JP4664005B2 - 接着剤層付き半導体チップの製造方法 - Google Patents
接着剤層付き半導体チップの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4664005B2 JP4664005B2 JP2004141412A JP2004141412A JP4664005B2 JP 4664005 B2 JP4664005 B2 JP 4664005B2 JP 2004141412 A JP2004141412 A JP 2004141412A JP 2004141412 A JP2004141412 A JP 2004141412A JP 4664005 B2 JP4664005 B2 JP 4664005B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive layer
- pressure
- chip
- sensitive adhesive
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/741—Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
- H01L24/743—Apparatus for manufacturing layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/741—Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
- H01L2224/743—Apparatus for manufacturing layer connectors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Die Bonding (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
これに対し、上記のウエハの表面側から溝を形成した後に所定の厚さまで研削し、その後にマウンティング用テープを貼着する方法において、ウエハの集合体とマウンティング用テープの間にシート状接着剤を介在させ、チップの集合体のダイシング部分(カーフ)にダイシングブレードを挿入して接着剤層を切断し、チップとそれに貼付されたシート状接着剤とをほぼ同一形状とする方法が提案されている。(例えば、特許文献2参照)
(1) ウエハ形状のチップ(W1)が空隙部を持って配列されたチップ集合体(W)が、剥離可能な粘着シート(X) 上に貼着保持された状態とする工程(工程1)
エネルギー線硬化性でありかつ熱硬化性である接着剤層(Y2)が、基材フィルム(Y1)の片面に剥離可能に設けられた接着シート(Y) を、チップ集合体(W)のチップ面に、接着剤層(Y2)を接して、貼着する工程 (工程2)、
基材フィルム(Y1)側からエネルギー線を照射して接着剤層(Y2)を半硬化させるとともに、接着シート(Y)から基材フィルム(Y1)を除去する工程 (工程3)、
基材フィルム(Z1)の片面にエネルギー線硬化性の粘着剤層(Z2)を設けた粘着シート(Z)を、半硬化した接着剤層(Y2)上に、粘着剤層(Z2)を接して、貼着する工程 (工程4)、
チップ集合体(W)の空隙部に対応する、接着剤層(Y2)及び粘着剤層(Z2)の部分にエネルギー線を照射し、当該部分を同時に硬化させる工程 (工程5)、及び、
個々のチップ(W1)を粘着シート(Z)から剥離することにより、チップ集合体(W)の空隙部に対応する粘着剤層(Y2)が同伴されず、チップ(W1)と同形状の接着剤層(Y2)が積層されたチップを得る工程 (工程6)
を順次行うことを特徴とする接着剤層付き半導体チップの製造方法、
(3)粘着剤層(Z2)が、酢酸ビニル共重合ポリマーとエネルギー線硬化性のモノマー又はオリゴマーを含有する粘着剤組成物により形成されてなることを特徴とする上記(1)又は(2)の接着剤層付き半導体チップの製造方法、
を提供するものである。
図1は、ウエハ形状のチップ(W1)が空隙を持って配列されたチップ集合体(W)が、剥離可能な粘着シート(X)に貼着保持された状態を示す断端面図である。
先ず、この図1に示した状態のチップ集合体が用意される(工程1)。
その方法としては、例えば、先ダイシング法(特許文献1に示された方法)が挙げられる。即ち、ウエハの表面側から所定のチップ厚よりも深い溝を形成(ハーフカットダイシング)し、次いでウエハの表面側に保護テープを貼着した後、表面側を保持した状態で裏面側から所定の厚さまで研削することにより、ウエハをチップ(W1)に個片化し、図1に示すような状態のチップ集合体を得ることができる。この場合保護テープが剥離可能な粘着シート(X)に相当する。
また、所定の厚さに研削され、個片化されていないウエハをダイシング粘着シートに貼着固定してフルカットダイシングする通常のプロセスによって、チップ集合体を得てもよい。その場合は剥離可能な粘着シート(X)はダイシング用粘着シートである。
そして、これらの場合においては、空隙部はダイシングした際の溝(カーフ)を意味する。
次いで、同じく図2に示すように、基材フィルム(Y1)側からエネルギー線を照射して接着剤層(Y2)を半硬化させるとともに、接着シート(Y)から基材フィルム(Y1)を除去する。(工程3)尚、図2においては、剥離可能な粘着シート(X)が工程2で剥離除去されるが、本発明においてはこれに限らず、工程6を終えるまで貼付したまま全ての工程を行ってもよいし、工程3〜工程6のいずれかの段階で剥離除去してもよい。
接着剤層(Y2)を半硬化させることにより、ほぼ完全に接着剤層(Y2)表面の粘着力が消失するが、接着剤層(Y2)のエネルギー線硬化性は、完全に消失しないで再度のエネルギー線照射でも硬化が起こる状態となる。半硬化した接着剤層(Y2)は、工程6におけるチップ(W1)の剥離において剥離力を低減できるようになる。また、粘着性を失っているので基材フィルム(Y1)を除去した後の取り扱いが簡単になり、粘着シート(Z)の貼着ミスをすることが無くなる。なお、工程3において、エネルギー線の照射と、基材フィルム(Y1)の除去は、どちらを先に行ってもよい。
この際のエネルギー線の照射量は、接着剤層(Y2)の組成やエネルギー線の種類によりに異なるが、例えば紫外線の場合は50〜200mJ/cm2 程度が好ましく、電子線を用いる場合は、10〜1000krad程度が好ましい。
図中Rはリングフレームであり、このようにリングフレームで固定して、以降の工程を行うのが好ましい。
接着剤層(Y2)と粘着剤層(Z2)が同時にエネルギー線照射されることにより、エネルギー線照射された部分はそれぞれが硬化すると同時に一体化し、一体化部分(YZ)が形成される。
図4では、チップ集合体(W)の空隙部に対応する部分のエネルギー線照射は、チップ集合体(W)のチップ越しに行うことにより、チップがマスクとなってチップに対応する部分の照射が行われないようにしている。反対に、チップ集合体(W)と同形状のマスクを用意し、チップ(W1)の位置が合うように該マスクを粘着シート(Z)上に設けて、粘着シート(Z)側よりエネルギー線照射を行ってもよい。
この際のエネルギー線の照射量は、粘着剤層(Z2)の組成やエネルギー線の種類により異なるが、例えば紫外線の場合は40〜250mJ/cm2 程度が好ましく、電子線を用いる場合は、10〜1000krad程度が好ましい。
チップ(W1)の剥離は通常のピックアップにより行うことができる。接着剤層(Y2)の空隙部に対応する部分は、接触している粘着剤の部分と一体化して硬化した一体化部分(XY) を形成しているのに対し、その他の部分、即ちチップに対応する部分は粘着剤層(Z2)とは一体化していない。このため、ピックアップにより接着剤層(Y2)と粘着剤層(Z2)の界面で剥離が起こり、また、空隙部に対応する部分とその他の部分との境界で接着剤層(Y2)は厚さ方向で破断し、接着剤層(Y2)はチップ(W1)と同形状となる。
また、チップ(W1)を粘着シート(Z)から剥離する別の方法として、吸着テーブルのような固定手段を用いてチップ集合体(W)の全チップ(W1)を固定し、固定手段にチップ集合体(W)を転写するように粘着シート(Z)の180°剥離を行ってもよい。
基材フィルム(Y1)としては、プラスチックフィルム、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン酢ビフィルム、アイオノマー樹脂フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、フッ素樹脂フィルム等が用いられる。
基材フィルム(Y1)は、これらのプラスチックシートの複層フィルムであってもよいし、架橋されたフィルムであってもよい。また、基材フィルム(Y1)は有色であっても無色であってもよい。
また、基材フィルム(Y1)は積層される接着剤層(Y2)に対し剥離可能とするため、積層される側の面の表面張力は40mN/m未満が好ましく、さらに35mN/m未満が好ましい。基材フィルム(Y1)の表面をこのような表面張力の値とするには、表面張力の低い樹脂を成膜して基材フィルムとして採用するか、基材フィルムの表面にシリコーン樹脂等の剥離剤を塗布することによって得られる。
基材フィルム(Y1)の厚さは、10〜500μmの範囲が適当であり、好ましくは20〜250μmの範囲である。
ここで(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、例えば(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、アルキル基の炭素数が1〜18である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが挙げることができ、又(メタ)アクリル酸誘導体としては、例えば(メタ)アクリル酸グリシジル等を挙げることができる。
この場合、エポキシ硬化剤は、エポキシ樹脂100質量部に対し、通常0.1〜20質量部、好ましくは0.5〜15質量部が使用される。
光重合開始剤の配合量は、エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対する量として、0.1〜10質量部が適当である。
基材フィルム(Z1)の厚さは、50〜300μmの範囲が適当であり、好ましくは60〜200μmの範囲である。
