、自然光が偏光層に入射してくると、偏光潜像部では、右円偏光が反射され、それ以外の光は透過して吸収層にて吸収される。偏光背景部では、左円偏光が反射され、それ以外の光は透過して吸収層にて吸収される。ここに、右円偏光を反射する偏光シートを重ねると、偏光潜像部からの反射光は偏光シートで反射され、偏光背景部からの反射光は偏光シートを透過することとなる。

以上のように、図１乃至図３に示した様な、本発明における潜像形成体の偏光層は、特定の偏光状態を作り出すので、それぞれに対応した偏光シートを重ねることにより、図４を用いて説明したように光の進路が変わってくる。

図５は、本発明における潜像形成体で、偏光潜像部及び偏光背景部を有する潜像形成体に、対応する偏光シートを重ねた際の、表面からの見え方を示した図である。偏光潜像部が作り出す偏光が、偏光シートによって遮断される場合には、図５（ａ）の如く、偏光潜像部が黒色に視認され、偏光潜像が顕像化する。また、偏光潜像部の偏光が偏光シートを透過し、偏光背景部の偏光が偏光シートに遮断される場合には、図５（ｂ）に示した如く、偏光潜像部及び偏光背景部がネガポジ反転して視認される。なお、本発明における潜像形成体は、偏光シートを重ねていない状態での目視では、偏光潜像部と偏光背景部とは一様に視認されるものである。

なお、本発明における潜像形成体、偏光シート及びこれらの組み合わせは、図１乃至図４の形態に限定されるものではない。偏光層として、右円偏光又は左円偏光を選択的に反射する性質の層に、１／４λの位相差値を有する位相差子を重ねた構成でも良く、偏光潜像部と偏光背景部とで作り出す偏光状態が異なり、偏光シートを重ねることによって、偏光潜像が顕像化するような構成であればよい。

また、本発明における潜像形成体は入射する自然光を偏光させるため、偏光シートを直接潜像形成体に重ねなくとも、遠方からでも偏光潜像の出現の有無を確認することが可能である。

また、偏光層が、偏光背景部と複数の偏光潜像部を有していても良く、この場合には、それぞれの偏光潜像部の光軸が配向された方向が異なっていても良いし、一部若しくは全部の変更潜像部において光軸が配向された方向が同じでも良い。

また、詳細については後ほど述べるが、本発明における偏光潜像部は、微細な万線で構成されている。よって、厳密に言えば、図１乃至図４で示した偏光潜像部の、万線がない部分については、ブランクであるか、若しくは偏光背景部と同じ性質を持つ。しかし、図１乃至３においては、通常の目視で視認される概観図を示していることをここで述べておく。

さらに、前述した潜像形成体の、基材の偏光層を設けた側とは反対の側に、接着層を設けて、ラベルタイプの潜像形成体としても良い。また、基材を含まない潜像形成体の片面に粘着層を積層し、反対の面に剥離層又は剥離保護層を介して転写基材を積層して、転写箔タイプの潜像形成体としても良い。

基材としては、押出加工やキャスト加工により作製された無延伸フィルム及び、延伸加工により作製された延伸フィルム等を用いる事ができる。延伸フィルムには、伸ばし方により、１軸延伸フィルム及び２軸延伸フィルムがあり、両者とも使用できる。

これらの無延伸フィルム及び延伸フィルムの材料としては、セロハン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＯＨ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロン、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム等があげられる。

偏光層に用いられる偏光子としては、反射光若しくは透過光にて特定偏光成分を分離若しくは抽出できる素子であれば利用可能である。例えば、ＰＶＡにヨウ素若しくは２色性染料を含浸させ延伸配向させた吸収型偏光子、２色性染料を配向膜上で配向させた吸収型偏光子等があげられるが、一定の方向に偏光した偏光光を作り出す偏光子であれば、これに限定されない。

偏光潜像部と偏光背景部とで、偏光子の偏光方向を変えるためには、偏光方向が異なる偏光子をパターニングして設ければ良い。

偏光層及び偏光シートに用いられる位相差子としては、複屈折性を持つ材料があげられる。複屈折とは、物質の屈折率が光軸方向によって異なる事で、これにより複屈折性を持つ物質中を光が透過するときにその速度が異なってくるので、物質通過後の光には通過速度の差の分だけ位相差が生じることになる。位相差値は屈折率と膜厚で決定することができる。

位相差子は、例えば一定の方向に配向処理を行った配向膜の上に液晶材料を塗布することにより形成することが可能である。また、偏光潜像部と偏光背景部とで光軸の方向を変えるためには、例えば、部分的に配向処理の方向を変えた配向膜の上に、液晶材料を塗布することにより形成可能である。

位相差子に用いられる液晶材料としては、メソゲン基の両端にアクリレートを設けた光硬化型液晶モノマー、ＥＢ若しくはＵＶで硬化させた高分子液晶、ポリマー主鎖にメソゲン基を提げた高分子液晶、分子主鎖自体が配向する液晶性高分子を用いる事が出来る。これらの液晶は、塗布後、ＮＩ点の少し下の温度で熱処理することにより、配向を促進することが可能である。

位相差子において液晶材料を配向させるための配向膜の配向処理には、例えば光配向法若しくはラビング配向法を用いる事が出来るが、本発明において偏光潜像部及び偏光背景部を形成する際には、偏光潜像部が微細な万線で構成されるため、光配向法が特に好適な方法である。

光配向法とは、配向膜に偏光等の異方性を有する光を照射若しくは非偏光光を斜めから照射し、配向膜内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法で、配向膜に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズムとしては、アゾベンゼン誘導体の光異性化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等があげられる。

具体的には、適当な波長帯域の偏光光若しくは斜めからの非偏光光によりパターン露光することにより行われる。また、偏光潜像部と偏光背景部の如く、２軸方向に配向させる場合は、フォトマスクで配向方向を変えたい部分をカバーしてパターン露光し、さらにフォトマスクでカバーされていた未露光部を処理するため方向を変えて露光すれば良い。または、一度全面をパターン露光した後に、部分的にフォトマスクでカバーして方向を変えて再度露光しても良い。

ラビング法は、基材上にポリマー溶液を塗布して作成した配向膜を布で擦る方法で、擦った方向に配向膜表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向膜には、ポリイミド、ＰＶＡ等が用いられる。

また、偏光潜像部と偏光配向部の如く、光軸を２軸方向に配向させる場合には、配向方向を変えたい部分をマスクでカバーして布で擦った後にマスクを除去し、今度は先ほどラビングした部分をマスクでカバーし、再び方向を変えて布で擦った後、マスクを除去する。または、全面を布で擦った後に、部分的にマスクでカバーし、方向変えて布で擦った後、マスクを除去しても良い。

これら配向膜を形成する方法としては、グラビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法等の公知の手法を用いる事が出来る。また、位相差子として、光配向法やラビング法により、配向膜自身が複屈折率性を持つもの等も利用でる。

反射層は、光反射効果を有するインキ等を公知の印刷方法により設けても良いし、金属を蒸着若しくはスパッタリング等の方法で設けても良い。反射層に金属を用いる場合の材料としては、例えばＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、インコネル、ステンレス、ジュラルミン等の金属を単体又は複合させたものが使用可能である。

また、光反射効果を有するインキ層を印刷により全面若しくはパターンで設けた転写箔、若しくは金属反射層を備えた転写箔を作製し、転写を行うことで反射層を設けても良いし、金属箔や金属層を有するフィルムをラミネートして反射層を設けても良く、その作製方法は特に限定されない。

反射層をパターン状に設ける場合には、全面に反射層を形成した後に、エッチング加工、レーザー加工、水洗シーライト加工等の公知の方法でパターン化しても良いし、前記公知の方法にてパターン化した反射層を転写若しくはラミネートしても良い。

また、本発明の潜像形成体には、回折構造形成層を設けても良い（図示せず）。回折構造形成層は、位相差層と基材との層間、若しくは基材が透明であれば、基材の裏側に設けても良い。回折構造を形成することにより、視覚効果及び偽造防止効果を向上させることが可能となる。さらに反射率の異なる回折構造効果層を、回折構造形成層の回折構造を追従するように設けることにより、この視覚効果をさらに強調することが可能となる。

次に、本発明において偏光潜像部が万線で形成されていることについて図を用いて詳細に説明する。万線で形成された偏光潜像部は、万線潜像部と万線背景部とを有している。

なお、実際には偏光潜像部と偏光背景部とは、偏光フィルムとの対応関係により、両者がネガポジ反転して顕像化する故、偏光背景部が万線で形成され、万線潜像部及び万線背景部を有していても、偏光潜像部と偏光背景部の両方が万線で構成され、万線潜像部及び万線背景部を有していても良いものとする。

万線潜像部を形成する万線と万線背景部を形成する万線とは、万線の太さ、角度、ピッチ及び位相のいずれか１つ以上が異なっている。なお、偏光潜像部を形成している万線は、デザインに支障がない程度の微細な線となっているので、偏光潜像として顕像化していても、視覚上では、万線模様として確認することはできない。

ここで、本発明で使用している万線の角度、ピッチ及び位相について図６を用いて説明しておく。本発明における万線の角度は図６（ａ）のθを指し、規則的に並んでいる万線の傾きを表す。万線のピッチは図６（ａ）のＤを指し、１つの万線から隣の最近接している万線までの距離を表している。また、ピッチＤ内での万線部と非万線部の比率を万線比率と呼ぶ。

一方で、万線の位相とは、図６（ｂ）のｋを指し、規則的に並んでいる万線の周期を表している。図６（ｂ）では、万線Ａと万線Ｂは、位相がｇだけずれている状態を示している。

万線の太さは、太すぎても細すぎても顕像化用シートを重ねた際に万線潜像が視認しづらくなるので、１０〜１０００μｍの範囲、好ましくは１０〜５００μｍに設定することが望ましい。また、万線比率（＝万線部／（万線部＋非万線部））は任意に設定しても良いが、１／１０〜９／１０の範囲で、好ましくは１／３〜２／３に設定することが望ましい。さらに好ましくは比率が１／２である。よって、万線のピッチは２０〜２０００μｍ、好ましくは２０〜１０００μｍの範囲に設定することが望ましい。

顕像化用シートを重ねて回転させ、万線潜像を顕像化するためには、万線背景部と万線潜像部とで、万線の太さ、角度、ピッチ及び位相のいずれか１つ以上が異なる万線パターンを使用すれば良い。ただし、それぞれが近似しすぎていると万線潜像が見えづらくなるので考慮する。

図７は、万線で構成された偏光潜像部を示したものである。ただし、図７においては、説明のために、万線を大きくし、ピッチも広くしている。図７（ａ）は、万線潜像部と万線背景部とが合わさった偏光潜像部であり、図７（ｂ）はそのうち万線背景部のみを、図７（ｃ）は万線潜像部のみを切り出した図である。

図７に示した偏光潜像部は、万線潜像部と万線背景部を形成する万線が、同一ピッチ及び同一万線比率で、異なる角度で設けられている。万線潜像部と万線背景部の万線角度は、４５°異なるために、顕像化用シートを用いた場合、０°方向と４５°方向で柄のネガポジが反転した万線潜像が現れることになる。

顕像化用シートとしては、万線背景部若しくは万線潜像部を形成する万線のピッチ及び万線比率と同じピッチ及び万線比率からなる万線状の顕像化用パターンが公知の印刷方法により形成された透明性を有するシート状のものであれば良く、材料等は特に限定しない。この顕像化用パターンは、万線背景部若しくは万線潜像部を形成する万線のピッチ及び万線比率と同じ万線比率（＝万線部／（万線部＋非万線部））からなる万線状又は格子状の顕像化用パターンであっても良い。

図８は図７に示した偏光潜像部に対して、万線潜像の顕像化の有無を検証する方法を説明する図である。まずは、偏光シートを重ねて、偏光潜像の出現の有無にて検証を行う。その後、出現した万線で形成された偏光潜像に顕像化用シートをさらに重ねた図が図８（ａ）及び（ｂ）に示したもので、万線潜像が出現するか否かにて検証を行う。

図７に示した偏光潜像部は、万線潜像部と万線背景部の万線角度が４５°異なるため、顕像化用シートの角度を変えることにより、図８（ａ）においては、万線潜像部が顕像化し、図８（ｂ）においては、万線背景部が顕像化してみえることとなる。なお、万線潜像部と万線背景部とで、万線角度は同一で、位相又はピッチが異なる場合には、顕像化用シートを回転させなくても、上下左右にずらすことにより万線潜像を顕像化させることが可能である。

また、顕像化用シートの重ねる位置又は角度を変えた時にそれぞれ出現する複数の万線潜像を形成することも可能である。さらに、複数の偏光潜像部のうち一部は、構成する万線の太さ、角度、ピッチ又は位相のいずれか１つ以上がそれぞれ異なっていても良い。また、全ての偏光潜像部の万線構成を異なるように形成しても、一部の偏光潜像部の万線構成のみを異なるように形成しても良く、バラエティ性に富んだ潜像形成体を自由にデザインすることが可能である。

これにより、万線パターン又は万線模様のピッチが異なる複数の顕像化用シート若しくは潜像形成体の領域と各々に形成されたピッチと完全に一致する顕像化用シートを用意しなければならず、たとえ潜像の存在に気づいたとしても、全ての潜像を確認することは困難となる故、一部を偽造・改ざんされたとしても、確実に真偽判定が可能となる。

また、偏光シート及び顕像化用シートの機能を兼ね備えた検証デバイスにより同時に偏光潜像及び網点潜像の出現の有無を検証することも可能である。

検証デバイスとしては、例えば、偏光シート上に前記顕像化用パターンを、有色インキ等を用いて公知の印刷方法にて備えた検証デバイス、偏光シート上に偏光潜像と同様のパターンの位相差子を備えた検証デバイス、偏光シートを前記顕像化用パターンにて配置した検証デバイス、偏光方向の異なる偏光子をストライプ状、市松模様状等に配置した検証デバイス等が使用可能である。また、検証デバイスは、本願における潜像形成体の偏光潜像及び網点潜像の双方を顕像かすることが可能であれば、特に上記した形態に限定されない。

偏光子を前記顕像化用パターンにて配置した検証デバイスを作製するには、シート状の偏光子を公知の方法にて万線状に穴を開ける等して配置されるように工夫すると良い。

また、前述した検証デバイスに、さらに厚みのある透明シートを組み合わせることにより、検証デバイスを動かさなくても見る角度を連続的に変えることにより画像の濃淡が連続的に変化し、立体感のあるモアレ模様を得ることが出来る。

厚みのある透明シートとしては、潜像形成体の基材と同様の材料を用いても良いし、レンズ効果のある材料を用いても良い。また、透明シートの厚みは、基材の屈折率にもよるが、万線のピッチの０．３〜３倍が好ましい。これは、０．３倍未満であると立体感が得られず、また３倍以上であると透明シートの影響で万線潜像が見え難くなるためである。

また別の実施形態例として、前記潜像形成体と前記検証デバイスとを、一連の支持体上に並列に設けても良い。この支持体は可とう性を有することが必須であり、不透明なものでも透明なものでも良い。ただし、支持体越しに検証を行う場合もあるので、不透明な支持体の場合には、指示体に窓を設ける等の工夫をしなくてはならない。また、透明なものであっても支持体の複屈折率をコントロールされているものが良い。材料としては、潜像形成体の基材と同様のものが使用できる。

可とう性を有する支持体は、検証のしやすさから長方形が好ましい。潜像形成体と検証デバイスを並べて設ければ、支持体を変形させて重ね合わせることにより、偏光潜像及び万線潜像の出現の有無を確認できる。また、検証デバイスではなく、偏光シートと顕像化用シートを別々に設けても良い。例えば、潜像形成体を挟む形で支持体の両端に偏光シート及び顕像化用シートを配置すれば、偏光シートと顕像化用シートが潜像形成体に重なるように支持体を変形させることにより、偏光潜像及び万線潜像の出現の有無を確認することが出来る。

（実施例１）
２軸延伸ポリエステルフィルムのルミラー２５T６０上(東レ社製)を基材とし、光配向剤であるＩＡ−０１(大日本インキ化学工業社製)をマイクログラビアで塗布し製膜を行った。この光配向剤は、３６５ｎｍの偏光光を照射すると、偏光方向に液晶配向力をもつ材料である。光配向膜に対して偏光紫外線を用いて全面で２J/ｃｍ²の照射を行い、全面照射した偏光方向に対して４５°の角度差がつけた方向にフォトマスクを用意しパターンで２J/ｃｍ²の照射を行った。フォトマスクは図７のような画像が得られるように作成されたフォトマスクで、１つの万線パターンとそれに対して、同じ網点比率及びピッチで角度が４５℃異なる万線パターンの２つの万線パターンを含んでいる。

その後、大日本インキ化学工業製のＵＶキュアラブル液晶ＵＣＬ−００８をマイクログラビアにて塗工した。ＵＣＬ−００８の複屈折率は０．１８であるので、可視光の中心波長５５０ｎｍの光に対して位相差値がλ/４となるようにするために、膜厚を０．７６μｍとなるようにした。さらに、メルク社製のコレステリック液晶をマイクログラビアで塗工した。これに、スミインキを１．４μｍの厚みで、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体の樹脂をインキ化し２μｍの厚みで、マイクログラビアにて順次塗布しそれぞれ吸収層と接着剤として設けた。これを光配向膜が最上面になるように基材にロール転写機にて熱転写した。

このように作成した潜像形成体に一定の偏光方向を有する直線偏光を透過する偏光シートを重ねたところ、図５（ａ）に示した如く、偏光潜像部が偏光潜像として黒色に視認され、さらに直線偏光子を４５°回転させたところ、図５（ｂ）に示す如く、偏光背景部が黒色に視認された。

ここで、偏光潜像部が偏光潜像として視認されている状態で、さらに偏光潜像部を形成する万線と同じ万線比率で同じピッチの万線からなる顕像化用パターンが形成された顕像化用シートを用意し、０°方向に重ねると、図８（ａ）のように万線背景部が黒色に視認された。また、顕像化用シートを４５°回転させると、図８（ｂ）のように万線潜像部が黒色に視認された。

このように、本発明における潜像形成体は、偏光シートを重ねることにより、偏光潜像が顕像化し、さらに顕像化シートを重ねることにより、偏光潜像に含まれていた万線潜像を顕像化させることができる。

さらにこの万線ピッチの２倍の厚みを有する透明シートに顕像化用パターンが印刷された顕像化用シートを潜像形成体に重ねると、発生したモアレ模様が見る角度を連続的に変化させることにより各点における濃淡が連続的に変化し、立体感のある画像が得られた。

１・・・基材
２・・・偏光層
３・・・偏光潜像部
４・・・偏光背景部
５・・・偏光子
６・・・位相差子
７・・・反射層
８・・・吸収層

Claims (9)

1. 透明若しくは半透明の基材上に偏光子からなる偏光層を具備する潜像形成体であって、
   該偏光層は、少なくとも、偏光状態が一定の偏光潜像部を有し、
   該偏光潜像部は、万線で構成され且つ万線背景部と万線潜像部とを有し、
   該万線潜像部を構成する万線と、該万線背景部を構成する万線とは、万線角度、ピッチ、万線位相のいずれか１つ以上が異なり、偏光潜像部を形成している万線は、デザインに支障がない程度の微細な線となっていることを特徴とする潜像形成体。
2. 前記偏光層は、さらに偏光背景部を有し、
   前記偏光潜像部と該偏光背景部とでは、偏光状態が異なることを特徴とする請求項１に記載の潜像形成体。
3. 請求項１又は２に記載の潜像形成体に偏光シートを重ね、基材の裏側から透過してきた光による偏光潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする潜像形成体の真偽判定方法。
4. さらに万線パターンからなる顕像化用パターンを形成してなる顕像化用シートを重ね、万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする請求項３に記載の潜像形成体の真偽判定方法。
5. 請求項１又は２に記載の潜像形成体に、検証デバイスを重ね、基材の裏側から透過してきた光による偏光潜像及び万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする潜像形成体の真偽判定方法。
6. 前記検証デバイスが、偏光子で形成された前記顕像化用パターンを有することを特徴とする請求項５に記載の潜像形成体の真偽判定方法。
7. 前記検証デバイスが、厚みのある透明シートを備えることを特徴とする請求項５又は６に記載の潜像形成体の真偽判定方法。
8. 可とう性を有する支持体上に、請求項１又は２に記載の潜像形成体と、偏光シート及び顕像化用パターンとを設けたことを特徴とする媒体。
9. 可とう性を有する支持体上に、請求項１又は２に記載の潜像形成体と、検証デバイスとを設けたことを特徴とする媒体。