JP4499150B2 - 部材の接合方法および複合フィルム、ならびにそれらの用途 - Google Patents
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Description
また本発明は、上記接合方法を利用した封止方法に好適な複合フィルム、より詳しくは、接着性樹脂を用いて接着を行う封止フィルム、あるいは接着性樹脂を用いての接着に適した透明導電性フィルムに関し、更に詳細には、表示素子等の電子電気部品等に用いる封止フィルム、あるいは表示素子等の電子電気部品等に好ましく用いられる透明導電性フィルム、およびその諸用途に関する。
したがって、これらの透明導電層からなる配線パターン等が形成された透明導電性フィルムと、(表示素子などの電子電気部品等を構成する)他の部材との間において接着性樹脂を用いて接合を行う場合、接合後の製品作製プロセスや製品使用時における環境変化による透明導電性フィルムの剥離等を防ぐため、これら透明導電フィルムと接着性樹脂とが均一かつ強固に接合されることが望ましい。
ところで、イソシアネート基、カルボキシル基、または、エポキシ基をはじめとする環状エーテル基をもつ化合物(樹脂である場合を含む。以下、同じ。)は、各種部材を接合、すなわち、接着、コーティング、塗装等する際に有用であることが知られている(例えば、特許文献3参照。)。この様な化合物は、各種の素材との接合性に優れ、この接合性に基づいた接着、塗装、コーティング等の広い分野で用いられているものの、相手側の素材によっては充分な接合性を期待できない。例えば、ポリオレフィン類を接着する際、充分な接着強度を確保できない場合があった。特に、環状オレフィン(共)重合体および4-メチル-1-ペンテン(共)重合体をはじめとする各種ポリオレフィンは、接着が困難なものが多く、上記の官能基を有する化合物を用いても、必ずしも良好な接着が実現できない場合があった。
たとえば、ポリオレフィン等の各種樹脂の表面に窒素原子を有する無機化合物からなる層を形成することは、既に知られている。但し、この様な層を形成する主な目的はガスバリア性の向上であって、窒素原子を有する無機化合物からなる層が接着性に与える影響については、充分な検討はなされていなかった。このため従来は、酸窒化珪素等の窒素原子を有する無機化合物からなる層の上に、さらにインジウム・錫酸化物等の無機酸化物からなるコーティング層を設けてから、接着性樹脂等との接合を行っていた(例えば、特許文献4参照、)。これは、有機高分子体成型物表面に無機酸化物からなる層を形成することにより、接着性樹脂との接着性が改善されることが知られていたためである(例えば、特許文献5参照)。
本発明の第2の目的は、表示素子等の電子電気部品や光学部品等に用いられ、接着性樹脂を用いて接合を行うのに適した複合フィルム、とくに有機高分子よりなるフィルム基板を用いた封止フィルムの分野において、高いガスバリア性を有し、かつ封止フィルムと接着性樹脂との接着性が良好となる封止フィルムを提供することにある。
[3] 前記接合方法の実施後において、部材(b)の少なくとも一部が、部材(a)の無機化合物(C)からなる層と直接接合されている、上記[1]に記載の接合方法。
[5] 前記イソシアネート基、カルボキシル基および環状エーテル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の官能基を有する化合物(B)が、少なくともエポキシ基を有するものである、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の接合方法。
[7] 前記有機高分子(A)がポリオレフィンである、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の接合方法。
[9] 上記[1]〜[8]のいずれかに記載の接合方法を用いる封止方法。
[10] 上記[1]〜[8]のいずれかに記載の接合方法を用いて製造された複合フィルム。
[12] 上記[1]〜[8]のいずれかに記載の接合方法を用いて製造された電子電気部品。
[13] 上記[11]に記載の光学部品および/または上記[12]に記載の電子電気部品を有する、電子電気機器、または輸送機械。
[15] 有機高分子(A)からなる層(a1)と、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)とを有する積層体からなる複合フィルムであって、最表面の少なくとも一方が前記窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)で構成されている、複合フィルム。
[18] 前記有機高分子(A)が、少なくとも1種類の環状オレフィンを(共)重合して得られるものである、上記[15]または[16]に記載の複合フィルム。
[20] 上記[15]〜[19]のいずれか1項に記載の複合フィルムを、その窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)が最表面を構成している箇所において、接着性樹脂(B1)と直接接合する、封止方法。
[23] 前記有機高分子(A)が、少なくとも1種類の環状オレフィンを(共)重合して得られるものである、上記[21]に記載の複合フィルム。
[25] 上記[15]および[21]〜[24]のいずれか1項に記載の複合フィルムを備えた光学部品。
[26] 上記[15]〜[19]および[21]〜[24]のいずれか1項に記載の複合フィルムを備えた電子電気部品。
12 窒化珪素膜
13 ITO膜
<接合方法>
本発明の接合方法は、1の部材(a)、好ましくは有機高分子(A)からなる層(a1)を有する部材(a)と、他の1の部材であってイソシアネート基、カルボキシル基および環状エーテル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の基を有する化合物(B)を含有する部材(b)とを接合する方法であって、前記1の部材(a)の最表面に設けられた、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層を介して、前記部材(a)と前記部材(b)とを接合する、接合方法である。
本発明の接合方法は、部材(a)の最表面の窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)中の窒素原子、もしくは、窒素原子に直接結合した原子が部材(b)が有する官能基と作用する事により接合する方法であると考えられる。ここでいう作用とは、水素結合、イオン結合、および/又は共有結合を生成する事を言う。好ましくは、共有結合である。また、窒素原子、もしくは、窒素原子に直接結合した原子が介在する事により、部材(a)の最表面にある他の官能基、例えば、水酸基等と部材(b)中の官能基とを触媒的に活性化し、先に挙げた作用を高めることも本発明の効果に寄与していると考えられる。
本発明の接合方法における部材(a)の形状には特に制限はなく、他の部材と接合を行うことが可能な形状であれば、フィルム、シート、成形体等、いかなる形状であっても良い。また、部材(a)は、有機高分子(A)からなる層(a1)を有するが、該(a1)層(以下、「基材」ということもある)に用いられる素材は有機高分子(A)を含んでいれば良く、他に特に制限はなく、他の部材と接合を行うことが可能な程度の定形性を備えることができれば、各種の素材を使用することができる。部材(b)との直接の接合性に劣った素材を使用した場合、本発明の効果は特に顕著であるが、直接でも部材(b)との接合が可能な素材を使用した場合においても、本発明が有益である場合がある。
部材(a)の基材は、1種類の素材のみで構成されていても良いし、2種類以上の素材で構成されていても良い。2種類以上の素材で構成されている場合には、それらが相互に均一に混合・分散されていても良いし、不均一に分布していても良い。
((部材(a)))
(部材(a)の基材)
前述のように、有機高分子(A)からなる層(a1)を有する限り、部材(a)に使用されうる素材には特に制限はなく、目的との関係において、樹脂、ゴム等の有機材料、金、銅、タングステン等の金属材料、ガラス、セラミックス、単結晶等の無機材料を適宜選択して使用することができる。この中でも特に好ましいのは有機材料であり、特に有機高分子からなる樹脂が好ましく用いられる。
ここで、環状オレフィン(共)重合体とは、(共)重合成分の少なくとも一部として、環状構造を有するオレフィンを使用して得られた重合体である。環状オレフィン(共)重合体は、優れた光学特性や高いガスバリア性、低い吸水性などの優れた特性を有する一方で、もろさや耐候性の点で必ずしも満足できない特性を有する場合があり、積層等で他の樹脂と接合して使用することが望まれている。しかし環状オレフィン(共)重合体の接着は必ずしも容易ではなく、優れた接着方法が求められていた。したがって、環状オレフィン(共)重合体を本発明における部材(a)、特に層(a1)に使用すると、本発明の効果を特に有意義に活用することができる。
(1)ノルボルネン系重合体
本発明の接合方法に使用されるノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素添加物およびノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体が最も好ましい。
ノルボルネン系モノマー、またはノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加(共)重合体は、例えば、モノマー成分を、溶媒中または無溶媒で、チタン、ジルコニウム又はバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒の存在下で、通常、-50℃〜100℃の重合温度、0〜50kg/cm2の重合圧力で(共)重合させて得ることができる。
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどの単環の環状オレフィン系単量体の付加重合体を用いることができる。
本発明の接合方法で好ましく使用されるノルボルネン系重合体または単環の環状オレフィン系重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液)のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常5,000〜1000,000、好ましくは8,000〜800,000、より好ましくは10,000〜500,000の範囲であるときに、成形体の機械的強度、及び成形加工性とが高度にバランスされて好適である。
本発明の接合方法において、上記の環状オレフィン(共)重合体は、1種を単独で使用しても良いし、2種以上を組み合わせて使用しても良い。
本発明の接合方法で用いられる部材(a)および/または層(a1)には、本発明の目的を損なわない範囲において、各種の添加物を加えることができる。例えば、部材(a)および/または層(a1)が主に有機高分子樹脂からなっている場合には、他の樹脂、および/または、可塑剤、離型剤、増粘剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、安定剤、充填剤(特に電気伝導性を付与するための金、銅、タングステン等からなる金属材料系フィラーや、機械的強度を付与するためのガラス、セラミックス、単結晶等からなる無機材料系フィラー)、顔料、染料、帯電防止剤、抗菌剤、防黴剤、難燃剤、及び分散剤等から選ばれる1種類または2種類以上の添加剤を添加することができる。
(窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C))
さらに、本発明の接合方法における部材(a)は、その最表面に、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層を有する。本発明の接合方法において用いられる、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)は、金属および/または非金属の化合物であって、少なくとも窒素原子および水素原子を有するものであれば良く、窒素原子および水素原子以外に、酸素原子、炭素原子、ハロゲン原子等が含まれていても構わない。
無機化合物(C)中の水素量は、好ましくは、1〜40原子%であり、1〜30原子%がより好ましい。
特に最適な化合物は窒化珪素もしくは酸窒化珪素であるが、この場合、珪素原子数に対する、窒素原子の比率は、接着性の観点から
0.01≦窒素原子数/珪素原子数≦2
が好ましく、
0.05≦窒素原子数/珪素原子数≦1.4
がより好ましい。
窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層の膜厚は、接着性の観点からは、均一に下地層を被覆できていれば良く、下地層により、通常0.2nm〜1μmの膜厚が適宜選ばれるが、光学用途等に使用する場合には、所望の波長域における光線透過率や反射率が適切な値になるような膜厚を適宜選択することが好ましい。
本発明の接合方法における窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層は、公知の成膜方法で形成することが出来る。具体的には、蒸着やスパッタ、CVD法により成膜を行う方法を例示することが出来、金属、非金属材料や窒化、水素化の方法により、適宜成膜方法および成膜材料が選ばれる。
本発明の接合方法における部材(a)の層構成は、その最表面に窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層が存在していればよく、特にそれ以外の制限はない。すなわち、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層は、部材(a)の基材上に直接積層されていてもよいし、1層または2層以上の中間層を介して積層されていてもよい。特に、ガスバリア性能の改善の為の有機層/無機層の多層膜や、反射防止等の光学的特性の改善の為の低屈折率/高屈折率多層膜を、基材層と最表面に位置する窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層の中間層として、むしろ好適に用いることができる。
((部材(b)))
本発明の接合方法においては、部材(b)は、イソシアネート基、カルボキシル基および環状エーテル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の官能基を有する化合物を含有する。中でも、少なくともエポキシ基を有する化合物を含有することが好ましい。エポキシ基を含有する化合物の好ましい例としては、フェニルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、エチルジエチレングリコールグリシジルエーテル、ジシクロペンタジエングリシジルエーテル、2-ヒドロキシエチルグリシジルエーテル等の1官能性エポキシ化合物;ハイドロキノンジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ジシクロペンタジエンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ナフタレンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等の2官能性エポキシ化合物;トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ、クレゾールノボラック型エポキシ、テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチルカルボキシレート、トリグリシジルイソシアヌレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルカルボキシレート、ポリプロピレンジグリシジルエーテル、ポリブタジエン又はポリスルフィドの両末端ジグリシジルエーテル修飾物等の多官能エポキシ化合物;およびこれらを用いて得られる重合体が挙げられるが、これらに限定されない。
具体的には、下記式(I)〜(IV)で表される化合物等およびこれらを用いて得られる重合体が挙げられるが、これらに限定されない。
(R2O)3-Si-R3R4 式(V)
(R2O)3-Ti-R3R4 式(VI)
で表される化合物を使用することが可能である。
上述したように、部材(b)は、エポキシ基を有する化合物を含有することが最も好ましいが、イソシアネート基、カルボキシル基および(エポキシ基以外の)環状エーテル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の基を有する化合物を含有することも好ましい。
エポキシ基以外の環状エーテル基を有する化合物としては、アミノ基への付加が可能かもしくは、カチオン重合性を有していることが好ましい。好ましい具体例としては、四員環から成る環状エーテルであるオキセタン環を有する化合物およびこれらを用いて得られる重合体が挙げられる。オキセタン環を1個有する化合物の具体例としては、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3-(メタ)アリルオキシメチル-3-エチルオキセタン、(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチルベンゼン、2-エチルヘキシル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、3-シクロヘキシルメチルー3-エチル-オキセタン等が挙げられるが、これらに限定されない。
<複合フィルム>
次に、上記接合方法を利用した封止方法に好適な複合フィルムについて、封止フィルムおよび透明導電性フィルムを例に挙げて説明する。
((封止フィルム))
本発明の複合フィルムの第1の形態は、有機高分子(A)からなる層(a1)と、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)とを有する積層体からなる複合フィルムであって、最表面の少なくとも一方が前記窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)で構成されている複合フィルムである。本発明の複合フィルムの第1の形態においては、当該複合フィルムの波長550nmにおける光線透過率が50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上であることが望ましい。また、本発明の複合フィルムの第1の形態においては、当該複合フィルムの水蒸気透過率が10g/m2/day以下、好ましくは1g/m2/day以下、より好ましくは0.1g/m2/day以下であることが望ましい。
(有機高分子(A)からなる層(a1))
本発明の複合フィルム、たとえば第1の封止フィルムにおける有機高分子(A)からなる層(a1)は、フィルムとしての形態を有すれば良く、その厚みに特に制限はないが、フィルムとしての自立性、ハンドリング性、耐衝撃性等を考慮すると、通常2μm〜400μm、好ましくは20〜200μmである。また、これを構成する有機高分子材料としては、使用目的により、耐熱性、透明性、複屈折性、熱収縮性、ガスバリア性、機械強度特性等より適宜選ばれるものであり、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリエステル、ポリメチルメタアクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアセテート、ポリアミド、ポリ4-メチルペンテン-1、セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル系樹脂、フェノキシ樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂等からなるフィルムを例示できる。
ここで、環状オレフィン(共)重合体とは、(共)重合成分の少なくとも一部として、環状オレフィン(環状構造を有するオレフィン)を使用して得られた重合体である。環状オレフィン(共)重合体樹脂の具体例としては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、寸法安定性、耐熱性、機械強度等の観点から、ノルボルネン系重合体、及びその水素添化物などが好ましい。
本発明の第1の封止フィルムに用いられる有機高分子(A)からなる層(a1)には、本発明の目的を損なわない範囲において、各種の添加物を加えることができる。例えば、他の樹脂、および/または、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、安定剤、充填剤、顔料、染料、帯電防止剤、抗菌剤、防黴剤、難燃剤、及び分散剤等から選ばれる1種類または2種類以上の添加剤を添加することができる。
(窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1))
本発明の第1の封止フィルムにおいて用いられる、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)は、上述した本発明の接合方法における部材(a)に関して述べた、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)と同様である。この時の無機化合物(C)中の水素量は、接着性の観点からは多いほど良く、ガスバリア性、すなわち無機化合物の緻密性の観点からは少ない方が良いため、両者のバランスを見て適宜選ばれるものであるが、好ましくは、1〜40原子%であり、1〜30原子%がより好ましい。
0.01≦窒素原子数/珪素原子数≦2
が好ましく、
0.05≦窒素原子数/珪素原子数≦1.4
がより好ましい。
窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)の膜厚は、接着性の観点からは、均一に下地層を被覆できていれば良く、特に制限はない。下地層により、通常0.2nm〜1μmの膜厚が適宜選ばれるが、ガスバリア性能、およびガスバリア性能に対する耐屈曲性の観点を加味すると、好ましくは2〜500nm、より好ましくは10〜200nmである。
本発明の第1の封止フィルムにおける窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)は、公知の成膜方法で形成することができ、その具体的な成膜方法、成膜条件などは、上述した本発明の接合方法における、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層の場合と同じである。
また本発明の第1の封止フィルムは、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)を少なくとも1層有すればよい。構成を単純化し、界面での光学ロスを低減し、または、作製コストを低減する観点からは、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)は1層であることが好ましいが、両面に接着性を付与したり、より高いガスバリア性を付与したりする観点からは、2層以上であることが好ましい。
(接着性樹脂)
本発明の第1の封止フィルムと組み合わせて好ましく用いられる接着性樹脂には特に制限はなく、2以上の部材を相互に接合できる樹脂であれば適宜使用することができるが、エポキシ基等の環状エーテル基、イソシアネート基、カルボキシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の基を有する化合物を含有する接着性樹脂が好ましく使用される。中でも、接着性、透明性、ガスバリア性の観点から、エポキシ基を有する化合物を少なくとも1種類含有する接着性樹脂が特に好ましく使用される。なお、ここで言う化合物は、その重合度、分子量には特に制限はなく、単量体、二量体、オリゴマー、プレポリマー、(重合度の高い)重合体のいずれであっても良い。
また、脂環式エポキシ基を分子内に少なくとも1個含有する化合物も使用可能である。
具体的には、上述した本発明の接合方法の部材(b)の、脂環式エポキシ基を分子内に少なくとも1個含有する化合物と同じものが挙げられ、上述した式(I)〜式(IV)で表される化合物等およびこれらを用いて得られる重合体が挙げられるが、これらに限定されない。
本発明の第1の封止フィルムにおいて好ましく用いられる接着性樹脂には、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)との界面密着性を向上させるために、カップリング剤を添加することが出来る。カップリング剤としては、例えば、本発明の接合方法に用いられる部材(b)において述べた式(V)、式(VI)で表される化合物を使用することが可能である。
本発明の第1の封止フィルムと組み合わせて好ましく用いられる接着性樹脂には、その他レベリング剤や界面活性剤などの添加剤を適宜使用することが出来る。
イソシアネート基を有する化合物の具体例としては、上述した本発明の接合方法の部材(b)の、イソシアネート基を有する化合物と同じものが挙げられる。
エポキシ基以外の環状エーテル基を有する化合物としては、上述した本発明の接合方法の部材(b)の、エポキシ基以外の環状エーテル基を有する化合物と同じものが挙げられる。
本発明の複合フィルムの第2の形態は、有機高分子(A)からなる層(a1)、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)、ならびに接着性樹脂層(b1)がこの順に配置されている積層体からなる複合フィルムであって、前記窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)と前記接着性樹脂層(b1)とが直接積層されている、複合フィルムである。本発明の複合フィルムの第2の形態においては、当該複合フィルムの波長550nmにおける光線透過率が50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上であることが望ましい。また、本発明の複合フィルムの第2の形態においては、当該複合フィルムの水蒸気透過率が10g/m2/day以下、好ましくは1g/m2/day以下、より好ましくは0.1g/m2/day以下であることが望ましい。
本発明の複合フィルム、たとえば、第2の封止フィルムは、有機高分子(A)からなる層(a1)(通常は基材層)と接着性樹脂層(b1)とが一体となっているので、接着性樹脂層(b1)を、他のフィルム等の他の部材と接着させることで、封止を行うことができる。この場合における他の部材の材質、形状には特に制限は無く、接着性樹脂層(b1)と接着可能な材質、形状であれば、好ましく用いることができる。
本発明の第2の封止フィルムは、窒素原子および水素原子を有する化合物(C)からなる層(c1)を少なくとも1層有すればよい。構成を単純化し、界面での光学ロスを低減し、または、作製コストを低減する観点からは、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)は1層であることが好ましいが、両面に接着性を付与したり、より高いガスバリア性を付与したりする観点からは、2層以上であることが好ましい。なお、本発明の第2の封止フィルムは、接着性樹脂と接する部位以外にも、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)を有していても良い。
また、本発明の第2の封止フィルムにおいては、接着性樹脂(B1)の、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)と逆側の表面を離型材で保護しても構わない。
《1》有機高分子(A)からなる層(a1)/窒素原子および水素原子を有する化合物(C)からなる層(c1)/接着性樹脂層(b1)
《2》有機高分子(A)からなる層(a1)/中間層/窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)/接着性樹脂層(b1)
《3》有機高分子(A)からなる層(a1)/窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)/接着性樹脂層(b1)/離型材層
《4》窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)/有機高分子(A)からなる層(a1)/窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)/接着性樹脂層(b1)
《5》接着性樹脂層(b1)/窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)/有機高分子(A)からなる層(a1)/窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)/接着性樹脂層(b1)
本発明の第2の封止フィルムにおいて、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)および/または接着性樹脂層(b1)は、基材両面の全面、基材片面のみの全面、基材片面の全面と基材片面の一部のみ、基材両面のそれぞれ一部のみ、基材片面の一部のみ、の任意の箇所に存在することができる。
<透明導電性フィルム>
本発明の複合フィルムの第3の形態は、有機高分子(A)からなる層(a1)、窒素原子および水素原子を含有する無機化合物(C)からなる層(c1)、および、透明導電層(d1)がこの順に配置されている積層体からなる複合フィルムであって、前記複合フィルムの片面または両面の最表面の一部が、前記窒素原子および水素原子を含有する無機化合物(C)からなる層(c1)で構成されている複合フィルムである。本発明の複合フィルムの第3の形態においては、当該複合フィルムの波長550nmにおける光線透過率が50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上であることが望ましい。また、本発明の複合フィルムの第3の形態においては、当該複合フィルムの水蒸気透過率が10g/m2/day以下、好ましくは1g/m2/day以下、より好ましくは0.1g/m2/day以下であることが望ましい。
(有機高分子(A)からなる層(a1))
本発明の複合フィルム、たとえば、透明導電性フィルムにおける、有機高分子(A)からなる層(a1)は、本発明の第1の封止フィルムについての説明において詳述した有機高分子(A)からなる層(a1)と同様である。該有機高分子(A)からなる層(a1)を構成する有機高分子材料としては、本発明の第1の封止フィルムについての説明において詳述した有機高分子材料に加えて、さらにポリイミド、トリアセチルセルロース、液晶ポリマー等などからなるフィルムを例示できる。
(窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1))
また、本発明の透明導電性フィルムにおける、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)は、本発明の第1の封止フィルムについての説明において詳述した窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)と同様である。
0.01≦窒素原子数/珪素原子数≦2
が好ましく、
0.05≦窒素原子数/珪素原子数≦1.4
がより好ましい。
窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)の膜厚は、接着性の観点からは、均一に下地層を被覆できていれば良く、特に制限はない。下地層により、通常0.2nm〜1μmの膜厚が適宜選ばれるが、ガスバリア性能やガスバリア性能に対する耐屈曲性および透明導電層をパターニングする際のエッチング耐性や耐溶剤性の観点も加味される場合、好ましくは2〜500nm、より好ましくは10〜200nmである。
本発明における窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)は、公知の成膜方法で形成することが出来る。具体的な成膜方法、成膜条件などは、本発明の第1の封止フィルムについての説明において詳述した窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)の場合と同じである。
(透明導電層(d1))
本発明の透明導電性フィルムにおいて用いられる、透明導電層としては、従来公知の(i)金、銀、銅、アルミニウム、パラジウム等の金属およびこれらの合金の単層、積層体、(ii)酸化錫、酸化インジウム、酸化インジウム-酸化錫(ITO)、酸化亜鉛、酸化インジウム-酸化亜鉛(IZO)などの化合物半導体およびそれらの混合物の単層、積層体、(iii)前記(i)、(ii)の積層体等からなる薄膜が挙げられる。一般的には透明性、耐環境性などからITOが用いられる。透明導電層(d1)の形成方法としては、公知の方法が用いられる。例えば、透明導電層(d1)として一般的に用いられるITOの場合、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより薄膜層を形成することが出来る。スパッタリング法により形成する場合、原料としては、インジウム-錫合金および酸化インジウム-錫を使用する場合が多い。例えば、ITO薄膜をスパッタリング法にて作成する方法は、減圧下でアルゴン、酸素ガス等の酸素発生物質を導入しながら、インジウム-錫合金もしくは、酸化インジウム-錫からなるターゲットを用いてITO薄膜を形成する。透明導電層の厚みとしては、通常5〜100nmである。また、透明導電層の表面抵抗値としては、通常10〜1000Ω/□である。
本発明の形態である透明導電性フィルムは、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)を少なくとも1層有すればよい。構成を単純化し、界面での光学ロスを低減し、または、作製コストを低減する観点からは、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)は1層であることが好ましいが、両面に接着性を付与したりする場合においては、2層以上であることが好ましい。
本発明の形態である透明導電性フィルムの最表面を通常構成する透明導電層(d1)は、フィルムの片面または両面の一部をカバーしていない。それ以外の制限は特になく、必要に応じて、フィルムの片面の全面のみを覆っていても良いし、フィルムの片面の全面と他の片面の一部のみを覆っても良いし、フィルムの両面のそれぞれ一部のみを覆っていても良いし、フィルムの片面の一部のみを覆っていても良い。
(接着性樹脂)
本発明の透明導電性フィルムと組み合わせて好ましく用いられる接着性樹脂には特に制限はなく、2以上の部材を相互に接合できる樹脂であれば適宜使用することができ、具体的には、本発明の第1の封止フィルムを用いた好ましい封止方法の説明において詳述した接着性樹脂と同様である。
特に、本発明の透明導電性フィルムは、高透明である有機高分子(A)からなる層(a1)、高透明である窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)、および高透明である透明導電層(d1)を組み合わせる場合には、その高い透明性から、各種の電子電気部品、例えば液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、表面伝導型電子放出型素子ディスプレイ、有機EL素子等の各種表示素子に好適に用いることができ、とりわけ電子ペーパーを作製する際に、特に好ましく使用される。
以下の実施例および比較例において、可視光域の光吸収率は近赤外-紫外域分光光度計(株式会社島津製作所社製 UV-3100PC)により、透過率および反射率を計測することにより測定した。また、ガスバリア性能については、40℃、相対湿度100%における水蒸気透過率をモコン法(モダンコントロール社製PERMATRAN-W600を使用)により測定を行った。また、無機化合物の組成については、X線光電子分光分析法(以下、XPSともいう。)(VG社製 ESCALAB220iXLを使用)により測定を行った。また、無機化合物中の水素含有の判別には、シリコン基板上に無機化合物層を、有機高分子からなるフィルムの無機化合物層形成時と同等の作製条件にて膜厚150nmとなるように成膜し、フーリエ変換赤外分光装置(日本分光株式会社製 FT/IR-300)を用いて測定を行った。
基板には厚み110μmの環状オレフィン共重合体からなるアペル(登録商標)フィルム(三井化学社製)を用い、真空容器内の、室温である基板支持部に当該フィルムを配備して、真空度が1.3×10-4Paとなるまで真空引きを行った後、続いて、当該フィルムが配備されている真空容器内にアンモニアガスを導入して、13.56MHzの高周波プラズマを150W印加することによって、当該フィルム上に30秒間表面処理を行った。引き続き、当該フィルムが配備されている真空容器内にシランガス、アンモニアガス、水素ガスを導入し、13.56MHzの高周波プラズマを150W印加して、窒化珪素薄膜の膜厚が50nmとなるように膜形成を行い、部材(a−1)を得た。
また、当該窒化珪素膜12の表面および内部の組成をXPSにより分析した結果、膜表面においては珪素:42原子%、窒素:32原子%、酸素:19原子%、炭素:7原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.76となり、膜内部については、珪素:58原子%、窒素:42原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.72であった。
部材(a−1)を1cm幅の短冊状に切断し、その窒化珪素膜12上に、エポキシ樹脂と酸無水物を主たる成分とする接着剤から成る部材(b−1)を塗布し、これをガラス板に接着させ、80℃30分で硬化させた。
ビスフェノールFジグリシジルエーテル(商品名EXA−830LVP、大日本インキ工業(株)製):80重量部
3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(商品名セロキサイド2021P、ダイセル化学工業(株)製):20重量部
テトラヒドロメチル無水フタル酸:97重量部
硬化促進剤として、2,4,6−トリスジメチルアミノメチルフェノール(商品名アミキュア3010、ジャパンエポキシレジン(株)製):2重量部
その後、引張圧縮試験機(インテスコ社製モデル210)を用い、部材(a−1)の端をガラス板に対し垂直方向に2mm/minの速度で引っ張って剥離試験を行った。部材(a−1)とガラス板とは、部材(b−1)を介して強く接着されていたため、引張荷重35Nのとき部材(a−1)が破断したが、接着部分は剥離しなかった。
[実施例2]
上記[実施例1]で用いた部材(a−1)を1cm幅の短冊状に切断し、その窒化珪素膜12上に、エポキシ樹脂を含む光カチオン重合開始剤系の接着剤から成る部材(b−2)を塗布し、これをガラス板に接着させ、3000mJ/cm2・分で硬化させた。ここで、接着剤は、以下のようにして得られたものである。
次に、同様の試料、試験機を用い、引っ張り速度を20mm/minとした他は、同様の条件で剥離試験を行った。部材(a−1)とガラス板とは、部材(b−2)を介して強く接着されていたため、引張荷重30Nのとき部材(a−1)が破断したが、接着部分は剥離しなかった。
上記[実施例1]で用いた部材(a−1)を1cm幅の短冊状に切断し、その窒化珪素膜12上に、ウレタン系接着剤(積水化学(株)製:エスダインUX−10)からなる部材(b−3)を塗布し、これをガラス板に接着させ、80℃30分で硬化させた。
その後、引張圧縮試験機(インテスコ社製モデル210)を用い、部材(a−1)の端をガラス板に対し垂直方向に20mm/minの速度で引っ張って剥離試験を行った。部材(a−1)とガラス板とは、部材(b−3)を介して強く接着されていたため、引張荷重30Nのとき部材(a−1)が破断したが、接着部分は剥離しなかった。
上記[実施例1]で用いた部材(a−1)を1cm幅の短冊状に切断し、その窒化珪素膜12上に、無水マレイン酸スチレン共重合体を含有するワニスからなる部材(b−4)を塗布し、これをガラス板に接着させ、80℃30分で硬化させた。
その後、引張圧縮試験機(インテスコ社製モデル210)を用い、部材(a−1)の端をガラス板に対し垂直方向に20mm/minの速度で引っ張って剥離試験を行った。部材(a−1)とガラス板とは、部材(b−4)を介して強く接着されていたため、引張荷重30Nのとき部材(a−1)が破断したが、接着部分は剥離しなかった。
上記[実施例1]において、部材(a−1)に代えて、厚み110μmの環状オレフィン共重合体からなるアペル(登録商標)フィルム(三井化学社製)単独を用いた以外は、[実施例1]と同様にして接着および剥離試験を行った。フィルムと部材(b−1)との密着性は弱く、引張速度2mm/min、20mm/minのいずれの場合においても、フィルム/部材(b−1)界面における界面剥離により、フィルムはガラス板から容易に剥離した(引張荷重0.2N未満)。
上記[実施例2]〜[実施例4]において、部材(a−1)に代えて、厚み110μmの環状オレフィン共重合体からなるアペル(登録商標)フィルム(三井化学社製)単独を用いた以外は、[実施例2]〜[実施例4]と同様にして接着および剥離試験を行った。フィルムと部材(b−2)〜(b−4)との密着性は弱く、引張速度2mm/min、20mm/minのいずれの場合においても、フィルム/部材(b−2)〜(b−4)界面における界面剥離により、フィルムはガラス板から容易に剥離した(引張荷重0.2N未満)。
上記[実施例1]と同様にして、窒化珪素薄膜の膜厚が50nmとなるように、基板上に窒化珪素薄膜の膜形成を行った。
図1は本実施例の構成であり、フィルム基板11上に窒化珪素膜12が積層されたものである。
また、当該窒化珪素膜の表面および内部の組成をXPSにより分析した結果、膜表面においては珪素:42原子%、窒素:32原子%、酸素:19原子%、炭素:7原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.76となり、膜内部については、珪素:58原子%、窒素:42原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.72であった。
また、このフィルムを1cm幅の短冊状に切断し、その窒化珪素膜12上に、エポキシ樹脂と酸無水物から成る接着性樹脂を塗布し、これをガラス板に接着させ、80℃30分で硬化させた。接着性樹脂の詳細は以下のとおりである。
3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(商品名セロキサイド2021P、ダイセル化学工業(株)製):20重量部
テトラヒドロメチル無水フタル酸:97重量部
硬化促進剤として、2,4,6−トリスジメチルアミノメチルフェノール(商品名アミキュア3010、ジャパンエポキシレジン(株)製):2重量部
その後、引張圧縮試験機(インテスコ社製モデル210)を用い、フィルムの端をガラス板に対し垂直方向に2mm/minの速度で引っ張って剥離試験を行った。フィルムとガラス板とは強く密着し、引張荷重35Nのときフィルムが破断したが、接着部分は剥離しなかった。
[参考例1]
基板には厚み110μmの環状オレフィン共重合体からなるアペル(登録商標)フィルム(三井化学社製)を用い、当該フィルム上にシリコンターゲットを用いた、13.56MHzの高周波スパッタにより酸窒化珪素薄膜の形成を行った。
また、当該酸窒化珪素膜の表面および内部の組成をXPSにより分析した結果、膜表面においては珪素:37原子%、窒素:31原子%、酸素:16原子%、炭素:16原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.84となり、膜内部については、珪素:51原子%、窒素:24原子%、酸素25原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.47であった。
また、このフィルムを1cm幅の短冊状に切断し、その酸窒化珪素膜上に、[実施例5]で用いたのと同じエポキシ樹脂と酸無水物から成る接着性樹脂を塗布し、これをガラス板に接着させ、80℃30分で硬化させた。
次に、同様の試料、試験機を用い、引っ張り速度を20mm/minとした他は、同様の条件で剥離試験を行った。フィルムとガラス板とは強く密着し、引張荷重30Nのときフィルムが破断したが、接着部分は剥離しなかった。
厚み110μmの環状オレフィン共重合体からなるアペル(登録商標)フィルム(三井化学社製)単体について評価を行ったところ、当該構成においてフィルムは無色透明であり、可視光域における光吸収率は1%以下であった。
また、水蒸気透過率は、0.53g/m2/dayであった。
その後、引張圧縮試験機(インテスコ社製モデル210)を用い、フィルムの端をガラス板に対し垂直方向に20mm/minの速度で引っ張って剥離試験を行った。フィルムと接着性樹脂との密着性は弱く、フィルム−接着性樹脂界面における界面剥離により、フィルムはガラス板から容易に剥離した(引張荷重0.2N未満)。
基板には厚み110μmの環状オレフィン共重合体からなるアペル(登録商標)フィルム(三井化学社製)を用い、当該フィルム上にシリコンターゲットを用いた、13.56MHzの高周波スパッタにより酸化珪素薄膜の形成を行った。
より詳細には、真空容器内の、室温である基板支持部に当該フィルムを配備して、真空度が1.3×10-3Paとなるまで真空引きを行った後、続いて、当該フィルムが配備されている真空容器内に酸素ガスを導入して、当該フィルムが配備された側にバイアスが掛かるようにした後、高周波プラズマを100W印加することによって、当該フィルム上に30秒間表面処理を行った。続いて、当該フィルムが配備されている真空容器内にアルゴンガス、酸素ガスを導入し、シリコンターゲット側にバイアスが掛かるようにした後、高周波プラズマ300Wを印加することにより、酸化珪素薄膜の膜厚が30nmとなるように膜形成を行った。
また、水蒸気透過率は、0.05g/m2/dayであった。
また、当該酸化珪素膜の表面および内部の組成をXPSにより分析した結果、膜表面においては珪素:32原子%、酸素:54原子%、炭素:14原子%が検出され、膜内部については、珪素:38原子%、酸素:62原子%が検出された。
その後、引張圧縮試験機(インテスコ社製モデル210)を用い、フィルムの端をガラス板に対し垂直方向に20mm/minの速度で引っ張って剥離試験を行った。フィルムと接着性樹脂との密着性は弱く、フィルム−接着性樹脂界面における界面剥離により、フィルムはガラス板から容易に剥離した(引張荷重0.2N未満)。
窒化珪素薄膜の膜厚が20nmとなるように膜形成を行った他は、上記[実施例1]と同様にして、基板上に窒化珪素薄膜の膜形成を行った。
得られた窒化珪素薄膜上に透明導電層として酸化インジウム−酸化錫(以下ITOと略する。)層をDCマグネトロンスパッタリング法により作成した。より詳細には、真空槽を1.3×10-3Pa以下まで排気した後にアルゴンガスを圧力0.27Paまで導入し、インジウム−錫合金ターゲット(In:Sn=9:1)を用いてDCマグネトロンスパッタリング法により20nmの厚みのITO薄膜を作製した。
また、ITO形成前の窒化珪素膜を形成した段階におけるフィルムは無色透明であり、可視光域における光吸収率は1%以下であった。
また、当該窒化珪素膜の表面および内部の組成をXPSにより分析した結果、膜表面においては珪素:42原子%、窒素:32原子%、酸素:19原子%、炭素:7原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.76となり、膜内部については、珪素:58原子%、窒素:42原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.72であった。
また、この窒化珪素膜およびITO膜を形成したフィルムを2cm幅の短冊状に切断し、レジストを用いたパターニングと希塩酸により、短冊の長手方向に沿った両端5mm幅のITO膜をエッチングした後、その両端にエッチング後の表面として現れた窒化珪素膜上に、エポキシ樹脂と酸無水物から成る接着性樹脂を塗布し、これをガラス板に接着させ、80℃30分で硬化させた。図2は本実施例の構成であり、フィルム基板11上に窒化珪素膜12およびパターニングされたITO膜13が積層されたものである。また、接着性樹脂の詳細は以下のとおりである。
3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(商品名セロキサイド2021P、ダイセル化学工業(株)製):20重量部
テトラヒドロメチル無水フタル酸:97重量部
硬化促進剤として、2,4,6−トリスジメチルアミノメチルフェノール(商品名アミキュア3010、ジャパンエポキシレジン(株)製):2重量部
その後、引張圧縮試験機(インテスコ社製モデル210)を用い、フィルムの端をガラス板に対し垂直方向に2mm/minの速度で引っ張って剥離試験を行った。フィルムとガラス板とは強く密着し、引張荷重35Nのときフィルムが破断したが、接着部分は剥離しなかった。
[参考例2]
酸窒化珪素薄膜の膜厚が20nmとなるように膜形成を行った他は、上記[参考例1]と同様にして、基板上に酸窒化珪素薄膜の膜形成を行った。
当該構成において、550nmにおける光線透過率は86%であり、シート抵抗値は800Ω/□であった。
また、当該酸窒化珪素膜の表面および内部の組成をXPSにより分析した結果、膜表面においては珪素:37原子%、窒素:31原子%、酸素:16原子%、炭素:16原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.84となり、膜内部については、珪素:51原子%、窒素:24原子%、酸素25原子%が検出され、窒素原子数/珪素原子数は0.47であった。
また、この酸窒化珪素膜およびITO膜を形成したフィルムを2cm幅の短冊状に切断し、レジストを用いたパターニングと希塩酸により、短冊の長手方向に沿った両端5mm幅のITO膜をエッチングした後、その両端にエッチング後の表面として現れた酸窒化珪素膜上に、上記[実施例6]で用いたのと同じエポキシ樹脂と酸無水物から成る接着性樹脂を塗布し、これをガラス板に接着させ、80℃30分で硬化させた。
次に、同様の試料、試験機を用い、引っ張り速度を20mm/minとした他は、同様の条件で剥離試験を行った。フィルムとガラス板とは強く密着し、引張荷重30Nのときフィルムが破断したが、接着部分は剥離しなかった。
基板には厚み110μmの環状オレフィン共重合体からなるアペル(登録商標)フィルム(三井化学社製)を用い、真空容器内の、室温である基板支持部に当該フィルムを配備して、真空度が1.3×10-4Paとなるまで真空引きを行った後、当該フィルムが配備されている真空容器内に酸素ガスを導入して、当該フィルムが配備された側にバイアスが掛かるようにした後、高周波プラズマを100W印加することによって、当該フィルム上に30秒間表面処理を行った。続いて、当該フィルムが配備されている真空容器内にアルゴンガスを圧力0.27Paまで導入し、インジウム−錫合金ターゲット(In:Sn=9:1)を用いてDCマグネトロンスパッタリング法により20nmの厚みのITO薄膜を作製した。
また、このITO膜を形成したフィルムを2cm幅の短冊状に切断し、レジストを用いたパターニングと希塩酸により、短冊の長手方向に沿った両端5mm幅のITO膜をエッチングした後、そのエッチングした両端部上に、上記[実施例6]で用いたのと同じエポキシ樹脂と酸無水物から成る接着性樹脂を塗布し、これをガラス板に接着させ、80℃30分で硬化させた。
Claims (24)
- 有機高分子(A)からなる層(a1)を有する部材(a)と、イソシアネート基、カルボキシル基および環状エーテル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の官能基を有する化合物(B)を含有する部材(b)とを接合する方法であって、
部材(a)の最表面の少なくとも一部に設けられた、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層を介して前記部材(a)と前記部材(b)とを接合し、
前記有機高分子(A)が、(共)重合成分として、4-メチル-1ペンテンおよび環状構造を有するオレフィンから選ばれる少なくとも1種類のモノマーを用いて得られたポリオレフィンであり、
前記無機化合物(C)が、珪素、アルミニウム、チタンの窒化物、酸窒化物に水素を含有させたものである、接合方法。 - 前記無機化合物(C)の水素量が、1〜40原子%であることを特徴とする請求項1に記載の接合方法。
- 前記部材(a)において、有機高分子(A)からなる層(a1)の少なくとも一部が、前記無機化合物(C)からなる層と直接接している、請求項1に記載の接合方法。
- 前記接合方法の実施後において、部材(b)の少なくとも一部が、部材(a)の無機化合物(C)からなる層と直接接合されている、請求項1に記載の接合方法。
- 前記接合方法の実施後において、部材(a)中の有機高分子(A)からなる層(a1)および前記無機化合物(C)からなる層と、部材(b)とがこの順で配列され、直接接合されている部位が少なくとも1箇所存在する、請求項1に記載の接合方法。
- 前記イソシアネート基、カルボキシル基および環状エーテル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の官能基を有する化合物(B)が、少なくともエポキシ基を有するものである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の接合方法。
- 前記窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)が、さらに珪素原子を有し、窒素原子数/珪素原子数の割合が0.01以上かつ2以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の接合方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の接合方法を用いる封止方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の接合方法を用いて製造された複合フィルム。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の接合方法を用いて製造された光学部品。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の接合方法を用いて製造された電子電気部品。
- 請求項10に記載の光学部品および/または請求項11に記載の電子電気部品を有する、電子電気機器または輸送機械。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の接合方法を用いる工程を有する、光学部品または電子電気部品の製造方法。
- 有機高分子(A)からなる層(a1)、窒素原子および水素原子を含有する無機化合物(C)からなる層(c1)、および、透明導電層(d1)がこの順に配置されている積層体を有する複合フィルムであって、
前記窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)の一部は前記透明導電層(d1)にカバーされておらず、
イソシアネート基、カルボキシル基および環状エーテル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の官能基を有する接着性樹脂(B1)からなる層(b1)が、前記窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)の前記透明導電層(d1)によってカバーされていない部分に直接接合されており、
前記有機高分子(A)が、(共)重合成分として、4-メチル-1ペンテンおよび環状構造を有するオレフィンから選ばれる少なくとも1種類のモノマーを用いて得られたポリオレフィンであり、
前記無機化合物(C)が、珪素、アルミニウム、チタンの窒化物、酸窒化物に水素を含有させたものである、複合フィルム。 - 前記無機化合物(C)の水素量が、1〜40原子%であることを特徴とする請求項14に記載の複合フィルム。
- 前記有機高分子(A)が、少なくとも1種類の環状オレフィンを(共)重合して得られるものである、請求項14に記載の複合フィルム。
- 前記窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)が、さらに珪素原子を有する、請求項14に記載の複合フィルム。
- 有機高分子(A)からなる層(a1)、窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)からなる層(c1)、および、接着性樹脂(B1)からなる層(b1)とがこの順に配置されている積層体からなる複合フィルムであって、前記窒素原子および水素原子を有する化合物(C)からなる層(c1)と、前記接着性樹脂(B1)からなる層(b1)とが直接積層されており、
前記有機高分子(A)が、(共)重合成分として、4-メチル-1ペンテンおよび環状構造を有するオレフィンから選ばれる少なくとも1種類のモノマーを用いて得られたポリオレフィンであり、
前記無機化合物(C)が、珪素、アルミニウム、チタンの窒化物、酸窒化物に水素を含有させたものである、複合フィルム。 - 前記無機化合物(C)の水素量が、1〜40原子%であることを特徴とする請求項18に記載の複合フィルム。
- 前記有機高分子(A)が、少なくとも1種類の環状オレフィンを(共)重合して得られるものである、請求項18に記載の複合フィルム。
- 前記窒素原子および水素原子を有する無機化合物(C)が、さらに珪素原子を有する、請求項18に記載の複合フィルム。
- 請求項14および18〜21のいずれか1項に記載の複合フィルムを備えた光学部品。
- 請求項14〜21のいずれか1項に記載の複合フィルムを備えた電子電気部品。
- 請求項22に記載の光学部品および/または請求項23に記載の電子電気部品を有する、電子電気機器、または輸送機械。
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