JP4246563B2 - 光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法 - Google Patents
光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4246563B2 JP4246563B2 JP2003208331A JP2003208331A JP4246563B2 JP 4246563 B2 JP4246563 B2 JP 4246563B2 JP 2003208331 A JP2003208331 A JP 2003208331A JP 2003208331 A JP2003208331 A JP 2003208331A JP 4246563 B2 JP4246563 B2 JP 4246563B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical component
- optical
- main surface
- alignment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 295
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 226
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 53
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 33
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 24
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 15
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Chemical class 0.000 description 1
- 229920013636 polyphenyl ether polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、インターネットに代表される情報通信技術の発達や、情報処理装置の処理速度の飛躍的向上などに伴って、画像等の大容量データを送受信するニーズが高まりつつある。かかる大容量データを情報通信設備を通じて自由にやり取りするためには10Gbps以上の情報伝達速度が望ましく、そのような高速通信環境を実現しうる技術として光通信技術に大きな期待が寄せられている。一方、機器内の配線基板間での接続、配線基板内の半導体チップ間での接続、半導体チップ内での接続など、比較的短い距離における信号伝達経路に関しても、高速で信号を伝送することが近年望まれている。このため、従来一般的であった金属ケーブルや金属配線から、光ファイバや光導波路を用いた光伝送へと移行することが理想的である考えられている。
【0003】
ここで、光学素子が搭載されるとともに、その光学素子と光ファイバや光導波路との間で光通信を行う配線基板が従来提案されている(例えば、特許文献1,2参照)。特許文献1,2には、光学素子を実装した外部基板を配線基板上にはんだバンプにて接続してリフローする際のセルフアライメント作用により、外部基板と配線基板とを所定の位置に配置できる、という技術が開示されている。また、光ファイバ同士を接続するための手段として、光ファイバコネクタと呼ばれる器具が従来提案されている(例えば、非特許文献1参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−236228号公報
【0005】
【特許文献2】
特開平8−250542号公報
【0006】
【非特許文献1】
フジクラ技報 第97号 1999年10月
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記特許文献1,2の技術では、光学素子を実装した外部基板と配線基板との位置合わせ(光軸合わせ)をはんだリフローにより行っているにすぎない。そのため、位置合わせ精度が十分ではなく、光学素子と光導波路との間で光軸ズレが生じやすく、ひいては光の伝送ロスが生じやすい。従って、この手法では今後予想される高速度化・高密度化等に十分に対応できないものと考えられる。また、配線基板が樹脂基板であるような場合には、光学素子及びその動作回路の放熱性が悪くなる結果、発光波長にズレが発生するおそれがある。ゆえに、この場合には安定した動作特性が得られなくなる。
【0008】
なお、前記配線基板を仮にセラミック配線基板とした場合には、放熱性の問題はある程度解消される反面、加工性が悪いことから高コスト化を招くおそれがある。
【0009】
また、非技術文献1に記載された光ファイバコネクタを配線基板と光ファイバとの接続に応用することが考えられるが、光ファイバコネクタ自体は樹脂成形品であるため放熱性に劣る。ゆえに、この場合には光学素子及びその動作回路の放熱性が悪くなる結果、やはり発光波長にズレが発生するおそれがある。
【0010】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、光軸ズレがなく確実な位置合わせをすることができ、光の伝送ロスが小さい光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】
そして上記課題を解決するための手段としては、主面を有する基板と、前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記基板に接合されるとともに、光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有する光部品の有する位置合わせ凹部に対して嵌合可能な位置合わせ用ガイド部材とを備え、前記基板は前記主面側にて開口するキャビティを有し、前記位置合わせ用ガイド部材は、前記キャビティの内底面及び互いに直交した位置関係にある2つの内側面に対し、嵌合のための凹部構造を設けることなく接合材を用いてそれぞれ直接的に接合され、前記基板の主面側には、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光部品と光結合されるべき光学素子が搭載されていることを特徴とする光部品支持基板がある。この課題解決手段において「光部品」という部材は、光部品支持基板とは別体で構成された部材であって、光部品支持基板と位置合わせされる対象物であり、必須構成要素ではない。
【0012】
また、上記課題を解決する別の手段としては、主面を有する基板と、光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有し、位置合わせ凹部を有する光部品と、前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記基板に接合されるとともに、前記位置合わせ凹部に対して嵌合する位置合わせ用ガイド部材とを備え、前記基板は前記主面側にて開口するキャビティを有し、前記位置合わせ用ガイド部材は、前記キャビティの内底面及び互いに直交した位置関係にある2つの内側面に対し、嵌合のための凹部構造を設けることなく接合材を用いてそれぞれ直接的に接合され、前記基板の主面側に、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光部品と光結合されるべき光学素子が搭載されていることを特徴とする光部品付き光部品支持基板がある。
【0013】
従って、これらの発明によると、基板に接合された位置合わせ用ガイド部材が光部品の有する位置合わせ凹部に対して嵌合することで、より積極的にかつ高い精度で光軸が合った状態となる。ゆえに、光の伝送ロスが小さく、高速度化・高密度化等に十分に対応しうる光部品支持基板を実現することができる。
【0014】
光部品支持基板を構成する基板としては、例えば、樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板または金属基板が使用可能であり、特にセラミック基板が好ましい。樹脂基板に比較して熱伝導性の高いセラミック基板を用いた場合には、発生した熱が効率よく放散される。そのため、放熱性の悪化に起因する発光波長のズレが回避され、動作安定性・信頼性に優れた光部品支持基板を実現することができる。かかるセラミック基板の好適例を挙げると、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化ほう素、ベリリア、ムライト、低温焼成ガラスセラミック、ガラスセラミック等からなる基板がある。これらの中でもアルミナや窒化アルミニウムからなる基板を選択することが特に好ましい。
【0015】
また、樹脂基板の好適例としては、例えば、EP樹脂(エポキシ樹脂)、PI樹脂(ポリイミド樹脂)、BT樹脂(ビスマレイミド−トリアジン樹脂)、PPE樹脂(ポリフェニレンエーテル樹脂)等からなる基板を挙げることができる。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料からなる基板を使用してもよい。金属基板の好適例としては、例えば、銅基板、銅合金からなる基板、銅以外の金属単体からなる基板、銅以外の合金からなる基板などを挙げることができる。
【0016】
かかる基板は、絶縁層と導体層(金属配線層)とを備えた配線基板であることがよい。前記導体層は基板表面に形成されていてもよく、基板内部に形成されていてもよい。これらの導体層の層間接続を図るために、基板内部にビアホール導体が形成されていてもよい。なお、かかる導体層やビアホール導体は、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、白金(Pt)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)などからなる導電性金属ペーストを印刷または充填することにより形成される。そして、このような導体層には電気信号が流れるようになっている。なお、このような配線基板に加えて、例えば、樹脂絶縁層と導体層とを交互に積層してなるビルドアップ層を、基板上に備えるビルドアップ配線基板を用いることも許容される。
【0017】
前記基板の形状は、位置合わせ用ガイド部材を支持可能な形状であればよく、特に限定されることはない。しかし、基板は少なくとも1つの主面を有するものであることがよく、例えば平板状の基板を用いることが好適である。より好ましくは、主面側において開口する1つまたは2つ以上のキャビティを有する基板を使用することがよい。
【0018】
光部品支持基板を構成する位置合わせ用ガイド部材は、ガイド部材支持体である基板に接合されている。基板の主面からは、位置合わせ用ガイド部材の一部または全部が突出するようになっている。位置合わせ用ガイド部材の接合位置は特に限定されないが、好ましくは位置合わせ用ガイド部材を主面側に接合することがよく、さらには主面側にて開口するキャビティの内面に接合することがよりよい。
【0019】
キャビティの内面に位置合わせ用ガイド部材を接合した構造であれば、位置合わせ用ガイド部材を基板に対して安定的に支持させやすいため、基板と光部品との位置合わせ精度の向上を図ることができる。即ち、キャビティの内底面及び内側面の両方に位置合わせ用ガイド部材を接合させたり、キャビティにおいて直交した位置関係にある2つの内側面に位置合わせ用ガイド部材を接合させたりすることが好適である。
【0020】
位置合わせ用ガイド部材の形状については特に限定されない。位置合わせ用ガイド部材の好適例としては、例えばピン状のもの(ガイドピン)があり、その材料としてはある程度硬質な金属がよい。また、位置合わせ用ガイド部材の先端部分の直径(特に基板の主面側にて突出する部分の直径)については、光部品の有する位置合わせ凹部と嵌合できるように、当該位置合わせ凹部とほぼ同径であることがよい。このようなガイドピンは接合材を用いて基板に直付けされる。ここで「接合材を用いた直付け」とは、嵌合のための凹部構造を特に設けることなく、接着剤やロウ材等を用いて基板の表面にガイドピンを直接的に接合することをいう。そして、上記のような直付けの利点は、位置合わせ用ガイド部材を支持させるための凹部を基板に形成する穴明け工程等を省略できるため、全体の工数が少なくなり、生産性の向上につながることである。
【0021】
また、位置合わせ用ガイド部材は、基部と前記基部から突出する複数のピン部とを備えるものであってもよい。この構成によれば、複数のピン部同士の相対位置関係を正確に設定しやすいため、基板と光部品との位置合わせ精度をよりいっそう向上させることが可能となる。また、ピン部と基部とを分けた結果、基部を基板側に接合しやすい形状にすることが可能となる。そして、このような形状の位置合わせ用ガイド部材も、嵌合のための凹部構造を特に設けることなく、接着剤やロウ材等を用いて基板の表面に直付けされることがよい。
【0022】
一方、あらかじめ基板に設けた第1凹部内に第2凹部被形成部を設け、その第2凹部被形成部に第2凹部を形成したうえで、その第2凹部に位置合わせ用ガイド部材を嵌合させて支持するようにしてもよい。つまり、基板に位置合わせ用ガイド部材を直付けするのではなく、第2凹部被形成部を介して間接的に支持するようにしてもよい。
【0023】
ガイドピンの端部や複数のピン部の端部は、軸線方向に対して垂直な平坦面を有していることがよい。このような平坦面があると、例えば、ガイドピンの端部やピン部の端部を画像認識してそこを位置合わせの基準とするような場合に、画像認識を行いやすくなるというメリットがある。ただし、ガイドピンの端部や複数のピン部の端部の外縁を面取りしておくことが好ましい。そして、この構成であると、光部品の位置合わせ凹部に対して位置合わせ用ガイド部材を嵌合させやすくすることができる。
【0024】
本発明の光部品支持基板は光学素子を備えていてもよい。ただし、本発明において光学素子は任意の構成要素である。前記光学素子は例えば基板の主面上に1つまたは2つ以上搭載される。その搭載方法としては、例えば、ワイヤボンディングやフリップチップボンディング等の手法、異方導電性材料を用いた手法などを採用することができる。発光部を有する光学素子(即ち発光素子)としては、例えば、発光ダイオード(Light Emitting Diode;LED)、半導体レーザダイオード(Laser Diode ;LD)、面発光レーザ(Vertical Cavity Surface Emitting Laser;VCSEL)等を挙げることができる。これらの発光素子は、入力した電気信号を光信号に変換した後、その光信号を所定部位に向けて発光部から出射する機能を備えている。一方、受光部を有する光学素子(即ち受光素子)としては、例えば、pinフォトダイオード(pin Photo Diode;pin PD)、アバランシェフォトダイオード(APD)等を挙げることができる。これらの受光素子は、光信号を受光部にて入射し、その入射した光信号を電気信号に変換して出力する機能を有している。なお、前記光学素子は発光部及び受光部の両方を有するものであってもよい。前記光学素子に使用する好適な材料としては、例えば、Si、Ge、InGaAs、GaAsP、GaAlAsなどを挙げることができる。このような光学素子(特に発光素子)は、動作回路によって動作される。光学素子及び動作回路は、例えば、基板に形成された導体層(金属配線層)を介して電気的に接続される。
【0025】
前記光学素子は、基板に対して直接的に搭載されていてもよいほか、基板とは別体の支持体を介して間接的に搭載されていてもよい。光学素子を直接的に搭載した構造の好適例としては、例えば、基板に設けたキャビティの内底面に光学素子を直接的に搭載した構造などを挙げることができる。ただし間接的に搭載した場合においては、支持体に前記位置合わせ用ガイド部材が嵌合可能な位置合わせ用穴を設け、その位置合わせ用穴を利用して位置合わせをしつつ基板との固定を図ることが好ましい。
【0026】
本発明の光部品支持基板と位置合わせされる光部品は、光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有している。具体例を挙げると、光伝送機能を有する光部品としては、例えば光導波路や光ファイバなどがある。なお、光導波路を支持する基材も、光伝送機能を有する光部品に該当する。光ファイバと光ファイバを支持する光ファイバコネクタとからなる光部品も、光伝送機能を有する光部品に該当する。集光機能を有する光部品としては、例えばマイクロレンズアレイ等に代表されるレンズ部品などがある。光反射機能を有する光部品としては、例えば光路変換部品などがある。なお、光路変換部が形成された光ファイバコネクタは、光反射機能を有する光部品であるということができる。光路変換部が形成された光導波路は、光伝送機能及び光反射機能を有する光部品であるということができる。なお、本発明の光部品支持基板には、光部品が1つのみ支持されていてもよく、2つ以上の光部品が支持されていてもよい。
【0027】
前記光導波路とは、光信号が伝搬する光路となるコア及びそのコアを取り囲むクラッドを有した板状またはフィルム状の部材を指し、例えば、ポリマ材料等からなる有機系の光導波路、石英ガラスや化合物半導体等からなる無機系の光導波路等がある。前記ポリマ材料としては、感光性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを選択することができ、具体的には、フッ素化ポリイミド等のポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、UV硬化性エポキシ樹脂、PMMA(ポリメチルメタクリレート)、重水素化PMMA、重水素フッ素化PMMA等のアクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂などが好適である。
【0028】
前記光ファイバコネクタとは、本来的には光ファイバ部同士を接続するための手段であるが、ここでは光ファイバ側と基板側とを接続するための手段として用いられる。なお、かかる光ファイバコネクタは、単心光ファイバコネクタであっても、多心光ファイバコネクタであってもよい。また、光ファイバコネクタは、基板側との接続を図るという本来的な機能に加えて、例えば光を反射して光路を変換する等といった付加的な機能を有していてもよい。
【0029】
また、上記課題を解決するための別の手段としては、主面を有する基板と、前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記基板に接合されるとともに、光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有する光部品の有する位置合わせ凹部に対して嵌合可能な位置合わせ用ガイド部材とを備え、前記基板の主面側に、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光部品と光結合されるべき光学素子が搭載されている光部品支持基板の製造方法において、前記基板の前記主面側にて開口するキャビティの内底面及び互いに直交した位置関係にある2つの内側面に対し、前記位置合わせ用ガイド部材を、嵌合のための凹部構造を設けることなく接合材を用いてそれぞれ直接的に接合する接合工程と、接合された前記位置合わせ用ガイド部材を基準として位置合わせを行いながら、前記基板の主面側に前記光学素子を搭載する搭載工程とを含むことを特徴とする光部品支持基板の製造方法、がある。なお、この課題解決手段において「光部品」という部材は、光部品支持基板とは別体で構成された部材であって、光部品支持基板と位置合わせされる対象物であるため、必須構成要素ではない。
【0030】
そして本発明によれば、上記構成を有する光部品支持基板を簡単かつ確実に、しかも低コストで製造することができる。
【0031】
また、上記課題を解決するためのさらに別の手段としては、主面を有する基板と、光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有し、位置合わせ凹部を有する光部品と、前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記基板に接合されるとともに、前記位置合わせ凹部に対して嵌合する位置合わせ用ガイド部材とを備え、前記基板の主面側に、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光部品と光結合されるべき光学素子が搭載されていることを特徴とする光部品付き光部品支持基板の製造方法において、前記基板の前記主面側にて開口するキャビティの内底面及び互いに直交した位置関係にある2つの内側面に対し、前記位置合わせ用ガイド部材を、嵌合のための凹部構造を設けることなく接合材を用いてそれぞれ直接的に接合する接合工程と、接合された前記位置合わせ用ガイド部材を基準として位置合わせを行いながら、前記基板の主面側に前記光学素子を搭載する搭載工程と、前記搭載工程後において前記位置合わせ用ガイド部材を前記位置合わせ凹部に対して嵌合させることにより、前記光部品及び前記光学素子の光軸合わせを行いつつ前記光部品を前記基板に支持固定させる支持固定工程とを含むことを特徴とする光部品付き光部品支持基板の製造方法、がある。
【0032】
そして本発明によれば、上記構成を有する光部品付き光部品支持基板を簡単かつ確実に、しかも低コストで製造することができる。
【0033】
以下、上記構成の光部品支持基板の製造方法を工程に沿って説明する。
【0034】
光部品に対しては、位置合わせ凹部形成工程を行うことで、前記位置合わせ凹部をあらかじめ形成しておくことが好ましい。ここで、位置合わせ凹部形成工程における穴加工の方法としては周知の技術を採用することができ、具体例としては、ドリル加工、パンチ加工、エッチング加工、レーザ加工などがある。ただし、低コストという観点からすると、ドリル加工やパンチ加工といった機械的加工が好ましい。また、ここで行われる穴加工は、例えば精密ドリルなどを用いた精密穴加工であることがより好ましい。このような加工法によって位置合わせ凹部を形成しておけば、高い精度で光軸合わせを行うことができるからである。なお、位置合わせ凹部は、光部品の表裏両面に開口する貫通穴であってもよいほか、裏面側のみにて開口する非貫通穴であってもよい。また、位置合わせ凹部形成工程後に、必要に応じて仕上げ加工を行うことにより位置合わせ凹部の穴径を微調整してもよい。
【0035】
続く接合工程では、前記基板に前記位置合わせ用ガイド部材を接合する。例えば、直付けを行うような場合には、接着剤やロウ材などの接合材を用いて位置合わせ用ガイド部材を接合する。なお、接合材の種類は、基板の材質や位置合わせ用ガイド部材の材質等を考慮して適宜選択される。例えば、耐熱性に劣る樹脂基板を用いた場合には、比較的低温にて接合が可能な有機系接着剤を使用することが好ましい。一方、耐熱性に優れるセラミック基板を用いた場合には、ロウ材を使用することが固定強度向上の観点から好ましい。
【0036】
続く搭載工程では、接合された前記位置合わせ用ガイド部材を基準として位置合わせを行いながら、前記基板の主面側に前記光学素子を搭載する。この場合において具体的には、接合された前記位置合わせ用ガイド部材の先端部における平坦面を画像認識し、そこを基準として位置合わせを行いながら、前記基板の主面側に前記光学素子を搭載することが好ましい。この方法の利点は、位置合わせ用ガイド部材自身を高精度に位置合わせして基板に接合する必要がないことである。これに対して、基板に光学素子を先に搭載してから位置合わせ用ガイド部材を接合する手法の場合、位置合わせ用ガイド部材自身を高精度に位置合わせして基板に接合する必要があり、製造が困難になりやすい。
【0037】
続く支持固定工程では、前記搭載工程後において前記位置合わせ用ガイド部材を前記位置合わせ凹部に対して嵌合させる。その結果、前記光部品及び前記光学素子の光軸合わせを行いつつ、併せて前記光部品を前記基板に支持固定させることができる。そして、以上の工程を実施する本発明の製造方法によれば、所望の光部品付き光部品支持基板を簡単かつ確実に、しかも低コストで製造することができる。また、上記製造方法によれば、硬質な材料に穴を加工形成するプロセスや、穴を高精度に加工形成するプロセスなどを省略することも可能である。よって、このようなプロセスを省略した場合には、所望の光部品支持基板及び光部品付き光部品支持基板をより低コストで製造することができる。
【0038】
【発明の実施の形態】
[第1の実施の形態]
【0039】
図1〜図6には、本発明を具体化した第1の実施形態の光導波路付き光部品支持基板10(光部品付き光部品支持基板)が示されている。
【0040】
図1に示されるように、本実施形態の光導波路付き光部品支持基板10は、VCSEL14(光学素子)、セラミック基板11(基板)、ガイドピン44(位置合わせ用ガイド部材)等によって構成されている。
【0041】
セラミック基板11は、上面12(主面)及び下面13を有する略矩形状の板部材である。かかるセラミック基板11はいわゆる多層配線基板であって、金属配線層26を備えている。例えば、上面12(主面)に位置する金属配線層26の一部には、各種電子部品を実装するための複数の接続パッド29が形成されている。金属配線層26はセラミック基板11の内層にも形成されている。このセラミック基板11はビアホール導体27も備えており、層の異なる金属配線層26同士はビアホール導体27を介して層間接続されている。また、セラミック基板11の下面13には複数の接続端子28が設けられている。
【0042】
図1,図2に示されるように、セラミック基板11の上面12における略中央部には、矩形状のキャビティ41が形成されている。同キャビティ41の内底面42には、光学素子(発光素子)の一種であるVCSEL14が、発光面を上方に向けた状態で搭載されている。このVCSEL14は、一列に並べられた複数(ここでは4つ)の発光部15を発光面内に有している。従って、これらの発光部15は、セラミック基板11の上面12に対して直交する方向(即ち図1の上方向)に、所定波長のレーザ光を出射するようになっている。VCSEL14の有する複数の端子(図示略)は、同じく同キャビティ41の内底面42に設けられた接続パッド29上にそれぞれ接合されている。なお、VCSEL14のような発光素子に代えて、フォトダイオードのような受光素子を搭載した構成としてもよい。
【0043】
また、キャビティ41の内底面42においてVCSEL14の近傍には、VCSEL14を駆動するための動作回路用IC16(いわゆるドライバIC)が配置されている。動作回路用IC16の有する複数の端子(図示略)は、同キャビティ41の内底面42に設けられた接続パッド29上にそれぞれ接合されている。従って、VCSEL14と動作回路用IC16とが、金属配線層26などを介して電気的に接続されている。
【0044】
図2等に示されるように、この光導波路付き光部品支持基板10は、ステンレス鋼からなる断面円形状のガイドピン44(位置合わせ用ガイド部材)を4本備えている。これらのガイドピン44は、軸線方向に対して垂直な平坦面を両端部に備えている。ガイドピン44の端部の外縁は面取りされている。各ガイドピン44はキャビティ41のコーナー部に配置されるとともに、ロウ材を用いてキャビティ41の内面(具体的には内底面42及び2つの内側面43)に対して接合されている。なお、本実施形態において具体的には、JIS C 5981に規定するガイドピン「CNF125A−21」(直径0.699mm)を使用している。
【0045】
図1に示されるように、セラミック基板11の上面12(主面)側には、フィルム状の光導波路31(光部品)が配置されている。この光導波路31を構成する基材32は、コア33及びそれを上下から取り囲むクラッド34を有している。実質的にコア33は光信号が伝搬する光路となる。本実施形態の場合、コア33及びクラッド34は、屈折率等の異なる透明なポリマ材料、具体的には屈折率等の異なるPMMA(ポリメチルメタクリレート)により形成されている。光路となるコア33の本数は発光部15の数と同じく4つであって、それらは直線的にかつ平行に延びるように形成されている。
【0046】
光導波路31における所定の箇所には、光導波路31の上面にて開口するV字溝35が形成されている。このV字溝35の先端はコア33のある深さにまで及んでいる。V字溝35の内面はセラミック基板11の上面12に対して約45°の角度を持つ傾斜面となっていて、その傾斜面には光を全反射可能な金属からなる薄膜37が蒸着されている。その結果、光を90°の角度で反射する光路変換用ミラーが構成されている。光導波路31の四隅には円形状の位置合わせ穴36が貫通形成されている。これらの位置合わせ穴36は、ガイドピン44の大きさに対応して直径約0.7mmに設定されている。そして、光導波路31の有する各位置合わせ穴36には、セラミック基板11側にて突出する各ガイドピン44が嵌合されている。その結果、セラミック基板11の上面12(主面)上にて、光導波路31が位置合わせされた状態で固定されている。ここで「位置合わせされた状態で固定」とは、具体的には、VCSEL14の各発光部15の光軸と光導波路31の各コア33の光軸とが合い、VCSEL14と光導波路31とが光結合された状態で、光導波路31が支持固定されていることをいう。
【0047】
このように構成された光導波路付き光部品支持基板10の一般的な動作について簡単に述べておく。
【0048】
VCSEL14は、セラミック基板11側からの電力供給により、動作可能な状態となる。セラミック基板11上の動作回路用IC16からVCSEL14に電気信号が出力されると、VCSEL14は入力した電気信号を光信号(レーザ光)に変換した後、その光信号を上方に向けて、発光部15から出射する。光導波路31の下面から入射した光信号は、光路変換ミラーにおいて進行方向を90°変更し、図示しない受光側に向かってコア33内を進行する。
【0049】
次に、上記構成の光導波路付き光部品支持基板10の製造方法を説明する。
【0050】
まず、以下の手順によりセラミック基板11を作製する。アルミナ粉末、有機バインダ、溶剤、可塑剤などを均一に混合・混練してなる原料スラリーを作製し、この原料スラリーを用いてドクターブレード装置によるシート成形を行って、所定厚みのグリーンシートを形成する。グリーンシートにおける所定部分にパンチ加工を施してビアホール用孔及びキャビティ用孔を形成し、そのうちビアホール用孔の中にビアホール導体用の金属ペーストを充填する。また、グリーンシートの表面に金属ペーストを印刷することにより、後に金属配線層26等となる印刷層を形成する。そして、これら複数枚のグリーンシートを積層してプレスすることにより一体化し、グリーンシート積層体とする。次に、周知の手法に従って乾燥工程や脱脂工程などを行った後、さらにアルミナが焼結しうる加熱温度にて焼成工程を行う。これにより、グリーンシート積層体(セラミック未焼結体)を焼結させ、図3に示すようなキャビティ41を有するセラミック基板11とする。この時点でセラミックは硬質化しかつ収縮する。なお、この時点で接続端子28を形成してもよい。
【0051】
一方、光導波路31については、従来公知の手法に従ってクラッド34及びコア33を順次積層形成した後、精密ドリルを用いた精密穴加工を行って、所定の4箇所に位置合わせ穴36を形成しておく(位置合わせ凹部形成工程)。そして、さらにV溝加工及びその部分へのスパッタ等を行うことにより、金属薄膜37からなる光路変換ミラーを形成する。光路変換ミラーの形成時には位置合わせ穴36の位置を基準とすることがよく、これにより位置合わせ精度をいっそう向上させることができる。従って、光路変換部形成工程は位置合わせ凹部形成工程の後に実施されることがよい。
【0052】
続く接合工程では、セラミック基板11のキャビティ41における各コーナー部にロウ材をあらかじめ塗布しておき、そのロウ材を介して各ガイドピン44をセラミック基板11に仮固定する。このとき、各ガイドピン44の他端側はセラミック基板11の上面12から垂直に突出する。そして、この状態でセラミック基板11をロウ材が溶融する数百℃の温度に加熱し、各ガイドピン44をキャビティ41の内底面42及び2つの内側面43に対してロウ付けする。その結果、各ガイドピン44がロウ付けによりセラミック基板11に強固に支持固定される(図4参照)。なお、ガイドピン44の一端側が互いに直交する3つの面に接合されることにより、各ガイドピン44がセラミック基板11に対して安定的に支持固定される。
【0053】
続く搭載工程では、あらかじめキャビティ41の内底面42上にある接続パッド29にはんだを供給しておく。そして、キャビティ41の内底面42の上方においてVCSEL14及び動作回路用IC16を接続パッド29に対して位置合わせする。その際、既に接合状態にある1つまたは複数のガイドピン44の上端平坦面をCCDカメラ等の撮像手段で撮像し、その撮像データに基づき画像処理を行って、平坦面を円形領域として画像認識する。そして、この画像認識された円形領域を基準(より具体的には例えば前記円形領域の中心を原点)として設定し、VCSEL14及び動作回路用IC16のX−Y方向の位置を微調整する(図5参照)。VCSEL14及び動作回路用IC16の位置が決定したら、これらを下降させてキャビティ41の内底面42に押し付け、仮固定する。この状態ではんだリフローを行い、VCSEL14及び動作回路用IC16の端子を接続パッド29にはんだ付けする。なお、この手法の利点は、必ずしもガイドピン44自身を高精度に位置合わせしてセラミック基板11に接合する必要がないことである。
【0054】
続く支持固定工程では、セラミック基板11の上面12から突出する各ガイドピン44を、光導波路31における各位置合わせ穴36に対して嵌合させる(図6参照)。その結果、光導波路31及びVCSEL14の光軸合わせを行いつつ、併せて光導波路31をセラミック基板11に支持固定させることができる。そして、以上のようにして本実施形態の光導波路付き光部品支持基板10が完成する。
【0055】
従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。
【0056】
(1)本実施形態では、ガイドピン44と位置合わせ穴36との嵌合関係をもって光軸合わせを達成しつつ、セラミック基板11に光導波路31を支持固定した構成となっている。よって、リフロー時のセルフアライメント作用のみに頼る従来の消極的な光軸合わせに比べて、より積極的にかつ高い精度で光軸が合った状態となる。ゆえに、光の伝送ロスが小さく、高速度化・高密度化等に十分に対応しうる光導波路付き光部品支持基板10を実現することができる。
【0057】
また、本実施形態では、樹脂基板に比較して熱伝導性の高いセラミック基板11を用いている。それゆえ、VCSEL14及び動作回路用IC16の発する熱が効率よく放散される。よって、放熱性の悪化に起因する発光波長のズレも回避され、動作安定性・信頼性に優れた光導波路付き光部品支持基板10を実現することができる。
【0058】
(2)また、本実施形態の製造方法によれば、所望の光導波路付き光部品支持基板10を簡単かつ確実に、しかも低コストで製造することができる。特に上記製造方法では、硬質な材料に穴を加工形成するプロセスや、穴を高精度に加工形成するプロセスなどを省略していることが、低コスト化に寄与している。
[第2の実施の形態]
【0059】
次に、図7,図8に基づいて、第2の実施形態における光導波路付き光部品支持基板10(光部品付き光部品支持基板)について説明する。
【0060】
本実施形態では、第1の実施形態のガイドピン44とは異なる形状の位置合わせ用ガイド部材51が2つ用いられている。これらの位置合わせ用ガイド部材51は、四角柱状の基部52と、その基部52の上面から突出する2つのピン部54とを備えた構造となっている。基部52及びピン部54を備えるこの位置合わせ用ガイド部材51は、ステンレス鋼を用いて金型成形されたものである。なお、金型成形以外の手法、例えば切削加工などにより位置合わせ用ガイド部材51を作製することも勿論可能である。金属材料以外の材料、例えば樹脂材料などを用いて同様の形状の位置合わせ用ガイド部材51を作製することも可能である。
【0061】
基部52の長さは、ちょうどキャビティ41の一辺の長さと等しくなるように設計されている。従って、図8に示されるように、キャビティ41内に位置合わせ用ガイド部材51を配置したときの収まりがよい。また、基部52の高さはキャビティ41の深さとほぼ等しくなっている。なお、四角柱状の基部52を採用した理由は、キャビティ41の内底面42と2つの内側面43との接触面積を大きくでき、位置合わせ用ガイド部材51の接合強度の向上につながるからである。
【0062】
前記2つのピン部54は基部52の両端部、つまり離間した2箇所に配置されている。ピン部54の断面は円形状であり、その直径は0.699mmに設定されている。このような位置合わせ用ガイド部材51をキャビティ41内に配置した場合には、ピン部54のみがセラミック基板11の上面12から突出するようになっている。
【0063】
上記構造の光導波路付き光部品支持基板10は、基本的には第1の実施形態と同様の手順(接合工程、搭載工程、支持固定工程など)を経て製造することが可能である。ただし、接合工程では、より広い面積にロウ材をあらかじめ塗布しておき、そのロウ材を介して各位置合わせ用ガイド部材51をセラミック基板11に仮固定し、ロウ付けを行う。その結果、第1実施形態に比べて確実に接合面積が増える結果、セラミック基板11に対していっそう強固に位置合わせ用ガイド部材51を支持固定することができる。
【0064】
そして、上記構造の光導波路付き光部品支持基板10によれば、ピン部54と光導波路31の位置合わせ穴36との嵌合関係をもって光軸合わせを達成しつつ、セラミック基板11に光導波路31を支持固定することができる。よって、従来に比べて高い精度で光軸が合った状態となる。ゆえに、光の伝送ロスが小さく、高速度化・高密度化等に十分に対応しうる光導波路付き光部品支持基板10を実現することができる。
【0065】
しかも、本実施形態の構成によれば、複数のピン部54同士の相対位置関係を正確に設定しやすいため、セラミック基板11と光導波路31との位置合わせ精度をよりいっそう向上させることが可能となる。また、ピン部54と基部52とを分けた本実施形態の場合、基部52をセラミック基板11側に接合しやすい形状(即ち平面を複数箇所に有する形状)にすることが可能となる。
[第3の実施の形態]
【0066】
次に、図9に基づいて、第3の実施形態における光導波路付き光部品支持基板10(光部品付き光部品支持基板)について説明する。
【0067】
本実施形態では、四角枠状の基部62と、その基部62の上面から突出する4つのピン部54とを備えた位置合わせ用ガイド部材61が、キャビティ41内に1つのみ設けられている。位置合わせ用ガイド部材61におけるその他の事項については第2実施形態と同じである。
【0068】
そして、このような構成であったとしても、ピン部54と光導波路31の位置合わせ穴36との嵌合関係をもって光軸合わせを達成しつつ、セラミック基板11に光導波路31を支持固定することができる。よって、従来に比べて高い精度で光軸が合った状態となる。ゆえに、光の伝送ロスが小さく、高速度化・高密度化等に十分に対応しうる光導波路付き光部品支持基板10を実現することができる。また、複数のピン部54同士の相対位置関係を正確に設定しやすいため、セラミック基板11と光導波路31との位置合わせ精度をよりいっそう向上させることが可能となる。特にこの構成によれば、1つのキャビティ41につき1つの位置合わせ用ガイド部材61を用いればよいので、部品点数が少なくて済む。
[第4の実施の形態]
【0069】
次に、図10,図11に基づいて、第4の実施形態における光導波路付き光学素子搭載基板10(光部品付き光部品支持基板)について説明するが、本実施形態は参考例として挙げたにすぎず、補正後の各請求項に係る発明の技術的範囲には含まれない。
【0070】
本実施形態では、ガイドピン44をキャビティ41の外に配置する構成を採用している。具体的には、セラミック基板11の各コーナー部に基板厚さ方向に延びる切欠溝72をそれぞれ設け、それらの切欠溝72に各ガイドピン44をロウ付けしている。
【0071】
そして、このような構成であったとしても、ガイドピン44と光導波路31の位置合わせ穴36との嵌合関係をもって光軸合わせを達成しつつ、セラミック基板11に光導波路31を支持固定することができる。よって、従来に比べて高い精度で光軸が合った状態となる。ゆえに、光の伝送ロスが小さく、高速度化・高密度化等に十分に対応しうる光導波路付き光部品支持基板10を実現することができる。
【0072】
なお、本発明の実施形態は以下のように変更してもよい。
【0073】
・ガイドピン44の本数や形状等、ピン部54の本数や形状は、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて任意に変更することが可能である。
【0074】
・上記実施形態では、光伝送機能及び光反射機能を有する光部品として光導波路31を用いていたが、その代わりに光ファイバコネクタ等の光伝送機能を有する光部品を用いて構成してもよい。さらには、光導波路31に代えて、マイクロレンズアレイ等の集光機能を有する光部品を用いるようにしてもよい。
【0075】
次に、特許請求の範囲に記載された技術的思想のほかに、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。
【0076】
(1)主面を有するセラミック基板と、コア及びそのコアを包囲するクラッドを有する光導波路と、前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記セラミック基板に接合材を介して直付けで接合されるとともに、前記位置合わせ凹部に対して嵌合する位置合わせ用ガイド部材とを備え、前記セラミック基板の主面側に、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光導波路と光結合されるべき光学素子が搭載されていることを特徴とする光導波路付き光部品支持基板。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を具体化した第1の実施形態の光導波路付き光部品支持基板を示す概略断面図。
【図2】前記光部品支持基板を示す概略平面図。
【図3】前記光導波路付き光部品支持基板の製造過程において、ガイドピン接合前のセラミック基板を示す概略断面図。
【図4】前記製造過程において、ガイドピン接続後のセラミック基板を示す概略断面図。
【図5】前記製造過程において、VCSEL等を搭載するときの様子を示す概略断面図。
【図6】前記製造過程において、セラミック基板と光導波路との位置合わせを行いつつ光導波路を支持固定する状態を示す概略断面図。
【図7】第2の実施形態の光導波路付き光部品支持基板において、光部品支持基板を示す概略平面図。
【図8】前記光導波路付き光部品支持基板の製造過程において、光部品支持基板に位置合わせ用ガイド部材を接合する工程を示す概略側面図。
【図9】第3の実施形態の光導波路付き光部品支持基板において、光部品支持基板を示す概略平面図。
【図10】第4の実施形態の光導波路付き光部品支持基板において、光部品支持基板を示す概略平面図。
【図11】前記光導波路付き光部品支持基板の製造過程において、光部品支持基板にガイドピンを接合する工程を示す概略側面図。
【符号の説明】
10…光部品付き光部品支持基板としての光導波路付き光部品支持基板
11…基板としてのセラミック基板
12…主面としての基板の上面
14…光学素子としてのVCSEL
15…発光部
31…光部品としての光導波路
36…位置合わせ凹部としての位置合わせ穴
41…キャビティ
42…キャビティの内面としての内底面
43…キャビティの内面としての内側面
44…位置合わせ用ガイド部材としてのガイドピン
51,61…位置合わせ用ガイド部材
52,62…基部
54…ピン部
Claims (8)
- 主面を有する基板と、
前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記基板に接合されるとともに、光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有する光部品の有する位置合わせ凹部に対して嵌合可能な位置合わせ用ガイド部材と
を備え、
前記基板は前記主面側にて開口するキャビティを有し、前記位置合わせ用ガイド部材は、前記キャビティの内底面及び互いに直交した位置関係にある2つの内側面に対し、嵌合のための凹部構造を設けることなく接合材を用いてそれぞれ直接的に接合され、
前記基板の主面側には、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光部品と光結合されるべき光学素子が搭載されている
ことを特徴とする光部品支持基板。 - 前記位置合わせ用ガイド部材は、ガイドピンであることを特徴とする請求項1に記載の光部品支持基板。
- 前記位置合わせ用ガイド部材は、平面視矩形状のキャビティの各コーナー部に配置された複数のガイドピンであることを特徴とする請求項1または2に記載の光部品支持基板。
- 前記位置合わせガイド部材は、基部と前記基部から突出する複数のピン部とを備えることを特徴とする請求項1または2に記載の光部品支持基板。
- 前記光部品は、光路変換部が形成され、ポリマ材料からなるフィルム状の光導波路であり、前記基板は、絶縁層と導体層とビアホール導体とを備えたセラミック配線基板であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光部品支持基板。
- 主面を有する基板と、前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記基板に接合されるとともに、光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有する光部品の有する位置合わせ凹部に対して嵌合可能な位置合わせ用ガイド部材とを備え、前記基板の主面側に、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光部品と光結合されるべき光学素子が搭載されている光部品支持基板の製造方法において、
前記基板の前記主面側にて開口するキャビティの内底面及び互いに直交した位置関係にある2つの内側面に対し、前記位置合わせ用ガイド部材を、嵌合のための凹部構造を設けることなく接合材を用いてそれぞれ直接的に接合する接合工程と、
接合された前記位置合わせ用ガイド部材を基準として位置合わせを行いながら、前記基板の主面側に前記光学素子を搭載する搭載工程と
を含むことを特徴とする光部品支持基板の製造方法。 - 主面を有する基板と、
光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有し、位置合わせ凹部を有する光部品と、
前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記基板に接合されるとともに、前記位置合わせ凹部に対して嵌合する位置合わせ用ガイド部材とを備え、
前記基板は前記主面側にて開口するキャビティを有し、前記位置合わせ用ガイド部材は、前記キャビティの内底面及び互いに直交した位置関係にある2つの内側面に対し、嵌合のための凹部構造を設けることなく接合材を用いてそれぞれ直接的に接合され、
前記基板の主面側に、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光部品と光結合されるべき光学素子が搭載されていることを特徴とする光部品付き光部品支持基板。 - 主面を有する基板と、光伝送機能、集光機能及び光反射機能のうちの少なくとも1つを有し、位置合わせ凹部を有する光部品と、前記主面から少なくとも一部が突出する状態で前記基板に接合されるとともに、前記位置合わせ凹部に対して嵌合する位置合わせ用ガイド部材とを備え、前記基板の主面側に、発光部及び受光部のうちの少なくとも一方を有し、前記光部品と光結合されるべき光学素子が搭載されていることを特徴とする光部品付き光部品支持基板の製造方法において、
前記基板の前記主面側にて開口するキャビティの内底面及び互いに直交した位置関係にある2つの内側面に対し、前記位置合わせ用ガイド部材を、嵌合のための凹部構造を設けることなく接合材を用いてそれぞれ直接的に接合する接合工程と、
接合された前記位置合わせ用ガイド部材を基準として位置合わせを行いながら、前記基板の主面側に前記光学素子を搭載する搭載工程と、
前記搭載工程後において前記位置合わせ用ガイド部材を前記位置合わせ凹部に対して嵌合させることにより、前記光部品及び前記光学素子の光軸合わせを行いつつ前記光部品を前記基板に支持固定させる支持固定工程と
を含むことを特徴とする光部品付き光部品支持基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003208331A JP4246563B2 (ja) | 2003-08-22 | 2003-08-22 | 光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003208331A JP4246563B2 (ja) | 2003-08-22 | 2003-08-22 | 光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005070082A JP2005070082A (ja) | 2005-03-17 |
JP4246563B2 true JP4246563B2 (ja) | 2009-04-02 |
Family
ID=34401656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003208331A Expired - Fee Related JP4246563B2 (ja) | 2003-08-22 | 2003-08-22 | 光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4246563B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4298608B2 (ja) * | 2003-08-22 | 2009-07-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 光部品支持基板の製造方法、光部品付き光部品支持基板の製造方法 |
JP5223047B2 (ja) * | 2008-02-22 | 2013-06-26 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光モジュール |
JP5109087B2 (ja) * | 2008-03-19 | 2012-12-26 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光モジュール |
JP2010107602A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 光伝送装置及び電子機器 |
JP2010152075A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Fuji Xerox Co Ltd | 光伝送装置 |
US9720171B2 (en) | 2012-06-19 | 2017-08-01 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Optical waveguide, optical interconnection component, optical module, opto-electric hybrid board, and electronic device |
WO2013191175A1 (ja) * | 2012-06-19 | 2013-12-27 | 住友ベークライト株式会社 | 光導波路、光配線部品、光モジュール、光電気混載基板および電子機器 |
JP6251989B2 (ja) * | 2012-06-19 | 2017-12-27 | 住友ベークライト株式会社 | 光電気混載基板および電子機器 |
JP2014220330A (ja) * | 2013-05-07 | 2014-11-20 | 日立金属株式会社 | 光配線基板、光配線基板の製造方法、及び光モジュール |
CN105452918B (zh) | 2013-07-05 | 2019-02-05 | 古河电气工业株式会社 | 光模块、光模块的安装方法、光模块搭载电路基板、光模块评价仪器系统、电路基板以及通信系统 |
JP6823262B2 (ja) * | 2017-03-15 | 2021-02-03 | ミツミ電機株式会社 | 光学モジュールの製造方法及び光学モジュール |
JP7052532B2 (ja) * | 2018-04-26 | 2022-04-12 | 株式会社デンソー | 光学装置およびその製造方法 |
JP2020166108A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 日東電工株式会社 | 光電気複合伝送モジュール |
CN114727516A (zh) * | 2021-01-05 | 2022-07-08 | 庆鼎精密电子(淮安)有限公司 | 多层电路板及其制作方法 |
-
2003
- 2003-08-22 JP JP2003208331A patent/JP4246563B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005070082A (ja) | 2005-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7150569B2 (en) | Optical device mounted substrate assembly | |
US7221829B2 (en) | Substrate assembly for supporting optical component and method of producing the same | |
JP5384819B2 (ja) | 光電気混載パッケージ、光電気混載モジュール | |
JP4246563B2 (ja) | 光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法 | |
JP5248795B2 (ja) | 光電気混載パッケージ及びその製造方法、光素子付き光電気混載パッケージ、光電気混載モジュール | |
JP4202216B2 (ja) | 光電気複合配線構造体、光学素子搭載基板と光導波路層と光路変換部品とからなる構造体 | |
JP4397735B2 (ja) | 光モジュール、光モジュール用セラミック基板、光モジュールと光ファイバコネクタのプラグとの結合構造 | |
JP2006066705A (ja) | 光電変換モジュール、積層基板接合体 | |
JP4456354B2 (ja) | 光部品付き光部品支持基板及びその製造方法 | |
JP4639101B2 (ja) | 部品支持基板及びその製造方法、光デバイス | |
JP5318978B2 (ja) | 光電気混載パッケージ及びその製造方法、光素子付き光電気混載パッケージ、光電気混載モジュール | |
JP2005115190A (ja) | 光電気複合配線基板、積層光導波路構造体 | |
JP4476743B2 (ja) | 光部品支持基板及びその製造方法 | |
JP4975698B2 (ja) | 光電変換モジュール | |
JP2004258065A (ja) | 光導波路基板及びその製造方法、光電気複合実装配線基板及びその製造方法 | |
JP4764669B2 (ja) | 光パッケージ、光素子付き光パッケージ及び光導波路モジュール | |
JP2005070158A (ja) | 光導波路基板及びその製造方法 | |
JP2005099761A (ja) | 光部品支持基板及びその製造方法、光部品付き光部品支持基板及びその製造方法 | |
JP2005037870A (ja) | 光学素子搭載基板及びその製造方法、光導波路付き光学素子搭載基板及びその製造方法、光ファイバコネクタ付き光学素子搭載基板及びその製造方法、光部品付き光学素子搭載基板 | |
JP2005003944A (ja) | 光導波路構造体及びその製造方法 | |
JP4234061B2 (ja) | 光導波路デバイスの製造方法 | |
JP4895957B2 (ja) | 光電気混載パッケージ、光電気混載モジュール | |
JP2005085844A (ja) | 光電気複合配線構造体及びその製造方法 | |
JP4307902B2 (ja) | 光学素子実装パッケージ、光電気複合実装配線基板 | |
JP4298608B2 (ja) | 光部品支持基板の製造方法、光部品付き光部品支持基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060803 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080603 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080605 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080730 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080730 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081007 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081222 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090108 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4246563 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140116 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |