JP4823045B2 - 水系光触媒組成物 - Google Patents
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Description
具体的には、基材表面への固定化した光触媒に基づく有機物の分解活性(光触媒活性)及び/又は親水性を保持しつつ、基材及び光触媒組成物塗膜(以下、コーティングという。)の耐久性に優れる変性光触媒及び当該変性光触媒を含む変性光触媒組成物に関する。さらに、環境負荷が少ない水系光触媒組成物であってかつ穏和な条件で強固に固定可能な光触媒組成物及び当該光触媒組成物を塗装した塗装物に関する。
また、光触媒活性とは、光照射によって酸化、還元反応を起こすことを言う。光触媒活性によって有機物質の分解作用や表面の親水化作用を示すことが知られている。
ところで、光触媒を環境浄化や防汚、防曇等の分野へ応用させる場合、光触媒の固定化技術が非常に重要な役割を担う。すなわち(ア)光触媒活性を損なわずに基材へ強固に固定化、するとともに(イ)光触媒作用で基材及びコーティング自体が劣化しない安定性、を示す必要がある。
従って、有機物の分解活性(光触媒活性)及び/又は親水性を保持しつつ、基材及びコ
ーティングの耐久性に優れる光触媒を水系で達成するのは非常に困難であった。
1)(II)ケイ素の酸化物からなる変性剤化合物により変性処理されている、又は(I)下記式(1)で表されるトリオルガノシラン単位、下記式(2)で表されるモノオキシジオルガノシラン単位、下記式(3)で表されるジオキシオルガノシラン単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる1種以上の変性剤化合物と(II)ケイ素の酸化物からなる変性剤化合物により変性処理されている、一次粒子径が1から100nmである変性酸化チタン光触媒と、水系バインダー及びコロイダルシリカを含む変性光触媒組成物。
R3Si − (1)
(式中、Rは各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のフルオロアルキル基、直鎖状又は分岐状の炭素数2〜30個のアルケニル基、フェニル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、または水酸基を表す)
−(R2SiO)− (2)
(式中、Rは上記式(1)で定義した通りである。)
3)変性剤化合物(I)中に直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基の1種類以上を含むことを特徴とする1)又は2)に記載の変性光触媒組成物、
4)酸化チタン光触媒の数平均分散粒子径が1から400nmであることを特徴とする1)から3)のいずれかに記載の変性光触媒組成物、
5)変性酸化チタン光触媒粒子の粒子長(L)と粒子直径(D)の比(L/D)が1/1から20/1であることを特徴とする1)から4)のいずれかに記載の変性光触媒組成物、
7)変性酸化チタン光触媒の分布について異方性を有し、該変性酸化チタンの濃度が基材に接する面より他方の露出面の方が高いことを特徴とする5)に記載の光触媒塗装物、の発明である。
本発明において変性光触媒に使用できる光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯との間のエネルギーギャップよりも大きなエネルギー(すなわち短い波長)の光(励起光)を照射したときに、価電子帯中の電子の励起(光励起)が生じて、伝導電子と正孔を生成しうる物質をいう。中でも、光照射による酸化、還元反応を起こす能力と正孔と電子を生成させるのに必要な光のエネルギーのバランスから、バンドギャップエネルギーが1.2〜5.0eVの半導体化合物が好ましく、1.5〜4.1eVの半導体化合物がさらに好ましい。
また、本発明の光触媒として、可視光(例えば約400〜800nmの波長)の照射により光触媒活性及び/又は親水性を発現することが出来る可視光応答型光触媒を選択すると、本発明の光触媒組成物で処理された光触媒部材は、室内等の紫外線が十分に照射されない場所等における環境浄化効果や防汚効果が非常に大きなものとなるため好ましい。
2O4、Na2Sb2O6等のd10電子状態の金属イオンを含む酸化物(例えば特開2002−59008号公報参照)、アンモニアや尿素等の窒素含有化合物存在下でチタン酸化物前駆体(オキシ硫酸チタン、塩化チタン、アルコキシチタン等)や高表面酸化チタンを焼成して得られる窒素ドープ酸化チタン(例えば特開2002−29750号公報、特開2002−87818号公報、特開2002−154823号公報、特開2001−207082号公報参照)、チオ尿素等の硫黄化合物存在下にチタン酸化物前駆体(オキシ硫酸チタン、塩化チタン、アルコキシチタン等)を焼成して得られる硫黄ドープ酸化チタン、酸化チタンを水素プラズマ処理したり真空下で加熱処理したりすることによって得られる酸素欠陥型の酸化チタン(例えば特開2001−98219号公報参照)、さらには光触媒粒子をハロゲン化白金化合物で処理したり(例えば特開2002−239353号公報参照)、タングステンアルコキシドで処理(特開2001−286755号公報参照)することによって得られる表面処理光触媒等を好適に挙げることができる。
光触媒にはその性能向上をさせるなどのために、光触媒粒子の表面に白金、金、銀、銅、パラジウム、ロジウム、ルテニウムなどの金属や該金属の酸化物を被着しておいてもよい。
本発明に用いる光触媒の形態としては粉体、分散液、ゾルのいずれでも用いることが出来る。
一般に微細な光触媒粒子粉体は、複数の粒子が強力に凝集した二次粒子を形成するため、無駄にする表面特性が多い上、一つ一つの一次粒子にまで分散させるのは非常に困難である。
これに対して、光触媒ゾルの場合、光触媒粒子は溶解せずに一次粒子に近い形で存在しているため表面特性を有効に利用でき、それから生成する変性光触媒は分散安定性、成膜性等に優れるばかりか、種々の機能を有効に発現するので好ましく使用することができる。ここで、光触媒ゾルとは、光触媒粒子が水及び/又は有機溶媒中に固形分0.01〜70重量%、好ましくは0.1〜50重量%で分散されたものである。
水中に分散させたゾルも用い得る。さらに、pHが中性付近の水溶液中においても分散安定性に優れる、粒子表面がペルオキソ基で修飾されたアナターゼ型酸化チタンゾルも特開平10−67516号公報で提案された方法によって容易に得ることができる。
上記酸化チタンヒドロゾル中の固形分は50重量%以下、好ましくは35重量%以下である。さらに好ましくは35重量%以下0.1重量%以上である。このようなヒドロゾルの粘度(20℃)は比較的低く、例えば、2000cps〜0.5cps程度の範囲にあればよい。好ましくは1000cps〜1cps、さらに好ましくは500cps〜1cpsである。
また、例えば酸化セリウムゾル(特開平8−59235号公報)やTi、Nb、Ta、Vから選ばれた少なくとも1種の元素を有する層状酸化物のゾル(特開平9−25123号公報、特開平9−67124号公報、特開平9−227122号公報、特開平9−227123号公報、特開平10−259023号公報等)等、様々な光触媒ゾルの製造方法についても酸化チタンゾルと同様に開示されている。
R3Si− (1)
(式中、Rは各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のフルオロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数2〜30個のアルケニル基、フェニル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又は水酸基を表す。)
−(R2SiO)− (2)
(式中、Rは上記式(1)で定義した通りである。)
当該変性剤化合物による光触媒の変性処理は、光触媒のゾルと変性剤化合物を5℃から100℃のいずれかの温度で混合し、撹拌する方法により行うことができる。変性剤化合物は直接光触媒ゾルと混合することもできるし、溶剤に溶解させてから混合することもできる。また、変性処理は中性のpH域で行うこともできるし、酸性またはアルカリ性のpH域で行うこともできる。変性時間短縮の観点から変性は40℃から90℃のいずれかの温度に加熱しながら行うことが好ましい。
当該変性剤化合物による変性処理は光触媒/変性剤の重量比が100/0.5から100/50の範囲であることが好ましく100/1から100/30の範囲であることがより好ましい。当該範囲で変性を行うと、分散安定性の効果と光触媒の性能をより効果的に発現することができる。
フルオロアルキル基としては制限はなく、モノフルオロアルキル基、ジフルオロアルキル基、トリフルオロアルキル基のいずれであっても構わないが、変性剤中のフッ素量が多くなるトリフルオロアルキル基を導入することが最も効果的である。アルキル基とは直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のアルキル基を示す。
さらに、変性処理を3段階以上の多段階で実施することも可能である。光触媒と変性剤との反応性、変性剤同士の反応性の観点及び変性光触媒分散性の観点からケイ素及び/又はアルミニウムの酸化物による変性を先に行った後にオルガノシラン単位を有する少なくとも1種類以上の変性剤化合物による変性処理を行うことがより好ましい。
(II)ケイ素及び/又はアルミニウムの酸化物による変性は、ケイ素の酸化物であらかじめ変性されている市販の光触媒を使用することもできる。
これらの本発明で用いる光触媒としては無害であり、化学的安定性にも優れるため、TiO2(酸化チタン)が好ましい。また、アナターゼ、ルチル、ブルッカイトのいずれの結晶構造の酸化チタンも使用でき、複数の結晶構造の酸化チタンの混合物も使用できる。
酸化チタンとしてアナターゼ型酸化チタンを用いると光触媒活性及び/又は親水性がより強く発現する点で好ましい。また、酸化チタンとしてルチル型酸化チタンを用いると光触媒活性及び/又は親水性を発現しつつ耐候性に優れる点で好ましい。
酸化チタンの結晶構造はX線回折によって同定することができる。酸化チタンには、通常の酸化チタンのほかに含水酸化チタン、水和酸化チタン、オルトチタン酸、メタチタン酸、水酸化チタンと称されるものも含まれる。
さらに、水系バインダーにはバインダー樹脂に含まれる官能基と反応する官能基を有する化合物を含むことができる。例えば、(ポリ)イソシアネート化合物、(ポリ)エポキシ化合物、アミノ化合物、(ポリ)カルボキシ化合物、(ポリ)ヒドロキシ化合物、グリコール化合物、シラノール化合物、シリル化合物、アルコキシ化合物、(メタ)アクリレート類などを挙げることができる。
該分散安定剤としては例えば、ポリカルボン酸およびスルホン酸塩よりなる群から選ばれる各種の水溶性オリゴマー類や、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、澱粉、マレイン化ポリブタジエン、マレイン化アルキッド樹脂、ポリアクリル酸(塩)、ポリアクリルアミド、水溶性あるいは水分散性アクリル樹脂などの合成あるいは天然の水溶性あるいは水分散性の各種の水溶性高分子物質が挙げることができる。これらの乳化剤や分散安定剤は1種または2種以上の混合物を使用することができる。
また、本発明の光触媒組成物には光触媒と水系バインダーとの相互作用を制御する目的
で、アルコール類などの有機溶剤を少量添加することもできる。
上記合成樹脂としては、熱可塑性樹脂と硬化性樹脂(熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂等)の使用が可能であり、例えばシリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、フッ素樹脂、アルキド樹脂、アミノアルキド樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリケトン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンスルホン樹脂ポリエーテル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン−アクリル樹脂等を挙げることができる。
また、上記天然樹脂としては、セルロース系樹脂、天然ゴム等のイソプレン系樹脂、カゼイン等のタンパク質系樹脂等を挙げることができる。
本発明において、樹脂板や繊維の表面は、コロナ放電処理やフレーム処理、プラズマ処理等の表面処理がされてあっても構わないが、これらの表面処理は必須ではない。
本発明に使用する基材の種類や膜厚は用途に応じて使い分けることができる。
光触媒活性は、例えば材料表面の光照射時における色素等の有機物の分解性を測定することにより判定することができる。光触媒活性を有する表面は、優れた汚染有機物質の分解活性や耐汚染性を発現する。
親水性は、材料表面の光照射時における接触角を測定することで判定することができる。親水性に優れた表面は低い接触角を示す。防汚性の観点から光照射時における接触角は60°以下であることが好ましい。
ここで、光照射は光触媒のバンドギャップエネルギーよりも高いエネルギーの光の光源を用いて行う。光源としては、太陽光や室内照明灯等の一般住宅環境下で得られる光の他、ブラックライト、キセノンランプ、水銀灯、LED等の光が利用できる。
本発明の水系汚染防止用組成物を基材上に塗膜として形成させる場合、該塗膜の厚みは0.05〜100μm、好ましくは0.1〜10μmである事が好ましい。透明性の面から100μm以下の厚みであることが好ましく、防汚性、光触媒活性等の機能を発現するためには0.05μm以上の厚みであることが好ましい。
本発明の塗装物の製造方法は、基材上に本発明の光触媒組成物を形成する場合に限定されない。基材と本発明の水系汚染防止用組成物を同時に成形、たとえば、一体成形してもよい。また、本発明の光触媒組成物を成形後、基材の成形を行ってもよい。また、塗装物と基材を個別に成形後、接着、融着等により製造してもよい。
1.平均一次粒子径
試料を電子顕微鏡用のメッシュ上に落とし、風乾した。メッシュ上の試料を超高分解能透過型電子顕微鏡(日立製H−9000UHR)で、加速電圧300kV、1000000倍で観察した。観察像から任意の粒子を100個抽出し、平均の一次粒子径を求めた。
試料中の固形分含有量が0.5質量%となるよう適宜溶媒を加えて希釈し、湿式粒度分析計(日機装製マイクロトラックUPA−9230)を用いて測定した。
3.粒子長(L)と粒子径(D)の比(L/D)
1.で観察した電子顕微鏡像で抽出した任意の100個の粒子を用いて粒子長(L)と粒子径(D)の比を求めた。
4.塗膜表面に対する水の接触角
塗膜の表面に脱イオン水の滴を乗せ、23℃で1分間放置した後、協和界面科学製CA−X150型接触角計を用いて測定した。
塗膜に対する水の接触角が小さいほど、塗膜表面は親水性が高い。
日本電色工業製濁度計NDH2000を用いて、JIS−K7105に準じてヘイズ値及び全光線透過率を測定した。
6.色差
BYK Gardner製カラーガイドを用いて標準板からの色差を求めた。
7.耐候性
スガ試験器製サンシャインウェザーメーターを使用して曝露試験(ブラックパネル温度63℃、降雨18分/2時間)を行った。曝露前と曝露500時間後に水の接触角を上記4.の方法で、透明性を上記5.の方法で評価し、曝露前後の変化を評価した。
試験板を一般道路(トラック通行量500〜1000台/日程度)に面したフェンスに6ケ月間張りつけた後、汚染の度合いを目視にて評価した。
◎:汚れなし、○:汚れがほとんどなし、△:やや雨スジ汚れ有り、×:著しく雨スジ汚れ有り
9.光触媒活性
試験板にブラックライトの光を3時間照射した。その後100mg/lのメチレンブルー水溶液0.1mlを分注し、その上に35ml×35mlの透明ポリエステルフィルムを被覆した。上記6.の方法で初期の色差を測定した後、ブラックライトの光を照射し、5分ごとに色差を測定した。初期の色差からの変化をΔEで求め、1時間後のΔEで光触媒活性を評価した。ΔEが大きいほど活性が高い。
なおこのとき、ブラックライトには東芝ライテック製FL20S BLB型ブラックラ
イトの光を用い、日本国トプコン製UVR−2型紫外線強度計{受光部として、日本国トプコン製UD−36型受光部(波長310〜400nmの光に対応)を使用}を用いて測定した紫外線強度が1mW/cm2となるよう調整した。
変性酸化チタンヒドロゾル(A−1)の合成
還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器に、LS−8600[1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの商品名(信越化学工業製)]474g、LS−8620[オクタメチルシクロテトラシロキサンの商品名(信越化学工業製)]76.4g、LS−8490[1,3,5−トリメチル−1,3,5−トリフェニルシクロトリシロキサンの商品名(信越化学工業製)408g、LS−7130[ヘキサメチルジシロキサンの商品名(信越化学工業製)40.5g、及び硫酸化ジルコニア20gを仕込み、50℃で3時間攪拌した後、さらに80℃に加熱したまま5時間攪拌した。硫酸化ジルコニアをろ過したのち、130℃、真空下で低沸分を除去し、重量平均分子量6600、Si−H 基含量7.93mmol/gのメチルハイドロジェンシロキサン−メチルフェニルシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマー(合成シリコーン化合物)780gを得た。
得られたSi−H基含有化合物溶液(1)4gに水100gを加えると、透明な水溶液となった。
また、得られたSi−H基含有化合物溶液(1)3.97gにブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は21℃ において21.0mlであった。この水素ガス生成量から求めた、Si−H基含有化合物溶液(1)1g当りのSi−H 基含量は0 .22mmol/g(合成シリコーン化合物1g当たりに換算したSi−H基含量は約2.37mmol/g)であった。
また、得られた変性光触媒ヒドロゾル(A−1)の粒径分布は単一分散(数平均粒子径は55nm)であり、さらに変性処理前のTKS−203の単一分散(数平均粒子径は12nm)の粒径分布が大きな粒径側に平行移動していることが確認できた。
尚、上記得られた変性光触媒ヒドロゾル(A−1)の数平均粒子径は、その濃度を5質量%とした場合の測定数値であり、一方表1に記載のそれは、該濃度を0.5質量%とした場合の測定数値であり、該濃度がより大きいことにより前者の数値がより小さくなっている。(以下同じ。)
表1に変性光触媒ヒドロゾル(A−1)の特性を示す。
変性酸化チタンヒドロゾル(B−1)の合成
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、MPT−422[アナターゼ型酸化チタンヒドロゾルの商品名(石原産業製)、TiO2に対して14重量%のSiO2で表面変性されているもの]77.3gと水231.9gを入れた後、これに[製造例1]で合成したSi−H基含有化合物溶液(1)41.3gを40℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに40℃にて12時間撹拌を続けた後、減圧蒸留によりメチルエチルケトンを除去し、水を加えて5質量%の非常に分散性の良好な変性光触媒ヒドロゾル(B−1)を得た。この時、Si−H基含有化合物溶液(1)の反応に伴い生成した水素ガス量は20℃において210mlであった。また、得られた変性酸化チタンヒドロゾル(B−1)をKBr板上にコーティングしIRスペクトルを測定したところ、Ti−OH基の吸収(3630〜3640cm-1)の消失が観測された。
また、得られた変性光触媒ヒドロゾル(B−1)の粒径分布は単一分散(数平均粒子径は50nm)であり、さらに変性処理前のMPT−422の単一分散(数平均粒子径は9nm)の粒径分布が大きな粒径側に平行移動していることが確認できた。
表1に変性光触媒ヒドロゾル(B−1)の特性を示す。
変性酸化チタンヒドロゾル(C−1)の合成
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、TSK−5[ルチル型酸化チタンヒドロゾルの商品名(石原産業製)、TiO2に対して14重量%のSiO2で表面変性されているもの]51.5gと水257.5gを入れた後、これに[製造例1]で合成したSi−H基含有化合物溶液(1)41.3gを40℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに40℃にて12時間撹拌を続けた後、減圧蒸留によりメチルエチルケトンを除去し、水を加えて5質量%の非常に分散性の良好な変性光触媒ヒドロゾル(C−1)を得た。この時、Si−H基含有化合物溶液(1)の反応に伴い生成した水素ガス量は20℃において210mlであった。また、得られた変性酸化チタンヒドロゾル(C−1)をKBr板上にコーティングしIRスペクトルを測定したところ、Ti−OH基の吸収(3630〜3640cm-1)の消失が観測された。
また、得られた変性光触媒ヒドロゾル(C−1)の粒径分布は単一分散(数平均粒子径は50nm)であり、さらに変性処理前のTSK−5の単一分散の粒径分布が大きな粒径側に平行移動していることが確認できた。
表1に変性光触媒ヒドロゾル(C−1)の特性を示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、TKS−203[アナターゼ型酸化チタンヒドロゾルの商品名(テイカ製)]78.1gと水221.9gを入れた後、これにKBM7103[3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシランの商品名(信越化学工業製)]0.77gを80℃ にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに80℃にて3時間撹拌を続けたところ5質量%の非常に分散性の良好な変性光触媒ヒドロゾル(A−2)を得た。得られた変性酸化チタンヒドロゾル(A−2)をKBr板上にコーティングしIRスペクトルを測定したところ、Ti−OH基の吸収(3630〜3640cm-1)の減少が観測された。
また、得られた変性光触媒ヒドロゾル(A−2)の粒径分布は単一分散(数平均粒子径は53nm)であり、さらに変性処理前のTKS−203の単一分散(数平均粒子径は12nm)の粒径分布が大きな粒径側に平行移動していることが確認できた。
表1に変性光触媒ヒドロゾル(A−2)の特性を示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、MPT−422[アナターゼ型酸化チタンヒドロゾルの商品名(石原産業製),TiO2に対して14重量%のSiO2で表面変性されているもの]77.3gと水231.9gを入れた後、これにKBM7103[3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシランの商品名(信越化学工業製)]0.77gを80℃ にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに80℃にて3時間撹拌を続けたところ5質量%の非常に分散性の良好な変性光触媒ヒドロゾル(B−2)を得た。得られた変性酸化チタンヒドロゾル(B−2)をKBr板上にコーティングしIRスペクトルを測定したところ、Ti−OH基の吸収(3630〜3640cm-1)の減少が観測された。
また、得られた変性光触媒ヒドロゾル(B−2)の粒径分布は単一分散(数平均粒子径は53nm)であり、さらに変性処理前のMPT−422の単一分散(数平均粒子径は9nm)の粒径分布が大きな粒径側に平行移動していることが確認できた。
表1に変性光触媒ヒドロゾル(B−2)の特性を示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、TSK−5[ルチル型酸化チタンヒドロゾルの商品名(石原産業製)、TiO2に対して14重量%のSiO2で表面変性されているもの]51.5gと水257.5gを入れた後、これにKBM7103[3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシランの商品名(信越化学工業製)]0.77gを80℃ にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに80℃にて3時間撹拌を続けたところ5質量%の非常に分散性の良好な変性光触媒ヒドロゾル(C−2)を得た。得られた変性酸化チタンヒドロゾル(C−2)をKBr板上にコーティングしIRスペクトルを測定したところ、Ti−OH基の吸収(3630〜3640cm-1)の減少が観測された。
また、得られた変性光触媒ヒドロゾル(C−2)の粒径分布は単一分散(数平均粒子径は53nm)であり、さらに変性処理前のTKS−5の単一分散の粒径分布が大きな粒径
側に平行移動していることが確認できた。
表1に変性光触媒ヒドロゾル(C−2)の特性を示す。
水系バインダーエマルジョン(a)の合成
還流冷却器、滴下槽、温度計および撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水1600g、ドデシルベンゼンスルホン酸2gを投入した後、撹拌下で温度を80℃に加温した。これに、アクリル酸ブチル85g、フェニルトリメトキシシラン135g、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン1.3gの混合液とジエチルアクリルアミド100g、アクリル酸3g、反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25%水溶液)13g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、イオン交換水1500gの混合液を、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下した。さらに反応容器中の温度が80℃の状態で約2時間撹拌を続行した後、室温まで冷却し、100メッシュの金網で濾過した後、イオン交換水で固形分を10.0質量%に調整し、数平均粒子径100nmの重合体エマルジョン粒子(a)水分散体を得た。
水系バインダーエマルジョン(b)の合成
還流冷却器、滴下槽、温度計および撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水1000gを投入した後、撹拌下で温度を80℃に加温した。これに、ジエチルアクリルアミド100g、アクリル酸3g、反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25%水溶液)13g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液4
0g、イオン交換水500gの混合液とアクリル酸ブチル100gとを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下した。さらに反応容器中の温度が80℃の状態で約2時間撹拌を続行した後、室温まで冷却し、100メッシュの金網で濾過した後、イオン交換水で固形分を10.0質量%に調整し、数平均粒子径80nmの重合体エマルジョン粒子(b)水分散体を得た。
水系バインダー(c)の合成
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、さらに水18部および0.01Nの塩酸18部を混合し、ディスパーを用いてよく混合した。得られた液を60℃恒温槽中で2時間加熱してシリコーン樹脂を得た。次に、このシリコーン樹脂に、熱分解性材料としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(熱分解温度280℃)を、得ようとしている無機塗料の全固形分に対して10%添加し、固形分が13〜15%になるように希釈することにより、水系バインダー(c)を得た。
シリカ変性のアナターゼ型酸化チタンヒドロゾル(MPT−422、石原産業製)に水を加えて5%の酸化チタンヒドロゾル(B)を調製した。当該酸化チタンヒドロゾル14g、製造例7で製造した水系バインダーエマルジョン100gと数平均粒子径12nmの水分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスO」、日産化学工業(株)製、固形分20%)60gを混合し、変性光触媒組成物を調製した。
10cm×10cmのPETフィルムに上記変性光触媒組成物を膜厚が2μmとなるようにバーコートした後、室温で1週間乾燥する事により、試験板を得た。
評価結果を表2に示す。
シリカ変性のルチル型酸化チタンヒドロゾル(TSK−5、石原産業製)に水を加えて5%の酸化チタンヒドロゾル(C)を調製した。当該酸化チタンヒドロゾル14g、製造例7で製造した水系バインダーエマルジョン100gと数平均粒子径12nmの水分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスO」、日産化学工業(株)製、固形分20%)60gを混合し、変性光触媒組成物を調製した。
10cm×10cmのPETフィルムに上記変性光触媒組成物を膜厚が2μmとなるようにバーコートした後、室温で1週間乾燥する事により、試験板を得た。
評価結果を表2に示す。
[実施例4、5、7、8],[参考実施例3、6]
実施例1においてシリカ変性のアナターゼ型酸化チタンヒドロゾル(B)を用いるかわりに[製造例1]から[製造例6]で合成した変性酸化チタンヒドロゾルのいずれかを用いる以外は実施例1と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。評価結果を表2に示す。
実施例1において酸化チタンを使用しない以外は実施例1と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。
評価結果を表2に示す。
[比較例2]
実施例1において酸化チタンとして未変性の酸化チタンヒドロゾル(TKS−203)を使用する以外は実施例1と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。
評価結果を表2に示す。
シリカ変性のアナターゼ型酸化チタンヒドロゾル(MPT−422、石原産業製)に水を加えて5%の酸化チタンヒドロゾル(B)を調製した。当該酸化チタンヒドロゾル14g、製造例8で製造した水系バインダーエマルジョン100gと数平均粒子径12nmの水分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスO」、日産化学工業(株)製、固形分20%)60gを混合し、変性光触媒組成物を調製した。
10cm×10cmのPETフィルムに上記変性光触媒組成物を膜厚が2μmとなるようにバーコートした後、室温で1週間乾燥する事により、試験板を得た。
評価結果を表3に示す。
シリカ変性のルチル型酸化チタンヒドロゾル(TSK−5、石原産業製)に水を加えて5%の酸化チタンヒドロゾル(C)を調製した。当該酸化チタンヒドロゾル14g、製造例8で製造した水系バインダーエマルジョン100gと数平均粒子径12nmの水分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスO」、日産化学工業(株)製、固形分20%)60gを混合し、変性光触媒組成物を調製した。
10cm×10cmのPETフィルムに上記変性光触媒組成物を膜厚が2μmとなるようにバーコートした後、室温で1週間乾燥する事により、試験板を得た。
評価結果を表3に示す。
[実施例12、13、15、16],[参考実施例11、14]
実施例9においてシリカ変性のアナターゼ型酸化チタンヒドロゾル(B)を用いるかわりに[製造例1]から[製造例6]で合成した変性酸化チタンヒドロゾルのいずれかを用いる以外は実施例9と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。評価結果を表3に示す。
実施例9において酸化チタンを使用しない以外は実施例9と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。
評価結果を表3に示す。
[比較例4]
実施例9において酸化チタンとして未変性の酸化チタンヒドロゾル(TKS−203)を使用する以外は実施例9と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。
評価結果を表3に示す。
実施例1において数平均粒子径12nmの水分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテ
ックスO」、日産化学工業(株)製、固形分20%)を用いない以外は実施例1と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。評価結果を表4に示す。
[参考実施例18]
実施例2において数平均粒子径12nmの水分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスO」、日産化学工業(株)製、固形分20%)を用いない以外は実施例2と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。評価結果を表4に示す。
[参考実施例19]〜[参考実施例24]
参考実施例3から実施例8において数平均粒子径12nmの水分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスO」、日産化学工業(株)製、固形分20%)を用いない以外は参考実施例3から実施例8と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。評価結果を表4に示す。
参考実施例17において酸化チタンを使用しない以外は参考実施例17と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。
評価結果を表4に示す。
[比較例6]
参考実施例17において酸化チタンとして未変性の酸化チタンヒドロゾル(TKS−203)を使用する以外は参考実施例17と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。
評価結果を表4に示す。
シリカ変性のアナターゼ型酸化チタンヒドロゾル(MPT−422、石原産業製)に水を加えて5%の酸化チタンヒドロゾル(B)を調製した。当該酸化チタンヒドロゾル1g、製造例9で製造したバインダー100gを混合し、変性光触媒組成物を調製した。
10cm×10cmのPETフィルムに上記変性光触媒組成物を膜厚が2μmとなるようにバーコートした後、室温で1週間乾燥する事により、試験板を得た。
評価結果を表5に示す。
シリカ変性のルチル型酸化チタンヒドロゾル(TSK−5、石原産業製)に水を加えて5%の酸化チタンヒドロゾル(B)を調製した。当該酸化チタンヒドロゾル1g、製造例9で製造したバインダー100gを混合し、変性光触媒組成物を調製した。
10cm×10cmのPETフィルムに上記変性光触媒組成物を膜厚が2μmとなるよ
うにバーコートした後、室温で1週間乾燥する事により、試験板を得た。
評価結果を表5に示す。
[参考実施例27]〜[参考実施例32]
参考実施例25においてシリカ変性のアナターゼ型酸化チタンヒドロゾル(B)を用いるかわりに[製造例1]から[製造例6]で合成した変性酸化チタンヒドロゾルのいずれかを用いる以外は参考実施例25と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。評価結果を表5に示す。
参考実施例25において酸化チタンを使用しない以外は参考実施例25と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。
評価結果を表5に示す。
[比較例8]
参考実施例25において酸化チタンとして未変性の酸化チタンヒドロゾル(TKS−203)を使用する以外は参考実施例25と同様に組成物を調製し、試験板の作成を行った。
評価結果を表5に示す。
Claims (7)
- (II)ケイ素の酸化物からなる変性剤化合物により変性処理されている、又は(I)下記式(1)で表されるトリオルガノシラン単位、下記式(2)で表されるモノオキシジオルガノシラン単位、下記式(3)で表されるジオキシオルガノシラン単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる1種以上の変性剤化合物と(II)ケイ素の酸化物からなる変性剤化合物により変性処理されている、一次粒子径が1から100nmである変性酸化チタン光触媒と、水系バインダー及びコロイダルシリカを含む変性光触媒組成物。
R3Si − (1)
(式中、Rは各々独立に直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のフルオロアルキル基、直鎖状又は分岐状の炭素数2〜30個のアルケニル基、フェニル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、または水酸基を表す)
−(R2SiO)− (2)
(式中、Rは上記式(1)で定義した通りである。)
- 酸化チタンがルチル型酸化チタンであることを特徴とする請求項1に記載の変性光触媒組成物。
- 変性剤化合物(I)中に直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基の1種類以上を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の変性光触媒組成物。
- 酸化チタン光触媒の数平均分散粒子径が1から400nmであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の変性光触媒組成物。
- 変性酸化チタン光触媒粒子の粒子長(L)と粒子直径(D)の比(L/D)が1/1から20/1であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の変性光触媒組成物。
- 請求項1から5のいずれかに記載の変性光触媒組成物を基材に塗装した光触媒塗装物。
- 変性酸化チタン光触媒の分布について異方性を有し、該変性酸化チタンの濃度が基材に接する面より他方の露出面の方が高いことを特徴とする請求項6に記載の光触媒塗装物。
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