JP4742323B2 - レーザ発振器およびレーザ発振器制御方法 - Google Patents
レーザ発振器およびレーザ発振器制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4742323B2 JP4742323B2 JP2008500346A JP2008500346A JP4742323B2 JP 4742323 B2 JP4742323 B2 JP 4742323B2 JP 2008500346 A JP2008500346 A JP 2008500346A JP 2008500346 A JP2008500346 A JP 2008500346A JP 4742323 B2 JP4742323 B2 JP 4742323B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- current command
- fundamental wave
- output
- current
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 230000006378 damage Effects 0.000 claims description 68
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 67
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 38
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 15
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 44
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 230000010356 wave oscillation Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/1312—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation by controlling the optical pumping
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/3525—Optical damage
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/0014—Monitoring arrangements not otherwise provided for
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0092—Nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
- H01S3/1123—Q-switching
- H01S3/117—Q-switching using intracavity acousto-optic devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1305—Feedback control systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
ここで、破壊閾値とは、少しでもその値を越すと波長変換素子が壊れる値であり、最大絶対定格に相当するものである。破壊閾値は波長変換素子を構成している結晶構造やコーティングで決まるため、波長変換素子により一意に求められる値である。
例えば、特性の悪い励起光源から特性の良い励起光源に交換した場合には、同じ投入電力でも基本波の出力は高くなるので、投入電力が制限値に達しなくても基本波の出力が波長変換素子の破壊閾値を越え、波長変換素子が破損してしまう恐れがある。また逆に、特性の良い励起光源から特性の悪い励起光源に交換した場合には、投入電力の制限値が低い為、所望のレーザ強度が得られず加工ができない恐れがある。
よって、励起光源の特性のばらつきを考慮し、励起光源を交換する度に、投入電力と基本波の出力の関係を求め、制限値を設定する必要があり、非常に煩雑な作業が必要という問題点があった。
図1は、この発明によるレーザ発振器の実施の形態1の全体概要図である。以下、図1に基づき本実施の形態の構成について説明する。
基本波の発振は、全反射鏡1、部分反射鏡2、励起媒体3、励起光源7、Qスイッチ11からなる共振器により行われる。全反射鏡1と部分反射鏡2の間に、Nd:YAG等からなる励起媒体3および音響光学素子(A/O素子)等から構成されたQスイッチ11が配置され、Qスイッチ11はQスイッチ制御装置12からの信号によりオンオフ制御される。電源装置8から供給される電流により、ランプやレーザダイオードで構成された励起光源7は励起光を発生し、この励起光により励起媒体3が励起される。同時に、Qスイッチ11がオンオフすることにより、全反射鏡1と部分反射鏡2の間で共振し、高ピークの基本波レーザ光を発振する。この高ピークの基本波は、KTP結晶やLBO結晶からなる波長変換素子5に入射し、2倍高調波を発生する。例えば、励起媒体がNd:YAGの場合は基本波の波長は1064nmであり、2倍高調波の波長は532nmとなる。また、高ピークの基本波の一部は部分反射鏡4で取り出され、基本波出力センサ6に入射される。基本波出力センサ6で測定された基本波の平均出力もしくはパルスエネルギーの値(以下、基本波出力または基本波出力値とも呼ぶ)は、異常判定/電流指令値演算装置9に随時送られ、異常判定/電流指令値演算装置9は、所定のタイミングで測定値を読み込み、基本波の出力が異常かどうか判定を行う。
電流指令値や電流指令設定値は電圧値で出力され、電源装置8で電流値に変換されるのが一般的である。例えば、電圧/電流の換算値が10V/100Aであれば、励起光源7に必要な電流が30Aの場合、電流指令値等は3Vとなる。また、電流指令値等がデジタル値にて出力される場合もある。この場合は、所望の電流の数値自体が所定の周期で電源装置8に送られ、電源装置8は、送られてきた電流値に従った電流を励起光源7に供給する。
図2(a)は、異常判定/電流指令値演算装置9の内部構成を示したブロック図であり、図3は、異常判定/電流指令値演算装置9の動作を説明するフローチャート図である。以下、図2(a)および図3に基づいて説明する。
まず、異常判定/電流指令値演算装置9内の切り替え器14は、電流指令設定装置10から入力された電流指令設定値をそのまま第1の電流指令値として電源装置8に送るような状態としておく(図2(a)において切り替え器14が実線の場合に対応)(ステップS01)。
次に、異常判定/電流指令値演算装置9は基本波出力センサ6の基本波出力測定値を読み込む(ステップS02)。
そして、比較器13は、この測定値と、記憶部20に予め記憶された判定値とを比較する(ステップS03)。
比較器13の比較の結果、基本波出力の測定値が判定値よりも小さい場合には、基本波の出力は正常と判断され、切り替え器14は、電流指令設定装置10から入力された電流指令設定値をそのまま第1の電流指令値として電源装置8に送る状態のままとしておき、再び異常判定/電流指令値演算装置9は、基本波出力センサ6の測定値を読み込む(ステップS02)。基本波が正常の間は、ステップS02とステップS03を繰り返す。
一方、比較器13で比較された結果、基本波出力の測定値が判定値以上となった場合は、基本波出力は異常と判断され、切り替え器14は、電源装置8に送る電流指令値を電流が0Aとなる第2の電流指令値に切り替える(図2(a)において切り替え器14が破線の場合に対応)(ステップS04)。
これにより、電源装置8には電流が0Aとなるの第2の電流指令値が送られて、基本波の発振は停止される。このような動作で、基本波の出力が異常と判断された場合、基本波の発振を停止することができる。
なお、波長変換素子の破壊閾値は、波長変換素子を構成している結晶の物理的な構造(結晶を構成する組成等)により決まるため、波長変換素子のメーカより個々の素子毎に、一意に定義されることから、一度判定値を求めて設定すればよい。
基本波の出力を測定する手段としては、サーモパイル等からなる熱式のセンサを用いて平均出力を測定する場合と、フォトダイオード等からなる高速なセンサを用いて各出力パルスのエネルギーを測定する場合がある。サーモパイル等のセンサは一般的に安価で応答速度が遅いという特徴があり、フォトダイオード等のセンサは一般的に高価で応答速度が速いという特徴があるので、例えば、レーザ光の強度をほとんど変化させないような加工にはサーモパイル等のセンサが適しており、レーザ光の強度を頻繁に変化させるような加工にはフォトダイオード等のセンサが適している。
まず、サーモパイル等からなる熱式のセンサを用いて平均出力を測定する場合には、以下のように判定値を設定する。
例えば、コーティングを実施していないLBO結晶を波長変換素子とした場合、波長変換素子のパルスエネルギーでの破壊閾値は2J/mm2、平均出力での破壊閾値は10MW/mm2である。また、加工条件として、ビーム径を半径0.1mm、Qスイッチのオンオフ周波数(=パルス周波数)を5kHzとすると、下記のように平均出力の閾値が求められる。
(1)1パルスのエネルギーでの破壊閾値から換算した平均出力の閾値
閾値=(パルスエネルギーでの破壊閾値)X(ビーム面積)X(パルス周波数)
=2J/mm2X(0.1mmX0.1mmXπ)X5kHz
=314W
(2)平均出力での破壊閾値から換算した平均出力の閾値
閾値=(平均出力での破壊閾値)X(ビーム面積)
=10MW/mm2X(0.1mmX0.1mmXπ)
=314kW
上記(1)、(2)より、1パルスのエネルギーでの破壊閾値から換算した平均出力の閾値のほうが、平均出力での破壊閾値から換算したものよりも低いため、判定値は314W未満に設定すればよい。
前述と同様の条件の場合、下記のように、各出力パルスのエネルギーの閾値が求められる。
(1)1パルスのエネルギーでの破壊閾値から換算した各出力パルスのエネルギーの閾値
閾値=(パルスエネルギーでの破壊閾値)X(ビーム面積)
=2J/mm2X(0.1mmX0.1mmXπ)
=62.8mJ
(2)平均出力での破壊閾値から換算した各出力パルスのエネルギーの閾値
閾値=(平均出力での破壊閾値)X(ビーム面積)/(パルス周波数)
=10MW/mm2X(0.1mmX0.1mmXπ)/5kHz
=62.8J
上記(1)、(2)より、1パルスのエネルギーでの破壊閾値から換算した各出力パルスのエネルギーの閾値のほうが、平均出力での破壊閾値から換算したものより低いため、判定値は、62.8mJ未満に設定すればよい。
平均出力の閾値もしくは各出力パルスのエネルギーの閾値と、判定値とのマージンについては、波長変換素子の破壊閾値のばらつきが小さいことから、あまり大きく確保する必要は無いが、例えば閾値の80%を判定値として設定してもよい。
この制御を実現するためには、例えば、電流指令設定値が変化する前の出力に戻すように制御してもよい。この場合は、図3(b)に示したように、記憶部21に電流指令設定装置10から送られる電流指令設定値が変化する前の電流指令設定値を記憶しておき、基本波出力が判定値を超え異常判定/電流指令値演算装置9が異常と判断した場合、切り替え器14は電流が0Aとなる電流指令値の替わりに記憶部21に記憶された値を電流指令として電源装置8に送るように制御すればよい。または、電流が0Aとなる電流指令値の替わりに、基本波出力が判定値と同一となる電流指令値を設定しておいてもよい。
また、本実施の形態では、従来のように電流値に制限を設けるのではなく基本波の出力で異常判定を行っているので、2次高調波の出力をモニターしながら、所望のレーザ出力が得られるように、電流値にフィードバック制御をかけることで、励起光源の特性がばらついても所望のレーザ強度が得ることができ、レーザ強度不足による加工不良や加工停止等を防止できる。
さらに、励起光源の特性のばらつきを考慮せずに判定値を設定でき、励起光源の交換毎に判定値の再設定を行う必要が無く、メンテナンス性が向上する。
図4は、電源装置8に供給される電流値もしくは電流値に相当する電流指令値と、その電流値(電流指令値)に対する基本波出力値の時間変化を示したもので、電流指令設定値が1回変化したことに伴い、電流指令値が1回変化したときを表したものである。一般的なレーザ発振器の場合、図4に示したように、電源装置8から供給される電流の変化に対し、基本波出力は遅れなく追従し変化するため、電流指令値を大きく変化させた場合、基本波出力も遅れなく大きく変化し、判定値を大きく越えると同時に、波長変換素子の破壊閾値も同時に越えてしまう可能性がある。実施の形態1に係るレーザ発振器の場合、基本波出力が判定値を超えたと同時に、異常判定/電流指令値演算装置9により基本波の発振を停止することにより、波長変換素子の破壊を防止することができる。しかし、基本波出力が判定値を越えた後、電流指令値を電流が0Aとなる電流指令値に設定するに際し、異常判定/電流指令値演算装置9における判定や切り替え器14の切り替えに時間を要した場合、基本波出力が破壊閾値を越えてしまい。波長変換素子を破損する可能性がある。
図5は、異常判定/電流指令値演算装置9の内部構成を示したブロック図であり、図6は、異常判定/電流指令値演算装置9内の電流指令演算部15の動作を説明するフローチャート図である。以下、図5および図6に基づいて説明する。
まず、電流指令演算部15は、電流指令設定装置10から送られる電流指令設定値が変化したかどうか確認し、変化した場合、以下のステップを実行する(ステップS11)。
電流指令演算部15は、記憶部22に記憶されている電流変化値(Y)を読み込み、現在の電流指令値(X)に電流変化値(Y)を加える演算を実施する(ステップS12)。動作開始直後であれば、現在の電流指令値は0である。
次に、現在の電流指令値に電流変化値を加えた値(X+Y)と電流指令設定値(I)とを比較する(ステップS13)。
ここで、現在の電流指令値に電流変化値を加えた値が電流指令設定値よりも小さい場合(X+Y<I)、電流変化タイミング信号発生部16から電流変化タイミング信号が入力されたかどうか確認する(ステップS14)。
そして、電流変化タイミング信号が入力されたとき、切り替え器14に送っている電流指令値を電流変化値だけ増加させる(ステップS15)。これにより、切り替え器14を介して電流変化値分だけ増加した新たな電流指令値が電源装置8に送られ、基本波出力が1段階増加する。そして、再びステップS12から上記処理を繰り返し、電流変化タイミング信号が入力されるたびに電流指令値(X)を電流変化値(Y)ずつ増加させる。
電流指令値が増加した結果、ステップS13において、電流指令値に電流変化量を加えた値が電流指令設定値以上となった場合(X+Y≧I)、電流変化タイミング信号発生部16から電流変化タイミング信号が入力されたかどうか確認する(ステップS16)。
そして、電流変化タイミング信号が入力されたとき、切り替え器14に送っている電流指令値を電流指令設定値と同じ値にする(ステップS17)。ステップS17で、電流変化値だけ増加させないのは、電流指令値を電流変化値分増加させると、電流指令設定値を超えてしまうからである。
以上の動作で、電流指令値の、電流指令設定値までの段階的な増加が完了したこととなる。
異常判定/電流指令値演算装置9は、基本波出力の測定値を読み取る。そして、比較器13において、この測定値と記憶部20に記憶された判定値と比較される。切り替え器14は、通常は、電流指令演算部15から送られてくる電流指令値を第1の電流指令値として、電源装置8に送るようになっているが、比較器13で比較された結果が、基本波出力の測定値が判定値以上の場合には、切り替え器14で電流指令値を電流が0Aとなるような第2の電流指令値に切り替え、基本波の発振を停止する。
図8は、電流変化値(Y)が異なった場合の、電源装置8が供給する電流値と、その電流に対する基本波出力値および電流変化タイミング信号の時間変化を示したものである。図8(a)は、電流変化値(Y)に対する基本波出力の変化量(A)が、波長変換素子の破壊閾値と判定値との差分(B)よりも小さい場合(A<B)で、図8(b)は、電流変化値(Y)に対する基本波出力の変化量(A)が、波長変換素子の破壊閾値と判定値との差分(B)よりも大きい場合(A>B)である。
すなわち、電流変化量(Y)に対する基本波出力の変化量(A)が、波長変換素子の破壊閾値と判定値との差分(B)よりも小さくなる(A<B)ように、電流変化値(Y)を設定すれば、基本波が判定値を超えると同時に破壊閾値を越えて波長変換素子が破壊される図8(b)のような状況は発生せず、波長変換素子の破損防止をより確実なものにできる。
ところで、基本波出力センサ6に使用するセンサの測定遅れ時間を0にすることは、実質的に不可能であり、実際の出力値に対して、測定値は遅れた値となる。特に、サーモパイル等の熱式のセンサを用いる場合は、センサの熱分布が安定するまでに時間がかかるため遅れ時間が数秒程度かかってしまう。比較的速度の速いフォトダイオードを用いたセンサでも、ノイズ除去等のためにフィルタを挿入することが多く、数十msから数百msの遅れ時間が発生することがある。
図9は、電流変化タイミング信号と、電源装置8が供給する電流量(または、その電流量に対応する電流指令値)と、その電流に対する実際の基本波出力値と、基本波出力の測定値および電流変化タイミング信号の時間変化を示したものである。
電流指令設定装置10で設定された電流指令設定値が、異常判定/電流指令値演算装置9に送られる。異常判定/電流指令値演算装置9内では、電流指令値を電流指令設定値へと、記憶部23に予め記憶された時間間隔値毎に、記憶部22に予め記憶された電流変化値ずつ段階的に増加させる。このとき、図9(b)のように、時刻T1に電流変化タイミング信号が出され電流指令値を電流変化値だけ変化した後に、待ち時間を設け、基本波出力センサ6の測定値が実際の基本波出力値になった後、時刻T2に電流変化タイミング信号が出される。図9(b)の場合、時刻T1で基本波出力は判定値を超えているが、T1では測定値は判定値を超えていない。しかし、T1−T2間すなわち時間間隔値に十分な時間を確保することで、次の電流変化タイミング信号が出されるT2に至る前に、時刻T3で測定値は判定値に達する。これにより、異常判定/電流指令値演算装置9は基本波出力が異常と判断することができ、時刻T2にて基本波出力が破壊閾値を越える前に基本波の発振を停止することができる。
ところで、基本波出力センサの応答時間が、サーモパイルのように数秒と長いものは、レーザ出力を頻繁に変化させる場合には適さない。しかし、特に基本波の出力を大きく変化させるのは、レーザ発振器の立ち上げ時であり、波長変換素子が破壊される可能性が高い。また、立ち上げ時には光学部品等が熱平衡状態となるまでに待ち時間があり、センサの応答時間が数秒かかったとしても特に問題はない。よって、レーザ加工時にレーザ出力をあまり変化させない場合には、応答時間の長い出力センサを用いても、レーザ発振器の立ち上げ時の、波長変換素子の破壊防止という効果が得られる。
Claims (4)
- 励起光源により励起媒体を励起し基本波を発振する発振手段と、
前記励起光源が発光するための電流を供給する電源と、
前記基本波の平均出力またはパルスエネルギーを測定する出力センサと、
前記基本波の光路上に配置され、前記基本波を高調波レーザ光に変換する波長変換素子と、
所望のレーザ強度を得るための電流指令値である電流指令設定値を設定し出力する電流指令設定手段と、
前記電流指令設定手段から入力された前記電流指令設定値が変化した場合、電流指令値を所定の変化量ずつ、所定の時間間隔毎に前記電流指令設定値へ増加させつつ、前記電流指令値を出力する電流指令演算手段と、
前記波長変換素子のレーザ光の平均出力またはパルスエネルギーに対する破壊閾値未満に設定した判定値を記憶する記憶部と、
前記出力センサの測定値と前記判定値とを比較する比較手段と、
前記電源に送る電流指令値を、前記比較手段において前記測定値が前記判定値未満と判断した場合は、前記電流指令演算手段から送られる第1の電流指令値に切り替え、前記比較手段において前記測定値が前記判定値以上と判断した場合は、基本波出力が前記破壊閾値未満となる第2の電流指令値に切り替える切り替え手段とを備え、
前記所定の変化量は、前記基本波の出力が、前記波長変換素子の破壊閾値と前記判定値との差分未満となるような電流指令値であり、
前記所定の時間間隔は、基本波の出力が判定値よりも高い場合、前記制御装置が前記出力センサの測定値を読み取ってから前記励起光源に供給する電流を制御するまでに要する時間以上であることを特徴とするレーザ発振器。 - 前記第2の電流指令値は、
基本波の発振を停止するような電流指令値であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ発振器。 - 電源に入力された電流指令値に基づいた電流を励起光源に供給する工程と、
前記励起光源により励起媒体を励起し基本波を発振する工程と、
出力センサにより前記基本波の平均出力またはパルスエネルギーを測定する工程と、
波長変換素子により前記基本波を高調波レーザ光に変換する工程と、
所望のレーザ強度を得るための電流指令値である電流指令設定値を設定し出力する工程と、
前記電流指令設定値が変化した場合、電流指令値を所定の変化量ずつ、所定の時間間隔毎に前記電流指令設定値へ増加させる工程と、
前記波長変換素子のレーザ光の平均出力またはパルスエネルギーに対する破壊閾値未満に設定した判定値と、前記出力センサの測定値とを比較する工程と、
前記電源に送る電流指令値を、前記比較工程にて前記測定値が前記判定値未満と判断された場合、前記電流指令値を増加させる工程による第1の電流指令値に切り替え、前記比較工程にて前記測定値が前記判定値以上と判断された場合、基本波出力が前記破壊閾値未満となる第2の電流指令値に切り替える工程とを備え、
前記所定の変化量は、前記基本波の出力が、前記波長変換素子の破壊閾値と前記判定値との差分未満となるような電流指令値であり、
前記所定の時間間隔は、基本波の出力が判定値以上の場合、前記制御装置が前記出力センサの測定値を読み取ってから前記励起光源に供給する電流を制御するまでに要する時間以上であることを特徴とするレーザ発振器制御方法。 - 前記第2の電流指令値は、
基本波の発振を停止するような電流指令値であることを特徴とする請求項3に記載のレーザ発振器制御方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2006/301719 WO2007094028A1 (ja) | 2006-02-02 | 2006-02-02 | レーザ発振器およびレーザ発振器制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007094028A1 JPWO2007094028A1 (ja) | 2009-07-02 |
JP4742323B2 true JP4742323B2 (ja) | 2011-08-10 |
Family
ID=38371224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008500346A Expired - Fee Related JP4742323B2 (ja) | 2006-02-02 | 2006-02-02 | レーザ発振器およびレーザ発振器制御方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7817690B2 (ja) |
JP (1) | JP4742323B2 (ja) |
DE (1) | DE112006003496B4 (ja) |
WO (1) | WO2007094028A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010003755A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-07 | Mitsubishi Electric Corp | 波長変換レーザ装置 |
US8068220B2 (en) * | 2009-11-18 | 2011-11-29 | Wavelight Ag | Apparatus for treating a material and method for operating the same |
US20170242424A1 (en) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | General Electric Company | Laser power monitoring in additive manufacturing |
JP6862106B2 (ja) * | 2016-06-27 | 2021-04-21 | 株式会社ミツトヨ | 電流制御装置及びレーザ装置 |
JP6998127B2 (ja) * | 2017-04-25 | 2022-01-18 | 浜松ホトニクス株式会社 | 固体レーザ装置 |
JP7454771B1 (ja) | 2023-03-13 | 2024-03-25 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レーザ装置及びレーザ出力管理方法 |
US20240377249A1 (en) * | 2023-05-10 | 2024-11-14 | Saudi Arabian Oil Company | Optical energy apparatus, systems, and methods |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63133686A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-06 | Hamamatsu Photonics Kk | 波長可変レ−ザ装置の結晶保護機構 |
JPH04249386A (ja) * | 1991-02-05 | 1992-09-04 | Toshiba Corp | 固体レーザ発振装置 |
JP2005209965A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Miyachi Technos Corp | 高調波パルスレーザ装置及び高調波パルスレーザ発生方法 |
WO2006041620A1 (en) * | 2004-10-05 | 2006-04-20 | Coherent, Inc. | Stabilized frequency-converted laser system |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH088480A (ja) | 1994-06-16 | 1996-01-12 | Hitachi Ltd | レーザ装置 |
JPH1070333A (ja) | 1996-08-27 | 1998-03-10 | Shimadzu Corp | 波長変換固体レーザ装置 |
JP3456120B2 (ja) * | 1997-09-09 | 2003-10-14 | 三菱電機株式会社 | レーザダイオード用電源制御装置 |
JP3858710B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2006-12-20 | 三菱電機株式会社 | レーザ発振器およびその制御方法 |
-
2006
- 2006-02-02 WO PCT/JP2006/301719 patent/WO2007094028A1/ja active Application Filing
- 2006-02-02 JP JP2008500346A patent/JP4742323B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-02 US US12/095,455 patent/US7817690B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-02 DE DE112006003496.0T patent/DE112006003496B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63133686A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-06 | Hamamatsu Photonics Kk | 波長可変レ−ザ装置の結晶保護機構 |
JPH04249386A (ja) * | 1991-02-05 | 1992-09-04 | Toshiba Corp | 固体レーザ発振装置 |
JP2005209965A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Miyachi Technos Corp | 高調波パルスレーザ装置及び高調波パルスレーザ発生方法 |
WO2006041620A1 (en) * | 2004-10-05 | 2006-04-20 | Coherent, Inc. | Stabilized frequency-converted laser system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2007094028A1 (ja) | 2007-08-23 |
US20090185587A1 (en) | 2009-07-23 |
DE112006003496T5 (de) | 2008-11-20 |
DE112006003496B4 (de) | 2014-10-16 |
JPWO2007094028A1 (ja) | 2009-07-02 |
US7817690B2 (en) | 2010-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4742323B2 (ja) | レーザ発振器およびレーザ発振器制御方法 | |
JP5354969B2 (ja) | ファイバレーザ加工方法及びファイバレーザ加工装置 | |
JP4809486B2 (ja) | 放電開始を判定する機能を有するガスレーザ発振器 | |
KR101185829B1 (ko) | 레이저 용접 장치 | |
CN111048979B (zh) | 激光振荡器的监视控制系统 | |
JP5713622B2 (ja) | ファイバレーザ加工装置及び励起用レーザダイオード電源装置 | |
JP2012079966A (ja) | ファイバレーザ加工装置及び励起用レーザダイオード電源装置 | |
JP2002208750A (ja) | レーザー発振器およびそのレーザーパルス制御方法 | |
JP4832730B2 (ja) | 励起用半導体レーザ装置 | |
KR20080068930A (ko) | 레이저 발진기 및 레이저 발진기 제어 방법 | |
JP2010182810A (ja) | レーザ装置の光損傷回避装置 | |
US9620926B2 (en) | Laser machining apparatus changing operation based on length of power-down time | |
JP3132555B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
JP7407410B2 (ja) | レーザ発振器及びそれを備えたダイレクトダイオードレーザ加工装置 | |
JP4598852B2 (ja) | ガスレーザ発振器で補助放電の消滅を判別する方法およびガスレーザ発振器 | |
US5177756A (en) | Laser apparatus including crystal protection circuitry and method of operation thereof | |
JPH0795608B2 (ja) | レ−ザ電源装置 | |
JPS63115390A (ja) | パルスレ−ザの電源装置 | |
JP2009182193A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH1190666A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2002062512A (ja) | レーザパルスのパルス幅制御方法及び制御装置 | |
JPH07263782A (ja) | レーザ発振装置 | |
JPH06114579A (ja) | レーザ装置の制御方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110118 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110405 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110418 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4742323 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |