JP4742099B2 - ガスバリア性組成物、コーティング膜およびそれらの製造方法、ならびに積層体 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 178
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 104
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 102
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 31
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 171
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 67
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 64
- -1 alkoxy aluminum Chemical compound 0.000 claims description 59
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 57
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 55
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 55
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 52
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 51
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims description 48
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 40
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 38
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 38
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 35
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 34
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 34
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 22
- 230000032050 esterification Effects 0.000 claims description 20
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 18
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 17
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 16
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 claims description 14
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 14
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 12
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 12
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical group CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 151
- 239000010408 film Substances 0.000 description 137
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 67
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 61
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 52
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 40
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 23
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 13
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 12
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 11
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 8
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 7
- 125000002462 isocyano group Chemical group *[N+]#[C-] 0.000 description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 6
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 6
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 6
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002561 ketenes Chemical class 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 5
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- DOJXGHGHTWFZHK-UHFFFAOYSA-N Hexachloroacetone Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=O)C(Cl)(Cl)Cl DOJXGHGHTWFZHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 4
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical compound C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 4
- PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N carbonyldiimidazole Chemical compound C1=CN=CN1C(=O)N1C=CN=C1 PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 4
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229920001542 oligosaccharide Polymers 0.000 description 4
- 150000002482 oligosaccharides Chemical class 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 4
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 4
- 150000004804 polysaccharides Chemical class 0.000 description 4
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N ethenone Chemical compound C=C=O CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 3
- XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N taurine Chemical compound NCCS(O)(=O)=O XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- HJRJRUMKQCMYDL-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2,4,6-trinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C(Cl)C([N+]([O-])=O)=C1 HJRJRUMKQCMYDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBBIKFDLPCEOTF-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)benzenesulfonic acid Chemical compound CC(C)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C(C)C)=C1C(C)C RBBIKFDLPCEOTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzenesulfonic acid Chemical compound NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJMDCOVWQOJGCB-UHFFFAOYSA-N 5-aminopentanoic acid Chemical compound [NH3+]CCCCC([O-])=O JJMDCOVWQOJGCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNAYBMKLOCPYGJ-UHFFFAOYSA-N Alanine Chemical compound CC([NH3+])C([O-])=O QNAYBMKLOCPYGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZSNJWFQEVHDMF-UHFFFAOYSA-N Valine Chemical compound CC(C)C(N)C(O)=O KZSNJWFQEVHDMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- HAXFWIACAGNFHA-UHFFFAOYSA-N aldrithiol Chemical compound C=1C=CC=NC=1SSC1=CC=CC=N1 HAXFWIACAGNFHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009739 binding Methods 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 2
- MHJAJDCZWVHCPF-UHFFFAOYSA-L dimagnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].OP([O-])([O-])=O MHJAJDCZWVHCPF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 2
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 2
- OQZCJRJRGMMSGK-UHFFFAOYSA-M potassium metaphosphate Chemical compound [K+].[O-]P(=O)=O OQZCJRJRGMMSGK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZEHCVMJFTXUCY-UHFFFAOYSA-N tributylazanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCC[NH+](CCCC)CCCC FZEHCVMJFTXUCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGCGAESAURTGKY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(methylsulfanyl)ethene Chemical group CSC(=C)SC GGCGAESAURTGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFSHMWCCWNEIEX-UHFFFAOYSA-N 1,2-diaminobutan-1-ol Chemical compound CCC(N)C(N)O YFSHMWCCWNEIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KODLUXHSIZOKTG-UHFFFAOYSA-N 1-aminobutan-2-ol Chemical compound CCC(O)CN KODLUXHSIZOKTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUFBUOZHVRYHLP-UHFFFAOYSA-M 1-butylpyridin-1-ium;propanoate Chemical compound CCC([O-])=O.CCCC[N+]1=CC=CC=C1 CUFBUOZHVRYHLP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-3-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCCN1C1CNCC1 HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 100676-05-9 Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC1C(O)C(O)C(O)C(OC2C(OC(O)C(O)C2O)CO)O1 OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKFOCPKVTXIIOD-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazol-1-ium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [NH2+]1C=CN=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 VKFOCPKVTXIIOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHUKUYXEXGXNBP-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole;2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound C1=CNC=N1.CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 RHUKUYXEXGXNBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARIRERZAGIDHFR-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethyl-n-phenylbenzenesulfonamide Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1S(=O)(=O)NC1=CC=CC=C1 ARIRERZAGIDHFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVJZBZSCGJAWNG-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(Cl)(=O)=O)C(C)=C1 PVJZBZSCGJAWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVSIYTLODOLVKA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO.NCCOCCO RVSIYTLODOLVKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVXSVWNNXWNZSV-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)-4,6-dinitrophenol Chemical compound OC1=C(CCl)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O QVXSVWNNXWNZSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXFMYVTSLAQMO-UHFFFAOYSA-N 2-Pyridinemethanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=N1 WOXFMYVTSLAQMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058020 2-amino-2-methyl-1-propanol Drugs 0.000 description 1
- JCBPETKZIGVZRE-UHFFFAOYSA-N 2-aminobutan-1-ol Chemical compound CCC(N)CO JCBPETKZIGVZRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MONMFXREYOKQTI-UHFFFAOYSA-N 2-bromopropanoic acid Chemical compound CC(Br)C(O)=O MONMFXREYOKQTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNURPFVONZPVLA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1Cl MNURPFVONZPVLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFNVQNRYTPFDDP-UHFFFAOYSA-N 2-cyanopyridine Chemical compound N#CC1=CC=CC=N1 FFNVQNRYTPFDDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJLFZHMJDSJFN-UHFFFAOYSA-N 2-isocyano-1,3-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1[N+]#[C-] DNJLFZHMJDSJFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJZUMMKYWBNKIP-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanopropane Chemical compound CC(C)[N+]#[C-] MJZUMMKYWBNKIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAHHNSMHYCLMON-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-3-ylethanamine Chemical compound NCCC1=CC=CN=C1 NAHHNSMHYCLMON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDLHTECVNDEOIY-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-4-ylethanamine Chemical compound NCCC1=CC=NC=C1 IDLHTECVNDEOIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNKZJIOFVMKAOJ-UHFFFAOYSA-N 3-Aminopropanesulfonate Chemical compound NCCCS(O)(=O)=O SNKZJIOFVMKAOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLISOBUNKGBQCL-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCN GLISOBUNKGBQCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQIGMPWTAHJUMN-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropane-1,2-diol Chemical compound NCC(O)CO KQIGMPWTAHJUMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDHWOCLBMVSZPG-UHFFFAOYSA-N 3-imidazol-1-ylpropan-1-amine Chemical compound NCCCN1C=CN=C1 KDHWOCLBMVSZPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUPJJZVGSOUSFH-UHFFFAOYSA-N 4-(2-cyanoethyl)-4-nitroheptanedinitrile Chemical compound N#CCCC([N+](=O)[O-])(CCC#N)CCC#N MUPJJZVGSOUSFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFRZPLYKVDHOSN-UHFFFAOYSA-N 4-(2-isocyanoethyl)morpholine Chemical compound [C-]#[N+]CCN1CCOCC1 MFRZPLYKVDHOSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOMKYJPSVWEWPM-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethyl)-2-(4-methylphenyl)-1,3-thiazole Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=NC(CCl)=CS1 MOMKYJPSVWEWPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUAXLVGFFDFSAG-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-methylbutan-1-ol Chemical compound OCC(C)CCN DUAXLVGFFDFSAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJWLLQWLBMJCFD-UHFFFAOYSA-N 4-methylpiperazin-1-amine Chemical compound CN1CCN(N)CC1 RJWLLQWLBMJCFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNODSORTHKVDEM-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylaniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(N)C=C1 CNODSORTHKVDEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYTLHYRDGXRYEY-UHFFFAOYSA-N 5-Methyl-3-pyrazolamine Chemical compound CC=1C=C(N)NN=1 FYTLHYRDGXRYEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910002014 Aerosil® 130 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002018 Aerosil® 300 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002019 Aerosil® 380 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002020 Aerosil® OX 50 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000936 Agarose Polymers 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-XLOQQCSPSA-N Alpha-Lactose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)O[C@H](O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-XLOQQCSPSA-N 0.000 description 1
- DCXYFEDJOCDNAF-UHFFFAOYSA-N Asparagine Natural products OC(=O)C(N)CC(N)=O DCXYFEDJOCDNAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- MUGBFCWZTSISOC-UHFFFAOYSA-N CCC[Si](OC)(OC)OCCCCOCC1CO1 Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCCCCOCC1CO1 MUGBFCWZTSISOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHCNUSFFRQFRRR-UHFFFAOYSA-N CCC[Si](OCC)(OCC)OC(C)CCCOCC1CO1 Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OC(C)CCCOCC1CO1 KHCNUSFFRQFRRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVHLNYSVMHUBRN-UHFFFAOYSA-N ClC1=CC=C(C#N)C=C1.BrCC#N Chemical compound ClC1=CC=C(C#N)C=C1.BrCC#N XVHLNYSVMHUBRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-CUHNMECISA-N D-Cellobiose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-CUHNMECISA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N Dibutyl phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(=O)OCCCC JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002527 Glycogen Polymers 0.000 description 1
- 229920002488 Hemicellulose Polymers 0.000 description 1
- AYRXSINWFIIFAE-SCLMCMATSA-N Isomaltose Natural products OC[C@H]1O[C@H](OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O AYRXSINWFIIFAE-SCLMCMATSA-N 0.000 description 1
- DCXYFEDJOCDNAF-REOHCLBHSA-N L-asparagine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(N)=O DCXYFEDJOCDNAF-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N Lactose Natural products OC[C@H]1O[C@@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)C(O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N Maltose Natural products O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLRZVDPTKCLHAE-UHFFFAOYSA-N N1N=NN=[C-]1.CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)O Chemical compound N1N=NN=[C-]1.CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)O DLRZVDPTKCLHAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOXPAJJNFUJUJB-UHFFFAOYSA-N N1N=N[C-]=C1.CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)O Chemical compound N1N=N[C-]=C1.CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)O YOXPAJJNFUJUJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIQNTQZFRILMFE-UHFFFAOYSA-N O=S(C(F)(F)F)(NS(C(F)(F)F)(=O)=O)=O.C(C=C1)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 Chemical compound O=S(C(F)(F)F)(NS(C(F)(F)F)(=O)=O)=O.C(C=C1)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 GIQNTQZFRILMFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRPZNGVMUSLESQ-UHFFFAOYSA-N O=S(C(F)(F)F)(NS(C(F)(F)F)(=O)=O)=O.C1=CC=NC=C1 Chemical compound O=S(C(F)(F)F)(NS(C(F)(F)F)(=O)=O)=O.C1=CC=NC=C1 CRPZNGVMUSLESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- 229920002230 Pectic acid Polymers 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N Propanolamine Chemical compound NCCCO WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUIESSIVFYOMK-UHFFFAOYSA-N Trichloroacetonitrile Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C#N DRUIESSIVFYOMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHIIGRBMZRSDRI-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenoxy)phosphoryl]oxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)(Cl)OC1=CC=CC=C1 BHIIGRBMZRSDRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000008431 aliphatic amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N aminoethylethanolamine Chemical compound NCCNCCO LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBTVGIZVANVGBH-UHFFFAOYSA-N aminomethyl propanol Chemical compound CC(C)(N)CO CBTVGIZVANVGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 235000009582 asparagine Nutrition 0.000 description 1
- 229960001230 asparagine Drugs 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- MHMUIIBVMBOAON-UHFFFAOYSA-N azane;2,2,2-trichloroacetic acid Chemical compound [NH4+].[O-]C(=O)C(Cl)(Cl)Cl MHMUIIBVMBOAON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDCXBZMWKSBSJG-UHFFFAOYSA-N azane;4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound [NH4+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 GDCXBZMWKSBSJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYTOONVFPBUIJG-UHFFFAOYSA-N azane;cyanic acid Chemical compound [NH4+].[O-]C#N QYTOONVFPBUIJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- JPUHPGALPBINPO-UHFFFAOYSA-N benzotriazole-1-carbonitrile Chemical compound C1=CC=C2N(C#N)N=NC2=C1 JPUHPGALPBINPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N beta-maltose Chemical compound OC[C@H]1O[C@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXWCODXIQWIHQN-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diamine;hydron;dichloride Chemical compound Cl.Cl.NCCCCN XXWCODXIQWIHQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNMJSBUIDQYHIN-UHFFFAOYSA-N butyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(O)=O BNMJSBUIDQYHIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEYBQJQBTXMRPU-UHFFFAOYSA-N butyl(oxido)phosphanium Chemical compound CCCC[PH2]=O FEYBQJQBTXMRPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUNWLZAGQLJVLR-UHFFFAOYSA-J calcium diphosphate Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O JUNWLZAGQLJVLR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910001382 calcium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940064002 calcium hypophosphite Drugs 0.000 description 1
- 229940043256 calcium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000679 carrageenan Substances 0.000 description 1
- 235000010418 carrageenan Nutrition 0.000 description 1
- 229920001525 carrageenan Polymers 0.000 description 1
- 229940113118 carrageenan Drugs 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- HMPHJJBZKIZRHG-UHFFFAOYSA-N chloromethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCl HMPHJJBZKIZRHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N chlorophosphane Chemical compound ClP USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- GIVGDJZVMHYWDM-UHFFFAOYSA-N cyanourea Chemical compound NC(=O)NC#N GIVGDJZVMHYWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1CCCCC1 KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N cysteamine Chemical compound NCCS UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- BVXOPEOQUQWRHQ-UHFFFAOYSA-N dibutyl phosphite Chemical compound CCCCOP([O-])OCCCC BVXOPEOQUQWRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019821 dicalcium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- ASWXNYNXAOQCCD-UHFFFAOYSA-N dichloro(triphenyl)-$l^{5}-phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(Cl)(C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 ASWXNYNXAOQCCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WASQWSOJHCZDFK-UHFFFAOYSA-N diketene Chemical compound C=C1CC(=O)O1 WASQWSOJHCZDFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 235000019791 dimagnesium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000395 dimagnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- XZTWHWHGBBCSMX-UHFFFAOYSA-J dimagnesium;phosphonato phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XZTWHWHGBBCSMX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N dimethylaminopropylamine Chemical compound CN(C)CCCN IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSACPWSIIRFHHR-UHFFFAOYSA-N dimethylphenyl isocyanide Natural products CC1=CC=CC(C)=C1C#N QSACPWSIIRFHHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- XIMIGUBYDJDCKI-UHFFFAOYSA-N diselenium Chemical compound [Se]=[Se] XIMIGUBYDJDCKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 125000002228 disulfide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYPHZVPSILDWAK-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonic acid;1h-imidazole Chemical compound C1=CNC=N1.CCS(O)(=O)=O VYPHZVPSILDWAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFJVXXWOPWLRNU-UHFFFAOYSA-N ethenyl formate Chemical compound C=COC=O GFJVXXWOPWLRNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPULFENIJDPZBX-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-isocyanoacetate Chemical compound CCOC(=O)C[N+]#[C-] FPULFENIJDPZBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N gamma-aminobutyric acid Chemical compound NCCCC(O)=O BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 229940096919 glycogen Drugs 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N hexanedioic acid Natural products OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBFYUZGYRGXSFL-UHFFFAOYSA-N imidazolide Chemical compound C1=C[N-]C=N1 JBFYUZGYRGXSFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- DLRVVLDZNNYCBX-RTPHMHGBSA-N isomaltose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@H]1OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)O1 DLRVVLDZNNYCBX-RTPHMHGBSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000008101 lactose Substances 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N malononitrile Chemical compound N#CCC#N CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- RHJYKEDKMHDZBL-UHFFFAOYSA-L metaphosphoric acid (hpo3), magnesium salt Chemical compound [Mg+2].[O-]P(=O)=O.[O-]P(=O)=O RHJYKEDKMHDZBL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- ORDVHOHCTUHXBX-UHFFFAOYSA-M methanesulfonate;1-methylpyridin-1-ium Chemical compound CS([O-])(=O)=O.C[N+]1=CC=CC=C1 ORDVHOHCTUHXBX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 235000019785 monomagnesium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000401 monomagnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- BOQOXLAQTDFJKU-UHFFFAOYSA-N morpholine-4-carbonitrile Chemical compound N#CN1CCOCC1 BOQOXLAQTDFJKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNJSTXFSLBBPX-UHFFFAOYSA-N n'-(trimethoxysilylmethyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CNCCN CSNJSTXFSLBBPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITZPOSYADVYECJ-UHFFFAOYSA-N n'-cyclohexylpropane-1,3-diamine Chemical compound NCCCNC1CCCCC1 ITZPOSYADVYECJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLWWDFIYDBNZDS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylaniline;trifluoromethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F.CN(C)C1=CC=CC=C1 HLWWDFIYDBNZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYBVLIGQHWUPOF-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenylaniline;trifluoromethanesulfonic acid Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[NH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QYBVLIGQHWUPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQKOSCFDFJKWOX-UHFFFAOYSA-N n-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]aniline Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 NQKOSCFDFJKWOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNZBMEIFAOYZEA-UHFFFAOYSA-N n-cyanoacetamide Chemical compound CC(=O)NC#N BNZBMEIFAOYZEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWJRQTQRAADPIC-UHFFFAOYSA-N n-cyanoformamide Chemical compound O=CNC#N HWJRQTQRAADPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGEGQAUINMTPGX-UHFFFAOYSA-N n-phenylaniline;trifluoromethanesulfonic acid Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C=1C=CC=CC=1[NH2+]C1=CC=CC=C1 MGEGQAUINMTPGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAFOVCNAQTZDQB-UHFFFAOYSA-N octyl diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)(OCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1 YAFOVCNAQTZDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- LCLHHZYHLXDRQG-ZNKJPWOQSA-N pectic acid Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@@H](O)O[C@H](C(O)=O)[C@@H]1OC1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](OC2[C@@H]([C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O2)C(O)=O)O)[C@@H](C(O)=O)O1 LCLHHZYHLXDRQG-ZNKJPWOQSA-N 0.000 description 1
- 229920001277 pectin Polymers 0.000 description 1
- 239000001814 pectin Substances 0.000 description 1
- 235000010987 pectin Nutrition 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- VCAFTIGPOYBOIC-UHFFFAOYSA-N phenyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OC1=CC=CC=C1 VCAFTIGPOYBOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- LTEKQAPRXFBRNN-UHFFFAOYSA-N piperidin-4-ylmethanamine Chemical compound NCC1CCNCC1 LTEKQAPRXFBRNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000010318 polygalacturonic acid Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- GNSKLFRGEWLPPA-UHFFFAOYSA-M potassium dihydrogen phosphate Chemical compound [K+].OP(O)([O-])=O GNSKLFRGEWLPPA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940099402 potassium metaphosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000019828 potassium polyphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003864 primary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- JTQPTNQXCUMDRK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;titanium(2+) Chemical compound CC(C)O[Ti]OC(C)C JTQPTNQXCUMDRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UYGVWLYWQZOYOG-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;cyanate Chemical compound [O-]C#N.C1=CC=[NH+]C=C1 UYGVWLYWQZOYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYPWRPSMKLUGJZ-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O.C1=CC=[NH+]C=C1.C1=CC=[NH+]C=C1 QYPWRPSMKLUGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWVYZMVYXAVAKS-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F YWVYZMVYXAVAKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDOUGSFASVGDCS-UHFFFAOYSA-N pyridin-3-ylmethanamine Chemical compound NCC1=CC=CN=C1 HDOUGSFASVGDCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXQWFIVRZNOPCK-UHFFFAOYSA-N pyridin-4-ylmethanamine Chemical compound NCC1=CC=NC=C1 TXQWFIVRZNOPCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N pyridinium p-toluenesulfonate Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 150000005619 secondary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003865 secondary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical group [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M sodium benzoate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004299 sodium benzoate Substances 0.000 description 1
- 235000010234 sodium benzoate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019983 sodium metaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 229950000244 sulfanilic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960003080 taurine Drugs 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNALVHVMBXLLIY-IUCAKERBSA-N tert-butyl n-[(3s,5s)-5-methylpiperidin-3-yl]carbamate Chemical compound C[C@@H]1CNC[C@@H](NC(=O)OC(C)(C)C)C1 CNALVHVMBXLLIY-IUCAKERBSA-N 0.000 description 1
- 150000003866 tertiary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- NKEVUMSCVLJVFU-UHFFFAOYSA-N tetraethylazanium isocyanate Chemical compound [N-]=C=O.CC[N+](CC)(CC)CC NKEVUMSCVLJVFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyrrole Natural products C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphite Chemical compound CCCCOP(OCCCC)OCCCC XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJDLPDPRMYAOCM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propan-2-yl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)C BJDLPDPRMYAOCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)F BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIECVIVJOTBH-UHFFFAOYSA-N trifluoromethanesulfonyl bromide Chemical compound FC(F)(F)S(Br)(=O)=O IMNIECVIVJOTBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMFOHNMEJNFJAE-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;diphosphite Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])[O-].[O-]P([O-])[O-] VMFOHNMEJNFJAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGROXJWYRXANBB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propan-2-yl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)C LGROXJWYRXANBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)F ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOQNJVLFFRMJTQ-UHFFFAOYSA-N trioctyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCOP(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC QOQNJVLFFRMJTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000404 tripotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019798 tripotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- NCPXQVVMIXIKTN-UHFFFAOYSA-N trisodium;phosphite Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])[O-] NCPXQVVMIXIKTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L zinc;1-(5-cyanopyridin-2-yl)-3-[(1s,2s)-2-(6-fluoro-2-hydroxy-3-propanoylphenyl)cyclopropyl]urea;diacetate Chemical compound [Zn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCC(=O)C1=CC=C(F)C([C@H]2[C@H](C2)NC(=O)NC=2N=CC(=CC=2)C#N)=C1O UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description
たとえば、高湿度下で樹脂フィルムを包装材として用いる場合、ガスバリア性とともに耐水性(非水溶性)も考慮に入れる必要がある。PVAの耐水性を向上させ、ガスバリア性の湿度依存性を改善するために、PVAとポリ(メタ)アクリル酸をエステル化反応により架橋させる方法がいくつか提案されてきた。
(1)水酸基を有する水溶性高分子(A)、カルボキシル基を有する水溶性高分子(B)、金属アルコキシドおよび/またはその加水分解縮合物(C)、およびエステル化触媒(E)を含み、前記(A)成分が、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、および糖類からなる群から選ばれる1種以上の化合物であり、前記(B)成分が、ポリ(メタ)アクリル酸またはその部分中和物であり、前記(E)成分が、シアノ基含有有機化合物であり、前記(A)成分と前記(B)成分の重量比が97/3から3/97であって、前記(A)成分と前記(B)成分の混合物100重量部に対し、前記(C)成分を1重量部以上450重量部以下、前記(E)成分を0.01重量部以上100重量部以下含む、ガスバリア性組成物;
(2)前記(A)成分と前記(B)成分の混合物100重量部に対し、前記(C)成分を1重量部以上400重量部以下含む、(1)に記載のガスバリア性組成物;
(3)前記(A)成分と前記(B)成分の重量比が60/40から95/5である(1)または(2)に記載のガスバリア性組成物;
(4)1分子中に金属酸化物と結合を形成できる官能基と、カルボキシル基と結合を形成できる官能基とをそれぞれ1つ以上有する化合物(D)をさらに含み、前記(A)成分と前記(B)成分の混合物100重量部に対し、前記(D)成分を1重量部以上20重量部以下含む(1)乃至(3)いずれか1つに記載のガスバリア性組成物;
(5)前記(D)成分において、金属酸化物と結合を形成できる前記官能基が、アルコキシシリル基、シラノール基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基およびアンモニウム基からなる群から選択される一種以上の基であって、カルボキシル基と結合を形成できる前記官能基が、アミノ基、エポキシ基、チオール基、水酸基、ウレタン結合基、尿素結合基およびアンモニウム基からなる群から選択される一種以上の基である(4)に記載のガスバリア性組成物;
(6)前記(D)成分が、アルコキシシリル基およびアミノ基を含む化合物である(4)または(5)に記載のガスバリア性組成物;
(7)前記(D)成分が、3−アミノプロピルトリメトキシシランおよび3−アミノプロピルトリエトキシシランからなる群から選択される一種以上である(4)乃至(6)いずれか1つに記載のガスバリア性組成物;
(8)前記(C)成分が、アルコキシシラン、アルコキシジルコニウム、アルコキシアルミニウム、アルコキシチタンからなる群から選ばれる一種以上である(1)乃至(7)いずれか1つに記載のガスバリア性組成物;
(9)前記(C)成分が、アルコキシシランの縮合物、アルコキシジルコニウムの縮合物、アルコキシアルミニウムの縮合物、およびアルコキシチタンの縮合物からなる群から選択される一種以上である(1)乃至(7)いずれか1つに記載のガスバリア性組成物;
(10)平均粒径が100nm以下の金属酸化物微粒子をさらに含み、当該ガスバリア性組成物100重量部に対して、前記金属酸化物微粒子を1重量部以上100重量部以下含有する(1)乃至(9)いずれか1つに記載のガスバリア性組成物;
(11)前記(C)成分が、水および触媒の添加により、ゾルゲル反応することで、金属酸化物となる化合物である、(1)乃至(10)いずれか1つに記載のガスバリア性組成物;
(12)さらに溶媒を含む(1)乃至(11)いずれか1つ記載のガスバリア性組成物;
(13)前記(A)成分がポリビニルアルコールであって、前記(B)成分がポリアクリル酸であって、前記(C)成分がテトラメトキシシランであって、前記(E)成分がジシアノジアミドである(1)乃至(7)いずれか1つに記載のガスバリア性組成物;
(14)1分子中に金属酸化物と結合を形成できる官能基と、カルボキシル基と結合を形成できる官能基とをそれぞれ1つ以上有する化合物(D)をさらに含み、前記(D)成分が3−アミノプロピルトリメトキシシランである(13)に記載のガスバリア性組成物;
(15)(4)に記載のガスバリア性組成物の製造方法であって、前記(A)成分、前記(B)成分、前記(D)成分および前記(E)成分を溶媒中で混合する工程と、前工程で得られた混合液および前記(C)成分を混合する工程と、を含み、前記混合液および前記(C)成分を混合する前記工程において、前記(C)成分の加水分解縮合反応を進行させる、ガスバリア性組成物の製造方法;
(16)(4)に記載のガスバリア性組成物の製造方法であって、前記(A)成分、前記(B)成分および前記(E)成分を溶媒中で混合する工程と、前工程で得られた混合液、前記(D)成分および前記(C)成分を混合する工程と、を含み、前記混合液、前記(D)成分および前記(C)成分を混合する前記工程において、前記(C)成分の加水分解縮合反応、ならびに前記(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応を進行させる、ガスバリア性組成物の製造方法;
(17)(4)に記載のガスバリア性組成物の製造方法であって、前記(A)成分、前記(B)成分および前記(D)成分を溶媒中で混合する工程と、前工程で得られた混合液、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する工程と、を含み、前記混合液、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する前記工程において、前記(C)成分の加水分解縮合反応を進行させる、ガスバリア性組成物の製造方法;
(18)(4)に記載のガスバリア性組成物の製造方法であって、前記(A)成分および前記(B)成分を混合する工程と、前工程で得られた混合液、前記(D)成分、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する工程と、を含み、前記混合液、前記(D)成分、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する前記工程において、前記(C)成分の加水分解縮合反応、ならびに前記(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応を進行させる、ガスバリア性組成物の製造方法;
(19)(1)乃至(14)いずれか1つに記載のガスバリア性組成物の膜状物を形成し、これを熱処理するコーティング膜の製造方法;
(20)(19)に記載の方法により製造されたコーティング膜;
(21)(20)に記載のコーティング膜を少なくとも1層含む積層体;
(22)基板上に、前記コーティング膜を積層した(21)に記載の積層体;および
(23)前記コーティング膜と、熱可塑性樹脂フィルムとを積層した(21)に記載の積層体
である。
水酸基を有する水溶性高分子(A)、
カルボキシル基を有する水溶性高分子(B)、
金属アルコキシドおよび/またはその加水分解縮合物(C)、および
エステル化触媒(E)
を含む。
このガスバリア性組成物は、コーティング用の組成物として好適に用いられる。
はじめに、ガスバリア性組成物の構成成分について説明する。
本発明において用いられる水酸基を有する水溶性高分子(A)とは、水酸基をその高分子鎖中に少なくとも2個含む水溶性を示す高分子であって、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコールを含む共重合体、セルロース類およびその他の糖類からなる群から選ばれる1種以上の化合物である。これらは単独または2種以上用いてもよい。
本発明におけるカルボキシル基を有する水溶性高分子(B)とは、カルボキシル基をその高分子鎖中に少なくとも2個含む水溶性を示す高分子であって、ポリカルボン酸である。カルボキシル基を有する水溶性高分子(B)は、ポリ(メタ)アクリル酸またはその部分中和物であり、さらに好ましくは分子内に少なくも2個以上のアクリル酸またはメタアクリル酸単位を有するポリマーであり、より好ましくは、アクリル酸またはメタアクリル酸の単一重合体(ポリアクリル酸またはポリメタアクリル酸)であっても、アクリル酸とメタアクリル酸の共重合体であっても、また他のモノマー単位を含む共重合体であってもよい。これらは単独または2種以上用いてもよい。
本発明における金属アルコキシドは、下記式(1)で表されるものを指す。
(R1)xM(OR2)y (1)
式中、R1で示される置換基は水素原子、アルキル基(たとえばメチル基、エチル基、プロピル基など)、アリール基(たとえばフェニル基、トリル基など)、炭素−炭素二重結合含有有機基(たとえばアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基など)、ハロゲン含有基(たとえばクロロプロピル基、フルオロメチル基などのハロゲン化アルキル基など)などを表し、R2は炭素数1以上6以下、好ましくは炭素数1以上4以下の低級アルキル基を表す。xおよびyは、x+y=4かつ、xは2以下となる整数を表す。また、(C)成分を構成するMは金属であり、具体的には、珪素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウムなどが例示され、それらを組み合わせて使ってもよい。なかでも珪素化合物は、比較的安価で入手しやすく、反応が緩やかに進行するため、工業的な利用価値が高い。
塗膜(コーティング膜、ハードコート)の耐擦傷性は、アルコキシ基の数に反映されることから、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の4官能性金属アルコキシドを用いることが好ましい。また、これらの金属アルコキシド、金属アルコキシドの加水分解重縮合物は、単独または2種以上の混合物として用いてもよい。
(D)1分子中に金属酸化物と結合を形成できる官能基と、カルボキシル基と結合を形成できる官能基とをそれぞれ1つ以上有する化合物
本発明で用いられる、1分子中に金属酸化物と結合を形成できる官能基と、カルボキシル基と結合を形成できる官能基とをそれぞれ1つ以上有する化合物(D)は、有機材料である(A)成分、(B)成分と、無機材料である(C)成分との材料分散性を向上するために添加し、その使用により、より一層透明性の高い塗膜を得ることができる。
3−グリシドキシプロピルプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のグリシジル基とアルコキシシリル基とを有する化合物;
3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のチオール基とアルコキシシリル基とを有する化合物;
3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン等のウレイド基とアルコキシシリル基とを有する化合物;等のアルコキシシリル基を有する化合物、2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、2−アミノ−1−アミノ−1−ブタノール、1−アミノ−2−ブタノール、2−アミノ−1−ブタノール,3−プロパンジオール、3−アミノ−1,2−プロパンジオール、4,2−(2−アミノエトキシ)エタノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、4−アミノ−2−メチルブタノール、3−アミノプロピオン酸、2−アミノプロピオン酸、4−アミノ−n−ブチル酸、5−アミノ−n−バレリン酸、2−アミノイソバレリン酸、アスパラギン、アスパラギン酸、エチレンジアミン、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−(2−アミノエチルアミノ)エタノール、2−アミノエタンチオール、2−アミノエタンスルホン酸、N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N−(3−アミノプロピル)シクロヘキシルアミン、4−ピコリルアミン、3−ピコリルアミン、2−ピコリルアミン、4−(2−アミノエチル)ピリジン、3−(2−アミノエチル)ピリジン、4−アミノメチルピペリジン、1−アミノ−4−メチルピペラジン、3−アミノ−5−メチルピラゾール、1−(3−アミノプロピル)イミダゾール、2-アミノエタン−1−スルホン酸、3−アミノプロパンスルホン酸、スルファニル酸、1,4−ジアミノブタン二塩酸塩、1,5−ジアミノペンタン二塩酸塩等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
本発明におけるエステル化触媒(E)とは、酸とアルコールからエステルを合成する反応を触媒する化合物のことである。酸は、有機酸または無機酸である。このような化合物であれば本発明のエステル化触媒(E)として用いることができるが、シアノ基含有有機化合物が用いられる。なお、他のエステル化触媒(E)の例として、無機酸の金属塩、有機酸の金属塩、有機リン化合物、カルボン酸およびその誘導体、スルホン酸およびその誘導体、鉱酸の有機アンモニウム塩またはピリジニウム塩、イソシアノ基含有有機化合物、ケテン誘導体、ジカルコゲニド化合物、塩化シアヌル、カルボニルジイミダゾール、ヘキサクロロアセトンが挙げられる。
(A)成分:ポリビニルアルコール
(B)成分:ポリアクリル酸
(C)成分:テトラメトキシシラン
(E)成分:ジシアノジアミド
(A)成分:ポリビニルアルコール
(B)成分:ポリアクリル酸
(C)成分:テトラメトキシシラン
(D)成分:3−アミノプロピルトリメトキシシランまたは3−アミノプロピルトリエトキシシラン
(E)成分:ジシアノジアミド
本発明におけるガスバリア性組成物は、水酸基を有する水溶性高分子(A)、カルボキシル基を有する水溶性高分子(B)、金属アルコキシドおよび/または金属アルコキシドの加水分解縮合物(C)、およびエステル化触媒(E)を必須成分とする。以下、これらの成分の配合を説明する。
たとえば、本発明のガスバリア性組成物は、金属アルコキシドの加水分解・重縮合反応における反応を促進させる目的で、以下に示すような加水分解・重合反応の触媒となりうるものを含んでいてもよい。金属アルコキシドの加水分解・重合反応の触媒として使用されるものは、「最新ゾル-ゲル法による機能性薄膜作製技術」(平島碩著、株式会社総合技術センター、P29)や「ゾル-ゲル法の科学」(作花済夫著、アグネ承風社、P154)等に記載されている一般的なゾル−ゲル反応で用いられる触媒である。
金属酸化物微粒子の具体例として下記がある。
本発明においてはガスバリア性組成物は、さらに溶媒を含んでもよい。溶媒を含むことにより、ガスバリア性組成物からなるコート材料を樹脂表面に塗布する工程を容易にするので好ましい。
たとえばメタノール、エタノール、プロパノールなどの炭素数1以上30以下のアルコール類;
たとえばn−ヘキサン、n−ヘプタン、トルエン、キシレンなどの炭素数4以上30以下の脂肪族または芳香族炭化水素;
たとえばジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、o−ジブロモベンゼンなどの炭素数1以上30以下の含ハロゲン脂肪族または芳香族炭化水素;
たとえばジエチルエーテル、ジフェニルエーテルなどの炭素数2以上30以下の脂肪族または芳香族エーテル類;
たとえば酢酸エチル、プロピオン酸ブチルなどの炭素数2以上30以下の脂肪族または芳香族エステル類、たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどの炭素数2から30の脂肪族または芳香族アミド化合物;
たとえばアセトニトリル、ベンゾニトリルなどの炭素数2以上30以下の脂肪族または芳香族ニトリル類が挙げられる。これらの溶媒は単一で用いてもまた2種類以上の混合溶媒として用いてもよい。
本発明におけるガスバリア性組成物は、たとえば、水酸基を有する水溶性高分子(A)とカルボキシル基を有する水溶性高分子(B)を上記記載のいずれかの溶媒に溶解した溶液と、金属アルコキシドおよび/または金属アルコキシドの加水分解縮合物(C)と、エステル化触媒(E)とを混合して調製される。
1、水酸基を有する水溶性高分子(A)とカルボキシル基を有する水溶性高分子(B)を上記記載のいずれかの溶媒に溶解した溶液に、1分子中に金属酸化物と結合を形成できる官能基と、カルボキシル基と結合を形成できる官能基とをそれぞれ1つ以上有する化合物(D)を滴下して攪拌混合させた溶液と、金属アルコキシドおよび/または金属アルコキシドの加水分解縮合物(C)または、(C)に触媒および水を添加し一定時間攪拌した溶液とを、使用する直前に混ぜ合わせた後、所定時間、所定温度で反応させて調製する方法。
などが挙げられ、どちらの方法でおこなっても問題ない。
(i)(A)成分、(B)成分、(D)成分および(E)成分を溶媒中で混合する工程、および
前工程で得られた混合液および前記(C)成分を混合する工程を含み、
混合液および(C)成分を混合する工程において、(C)成分の加水分解縮合反応を進行させる方法。
(ii)(A)成分、(B)成分および(E)成分を溶媒中で混合する工程、および
前工程で得られた混合液、(D)成分および(C)成分を混合する工程を含み、
混合液、(D)成分および(C)成分を混合する工程において、(C)成分の加水分解縮合反応、ならびに(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応を進行させる方法。
(iii)(A)成分、(B)成分および(D)成分を溶媒中で混合する工程、および
前工程で得られた混合液、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する工程を含み、
混合液、(E)成分および(C)成分を混合する工程において、(C)成分の加水分解縮合反応を進行させる方法。
(iv)(A)成分および(B)成分を混合する工程、および
前工程で得られた混合液、(D)成分、(E)成分および(C)成分を混合する工程を含み、
混合液、(D)成分、(E)成分および(C)成分を混合する工程において、(C)成分の加水分解縮合反応、ならびに(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応を進行させる方法。
(v)(A)成分、(B)成分、(D)成分および(E)成分を溶媒中で混合する工程、および
前工程で得られた混合液および前記(C)成分に触媒および水を添加し、一定時間攪拌した溶液を混合する工程を含み、
混合液、および(C)成分に触媒および水を添加し、一定時間攪拌した溶液を混合する工程において、(C)成分の加水分解縮合反応をさらに進行させる方法。
(vi)(A)成分、(B)成分および(E)成分を溶媒中で混合する工程、および
前工程で得られた混合液、(D)成分、および(C)成分に触媒および水を添加し、一定時間攪拌した溶液を混合する工程を含み、
混合液、(D)成分、および(C)成分に触媒および水を添加し、一定時間攪拌した溶液を混合する工程において、(C)成分の加水分解縮合反応をさらに進行させるとともに、(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応を進行させる方法。
(vii)(A)成分、(B)成分および(D)成分を溶媒中で混合する工程、および
前工程で得られた混合液、前記(E)成分、および前記(C)成分に触媒および水を添加し、一定時間攪拌した溶液を混合する工程を含み、
混合液、(E)成分、および(C)成分に触媒および水を添加し、一定時間攪拌した溶液を混合する工程において、(C)成分の加水分解縮合反応をさらに進行させる方法。
(viii)(A)成分および(B)成分を混合する工程、および
前工程で得られた混合液、(D)成分、(E)成分、および(C)成分に触媒および水を添加し、一定時間攪拌した溶液を混合する工程を含み、
混合液、(D)成分、(E)成分、および(C)成分に触媒および水を添加し、一定時間攪拌した溶液を混合する工程において、(C)成分の加水分解縮合反応をさらに進行させるとともに、(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応を進行させる方法。
上記(ii)、(iv)、(vi)および(viii)において、(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応において、(D)成分が金属酸化物およびカルボキシル基の両方と反応することが好ましい。また、(D)成分の反応は、具体的には、金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との結合反応であり、(D)成分が、金属酸化物およびカルボキシル基の両方に結合することが好ましい。
本発明のコーティング膜は、本発明のガスバリア性組成物の膜状物を形成しこれを熱処理することにより製造される。
膜状物とは、組成物が基材の表面を覆った状態を指す。膜状物を形成する方法は、特に限定はなく、たとえばガスバリア性組成物の溶液をガラス板、金属板や熱可塑性樹脂フィルムなどの支持体上に流延し、乾燥する方法などがある。支持体上に所望の厚さに膜状物を形成した後、熱処理を行う。熱処理温度は通常50℃以上250℃以下の範囲であって、より好ましくは80℃以上200℃以下、さらに好ましくは80℃以上150℃以下の範囲である。本発明において、(E)エステル化触媒を使用することにより、たとえば、より低温で高いガスバリア性を発現することも可能となる。より低温で熱処理することにより、コーティング膜の着色を抑制できる。また熱可塑性樹脂フィルムを支持体として用いる場合、低融点の樹脂フィルム上に、コーティング膜を製造することも可能である。熱処理時間は通常1秒以上である。
(i)基板上に、本発明のコーティング膜を積層した積層体、および
(ii)本発明のコーティング膜と、熱可塑性樹脂フィルムとを積層した積層体
が挙げられる。
従来から、紫外線領域の光を吸収して発色または変色する、いわゆるフォトクロミック化合物が知られている。このフォトクロミック化合物を樹脂に添加したフォトクロミック化合物含有樹脂は、幅広く利用されており、たとえば、ガラス間に薄膜状に形成し、自動車用ガラス、窓ガラスに使用されている。また、メガネレンズ材料に練り混んだり、レンズ上に積層することで、フォトクロミックレンズとして使用されている。フォトクロミックレンズとは、屋外では、太陽光に含まれる紫外光により、速やかに着色し、サングラスとして機能し、屋内では、退色して透明な通常のメガネとして機能するレンズのことである。これらフォトクロミック製品は、紫外光の照射に応じた発色-退色作用が持続しないという問題点がある。原因は、紫外光や、大気中の酸素および水分との接触によるフォトクロミック化合物の劣化と見られている。そのため、これら製品は、多湿下で長時間使用しても発色-退色作用が持続できる耐久性が要求される。また、こうした用途において、本発明のコーティング材料をフォトクロミック製品上に積層すれば、大気中のガスを遮断し、フォトクロミック化合物の劣化を抑制できると考えられる。特にフォトクロミックレンズにおいては、レンズの傷つき防止のため、ハードコート層が積層されるが、本発明のコーティング膜は、ガスバリア能に加えて、ハードコート能を有しているため、ハードコート膜の積層は不要となる。
ディスプレイ用基板は、従来ガラスが用いられていたが、近年、ディスプレイの小型化、軽量化に対応するため、薄い軽い割れないといった特徴を持つプラスチックに置き換わっている。プラスチックは上記のような特徴を持つ反面、ガスバリア性、寸法安定性、耐熱性、耐薬品性、低吸水率性、光学異方性等、耐擦傷性に問題を抱えている。特にガスバリア性は、水蒸気、酸素の表示素子内への侵入によって、表示欠陥等の問題を引き起こすために、高い性能が要求される。本発明のコーティング膜をディスプレイ基板上に積層すれば、大気中のガスを遮断し、表示素子の劣化を抑制することができる。また、併せてハードコート能を基板に付与することができる。
ガスバリア性(ハードコート用)組成物の調製
ポリビニルアルコール水溶液
(A)成分として、和光純薬工業社製ポリビニルアルコール(PVA)500、完全ケン化型(平均重合度:約400〜600)5重量部に対して蒸留水95重量部を加えPVAを加熱下溶解することでPVA5重量%水溶液を得た。
ポリアクリル酸水溶液
(B)成分として、和光純薬工業社製ポリアクリル酸(PAA)水溶液(25%)(粘度:8000〜12000cP(30℃))20重量部に対して蒸留水80重量部を加えPAA5重量%水溶液を得た。
厚さ2mmのガラス基板に、上記の方法で調製した組成物を、バーコーターを用いて、硬化後の厚みが約1.5μmとなるように塗布した。その後、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。同様の方法で、厚さ50μmのPET(ポリエチレンテレフテレート)基板(東洋紡(株)製、コスモシャインA4100)にも塗布、加熱してコーティング膜を得た。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液1000重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液1000重量部、(E)成分であるジシアノジアミド14.5重量部を混合し、室温で10分攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン355重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
PAA5重量%水溶液1400重量部を攪拌しながら、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液を52重量部滴下し、その後室温で30分攪拌した。続いて、PVA5重量%水溶液を600重量部、(E)成分であるジシアノジアミドを22.8重量部加えてさらに10分間攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液600重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液1400重量部、(E)成分であるジシアノジアミド22.8重量部を混合し、室温で10分攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
PAA5重量%水溶液1400重量部を攪拌しながら、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液を52重量部滴下し、その後室温で30分攪拌した。続いて、PVA5重量%水溶液を600重量部加えてさらに10分間攪拌した。これを溶液e51とする。一方、(C)成分であるテトラメトキシシラン252重量部に、0.06N硝酸水溶液を60重量部添加し、室温で1時間攪拌した。これを溶液e52とする。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液1600重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液400重量部、(E)成分であるジシアノジアミド11.6重量部を混合し、室温で10分攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液1400重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液600重量部、(E)成分であるジシアノジアミド22.8重量部を混合し、室温で10分攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン368重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
PAA5重量%水溶液1400重量部に、PVA5重量%水溶液を600重量部、(E)成分であるジシアノジアミド22.8重量部を加えて10分間攪拌したこれを溶液e81とする。一方、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部に、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液52重量部を添加し、その後室温で10分攪拌した。これをe82とする。
PAA5重量%水溶液1400重量部に、PVA5重量%水溶液600重量部、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液52重量部を加えて10分間攪拌した。これを溶液e91とする。一方、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部に、(E)成分であるジシアノジアミド22.8重量部、メタノール750重量部を添加し、その後室温で30分攪拌した。これを溶液e92とする。
PAA5重量%水溶液1400重量部とPVA5重量%水溶液600重量部を混合した。これを溶液e101とする。一方、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部に、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液を52重量部、(E)成分であるジシアノジアミド22.8重量部、メタノール750重量部を添加し、その後室温で30分攪拌した。これを溶液e102とする。
PAA5重量%水溶液1400重量部を攪拌しながら、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液を52重量部滴下し、その後室温で30分攪拌した。続いて、PVA5重量%水溶液を600重量部加えてさらに10分間攪拌した。これを溶液e111とする。一方、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部に、0.06N硝酸水溶液を20重量部添加し、室温で1.5時間攪拌した。これを溶液e112とする。
溶液e111と溶液e112を混合し、さらに室温で2時間攪拌を行い、その後、(E)成分であるジシアノジアミドを22.8重量部添加し組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
シクロオレフィンコポリマーフィルムの作製
ノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマーとの付加共重合体として、テトラシクロ〔4.4.12,5.17,10.0〕−ドデカ−3−エン(TCD−3)とエチレンとのランダム共重合体(モル比=30:70、ガラス転移温度125℃、平均屈折率1.54、吸水率0.01%)を用いて、一軸押出機(径40mm)にて、シリンダ温度280℃の条件で溶融押出し成形を行い、膜厚100μmのシクロオレフィンコポリマーフィルムを作製した。
PAA5重量%水溶液1400重量部を攪拌しながら、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液52重量部滴下し、その後室温で30分攪拌した。続いて、PVA5重量%水溶液を600重量部、(E)成分であるジシアノジアミドを22.8重量部加えてさらに10分間攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
PAA5重量%水溶液1400重量部を攪拌しながら、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液を52重量部滴下し、その後室温で30分攪拌した。続いて、PVA5重量%水溶液を600重量部、(E)成分であるジシアノジアミドを22.8重量部加えてさらに10分間攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液1600重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液400重量部、(E)成分であるジシアノジアミド11.6重量部、シリカ微粒子20重量%水分散液(日産化学工業(株)製、ST−O)を296重量部混合し、室温で10分攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例6と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
PAA5重量%水溶液1000重量部を攪拌しながら、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液を38重量部滴下し、その後室温で30分攪拌した。続いて、PVA5重量%水溶液1000重量部を加えてさらに10分間攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン310重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液600重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液1400重量部を混合し、室温で10分攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(120℃)で1時間加熱し、コーティング膜を得た。
PAA5重量%水溶液1400重量部を攪拌しながら、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液を52重量部滴下し、その後室温で30分攪拌した。続いて、PVA5重量%水溶液を600重量部加えてさらに10分間攪拌した。これを溶液c31とする。一方、(C)成分であるテトラメトキシシラン377重量部に、0.06N硝酸水溶液を89重量部添加し、室温で1.5時間攪拌した。これを溶液c32とする。
PAA5重量%水溶液1400重量部、PVA5重量%水溶液600重量部を混合した。これを溶液c41とする。一方、(C)成分であるテトラメトキシシラン252重量部に、0.06N硝酸水溶液を60重量部添加し、室温で1時間攪拌した。これを溶液c42とする。溶液c41と溶液c42を混合し、さらに室温で2時間攪拌を行い、組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(120℃)で1時間加熱し、コーティング膜を得た。
PAA5重量%水溶液1400重量部を攪拌しながら、(D)成分である3−アミノプロピルトリメトキシシランとエタノールを重量比1:9で混合した溶液を52重量部滴下し、その後室温で30分攪拌した。続いて、PVA5重量%水溶液を600重量部加えてさらに10分間攪拌した。これを溶液c51とする。一方、(C)成分であるテトラメトキシシラン252重量部に、0.06N硝酸水溶液を60重量部添加し、室温で1時間攪拌した。これを溶液c52とする。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液1600重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液400重量部添加し、室温で10分攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液1600重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液400重量部を混合し、室温で10分攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン308重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
(A)成分であるPVA5重量%水溶液1400重量部、(B)成分であるPAA5重量%水溶液600重量部を混合し、室温で10分攪拌した。続いて、(C)成分であるテトラメトキシシラン303重量部を添加し、室温で1.5時間攪拌し、ガスバリア性組成物を得た。これを用いて、実施例1と同様に、基板が着色、変形しないように、低温(110℃)で2時間加熱し、コーティング膜を得た。
シリカ含有率は、以上の実施例および比較例における(C)成分であるTMOSが100%反応し、SiO2になったと仮定して算出した。たとえば、(C)成分がTMOSの場合100%反応し、SiO2になったと仮定して算出した。すなわち
TMOS:Mw=152
SiO2:Mw=60
より、
SiO2/TMOS=60/152=0.395
である。つまり、TMOSの添加量に0.395を掛けた値が、膜中のSiO2含量となる。これより、シリカ(SiO2)含有率は、以下の式を用いて計算した。
シリカ(SiO2)含有率=[TMOS]*0.395/([A]+[B]+([TMOS]*0.395)+[E]+([D]))
ただし、上記式において、[A]、[B]、[TMOS]、[E]、[D]はそれぞれの成分の重量部を示す。
シリカ(SiO2)含有率=(355*0.395)/(50+50+(355*0.395)+3.8+14.5)*100=54
である。
以上の実施例および比較例におけるコーティング膜について、以下の方法で物性評価を行った。評価結果を表1〜表5に示す。
酸素の透過性を、23℃、90%RH雰囲気下で、酸素透過率測定装置(MOCON社製 OXTRAN 2/21MH)を用いて測定した。測定にはPETフィルムにコートしたサンプルを使用した。
JIS K5400に準拠し、鉛筆硬度試験を行った。測定にはガラス基板にコートしたサンプルを使用した。ただし、実施例14においては、ポリカーボネート基板にコートしたサンプルを使用した。
50μmPETフィルム(東洋紡(株)製、コスモシャインA4100)に、1.5μmのコーティング膜を積層したサンプルを目視で評価した。ここで、透明とは、光を散乱して白濁しない状態を示す。なお、すべてのサンプルにおいて、コーティング膜の着色および変形は認められなかった。
PETフィルムのみ:90%(透明)
実施例2:86%(不透明)
実施例3:90%(透明)
実施例4:83%(不透明)
(1−1)水酸基を有する水溶性高分子(A)、カルボン酸(カルボキシル基)を有する水溶性高分子(B)、金属アルコキシドおよび/またはそれらの加水分解縮合物(C)、1分子中に金属酸化物と結合を形成できる官能基と、カルボキシル基と結合を形成できる官能基をそれぞれ1つ以上有する化合物(D)からなり、(A)と(B)の重量比が97/3から3/97、(A)と(B)の混合物100重量部に対し、(C)1重量部以上400重量部以下、(D)1重量部以上20重量部以下であるガスバリア性ハードコート用組成物(ガスバリア性組成物)。
(1−2)さらに溶媒を含む(1−1)に記載のガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−3)(1−1)に記載のガスバリア性ハードコート用組成物と、エステル化触媒(E)からなり、(A)と(B)の混合物100重量部に対し、(E)0.01重量部以上100重量部以下であるガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−4)さらに溶媒を含む(1−3)に記載のガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−5)エステル化触媒(E)が無機酸の金属塩、有機酸の金属塩、有機リン化合物、カルボン酸およびその誘導体、スルホン酸およびその誘導体、鉱酸の有機アンモニウム塩またはピリジニウム塩、シアノ基含有有機化合物、イソシアノ基含有有機化合物、ケテン誘導体、ジカルコゲニド化合物、塩化シアヌル、カルボニルジイミダゾール、ヘキサクロロアセトン、2,4,6-トリニトロ-1-クロロベンゼンから選ばれる1種の化合物である請求項2〜3に記載のガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−6)水酸基を有する水溶性高分子(A)がポリビニルアルコールまたはエチレン-ビニルアルコール共重合体、糖類、セルロース類から選ばれる1種以上の化合物である(1−1)乃至(1−5)いずれかに記載のガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−7)カルボン酸を有する水溶性高分子(B)がポリ(メタ)アクリル酸またはその部分中和物である(1−1)乃至(1−5)いずれかに記載のガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−8)金属アルコキシドおよび/または金属アルコキシドの加水分解縮合物がシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニアより選ばれる化合物である(1−1)乃至(1−7)いずれかに記載のガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−9)(1−1)および/または(1−3)に記載のガスバリア性ハードコート用組成物100重量部に対して、平均粒径が100nm以下の金属酸化物微粒子を1重量部以上100重量部以下含有するガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−10)さらに溶媒を含む(1−9)に記載のガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−11)金属アルコキシドおよび/またはそれらの加水分解縮合物(C)が、水、触媒の添加により、ゾルゲル反応することで、金属酸化物となることを特徴とする(1−1)乃至(1−10)いずれかに記載のガスバリア性ハードコート用組成物。
(1−12)(1−1)乃至(1−11)いずれかに記載のガスバリア性ハードコート用組成物の膜状物を形成し、これを熱処理することによって得られるガスバリア性ハードコートの製造方法。
(1−13)(1−12)に記載の方法により製造された透明性および耐擦傷性に優れるガスバリア性ハードコート(コーティング膜)。
(1−14)(1−13)に記載のガスバリア性ハードコートを少なくとも1層含むガスバリア性積層体(積層体)。
(2−2)水酸基を有する水溶性高分子(A)がポリビニルアルコールまたはエチレン-ビニルアルコール共重合体、糖類、セルロース類から選ばれる1種以上の化合物である(2−1)に記載のハードコート用組成物。
(2−3)カルボン酸を有する水溶性高分子(B)がポリ(メタ)アクリル酸またはその部分中和物である(2−1)または(2−2)に記載のハードコート用組成物。
(2−4)金属アルコキシドおよび/または金属アルコキシドの加水分解縮合物がシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニアより選ばれる化合物である(2−1)乃至(2−3)いずれかに記載のハードコート用組成物。
(2−5)エステル化触媒(E)が無機酸の金属塩、有機酸の金属塩、有機リン化合物、カルボン酸およびその誘導体、スルホン酸およびその誘導体、鉱酸の有機アンモニウム塩またはピリジニウム塩、シアノ基含有有機化合物、イソシアノ基含有有機化合物、ケテン誘導体、ジカルコゲニド化合物、塩化シアヌル、カルボニルジイミダゾール、ヘキサクロロアセトン、2,4,6-トリニトロ-1-クロロベンゼンから選ばれる1種の化合物である(2−1)乃至(2−4)いずれに記載のハードコート用組成物。
(2−6)(2−1)に記載のハードコート用組成物100重量部に対して、平均粒径が100nm以下の金属酸化物微粒子を1重量部以上100重量部以下含有するハードコート用組成物。
(2−7)金属アルコキシドおよび/またはそれらの加水分解縮合物(C)が、水、触媒の添加により、ゾルゲル反応することで、金属酸化物となることを特徴とする(2−1)乃至(2−6)いずれに記載のハードコート用組成物。
(2−8)(2−1)乃至(2−7)いずれに記載のハードコート用組成物の膜状物を形成し、これを熱処理することによって得られるハードコートの製造方法。
(2−9)(2−8)記載の方法により製造されるハードコート(コーティング膜)。
(2−10)(2−9)記載のハードコートを少なくとも1層含むハードコート積層体(積層体)。
Claims (23)
- 水酸基を有する水溶性高分子(A)、
カルボキシル基を有する水溶性高分子(B)、
金属アルコキシドおよび/またはその加水分解縮合物(C)、および
エステル化触媒(E)
を含み、
前記(A)成分が、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、および糖類からなる群から選ばれる1種以上の化合物であり、
前記(B)成分が、ポリ(メタ)アクリル酸またはその部分中和物であり、
前記(E)成分が、シアノ基含有有機化合物であり、
前記(A)成分と前記(B)成分の重量比が97/3から3/97であって、
前記(A)成分と前記(B)成分の混合物100重量部に対し、前記(C)成分を1重量部以上450重量部以下、前記(E)成分を0.01重量部以上100重量部以下含む、ガスバリア性組成物。 - 前記(A)成分と前記(B)成分の混合物100重量部に対し、前記(C)成分を1重量部以上400重量部以下含む、請求項1に記載のガスバリア性組成物。
- 前記(A)成分と前記(B)成分の重量比が60/40から95/5である請求項1または2に記載のガスバリア性組成物。
- 1分子中に金属酸化物と結合を形成できる官能基と、カルボキシル基と結合を形成できる官能基とをそれぞれ1つ以上有する化合物(D)をさらに含み、
前記(A)成分と前記(B)成分の混合物100重量部に対し、前記(D)成分を1重量部以上20重量部以下含む請求項1乃至3いずれか1項に記載のガスバリア性組成物。 - 前記(D)成分において、
金属酸化物と結合を形成できる前記官能基が、アルコキシシリル基、シラノール基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基およびアンモニウム基からなる群から選択される一種以上の基であって、
カルボキシル基と結合を形成できる前記官能基が、アミノ基、エポキシ基、チオール基、水酸基、ウレタン結合基、尿素結合基およびアンモニウム基からなる群から選択される一種以上の基である請求項4に記載のガスバリア性組成物。 - 前記(D)成分が、アルコキシシリル基およびアミノ基を含む化合物である請求項4または5に記載のガスバリア性組成物。
- 前記(D)成分が、3−アミノプロピルトリメトキシシランおよび3−アミノプロピルトリエトキシシランからなる群から選択される一種以上である請求項4乃至6いずれか1項に記載のガスバリア性組成物。
- 前記(C)成分が、アルコキシシラン、アルコキシジルコニウム、アルコキシアルミニウムおよびアルコキシチタンからなる群から選ばれる一種以上である請求項1乃至7いずれか1項に記載のガスバリア性組成物。
- 前記(C)成分が、アルコキシシランの縮合物、アルコキシジルコニウムの縮合物、アルコキシアルミニウムの縮合物およびアルコキシチタンの縮合物からなる群から選択される一種以上である請求項1乃至7いずれか1項に記載のガスバリア性組成物。
- 平均粒径が100nm以下の金属酸化物微粒子をさらに含み、当該ガスバリア性組成物100重量部に対して、前記金属酸化物微粒子を1重量部以上100重量部以下含有する請求項1乃至9いずれか1項に記載のガスバリア性組成物。
- 前記(C)成分が、水および触媒の添加により、ゾルゲル反応することで、金属酸化物となる化合物である、請求項1乃至10いずれか1項に記載のガスバリア性組成物。
- さらに溶媒を含む請求項1乃至11いずれか1項に記載のガスバリア性組成物。
- 前記(A)成分がポリビニルアルコールであって、
前記(B)成分がポリアクリル酸であって、
前記(C)成分がテトラメトキシシランであって、
前記(E)成分がジシアノジアミドである請求項1乃至7いずれか1項に記載のガスバリア性組成物。 - 1分子中に金属酸化物と結合を形成できる官能基と、カルボキシル基と結合を形成できる官能基とをそれぞれ1つ以上有する化合物(D)をさらに含み、前記(D)成分が3−アミノプロピルトリメトキシシランである請求項13に記載のガスバリア性組成物。
- 請求項4に記載のガスバリア性組成物の製造方法であって、
前記(A)成分、前記(B)成分、前記(D)成分および前記(E)成分を溶媒中で混合する工程と、
前工程で得られた混合液および前記(C)成分を混合する工程と、
を含み、
前記混合液および前記(C)成分を混合する前記工程において、前記(C)成分の加水分解縮合反応を進行させる、
ガスバリア性組成物の製造方法。 - 請求項4に記載のガスバリア性組成物の製造方法であって、
前記(A)成分、前記(B)成分および前記(E)成分を溶媒中で混合する工程と、
前工程で得られた混合液、前記(D)成分および前記(C)成分を混合する工程と、
を含み、
前記混合液、前記(D)成分および前記(C)成分を混合する前記工程において、前記(C)成分の加水分解縮合反応、ならびに前記(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応を進行させる、
ガスバリア性組成物の製造方法。 - 請求項4に記載のガスバリア性組成物の製造方法であって、
前記(A)成分、前記(B)成分および前記(D)成分を溶媒中で混合する工程と、
前工程で得られた混合液、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する工程と、
を含み、
前記混合液、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する前記工程において、前記(C)成分の加水分解縮合反応を進行させる、
ガスバリア性組成物の製造方法。 - 請求項4に記載のガスバリア性組成物の製造方法であって、
前記(A)成分および前記(B)成分を混合する工程と、
前工程で得られた混合液、前記(D)成分、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する工程と、
を含み、
前記混合液、前記(D)成分、前記(E)成分および前記(C)成分を混合する前記工程において、前記(C)成分の加水分解縮合反応、ならびに前記(D)成分と金属酸化物およびカルボキシル基のうち少なくとも一方との反応を進行させる、
ガスバリア性組成物の製造方法。 - 請求項1乃至14いずれかに記載のガスバリア性組成物の膜状物を形成し、これを熱処理するコーティング膜の製造方法。
- 請求項19に記載の方法により製造されたコーティング膜。
- 請求項20に記載のコーティング膜を少なくとも1層含む積層体。
- 基板上に、前記コーティング膜を積層した請求項21に記載の積層体。
- 前記コーティング膜と、熱可塑性樹脂フィルムとを積層した請求項21に記載の積層体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007517826A JP4742099B2 (ja) | 2005-05-24 | 2006-05-23 | ガスバリア性組成物、コーティング膜およびそれらの製造方法、ならびに積層体 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005150409 | 2005-05-24 | ||
JP2005150409 | 2005-05-24 | ||
JP2006047190 | 2006-02-23 | ||
JP2006047190 | 2006-02-23 | ||
PCT/JP2006/310193 WO2006126511A1 (ja) | 2005-05-24 | 2006-05-23 | ガスバリア性組成物、コーティング膜およびそれらの製造方法、ならびに積層体 |
JP2007517826A JP4742099B2 (ja) | 2005-05-24 | 2006-05-23 | ガスバリア性組成物、コーティング膜およびそれらの製造方法、ならびに積層体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006126511A1 JPWO2006126511A1 (ja) | 2008-12-25 |
JP4742099B2 true JP4742099B2 (ja) | 2011-08-10 |
Family
ID=37451937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007517826A Expired - Fee Related JP4742099B2 (ja) | 2005-05-24 | 2006-05-23 | ガスバリア性組成物、コーティング膜およびそれらの製造方法、ならびに積層体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7524900B2 (ja) |
EP (1) | EP1894971A4 (ja) |
JP (1) | JP4742099B2 (ja) |
KR (1) | KR100915265B1 (ja) |
CN (1) | CN101171297B (ja) |
WO (1) | WO2006126511A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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- 2006-05-23 WO PCT/JP2006/310193 patent/WO2006126511A1/ja active Application Filing
- 2006-05-23 KR KR1020077029913A patent/KR100915265B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-23 JP JP2007517826A patent/JP4742099B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-23 EP EP06746727A patent/EP1894971A4/en not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110118 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110509 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |