JP4776616B2 - 光硬化性組成物 - Google Patents
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Description
本発明は、光硬化性組成物、およびラピッドプロトタイピング(rapid prototyping)技術を用いる三次元物品の生産方法に関する。本発明の光硬化性組成物から生産される三次元物品は、全般的に高い性能特性を示す。
CADを用いる、一層ごとのラピッドプロトタイピング技術(例えばステレオリソグラフィー(stereolithography))から生産される三次元物品は、長年にわたり市販されている。そのような物品の最終的な機械的および他の[例えば表面仕上げなど]性質は、用いられる材料およびCAD積層システム(CAD layering system)に由来する。
DE4440819A1の実施例1には、76.1gのノルボルネンアクリレートと19.9gのポリチオールを含有する組成物であって、He/Cdレーザーで硬化される組成物が記載されている。硬化された生成物は高い収縮レベルを有する:14.4%。重量基準でほぼ同等量のノルボルネンアクリレートとポリチオールを含有する組成物から得られる硬化された生成物は、より低い収縮を有する。
非レーザーシステムのいくつかの従来技術は以下のものである:
WO00/21735には非レーザー法が記載されているが、そのような方法が樹脂からはるかに改善された機械的性質をもたらすであろうことは開示されていない。
熱可塑性樹脂
結晶質:規則的な順序で配列しているポリマー
非晶質:コイルのように無秩序に配列しているポリマー
熱硬化性樹脂
ポリマーの網状構造のために低分子量モノマーが架橋し重合している
エラストマー
熱可塑性または熱硬化性のいずれかであることができる
熱硬化性エラストマー:天然および合成ゴム
熱可塑性エラストマー:ゴムによく似ているプラスチック(EPDM、TPO、TPE)
レーザー放射線を作り出すためには高価な設備が必要であり、光硬化性組成物を硬化するための他の方法を見いだすことが望ましい。非干渉性化学線照射を包含する方法には、新規な光硬化性組成物が必要である。
本発明は、非レーザー照射を包含するCAD積層技術(CAD layer technique)を用いて形成される三次元物品において、総合して広範囲の性質をもたらす方法および光硬化性組成物を提供する。得られる性質は、従来の熱可塑性ポリマーから得られる性質に匹敵することが好ましい。
i)組成物中の全硬化性成分の45重量%〜95重量%(そして、好ましくは少なくとも50重量%、より好ましくは少なくとも60重量%、例えば少なくとも70重量%)が第1成分であり、該第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cm2のエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90%が50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
ii)組成物中の全硬化性成分の5重量%〜55重量%(そして、好ましくは10〜40重量%、より好ましくは15〜30重量%、例えば約20重量%)が第2成分であり、該第2成分は、硬化中に、直線方向で3%未満の組成物の収縮をもたらし、好ましくは、硬化後に、50℃より高温、好ましくは少なくとも100℃、より好ましくは少なくとも120℃のTgを有する組成物をもたらす、
を含む、前記方法を提供する。
iii)組成物中の全硬化性成分の少なくとも70重量%、好ましくは少なくとも80重量%、より好ましくは少なくとも85重量%が第1成分であり、該第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cm2のエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90重量%が50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
iv)組成物中の全硬化性成分の少なくとも5重量%、好ましくは最大30重量%、好ましくは最大20重量%、好ましくは最大15重量%が第2成分であり、該第2成分は、硬化中に、直線方向で長さにおいて3%未満の組成物の収縮をもたらし、好ましくは、硬化後に、50℃より高温、好ましくは少なくとも100℃、より好ましくは少なくとも120℃のTgを有する組成物をもたらす、
を含む、前記方法を提供する。
(a)アクリレート、例えば、モノ、ビスおよびより高い程度の官能価のアクリレート、またはそれらの混合物、ここにおいて、該アクリレートは、2以上の官能価を有する少なくとも1種のアクリレートを含むことが好ましい、
(b)アミン光開始剤、塩基増幅物(base amplifier)、およびアニオン的に硬化しうる材料、例えば、グリシジルエポキシまたはアクリレートまたは少なくとも2の官能価を有する無水物を含む、アミン塩基増殖系(amine base proliferation system)、あるいは
(c)少なくとも1種のカチオン的に光硬化しうる材料、例えばエポキシ(例えば脂環式エポキシまたはグリシジルエポキシ)、カチオン光硬化開始剤、例えばトリ−アリールスルホニウムSbF6塩、および酸増幅物(acid amplifier)、例えばトシル化化合物を含む、酸増幅系(acid amplified system)、ならびに
(d)2個以上の官能性光開始基(functional photoinitation group)を有するポリマー鎖、例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリブタジエン、ポリウレタン、ポリアルカン、またはポリシロキサン、ここにおいて、該光開始基は、放射線への暴露中に、組成物中の硬化性成分と反応して前記ポリマー鎖を硬化された組成物に組み込む反応性基を形成することができ、該ポリマー鎖は、柔軟性および/または強化性鎖であることが好ましい、
からなる群より選択される1種以上の材料を含んでいてもよい。
(a)メタクリレート、例えば、モノ、ビスもしくはより高い程度の官能価のメタクリレート、またはそれらの混合物、好ましくは、少なくとも2の官能価を伴う少なくとも1種のメタクリレートを含む、
(b)少なくとも1個の末端−SH、−NHまたは−OH基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、または少なくとも1個のアミン、ヒドロキシもしくはチオ末端基を持つ反応性アルカン、および
(c)潜伏性ポリオール、例えば、エポキシから誘導されるもの、もしくはポリアミン、例えば、カルバメートから誘導される脂肪族アミンなどのブロックトアミンから誘導されるものと、ブレンドされていてもよいイソシアネート、またはイソシアネート基とウレタン基を持つ混成物、あるいは
(d)酸増幅物を伴っていてもよいエポキシ、例えば、脂環式エポキシまたはグリシジルエポキシ、ならびに
(e)オキセタンまたはフラン、
からなる群より選択される1種以上の材料を含んでいてもよい。
(i)アクリレート、例えば、モノ、ビスおよびより高い程度の官能価のアクリレート、またはそれらの混合物、ここにおいて、該アクリレートは、2以上の官能価を有する少なくとも1種のアクリレートを含むことが好ましい、あるいは、
(ii)光−アミン開始剤(photo-amine initiator)と、アニオン的に光硬化しうる材料、例えば、少なくとも2の官能価を有する無水物を伴う光−多塩基増幅物(photo-polybase amplifier)とを含む、アミン塩基増殖系、あるいは
(iii)少なくとも1種のカチオン的に光硬化しうる材料、例えばエポキシ(例えば脂環式エポキシ)、カチオン光硬化開始剤、例えばトリ−アリールスルホニウムSbF6塩、および酸増幅物、例えばトシル化化合物を含む、酸増幅系、ならびに
(iv)2個以上の官能性光開始基を有するポリマー鎖、例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリブタジエン、ポリウレタン、ポリアルカン、またはポリシロキサン、ここにおいて、該光開始基は、放射線への暴露中に、組成物中の硬化性成分と反応して前記ポリマー鎖を硬化された組成物に組み込む反応性基を形成することができ、該ポリマー鎖は、柔軟性および/または強化性鎖であることが好ましい、
からなる群より選択される1種以上の材料を含む。
(v)メタクリレート、例えば、モノ、ビスもしくはより高い程度の官能価のメタクリレート、またはそれらの混合物、好ましくは、少なくとも2の官能価を伴う少なくとも1種のメタクリレートを含む、
(vi)少なくとも1個の末端−SH、−NHまたは−OH基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、または少なくとも1個のアミン、ヒドロキシもしくはチオ末端基を持つ反応性アルカン、および
(vii) i)潜伏性ポリオール、例えば、エポキシから誘導されるもの、またはポリアミン、例えば、カルバメートから誘導される脂肪族アミンなどのブロックトアミンから誘導されるものと、ブレンドされていてもよいイソシアネート、あるいは
(ii)イソシアネート基とウレタン基を持つ混成物、
(iii)酸増幅物を伴っていてもよいエポキシ、例えば、脂環式エポキシまたはグリシジルエポキシ、ならびに
(iv)オキセタン、フラン、またはオルト−スピロ化合物、
からなる群より選択される1種以上の材料を含む。
1.少なくとも2種の硬化性成分:
(i)組成物中の硬化性成分の全重量に基づき60重量%〜90重量%(そして好ましくは70〜85重量%)の量の第1成分、ここにおいて、第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cm2のエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90%が100ミリ秒以内、好ましくは50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
(ii)組成物中の全硬化性成分の5重量%〜30重量%(そして、好ましくは10〜25重量%、より好ましくは10〜20重量%)の量の硬化性第2成分、ここにおいて、第2成分は、少なくとも1個の末端チオール(−SH)基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、1分子あたり2個以上のチオール基を有するポリチオール(例えば、αもしくはβ−メルカプトカルボン酸、例えばチオグリコール酸もしくはβ−メルカプトプロピオン酸でのポリオールのエステル化により得られるポリチオール、またはペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテート、またはペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP))である、
2.0〜10%、好ましくは1〜10%のカチオン光開始剤、
3.0〜10%、好ましくは0.01〜10、または好ましくは1〜10%のラジカル光開始剤、
4.該工程で使用する前の早期硬化に対する安定剤0〜5%、好ましくは0.001〜5%、および
5.0〜20%の補助的材料、例えば、充填剤、詳細にはサブミクロン粒子、‘ナノサイズ’充填剤、例えば、シロキサン粒子、シリカ粒子、ナノ粘土、ナノ金属、ナノチューブ、
を含む、光学成形組成物を提供する。
(a)少なくとも2種の硬化性成分:
(i)組成物中の硬化性成分の全重量に基づき少なくとも80重量%、好ましくは−少なくとも85重量%の量の第1成分、ここにおいて、第1成分は、光硬化性であり、光硬化開始剤の存在下で30mJ/cm2のエネルギーを有するUV放射線への暴露により硬化すると、該成分の少なくとも90重量%が100ミリ秒以内、好ましくは50ミリ秒以内に硬化するようなものである;および
(ii)組成物中の全硬化性成分の少なくとも5重量%の量の硬化性第2成分、ここにおいて、第2成分は、少なくとも1個の末端チオール(−SH)基を有する化合物、例えば、オリゴマー性液状ポリスルフィド、メルカプタンモノマー、1分子あたり2個以上のチオール基を有するポリチオール(例えば、αもしくはβ−メルカプトカルボン酸、例えばチオグリコール酸もしくはβ−メルカプトプロピオン酸でのポリオールのエステル化により得られるポリチオール、またはペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテート、またはペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP))である、
(b)0〜10%、好ましくは1〜10%のカチオン光開始剤、
(c)0.01〜10%のラジカル光開始剤、
を含むことが好ましい。
1〜10重量%の1種以上の柔軟剤または強化材、例えば、(例えば、(a)(d)ヒドロキシル含有化合物(例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリカーボネートもしくはポリウレタン)または(b)(e)ヒドロキシルバージョンのチオールもしくはアミノ相当物)、あるいは反応性ゴム/エラストマー化合物(例えば、エポキシ、アクリリル、アミノ、ヒドロキシ、チオールもしくはアミノ官能基を有するポリブタジエン、またはエポキシ、アクリリル、ヒドロキシル、チオールもしくはアミノ官能基を有する線状もしくは環状ポリシロキサン)
も含有する。
発明の詳細な説明
“三次元物品”は、少なくとも2層の硬化された樹脂組成物から作成される物品をさす。したがって、該物品の生産は、2種の構成要素:
A:描画システムまたは方法
B:Aと併せて用いられる材料[1種以上]
を包含する。
A:描画システムまたは方法
この方法は、いくつかの情報手段[CADに基づく]を包含し、一層ごとに材料を対処して最後に最終的‘三次元物品’を形成する機械システムに提供される。
B:材料
材料は、暴露システムと互いに影響し合い、何らかの方法で、元の形から、元の状態と区別され、プログラム化された情報に従って対象物を層状に堆積させるときに、一層ごとに層のステッチ溶接(stitching)が起こることを可能にし、さらに材料の初期状態から容易に分離される形に、転化する組成物である。
(a)最大80mJcm−2での照射エネルギーへの暴露中に出発時の粘度の少なくとも10倍の粘度変化を経る任意の感光性材料を含む、第1光硬化性成分、および
(b)第1混合物より反応が遅く、(a)からのものと相溶し統合される低い収縮の硬化された網状構造をもたらす、第2硬化性成分。
1)モノ、ビスおよびより高い程度の官能価を含み、ウレタン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリ芳香族、ペルヒドロ芳香族(perhydro-aromatic)などの相互連結(inter-links)を含む、アクリル−メタクリルブレンド。
2)1)のように追加的にメタクリル系誘導体を含有するアクリル−チオブレンド。例えば:アクリレートおよび/またはアルケンを伴うオリゴマー性液状ポリスルフィドおよび/またはメルカプタンモノマー、例えば、
http://torayfinechemicals.com/english/pori.htmlおよび
http://www.thioplasts.com/
で入手できるもの。
3)潜伏性ポリオール[例えば、エポキシからのもの]またはポリアミン[例えば、カルバメートからの脂肪族アミンのようなブロックトアミンからのもの、J Mater. Chem, 2004, 14 (3), 336- 343]を含有する、アクリル−イソシアネートブレンド。
混成イソシアネート官能基化(ウレタン)アクリレートまたは別個の成分としてのイソシアネート、例えば、
http://www.bayer-ls.com/ls/lswebcms.nsf/id/001002 CHE
に記載されているようなBayer Roskydals。
水分との反応または
http://www.cibasc.com/view.asp?id=6822
に記載されているような光潜在性(Photolatent)塩基−Cibaの使用
4)酸増幅物を伴う脂環式エポキシおよびグリシジルエポキシ、ならびにオキセタン/フラン
5)混成アクリレート/エポキシ
異なる別個の材料としてであるか、可能な場合、同一分子内の二重の官能性のいずれか一方。
アクリレート含有化合物
“(メタ)アクリレート”はアクリレート、メタクリレート、またはそれらの混合物をさす。アクリレートは第1成分の全体または一部として用いることができるのに対し、メタクリレートは、より遅い硬化速度を有するため、第2成分として用いることができる。
第2成分の全体または一部を形成することができるポリチオール含有化合物
本発明の組成物のポリチオール成分は、1分子あたり2個以上のチオール基を有するあらゆる化合物であることができる。適切なポリチオールは、米国特許第3661744号の第8段76行〜第9段46行;米国特許第4119617号の第7段40〜57行;米国特許第3445419号および第4289867号に記載されている。特に好ましいものは、αまたはβ−メルカプトカルボン酸、例えばチオグリコール酸またはβ−メルカプトプロピオン酸でのポリオールのエステル化により得られるポリチオールである。とりわけ好ましいポリチオールは、ペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテートおよびペンタエリトリトールテトラキス−β−メルカプトプロピオネート(PETMP)である。
エポキシ含有化合物
あらゆるエポキシ含有化合物が本発明に適している:本発明での使用に適したエポキシ含有化合物のいくつかの例は、米国特許第5476748号、米国特許公開(Patent Publication)第2001/0046642A1号、および米国特許公開第2002/0160309号に開示されており、これらのすべてを本明細書中で参考として援用する。詳細には、成分(a)としての使用の場合、酸に不安定な増幅物[J Mat Chem, 2001, 11, 295-301に例示されているようなもの]によりさらに触媒/増幅されることができる工程において、光酸発生物(photo generated acid)、例えばトリ−アリールスルホニウムSbF6塩からのものにより開環するように促進することができる、エポキシ化合物。
ヒドロキシル含有化合物
本発明の光硬化性組成物は、柔軟剤または強化材として用いられる1種以上のヒドロキシル含有化合物を含有していてもよい;相当するチオールおよびアミノ対応物を用いることもできる。好ましくは、ヒドロキシル含有化合物は二官能性である。より好ましくは、二官能性ヒドロキシル含有化合物はポリエーテルポリオールである。もっとも好ましくは、ポリエーテルポリオールはポリテトラメチレンエーテルグリコール(“ポリTHF”)である。ポリTHFは、約250〜約2500の分子量を有することが好ましい。ポリTHFは、ヒドロキシ、エポキシ、またはエチレン的不飽和基(1以上)を末端基とすることができる。ポリテトラメチレンエーテルグリコールは、Polymeg(登録商標)タイプ(Penn Specialty Chemicals)で市販されている。好ましくは、本発明の光硬化性組成物はPolymeg(登録商標) 1000を包含し、これは、1000gの公称分子量を伴う線状ジオールである。
ラジカル光開始剤
ラジカル光開始剤は、ラジカル光重合を開始させるために一般に用いられているものから選ぶことができる。ラジカル光開始剤の例としては、ベンゾイン類、例えば、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインフェニルエーテル、ならびにベンゾインアセテート;アセトフェノン類、例えば、アセトフェノン、2,2−ジメトキシアセトフェノン、および1,1−ジクロロアセトフェノン;ベンジルケタール、例えば、ベンジルジメチルケタールおよびベンジルジエチルケタール;アントラキノン類、例えば、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−tertブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノンおよび2−アミルアントラキノン;トリフェニルホスフィン;ベンゾイルホスフィンオキシド、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド(Luzirin((登録商標)TPO);ビスアシルホスフィンオキシド;ベンゾフェノン類、例えば、ベンゾフェノンおよび4,4’−ビス(N,N’−ジメチルアミノ)ベンゾフェノン;チオキサントン類およびキサントン類;アクリジン誘導体;フェナジン誘導体;キノキサリン誘導体;1−フェニル−1,2−プロパンジオン2−O−ベンゾイルオキシム;4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−プロピル)ケトン(Irgacure 2959;Ciba Specialty Chemicals);1−アミノフェニルケトンまたは1−ヒドロキシフェニルケトン、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシイソプロピルフェニルケトン、フェニル1−ヒドロキシイソプロピルケトン、および4−イソプロピルフェニル1−ヒドロキシイソプロピルケトンが挙げられる。
カチオン光開始剤
カチオン光開始剤は、カチオン光重合を開始するために一般に用いられているものから選ぶことができる。例としては、求核性の弱いアニオンを伴うオニウム塩、例えば、ハロニウム塩、ヨードシル塩、スルホニウム塩、スルホキソニウム塩またはジアゾニウム塩が挙げられる。メタロセン塩も光開始剤として適している。オニウム塩およびメタロセン塩光開始剤は、米国特許第3708296号;“UV-Curing, Science and Technology” (S. P. Pappas編集、Technology Marketing Corp.)およびK. K. Dietliker, Chemistry & Technology of UV & EB Formulations for Coatings, Inks & Paints,Vol. 3 (P. K. Oldring 1991)に記載されており、これらそれぞれを本明細書中で参考として援用する。
本発明の光硬化性組成物は、さまざまな他の成分を含有していてもよい。そのような成分の例としては、例えば、改質剤、強化剤、安定剤、消泡剤、均展剤、増粘剤、難燃剤、酸化防止剤、顔料、染料、充填剤およびそれらの組合わせが挙げられる。
暴露システム:
本発明の他の観点は、連続的な複数の横断面層の状態にある三次元物品を、該物品のモデルに従って生産するための方法であって、光硬化性組成物の第1層を形成し;該第1層を、モデルの各横断面層に対応するパターンで、描画された区域において第1層を硬化させるのに足る化学線に暴露し;硬化された第1層の上方に光硬化性組成物の第2層を形成し;該第2層を、モデルの各横断面層に対応するパターンで、描画された区域において第2層を硬化させるのに足る化学線に暴露し;そして、上記2段階を繰り返して、三次元物品を形成するのに求められるとおりの連続的層を形成することによる方法を包含し、ここにおいて、該暴露システムでは、非干渉性光源、例えば、キセノン溶融ランプ(xenon fusion lamp)または発光ダイオードバーからの照射を用いることが好ましい。
ステレオリソグラフィー装置、例えばSLA 7000で三次元物品を作成するために用いられる一般的手順は、WO03/089991に記載されているとおりである。実施例2の場合、SLA暴露条件は、
Dp=5.5;Ec=3.5
であった。
実施例:
実施例1(参考例1):
1)アクリル組成物
Huntsman Advanced Materialsからのアクリル配合物であるステレオリソグラフィー用樹脂SL5131を、SL 7000機器で、WO00/21735の方法にも従って、描画した。結果を以下に示す。明らかに、引張応力の値において改善を示している。
2)アクリル−ポリチオール組成物1
以下の化合物を、黄色灯下、褐色ボトルの中で、室温において2時間混合した。
実施例3(本発明実施例を用いた比較):
3)アクリル−ポリチオール組成物1(本発明実施例)とStereocol 9300の比較
Stereocol 9300は、アクリル系誘導体とウレタンアクリレートを含む完全なアクリル組成物である。
引張試験用バー
以下の配合物(参考例)を、しっかりした密封キャップを有する褐色ジャー中で成分[重量%]を室温で6時間にわたり混転することにより作成した。
Claims (5)
- 非干渉性のUV放射線を用いる、一層ごとの光学成形法のための光硬化性組成物であって、当該光硬化性組成物が、
少なくとも2種の硬化性成分:
(i)当該組成物中の全硬化性成分の少なくとも80重量%である第1成分であって、当該第1成分は光硬化性のアクリレートまたはその混合物であり、当該アクリレートは2以上の官能価を有する少なくとも1種のアクリレートを含む;および
(ii)当該組成物中の全硬化性成分の少なくとも5重量%、かつ最大15重量%である第2成分であって、当該第2成分は少なくとも1個の末端チオール(−SH)基を有する化合物である、
並びに、0.01から10重量%のラジカル光開始剤、
を含む、前記光硬化性組成物。 - 前記第2成分が、1分子あたり2個以上のチオール基を有するポリチオールを含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- 前記光硬化性組成物が、さらに
(a)ヒドロキシル含有化合物、
(b)前記ヒドロキシル含有化合物のチオールもしくはアミノ相当物、および
(c)反応性ゴム/エラストマー化合物、または反応性もしくは相溶性表面を伴うコアシェル強化材、またはエポキシ、アクリル、ヒドロキシル、チオールもしくはアミノ官能基を有する線状もしくは環状ポリシロキサン、
からなる群から選択される1種以上の柔軟剤または強化材を含有する、請求項1または2に記載の光硬化性組成物。 - 連続した複数の横断面層を有する三次元物品を、当該物品のモデルに従って製造するための、非干渉性のUV放射線を用いる、一層ごとの光学成形法であって、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の光硬化性組成物の第1層を形成し;
当該第1層を、前記モデルの各横断面層に対応するパターンで、描画領域において当該第1層を硬化させるのに足る化学線に曝露し;
当該硬化された第1層の上方に、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光硬化性組成物の第2層を形成し;
当該第2層を、前記モデルの各横断面層に対応するパターンで、描画領域において当該第2層を硬化させるのに足る化学線に曝露し;そして、
上記2段階を繰り返して三次元物品を形成するのに求められる通りの連続的な層を形成する;
ことによる方法であり、ここで前記化学線は非干渉性のUV放射線である、前記方法。 - 連続した複数の横断面層を有する三次元物品を、当該物品のモデルに従って製造するための、請求項4に記載の方法であって、
前記光硬化性組成物を、基材上に直接または粉体上に、液体の状態で噴射し、そして、当該噴射された材料が、非干渉性のUV照射により硬化することを含む、前記方法。
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