このような粘着剤組成物としては、例えば、酢酸ビニル共重合ポリマーとエネルギー線硬化性の樹脂(モノマーまたはオリゴマー)を含有する粘着剤組成物が好ましく、さらに具体的な例としては、粘着性のアクリル系共重合ポリマー〔成分(A)〕、酢酸ビニルモノマーから導かれる構成単位を50〜99.99質量%含有する酢酸ビニル共重合ポリマー〔成分(B)〕及びエネルギー線硬化性のモノマー又はオリゴマー〔成分(C)〕を主成分とする粘着剤組成物が好ましい。
ここで、粘着性とは、ガラス転移温度(Tg)が−10℃以下であることを意味し、成分(A)と成分(B)とが混合された粘着剤層が、接着剤層(Y2)への常温接着ができ、かつ接着剤層(Y2)と粘着剤層(Z2)の空隙部に位置する部分を確実に一体化させ一体化部分(YZ)を形成させるためには、このTgを有することが必要である。好ましいTgは、−50〜−10℃である。
かかる粘着性のアクリル系共重合ポリマーは、種々のモノマーの組み合わせにより製造することができるが、アルキル基の炭素数が4以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーと、架橋性官能基含有モノマーと、さらに必要に応じて共重合可能なその他のモノマーを、常法により共重合することにより得ることができる。
このような官能基含有モノマーの、具体的な例としては、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチルなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;(メタ)アクリル酸アセトアセトキシメチル;(メタ)アクリル酸モノメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸モノエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸モノメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸モノエチルアミノプロピルなどの(メタ)アクリル酸モノアルキルアミノアルキル;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸などのエチレン性不飽和カルボン酸などが挙げられる。これらの単量体は単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
即ち、成分(A)における、アルキル基の炭素数が4以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーから導かれる構成単位の含有割合の範囲は、好ましくは40〜95質量%であり、特に好ましくは50〜90質量%である。
即ち、成分(A)の質量平均分子量は、好ましくは10〜200万であり、特に好ましくは20〜150万である。
架橋性の官能基含有モノマーとしては、上記で成分(A)の製造に使用する架橋性の官能基含有モノマー〔成分(A2)〕として例示したものが使用できる。
これらの中では、特に(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましく、具体的には、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸デシルなどが挙げられる。
これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
即ち、成分(B)における、酢酸ビニルモノマーから導かれる構成単位の含有割合の範囲は、50〜99.99質量%である必要があり、好ましくは50〜99.5質量%であり、特に好ましくは60〜95質量%である。
即ち、成分(B)のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは100〜−20℃であり、特に好ましくは50〜−15℃である。
即ち、成分(B)の質量平均分子量は、好ましくは1〜100万であり、特に好ましくは10〜80万である。
成分(A)の配合比が過大になれば、粘着力が大きくなりピックアップが困難になるおそれがある。成分(B)が過大になれば、粘着性が劣って接着剤層(Y2)と粘着剤層(Z2)の空隙部に位置する部分の一体化〔一体化部分(YZ)の形成〕が不十分となり、ピックアップによる接着剤層(Y2)の断裂がチップに対し精度よく起きないようになる。
特に好ましい配合比(A)/(B)は、10〜60質量部/90〜40質量部である。
成分(C)の配合比がこの範囲未満の場合はエネルギー線照射を行っても接着剤層(Y2)との一体化〔一体化部分(YZ)の形成〕ができないおそれがあり、この範囲を超えると粘着剤層(Z2)の凝集力が不十分となり、チップのピックアップが不可能となるか接着剤層(Y2)上に異物として付着し、ダイボンディング後の接着力を劣化させるおそれがある。
成分(C)の特に好ましい配合比は、成分(A)と成分(B)との合計100質量部に対して2〜50質量部である。
成分(A’)は、成分(A)に、エネルギー線硬化性の官能基と成分(A)が有する官能基に結合が可能な官能基とを有する化合物を反応させることにより得ることができる。 粘着剤組成物を成分(A’)と成分(B)との配合とした場合の配合比(A’)/(B)は、5〜70質量部/95〜30質量部が好ましく、特に好ましくは、10〜60質量部/90〜40質量部である。
該架橋剤としては、接着剤層(Y2)を構成する接着剤に使用し得るものの例として前記したものが使用し得る。
架橋剤の量は、成分(A)のアクリル系共重合ポリマー及び成分(B)の酢酸ビニル共重合ポリマーの合計量100質量部に対して0.1〜20質量部が好ましく、特に1〜10質量部が好ましい。
このような光重合開始剤としては、接着剤層(Y2)を構成する接着剤に使用し得るものの例として前記したものが使用し得る。
即ち、光重合開始剤の配合量の範囲は、成分(C)100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部であり、特に好ましくは0.5〜5質量部である。
粘着剤層(Z2)の厚さは、1〜100μmが適当であり、好ましくは2〜60μm、特に好ましくは3〜30μmの範囲である。
なお、各例での性能は、以下に示す要領に従って評価した。
エキスパンド装置(日電機械社製、CPS−100)によりエキスパンドし(エキスパンド量:18mm落とし)、プッシュプルゲージ(アイコーエンジニアリング社製、CPUゲージ9200シリーズ)により行った。N=10のチップを1ピン突きによりピックアップし、その平均を求めた。
上記(1)ピックアップ力の評価でピックアップしたチップの裏面を目視及び光学顕微鏡で観察し、次の基準で評価した。
良好:接着剤層がチップと同サイズに切断されてチップ裏面に転写されている。
不良:接着剤層がチップ裏面に転写されていないか、又は、チップより大きいサイズに 切断されてチップ裏面に転写されている。
全チップをピックアップした後、接着剤層の集合体の空隙部に対応する部分が粘着剤層の対応する部分と一体化し、粘着シートに固着残存しているか否かを目視で観察し、次の基準で評価した。
良好:接着剤層の空隙部に対応する部分が粘着剤層の対応する部分と一体化して、粘着 シートに固着残存している。
不良:接着剤層の空隙部に対応する部分が粘着剤層の対応する部分と一体化せず、粘着 シートに固着残存していない。
《粘着性のアクリル系共重合ポリマー〔成分(A)〕》
a1:アクリル酸ブチル75質量部、メタクリル酸メチル10質量部、アクリル酸10質量部及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル5質量部を反応させて得られた、質量平均分子量が50万(Tg:−32℃)のポリマー
《側鎖にエネルギー線硬化性の官能基を有するアクリルポリマー〔成分(A’)〕》
a'1:ブチルアクリレート50質量部、メタクリル酸メチル20質量部及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル30質量部の共重合体(質量平均分子量:55万、Tg:−21℃)に、該共重合体中の水酸基100当量当り80当量のイソシアナートエチルメタクリレートを反応させて得られた、側鎖にエネルギー線重合性の二重結合を有するポリマー
《酢酸ビニル共重合ポリマー〔成分(B)〕》
b1:酢酸ビニル80質量部、アクリル酸2−エチルヘキシル18質量部、アクリル酸1質量部及びメタクリル酸2−ヒドロキシエチル1質量部を反応させて得られた、質量平均分子量が44万(Tg:−4.5℃)のポリマー
b2:酢酸ビニル65質量部、アクリル酸2−エチルヘキシル30質量部、アクリル酸2質量部及びメタクリル酸2−ヒドロキシエチル3質量部を反応させて得られた、質量平均分子量が42万(Tg:−12.3℃)のポリマー
《エネルギー線硬化性のモノマー又はオリゴマー〔成分(C)〕》
c1:ウレタン系アクリレート(日本合成化学工業社製、商品名:紫外UV1700B)c2:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、商品名:カヤラッドDPHA)
《光重合開始剤》
d1:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペッシャリティーケミカルズ社製、商品名:イルガキュア184)
《架橋剤》
e1:ポリイソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業社製、商品名:コロネートL)
6インチ径で、未研磨のダミーウエハ(シリコン)の鏡面をダイシング装置(東京精密社製;AWD−4000B、ダイシングブレード:ディスコ社製;27HEDG)で10mm×10mmサイズ、切り込み深さ220μmにハーフカットした。
この鏡面側に剥離可能なシート(X)(リンテック社製保護テープ、商品名;Adwill E−3120) を貼着し、ウエハの裏面側をウエハ研削装置(ディスコ社製;DFG8050)で厚み200μmまで研削してウエハをチップ化した(工程1)。
エネルギー線硬化性でありかつ熱硬化性である接着剤層(Y2)が基材フィルム(Y1)の片面に剥離可能に設けられた粘着シート(Y)として、リンテック社製Adwill LE5000(商品名) を使用し、これをウエハ形状のチップ集合体(W)の研削面全面に、接着剤層(Y2)を接して、貼着し(工程2)、鏡面に貼着されている剥離可能な粘着シート(X)を剥離除去した。
次に、基材フィルム(Y1)側より紫外線照射装置(リンテック社製、商品名:RAD2000m/8)により接着剤層(Y2)の全面に紫外線を照射(照射量:100mJ/cm2 )して硬化させ、基材フィルム(Y1)を接着剤層(Y2)から剥離した。(工程3)
基材フィルム(Z1)に厚さ80mμのエチレン・メタクリル酸共重合体フィルムを用い、その片面に表1(実施例1)に示す配合のエネルギー線硬化性の粘着剤層(Z2)を、乾燥膜厚が10μmになるように転写塗工した粘着シートを作成し、これを粘着シート(Z)とした。この粘着シートを、半硬化した接着剤層(Y2)の露出面に、接着剤層(Z2)を接して、貼着し、その外周をリングフレームに固定した。(工程4)
次に、ウエハ側〔チップ集合体(W)側〕より紫外線照射装置により紫外線を照射(照射量:100mJ/cm2 )し、チップ集合体(W)の空隙部(カーフ)に位置する接着剤層(Y2)と粘着剤層(Z2)を同時に硬化させ、一体化させた。(工程5)
その後チップを粘着シート(Z)からピックアップして、チップ集合体(W)の空隙部に対応する接着剤層(Y2)が同伴されず、チップと同形状の接着剤層(Y2)が積層されたチップ(W1)を得た。(工程6)
(1)ピックアップ力、(2)接着剤層の転写性、及び(3)接着剤層の一体化について評価した。その結果を表2に示す。
粘着剤層(Z2)の配合を表1に示すように変えた以外は、実施例1と同様にして実施した。それぞれの(1)ピックアップ力、(2)接着剤層の転写性、及び(3)接着剤層の一体化について評価した結果を表2に示す。
W1:チップ
W:チップ集合体
Y1:基材フィルム
Y2:接着剤層
Y:接着シート
Z1:基材フィルム
Z2:粘着剤層
Z:粘着シート
R:リングフレーム
XY:一体化部分
Claims (5)
- ウエハ形状のチップ(W1)が空隙部を持って配列されたチップ集合体(W)が、剥離可能な粘着シート(X) 上に貼着保持された状態とする工程(工程1)
エネルギー線硬化性でありかつ熱硬化性である接着剤層(Y2)が、基材フィルム(Y1)の片面に剥離可能に設けられた接着シート(Y) を、チップ集合体(W)のチップ面に、接着剤層(Y2)を接して、貼着する工程 (工程2)、
基材フィルム(Y1)側からエネルギー線を照射して接着剤層(Y2)を半硬化させるとともに、接着シート(Y)から基材フィルム(Y1)を除去する工程 (工程3)、
基材フィルム(Z1)の片面にエネルギー線硬化性の粘着剤層(Z2)を設けた粘着シート(Z)を、半硬化した接着剤層(Y2)上に、粘着剤層(Z2)を接して、貼着する工程 (工程4)、
チップ集合体(W)の空隙部に対応する、接着剤層(Y2)及び粘着剤層(Z2)の部分にエネルギー線を照射し、当該部分を同時に硬化させる工程 (工程5)、及び、
個々のチップ(W1)を粘着シート(Z)から剥離することにより、チップ集合体(W)の空隙部に対応する接着剤層(Y2)が同伴されず、チップ(W1)と同形状の接着剤層(Y2)が積層されたチップを得る工程 (工程6)
を順次行うことを特徴とする接着剤層付き半導体チップの製造方法。 - 工程5において、チップ集合体(W)の側よりエネルギー線を照射することにより、チップ集合体(W)の空隙部に対応する、接着剤層(Y2)及び粘着剤層(Z2)の部分にのみエネルギー線を照射することを特徴とする請求項1に記載の接着剤層付き半導体チップの製造方法。
- 粘着剤層(Z2)が、酢酸ビニル共重合ポリマーとエネルギー線硬化性のモノマー又はオリゴマーを含有する粘着剤組成物により形成されてなることを特徴とする請求項1又は2に記載の接着剤層付き半導体チップの製造方法。
- 粘着剤層(Z2)が、粘着性のアクリル系共重合ポリマー〔成分(A)〕、酢酸ビニルモノマーから導かれる構成単位を60〜95質量%含有する酢酸ビニル共重合ポリマー〔成分(B)〕及びエネルギー線硬化性のモノマー又はオリゴマー〔成分(C)〕を主成分とする粘着剤組成物により形成されてなることを特徴とする請求項3に記載の接着剤層付き半導体チップの製造方法。
- 粘着剤層(Z2)が、側鎖にエネルギー線硬化性の官能基を有するアクリルポリマー〔成分(A')〕と酢酸ビニルモノマーから導かれる構成単位を60〜95質量%含有する酢酸ビニル共重合ポリマー〔成分(B)〕を主成分とする粘着剤組成物により形成されてなることを特徴とする請求項1又は2に記載の接着剤層付き半導体チップの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004141412A JP4664005B2 (ja) | 2004-05-11 | 2004-05-11 | 接着剤層付き半導体チップの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004141412A JP4664005B2 (ja) | 2004-05-11 | 2004-05-11 | 接着剤層付き半導体チップの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005322853A JP2005322853A (ja) | 2005-11-17 |
JP4664005B2 true JP4664005B2 (ja) | 2011-04-06 |
Family
ID=35469883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004141412A Expired - Lifetime JP4664005B2 (ja) | 2004-05-11 | 2004-05-11 | 接着剤層付き半導体チップの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4664005B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008066336A (ja) * | 2006-09-04 | 2008-03-21 | Lintec Corp | ウエハ加工用シート |
JP4879702B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2012-02-22 | リンテック株式会社 | ダイソート用シートおよび接着剤層を有するチップの移送方法 |
JP4944642B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-06-06 | 株式会社ディスコ | デバイスの製造方法 |
CN102361016A (zh) * | 2007-10-09 | 2012-02-22 | 日立化成工业株式会社 | 半导体用粘接膜、以及半导体芯片、半导体装置的制造方法 |
JP2010171402A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-08-05 | Nitto Denko Corp | 熱硬化型ダイボンドフィルム |
JP5210346B2 (ja) * | 2010-04-19 | 2013-06-12 | 電気化学工業株式会社 | 粘着シート及び電子部品の製造方法 |
JP5742501B2 (ja) * | 2011-06-17 | 2015-07-01 | 日立化成株式会社 | 接着剤層付き半導体チップの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2013004813A (ja) * | 2011-06-17 | 2013-01-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体用積層シート、接着剤層付き半導体チップの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
JP5382384B2 (ja) * | 2012-03-07 | 2014-01-08 | 山栄化学株式会社 | 部材への接着剤の塗布方法、並びに部材と他の部材との接着方法及びその接着物 |
JP2014003155A (ja) * | 2012-06-19 | 2014-01-09 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの加工方法 |
JP2014003156A (ja) * | 2012-06-19 | 2014-01-09 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの加工方法 |
JP6129546B2 (ja) * | 2012-12-19 | 2017-05-17 | リンテック株式会社 | 半導体ウエハ加工用シートおよび半導体装置の製造方法 |
MY181934A (en) | 2016-03-31 | 2021-01-14 | Furukawa Electric Co Ltd | Mask-integrated surface protective tape |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0827239A (ja) * | 1994-07-12 | 1996-01-30 | Lintec Corp | エネルギー線硬化型感圧粘着剤組成物およびその利用方法 |
JP2002118081A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2002256237A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着シート、半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP2003105292A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-04-09 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 帯電防止ダイシングテープ |
JP2003142505A (ja) * | 2001-10-31 | 2003-05-16 | Lintec Corp | ウエハダイシング・接着用シートおよび半導体装置の製造方法 |
JP2003318205A (ja) * | 2002-04-23 | 2003-11-07 | Nec Electronics Corp | ダイシング済みウェハのフィルム状ダイボンディング材貼付け方法 |
-
2004
- 2004-05-11 JP JP2004141412A patent/JP4664005B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0827239A (ja) * | 1994-07-12 | 1996-01-30 | Lintec Corp | エネルギー線硬化型感圧粘着剤組成物およびその利用方法 |
JP2002118081A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2002256237A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着シート、半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP2003105292A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-04-09 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 帯電防止ダイシングテープ |
JP2003142505A (ja) * | 2001-10-31 | 2003-05-16 | Lintec Corp | ウエハダイシング・接着用シートおよび半導体装置の製造方法 |
JP2003318205A (ja) * | 2002-04-23 | 2003-11-07 | Nec Electronics Corp | ダイシング済みウェハのフィルム状ダイボンディング材貼付け方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005322853A (ja) | 2005-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4369584B2 (ja) | 半導体ウエハ保持保護用粘着シート | |
JP3383227B2 (ja) | 半導体ウエハの裏面研削方法 | |
TWI414578B (zh) | 半導體基板加工用黏著片材 | |
KR20120030964A (ko) | 다이싱ㆍ다이 본드 필름, 다이싱ㆍ다이 본드 필름의 제조 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
KR20100100787A (ko) | 점착제, 점착 시트, 다층 점착 시트 및 전자 부품의 제조 방법 | |
JP4664005B2 (ja) | 接着剤層付き半導体チップの製造方法 | |
JP2009141024A (ja) | 粘着テープ | |
JP5414953B1 (ja) | ダイシングシートおよびデバイスチップの製造方法 | |
JP2004256793A (ja) | ウエハ貼着用粘着テープ | |
JPWO2014155756A1 (ja) | 粘着シートおよび保護膜形成用複合シートならびに保護膜付きチップの製造方法 | |
JP6833083B2 (ja) | フィルム状接着剤、接着シートおよび半導体装置の製造方法 | |
WO2011077835A1 (ja) | 粘着シート及び電子部品の製造方法 | |
JP2004186429A (ja) | 粘接着テープ | |
JP4947564B2 (ja) | 半導体ウエハ加工用粘着シート | |
JPWO2009144985A1 (ja) | ダイシング方法 | |
JP2018115332A (ja) | 粘着テープおよび半導体装置の製造方法 | |
JP6574787B2 (ja) | 樹脂膜形成用シート積層体 | |
KR20150001804A (ko) | 다이싱 시트 | |
WO2016148110A1 (ja) | 半導体ウェハ加工用粘着テープ | |
KR102515877B1 (ko) | 워크 가공용 시트 및 가공된 워크의 제조방법 | |
JP5560537B2 (ja) | 半導体ウエハ加工用粘着テープ | |
JP5534690B2 (ja) | ダイシングテープ | |
JP4364368B2 (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
JP4805549B2 (ja) | 粘着シート | |
JP2004119780A (ja) | 半導体ウエハの加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070209 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100427 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100610 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101214 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110106 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4664005 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |