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JP4238798B2 - Line head, method for manufacturing line head, and image forming apparatus - Google Patents

Line head, method for manufacturing line head, and image forming apparatus Download PDF

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JP4238798B2 JP2004241930A JP2004241930A JP4238798B2 JP 4238798 B2 JP4238798 B2 JP 4238798B2 JP 2004241930 A JP2004241930 A JP 2004241930A JP 2004241930 A JP2004241930 A JP 2004241930A JP 4238798 B2 JP4238798 B2 JP 4238798B2
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Description

本発明は、画像形成装置において露光手段として用いられるラインヘッドとその製造方法、及びこのラインヘッドを備えた画像形成装置に関する。   The present invention relates to a line head used as exposure means in an image forming apparatus, a method for manufacturing the same, and an image forming apparatus including the line head.

電子写真方式を利用したプリンタとして、ラインプリンタ(画像形成装置)が知られている。このラインプリンタは、被露光部となる感光体ドラムの周面上に、帯電器、ライン状のプリンタヘッド(ラインヘッド)、現像器、転写器などの装置を近接配置したものである。すなわち、帯電器によって帯電された感光体ドラムの周面上に、ラインヘッドに設けられた発光素子の選択的な発光動作で露光を行なうことにより、静電潜像を形成し、この潜像を現像器から供給されるトナーで現像して、そのトナー像を転写器で用紙に転写するようにしたものである。   A line printer (image forming apparatus) is known as an electrophotographic printer. In this line printer, devices such as a charger, a line-shaped printer head (line head), a developing device, and a transfer device are arranged close to each other on the peripheral surface of a photosensitive drum serving as an exposed portion. That is, an electrostatic latent image is formed on the peripheral surface of the photosensitive drum charged by the charger by selective light emission operation of a light emitting element provided in the line head, and this latent image is formed. It is developed with toner supplied from a developing device, and the toner image is transferred onto a sheet by a transfer device.

ところで、前記のようなラインヘッドの発光素子としては、一般に発光ダイオードなどが用いられている。しかし、これは数千個の発光点を精度良く配列することが極めて困難であるという課題がある。そこで、近年では、発光点を精度良く作り込める有機エレクトロルミネセンス素子(有機EL素子)を発光素子とする発光素子アレイを、露光手段として備えた画像形成装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   By the way, a light emitting diode or the like is generally used as the light emitting element of the line head as described above. However, this has a problem that it is extremely difficult to arrange thousands of light emitting points with high accuracy. Therefore, in recent years, an image forming apparatus including a light emitting element array using an organic electroluminescent element (organic EL element) capable of accurately forming a light emitting point as a light emitting element as an exposure unit has been proposed (for example, Patent Documents). 1).

また、前述したような電子写真方式のラインプリンタでは、通常、ラインヘッドからの放射光を、セルフォック(登録商標)レンズアレイ(日本板硝子社の商品名;以下、セルフォック(登録商標)レンズをSL、セルフォック(登録商標)レンズアレイをSLアレイと記す)を通過させることで感光体ドラム上に結像し、露光する方式が採られている。SLアレイは、正立等倍像する円柱状のSL素子を多数配列したことにより、広範囲の画像の結像を可能にしたものである。   Moreover, in the electrophotographic line printer as described above, the radiation from the line head is usually used to convert the SELFOC (registered trademark) lens array (trade name of Nippon Sheet Glass; hereinafter, SELFOC (registered trademark) lens to SL, A system in which an image is formed on a photosensitive drum by passing through a SELFOC (registered trademark) lens array (referred to as an SL array) and exposed is employed. The SL array enables a wide range of images to be formed by arranging a large number of cylindrical SL elements that erect an equal magnification.

ところで、SLアレイの作る像は、1本1本のSL素子の作る像(正立等倍結像)が重なりあってできており、SL素子は、フットボールを半分にしたような光量分布を有している。したがって、SLアレイでは、各SL素子の配列ピッチに伴ない、周期的な光量ムラが生じてしまっている。
しかし、このような周期的な光量ムラがあると、前記のラインヘッドとSLアレイとを組合わせた場合に、SLアレイの光量ムラに起因して主走査方向の光強度の均一性が悪化し、露光精度が低下して、得られるプリントの品質が損なわれてしまう。
By the way, the image made by the SL array is formed by overlapping the images made by each SL element (erecting equal-magnification image formation), and the SL element has a light quantity distribution that halves football. is doing. Therefore, in the SL array, periodic light amount unevenness occurs with the arrangement pitch of each SL element.
However, when there is such periodic unevenness of light quantity, when the line head and the SL array are combined, the uniformity of light intensity in the main scanning direction is deteriorated due to the uneven light quantity of the SL array. The exposure accuracy is lowered, and the quality of the obtained print is impaired.

このような背景のもとに、SLアレイの結像原理に起因する周期的な光量ムラを取り除く技術として、端面発光素子の発光層の厚みを変える技術(例えば、特許文献2参照)、および拡散板を挿入する技術(例えば、特許文献3参照)が提案されている。また、発光素子の駆動制御による光量周期ムラの補正方法としては、予めラインヘッドの光量ムラを測定し、その補正データをメモリに持ち、発光素子の駆動データをその補正データで補正する方法(例えば、特許文献4参照)が提案されている。
特開平11−198433号公報 特開平5−330135号公報 特開平8−197776号公報 特開平9−314897号公報
Against this background, as a technique for removing periodic light amount unevenness due to the imaging principle of the SL array, a technique for changing the thickness of the light emitting layer of the end face light emitting element (see, for example, Patent Document 2) and diffusion A technique for inserting a plate (see, for example, Patent Document 3) has been proposed. In addition, as a method of correcting the light amount period unevenness by the drive control of the light emitting element, a method of measuring the light amount unevenness of the line head in advance, storing the correction data in the memory, and correcting the drive data of the light emitting element with the correction data (for example, , See Patent Document 4).
JP 11-198433 A JP-A-5-330135 JP-A-8-197776 JP-A-9-314897

しかしながら、端面発光素子の発光層の厚みを変える技術では、各発光素子の寿命や特性がばらつくなどの問題がある。また、拡散板を挿入する技術では、露光の解像度が低下するという問題がある。さらに、発光素子の駆動制御により補正を行う方法では、新たな回路の形成にコストを要するという問題がある。このように、SLアレイの周期的な光量ムラを解消する技術は確立されておらず、したがってその提供が望まれている。   However, the technique of changing the thickness of the light emitting layer of the edge light emitting device has problems such as variations in the life and characteristics of each light emitting device. Further, the technique of inserting a diffusion plate has a problem that the resolution of exposure is lowered. Furthermore, in the method of performing correction by driving control of the light emitting element, there is a problem that cost is required for forming a new circuit. As described above, a technology for eliminating the periodic light amount unevenness of the SL array has not been established, and therefore the provision thereof is desired.

本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、レンズアレイの周期的な光量ムラを解消する技術を提供するとともに、このラインヘッドを備えた画像形成装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a technique for eliminating the periodic light amount unevenness of the lens array and to provide an image forming apparatus provided with this line head. It is in.

上記目的を達成するため、本発明のラインヘッドは、複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドであって、前記発光素子と前記レンズ素子の間に、前記発光素子からの光を集光して前記レンズ素子に入射させる、第1のマイクロレンズと、第2のマイクロレンズと、を備え、前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記第1のマイクロレンズの曲率半径が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記第2のマイクロレンズの曲率半径より、小さいことを特徴とする。
上記目的を達成するため、本発明のラインヘッドは、複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドであって、前記発光素子の前記レンズ素子側に、前記発光素子からの光を集光して前記レンズ素子に入射させるマイクロレンズが形成され、前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記マイクロレンズの曲率が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記マイクロレンズの曲率より、小さく形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、曲率の小さいマイクロレンズからの出射光は光軸の近傍に絞られるので、レンズ素子の周縁部に対してより多くの光を入射させることができる。これにより、レンズ素子の中央部から周縁部までの光量分布がフラットになり、レンズアレイの周期的な光量ムラを解消することができる。
In order to achieve the above object, a line head of the present invention is a line head in which a plurality of light emitting elements are arranged and irradiates light to an exposed portion through a plurality of lens elements, and the light emitting element and the light emitting element A first microlens and a second microlens that condense light from the light emitting element and make the light incident on the lens element between the lens elements, and are disposed opposite to the periphery of the lens element The radius of curvature of the first microlens formed is smaller than the radius of curvature of the second microlens disposed opposite to the center of the lens element.
In order to achieve the above object, a line head of the present invention is a line head in which a plurality of light emitting elements are arranged and irradiates light to an exposed portion via a plurality of lens elements, On the lens element side, a microlens for condensing light from the light emitting element and making it incident on the lens element is formed, and the curvature of the microlens arranged opposite to the periphery of the lens element is It is characterized by being formed smaller than the curvature of the microlens arranged opposite to the center.
According to this configuration, light emitted from the microlens having a small curvature is narrowed to the vicinity of the optical axis, so that more light can be incident on the peripheral portion of the lens element. Thereby, the light quantity distribution from the center part to the peripheral part of the lens element becomes flat, and the periodic light quantity unevenness of the lens array can be eliminated.

また、複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドであって、前記発光素子の前記レンズ素子側に、前記発光素子からの光を集光して前記レンズ素子に入射させるマイクロレンズが形成され、前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記マイクロレンズの平面積が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記マイクロレンズの平面積より、大きく形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、平面積の大きいマイクロレンズは発光素子から多くの光を入射させることができるので、レンズ素子の周縁部に対してより多くの光を入射させることができる。これにより、レンズ素子の中央部から周縁部までの光量分布がフラットになり、レンズアレイの周期的な光量ムラを解消することができる。
Further, the line head includes a plurality of light emitting elements arranged so as to irradiate light to an exposed portion through the plurality of lens elements, and the light from the light emitting elements is irradiated to the lens element side of the light emitting elements. A microlens that is condensed and incident on the lens element is formed, and a planar area of the microlens disposed opposite to the periphery of the lens element is equal to that of the microlens disposed opposite to the center of the lens element. It is characterized by being formed larger than the plane area.
According to this configuration, since the microlens having a large plane area can allow more light to be incident from the light emitting element, more light can be incident on the peripheral portion of the lens element. Thereby, the light quantity distribution from the center part to the peripheral part of the lens element becomes flat, and the periodic light quantity unevenness of the lens array can be eliminated.

一方、本発明のラインヘッドの製造方法は、複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドの製造方法であって、前記発光素子と前記レンズ素子との間に配置された基板上で、前記発光素子に対応する領域に親液処理を施すとともに、前記親液処理領域以外の領域に撥液処理を施す工程と、前記親液処理領域に、マイクロレンズの形成材料を含む液状体を塗布する工程と、前記液状体を硬化させて、第1のマイクロレンズと第2のマイクロレンズとを形成する工程と、を有し、前記液状体塗布工程では、体積の異なる液状体を前記発光素子に対応する領域に塗布し、前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記第1のマイクロレンズの曲率半径が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記第2のマイクロレンズの曲率半径より、小さく形成することを特徴とする。
一方、本発明のラインヘッドの製造方法は、複数の発光素子を配列してなり、複数のレ
ンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドの製造方法であって、前記発光素
子と前記レンズ素子との間に配置された基板上の、前記発光素子に対応する領域に親液処
理を施すとともに、前記親液処理領域以外の領域に撥液処理を施す工程と、前記親液処理
領域に、マイクロレンズの形成材料を含む液状体を塗布する工程と、前記液状体を乾燥さ
せて、マイクロレンズを形成する工程と、を有し、前記液状体塗布工程では、体積の異な
る液状体を塗布することを特徴とする。
この構成によれば、体積の異なる液状体を塗布することにより、曲率の異なるマイクロ
レンズを簡単に形成することができる。
On the other hand, a method for manufacturing a line head according to the present invention is a method for manufacturing a line head, in which a plurality of light emitting elements are arranged and irradiates light to an exposed portion via a plurality of lens elements, Performing a lyophilic treatment on a region corresponding to the light emitting element on a substrate disposed between the lens element and a lyophobic treatment on a region other than the lyophilic treatment region; and the lyophilic treatment A step of applying a liquid material containing a microlens forming material to the region, and a step of curing the liquid material to form a first microlens and a second microlens. In the body applying step, liquid bodies having different volumes are applied to the region corresponding to the light emitting element, and the radius of curvature of the first microlens arranged opposite to the peripheral part of the lens element is the central part of the lens element. Is placed opposite to Than the radius of curvature of said second micro lenses, wherein the reduced form.
On the other hand, a method for manufacturing a line head according to the present invention is a method for manufacturing a line head, in which a plurality of light emitting elements are arranged and irradiates light to an exposed portion via a plurality of lens elements, A step of performing lyophilic treatment on an area corresponding to the light emitting element on a substrate disposed between the lens element and lyophobic treatment on an area other than the lyophilic treatment area; and the lyophilic treatment A step of applying a liquid material containing a microlens forming material to the region, and a step of drying the liquid material to form a microlens. It is characterized by applying.
According to this configuration, microlenses having different curvatures can be easily formed by applying liquid materials having different volumes.

なお、前記液状体塗布工程は、液滴吐出ヘッドから前記マイクロレンズの形成材料を含む液滴を吐出することによって行うことが望ましい。
この構成によれば、曲率の異なるマイクロレンズを正確に形成することができる。
The liquid material applying step is preferably performed by discharging droplets containing the microlens forming material from a droplet discharge head.
According to this configuration, it is possible to accurately form microlenses having different curvatures.

また、複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドの製造方法であって、前記発光素子と前記レンズ素子との間に配置された基板上の、前記発光素子に対応する領域に親液処理を施すとともに、前記親液処理領域以外の領域に撥液処理を施す工程と、前記親液処理領域に、マイクロレンズの形成材料を含む液状体を塗布する工程と、前記液状体を乾燥させて、マイクロレンズを形成する工程と、を有し、前記親液処理工程では、大きさの異なる前記親液処理領域を形成することを特徴とする。
この構成によれば、大きさの異なる前記親液処理領域を形成することにより、曲率の異なるマイクロレンズを簡単に形成することができる。
A method of manufacturing a line head in which a plurality of light emitting elements are arranged and irradiates light to an exposed portion via a plurality of lens elements, and is disposed between the light emitting elements and the lens elements. A step of applying a lyophilic process to a region corresponding to the light emitting element on the substrate and a lyophobic process to a region other than the lyophilic process region; A step of applying a liquid material; and a step of drying the liquid material to form a microlens, wherein the lyophilic processing region is formed with the lyophilic processing regions having different sizes. And
According to this configuration, microlenses having different curvatures can be easily formed by forming the lyophilic processing regions having different sizes.

一方、本発明の画像形成装置は、上述したラインヘッド、または上述したラインヘッド
の製造方法を使用して製造されたラインヘッドを、露光手段として備えたことを特徴とする。
この構成によれば、レンズアレイの周期的な光量ムラを解消することができるので、描画品質に優れた画像形成装置を提供することができる。
本発明のラインヘッドは、複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドであって、前記発光素子の前記レンズ素子の間に、第1のマイクロレンズと、第2のマイクロレンズと、を備え、前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記第1のマイクロレンズの曲率半径が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記第2のマイクロレンズの曲率半径より、小さいことを特徴とする。
本発明のラインヘッドは、複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドであって、前記発光素子の前記レンズ素子側に、マイクロレンズが形成され、前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記マイクロレンズの曲率が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記マイクロレンズの曲率より、小さく形成されていることを特徴とする。

On the other hand, the image forming apparatus of the present invention is characterized in that the line head manufactured using the above-described line head or the above-described method of manufacturing a line head is provided as an exposure unit.
According to this configuration, since it is possible to eliminate the periodic light amount unevenness of the lens array, it is possible to provide an image forming apparatus with excellent drawing quality.
The line head of the present invention is a line head that is formed by arranging a plurality of light emitting elements and irradiates light to an exposed portion through the plurality of lens elements, and is arranged between the lens elements of the light emitting elements. 1 microlens and a second microlens, wherein the radius of curvature of the first microlens arranged to face the periphery of the lens element is arranged to face the center of the lens element It is smaller than the radius of curvature of the second microlens.
The line head according to the present invention is a line head in which a plurality of light emitting elements are arranged and irradiates light to an exposed portion via the plurality of lens elements, and a microlens is disposed on the lens element side of the light emitting element. The curvature of the microlens disposed opposite to the periphery of the lens element is smaller than the curvature of the microlens disposed opposite to the center of the lens element. .

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、以下で参照する各図面においては、図面を見易くするために、各構成要素の寸法等を適宜変更して表示している。
[第1実施形態]
最初に、第1実施形態のラインヘッドにつき、図5等を用いて説明する。第1実施形態のラインヘッドは、有機EL素子からの光を集光してSL素子31aに入射させるマイクロレンズ13,14を備え、SL素子31aの周辺部に対向配置されたマイクロレンズ14の曲率が、SL素子31aの中央部に対向配置されたマイクロレンズ13の曲率より、小さく形成されているものである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each drawing referred to below, the dimensions and the like of each component are appropriately changed and displayed for easy understanding of the drawing.
[First Embodiment]
First, the line head according to the first embodiment will be described with reference to FIG. The line head according to the first embodiment includes microlenses 13 and 14 that condense light from an organic EL element and enter the SL element 31a, and the curvature of the microlens 14 that is disposed opposite to the periphery of the SL element 31a. However, it is formed smaller than the curvature of the microlens 13 disposed opposite to the central portion of the SL element 31a.

(ラインヘッドモジュール)
最初に、画像形成装置の露光手段として用いられるラインヘッドモジュールについて説明する。
図1は、ラインヘッドモジュールの側面断面図である。本実施形態のラインヘッドモジュール101は、複数の有機EL素子(不図示)およびマイクロレンズ12を整列配置したラインヘッド1と、ラインヘッド1からの光を正立等倍結像させるSL素子31aを整列配置したSLアレイ31とを、ヘッドケース52に固定して構成されている。このラインヘッドモジュール101では、ラインヘッド1に整列配置された有機EL素子からの光をマイクロレンズ12で集光し、SLアレイ31を構成するSL素子31aに入射させ、感光体ドラム41の外周面に成立等倍結像させて露光するようになっている。
(Line head module)
First, a line head module used as an exposure unit of the image forming apparatus will be described.
FIG. 1 is a side sectional view of a line head module. The line head module 101 according to the present embodiment includes a line head 1 in which a plurality of organic EL elements (not shown) and a microlens 12 are arranged and an SL element 31a that images the light from the line head 1 upright at an equal magnification. The arranged SL array 31 is fixed to the head case 52. In this line head module 101, light from the organic EL elements aligned and arranged on the line head 1 is collected by the microlens 12 and incident on the SL element 31 a constituting the SL array 31, and the outer peripheral surface of the photosensitive drum 41. In this case, the exposure is performed by forming an equal magnification image.

(ラインヘッド)
図2は、ラインヘッドを模式的に示した図であり、図2(a)は底面図であり、図2(b)は側面図である。図2(a)に示すように、ラインヘッド1は、長細い矩形の素子基板2上に、複数の有機EL素子3を配列してなる発光素子列3Aと、有機EL素子3を駆動させる駆動素子4からなる駆動素子群と、これら駆動素子4(駆動素子群)の駆動を制御する制御回路群5とを一体形成したものである。なお、図2(a)では有機EL素子3が1列に配置されているが、千鳥状に2列に配置してもよい。この場合には、ラインヘッド1の長手方向における有機EL素子3のピッチを小さくすることが可能になり、画像形成装置の解像度を向上させることができる。
(Line head)
2A and 2B are diagrams schematically showing the line head, in which FIG. 2A is a bottom view and FIG. 2B is a side view. As shown in FIG. 2A, the line head 1 includes a light emitting element array 3A in which a plurality of organic EL elements 3 are arranged on a long and thin rectangular element substrate 2, and driving for driving the organic EL elements 3. A drive element group composed of the elements 4 and a control circuit group 5 that controls driving of these drive elements 4 (drive element groups) are integrally formed. In FIG. 2A, the organic EL elements 3 are arranged in one row, but may be arranged in two rows in a staggered manner. In this case, the pitch of the organic EL elements 3 in the longitudinal direction of the line head 1 can be reduced, and the resolution of the image forming apparatus can be improved.

有機EL素子3は、一対の電極間に少なくとも有機発光層を備えたものであり、その一対の電極から発光層に電流を供給することにより発光するようになっている。その有機EL素子3における一方の電極には電源線8が接続され、他方の電極には駆動素子4を介して電源線7が接続されている。この駆動素子4は、薄膜トランジスタ(TFT)や薄膜ダイオード(TFD)等のスイッチング素子で構成されている。駆動素子4にTFTを採用した場合には、そのソース領域に電源線8が接続され、ゲート電極に制御回路群5が接続される。そして、制御回路群5により駆動素子4の動作が制御され、駆動素子4により有機EL素子3への通電が制御されるようになっている。なお、有機EL素子3および駆動素子4の詳細な構造および製造方法については後述する。   The organic EL element 3 includes at least an organic light emitting layer between a pair of electrodes, and emits light by supplying a current from the pair of electrodes to the light emitting layer. A power line 8 is connected to one electrode of the organic EL element 3, and a power line 7 is connected to the other electrode via a drive element 4. The drive element 4 is composed of a switching element such as a thin film transistor (TFT) or a thin film diode (TFD). When a TFT is adopted as the drive element 4, the power supply line 8 is connected to the source region, and the control circuit group 5 is connected to the gate electrode. The control circuit group 5 controls the operation of the drive element 4, and the drive element 4 controls the energization of the organic EL element 3. The detailed structure and manufacturing method of the organic EL element 3 and the driving element 4 will be described later.

図2(b)に示すように、ラインヘッド1の底面には、有機EL素子からの光を集光してSL素子に入射させるため、有機EL素子と同数のマイクロレンズ12が形成されている。
図8(a)は、ラインヘッドの側面断面の拡大図である。後述するように、本実施形態のラインヘッドは、基板2の上面に形成された有機EL素子3から、基板2を通して光を取り出すものである(ボトムエミッション方式)。その基板2の下面には、有機EL素子の形成領域に開口部18aを有するバンク(隔壁)18が形成されている。そして、その開口部18aの内部に、アクリル系樹脂等の光透過性材料からなるマイクロレンズ12が形成されている。
As shown in FIG. 2B, the same number of microlenses 12 as the organic EL elements are formed on the bottom surface of the line head 1 in order to collect the light from the organic EL elements and make it incident on the SL elements. .
FIG. 8A is an enlarged view of a side cross section of the line head. As will be described later, the line head of the present embodiment extracts light through the substrate 2 from the organic EL element 3 formed on the upper surface of the substrate 2 (bottom emission method). On the lower surface of the substrate 2, a bank (partition wall) 18 having an opening 18a in an organic EL element formation region is formed. A microlens 12 made of a light transmitting material such as an acrylic resin is formed inside the opening 18a.

マイクロレンズ12を形成するには、まず有機EL素子の形成領域に対応する開口部18aの内部を親液処理するとともに、バンク18の表面を撥液処理する。なお、親液処理は酸素ガスを用いてプラズマ処理することにより、撥液処理はCF4ガスを用いてプラズマ処理することにより、それぞれ行うことができる。次に、液滴吐出ヘッドを用いて、マイクロレンズの形成材料を含む液滴を開口部18aに吐出する。その後、吐出された液状体を硬化させて、マイクロレンズ12を形成する。   In order to form the microlens 12, first, the inside of the opening 18a corresponding to the formation region of the organic EL element is subjected to a lyophilic process, and the surface of the bank 18 is subjected to a liquid repellent process. The lyophilic treatment can be performed by performing plasma treatment using oxygen gas, and the lyophobic treatment can be performed by performing plasma treatment using CF 4 gas. Next, using a droplet discharge head, a droplet containing a microlens forming material is discharged to the opening 18a. Thereafter, the discharged liquid material is cured to form the microlens 12.

ここで、液滴吐出ヘッドから吐出された液滴は、撥液処理されたバンク18の表面に付着することなく、親液処理された開口部18aのみに付着する。したがって、大きさの異なる親液処理領域を形成することにより、平面積の異なるマイクロレンズ12を形成することができる。また、開口部18aの体積を越えて液滴が吐出されても、撥液処理されたバンク18の表面に濡れ広がることなく、開口部18aの内側でドーム状に盛り上がる。したがって、液滴の吐出量を異ならせることにより、曲率の異なるマイクロレンズ12を形成することができる。   Here, the liquid droplets ejected from the liquid droplet ejection head do not adhere to the surface of the bank 18 subjected to the liquid repellent treatment, and adhere only to the opening 18a subjected to the lyophilic treatment. Therefore, the microlenses 12 having different plane areas can be formed by forming the lyophilic processing regions having different sizes. Even if droplets are ejected beyond the volume of the opening 18a, the liquid does not spread on the surface of the bank 18 subjected to the liquid repellent treatment, and rises like a dome inside the opening 18a. Therefore, the microlenses 12 having different curvatures can be formed by varying the droplet discharge amount.

上述した液滴吐出ヘッドとして、通電により機械振動を生じる圧電素子を用いて液室内の圧力を変化させることによりノズルから液滴を吐出する方式の液滴吐出ヘッドを採用することが望ましい。なお、発熱体で液室内を局部的に加熱して気泡を発生させることによりノズルから液滴を吐出する方式の液滴吐出ヘッドを採用してもよい。これ以外にも、帯電制御型、加圧振動型といった連続方式、静電吸引方式、さらにはレーザなどの電磁波を照射して発熱させ、この発熱による作用で液状体を吐出させる方式等を採用することもできる。   As the above-described droplet discharge head, it is desirable to employ a droplet discharge head that discharges droplets from a nozzle by changing the pressure in the liquid chamber using a piezoelectric element that generates mechanical vibrations when energized. Note that a liquid droplet discharge head that discharges liquid droplets from a nozzle by locally heating the liquid chamber with a heating element to generate bubbles may be adopted. In addition to this, a continuous method such as a charge control type and a pressure vibration type, an electrostatic suction method, and a method in which an electromagnetic wave such as a laser is irradiated to generate heat and a liquid material is discharged by the action of this heat generation are adopted. You can also.

なお、親液処理領域以外の領域に、バンク18を設ける代わりに、フッ素基を含むSAM膜(自己組織化膜)を形成してもよい。このSAM膜の表面は撥液性を示すので、上記と同様にマイクロレンズを形成することができる。
また、マイクロレンズ12の形成位置は、有機EL素子3の光出射側であればよく、基板2の下面に限られない。特に、有機EL素子からできるだけ多くの光をマイクロレンズに入射させるには、有機EL素子とマイクロレンズとの距離をできるだけ小さくすることが望ましい。
Instead of providing the bank 18 in a region other than the lyophilic processing region, a SAM film containing a fluorine group (self-assembled film) may be formed. Since the surface of this SAM film exhibits liquid repellency, a microlens can be formed in the same manner as described above.
The formation position of the microlens 12 is not limited to the lower surface of the substrate 2 as long as it is on the light emitting side of the organic EL element 3. In particular, in order to allow as much light as possible to enter the microlens from the organic EL element, it is desirable to reduce the distance between the organic EL element and the microlens as much as possible.

(SLアレイ)
図3は、SLアレイの斜視図である。このSLアレイ31は、日本板硝子株式会社製のSL素子31aを配列したものである。このSL素子31aは、直径0.28mm程度のファイバー状に形成されている。また、各SL素子31aは千鳥状に配置され、各SL素子31aの隙間には黒色のシリコーン樹脂32が充填されている。さらに、その周囲にフレーム34が配置されて、SLアレイ31が形成されている。
(SL array)
FIG. 3 is a perspective view of the SL array. The SL array 31 is an array of SL elements 31a manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd. The SL element 31a is formed in a fiber shape having a diameter of about 0.28 mm. The SL elements 31a are arranged in a staggered manner, and the gap between the SL elements 31a is filled with a black silicone resin 32. Further, a frame 34 is arranged around the periphery, and an SL array 31 is formed.

このSL素子31aは、その中心から周辺にかけて放物線上の屈折率分布を有している。そのため、SL素子31aに入射した光は、その内部を一定周期で蛇行しながら進むようになっている。このSL素子31aの長さを調整すれば、画像を正立等倍結像させることができる。そして、正立等倍結像するSL素子31aを整列配置すれば、隣接するSL素子31aの作る像を重ね合わせることが可能になり、広範囲の画像を得ることができる。したがって、図3のSLアレイは、ラインヘッド全体からの光を精度よく結像させることができるようになっている。   The SL element 31a has a parabolic refractive index distribution from the center to the periphery. For this reason, the light incident on the SL element 31a travels while meandering through the inside thereof at a constant period. By adjusting the length of the SL element 31a, it is possible to form an image upright at an equal magnification. If the SL elements 31a for erecting equal-magnification imaging are aligned, images formed by the adjacent SL elements 31a can be superimposed, and a wide range of images can be obtained. Therefore, the SL array of FIG. 3 can accurately form light from the entire line head.

(マイクロレンズ)
図4は、ラインヘッドの光束分布およびSLアレイの光量ムラの説明図である。なお、図4(a)はラインヘッドの平面図であり、図4(b)はラインヘッドおよびSLアレイの正面断面図であり、図4(c)はSLアレイの光量分布を示すグラフである。
有機EL素子(不図示)から放射状に照射された光は、図4(b)に示すマイクロレンズ12により集光されて、SL素子31aに出射される。なお、マイクロレンズ12により集光することなくSL素子31aに入射させた場合には、SLアレイの光伝達効率はラインヘッドの全発光量の6%程度であるが、マイクロレンズ12により集光してSL素子31aに入射させることにより、光伝達効率を少なくとも6%以上に向上させることができる。
(Micro lens)
FIG. 4 is an explanatory diagram of the light flux distribution of the line head and the light amount unevenness of the SL array. 4A is a plan view of the line head, FIG. 4B is a front sectional view of the line head and the SL array, and FIG. 4C is a graph showing the light quantity distribution of the SL array. .
Light emitted radially from an organic EL element (not shown) is collected by the microlens 12 shown in FIG. 4B and emitted to the SL element 31a. When the light is incident on the SL element 31a without being condensed by the microlens 12, the light transmission efficiency of the SL array is about 6% of the total light emission amount of the line head. Thus, the light transmission efficiency can be improved to at least 6% or more by entering the SL element 31a.

このように、有機EL素子から放射状に照射された光を、マイクロレンズ12により集光するので、マイクロレンズ12からの出射光の光束分布12bは略球状となっている。なお図4(b)では、各マイクロレンズ12が同一形状に形成されているので、各マイクロレンズ12からの光束分布12bは同一形状となっている。一方、複数のマイクロレンズ12に対して、1個のSL素子31aが対向配置されている。そして、1個のSL素子31aからの出射光は、フットボールを半分にしたような光量分布31bを示している。   Thus, since the light irradiated radially from the organic EL element is condensed by the microlens 12, the luminous flux distribution 12b of the emitted light from the microlens 12 is substantially spherical. In FIG. 4B, since each microlens 12 is formed in the same shape, the light flux distribution 12b from each microlens 12 has the same shape. On the other hand, one SL element 31 a is disposed opposite to the plurality of microlenses 12. And the emitted light from one SL element 31a has shown light quantity distribution 31b which halved the football.

このようなSL素子31aを並べてSLアレイ31が構成されるので、SLアレイ31からの出射光には、図4(c)に示す周期的な光量ムラが発生する。すなわち、各SL素子31aの中央部の光量が大きく周縁部の光量が小さい状態が、SL素子31aの配列方向に沿って周期的に発生することになる。なお、SLアレイ31全体における光量ムラのレベルは±5%程度である。そして、このような光量ムラを伴うラインヘッドモジュールを用いて、図1に示す感光体ドラム41を露光すれば、画像形成装置の描画品質を低下させることになる。   Since the SL array 31 is configured by arranging such SL elements 31a, periodic light amount unevenness shown in FIG. 4C occurs in the light emitted from the SL array 31. That is, a state in which the light amount at the center of each SL element 31a is large and the light amount at the peripheral edge is small periodically occurs along the arrangement direction of the SL elements 31a. Note that the level of unevenness in the amount of light in the entire SL array 31 is about ± 5%. If the photosensitive drum 41 shown in FIG. 1 is exposed using such a line head module with uneven light quantity, the drawing quality of the image forming apparatus is degraded.

図5は、第1実施形態に係るラインヘッドの光束分布およびSLアレイの光量ムラの説明図である。なお、図5(a)はラインヘッドの平面図であり、図5(b)はラインヘッドおよびSLアレイの正面断面図であり、図5(c)はSLアレイの光量分布を示すグラフである。
第1実施形態のラインヘッドでは、図5(b)に示すように、各マイクロレンズの曲率を連続的に変化させている。すなわち、SL素子31aの周縁部に対向配置されたマイクロレンズ14の曲率を、SL素子31aの中央部に対向配置されたマイクロレンズ13の曲率より小さくしている。なお、曲率の異なるマイクロレンズは、マイクロレンズの形成材料を含む液滴の吐出量を異ならせることによって形成することが可能である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of the light flux distribution of the line head and the light amount unevenness of the SL array according to the first embodiment. 5A is a plan view of the line head, FIG. 5B is a front sectional view of the line head and the SL array, and FIG. 5C is a graph showing the light amount distribution of the SL array. .
In the line head of the first embodiment, as shown in FIG. 5B, the curvature of each microlens is continuously changed. That is, the curvature of the microlens 14 disposed opposite to the peripheral portion of the SL element 31a is smaller than the curvature of the microlens 13 disposed opposite to the central portion of the SL element 31a. Note that microlenses having different curvatures can be formed by changing the discharge amounts of droplets containing microlens forming materials.

図7(a)は、マイクロレンズの曲率と集光作用との関係の説明図である。図7(a)に示すように、マイクロレンズ14の曲率R2は、マイクロレンズ13の曲率R1より小さくなっている。この場合、マイクロレンズ14からの出射光は、マイクロレンズ13からの出射光に比べて、光軸の近傍に絞られている。そのため、図5(b)に示すように、マイクロレンズ13からの出射光の光束分布13bが略真球状であるのに対して、マイクロレンズ14からの出射光の光束分布14bは略楕円球状となっている。これにより、各マイクロレンズの曲率が等しい場合と比べて、SL素子31aの周縁部に対してより多くの光を入射させることができる。したがって、SL素子31aの周縁部からの出射光の光量を、SL素子31aの中央部からの出射光の光量と同等にすることが可能になる。その結果、図5(c)に示すように、SLアレイ31全体の光量分布がフラットになり、周期的な光量ムラを解消することができる。そして、このような光量ムラのないラインヘッドモジュールを用いて、図1に示す感光体ドラム41を露光することにより、画像形成装置の描画品質を向上させることができる。   FIG. 7A is an explanatory diagram of the relationship between the curvature of the microlens and the light condensing action. As shown in FIG. 7A, the curvature R2 of the microlens 14 is smaller than the curvature R1 of the microlens 13. In this case, the light emitted from the microlens 14 is narrowed near the optical axis as compared with the light emitted from the microlens 13. Therefore, as shown in FIG. 5B, the luminous flux distribution 13b of the outgoing light from the microlens 13 is substantially spherical, whereas the luminous flux distribution 14b of the outgoing light from the microlens 14 is substantially elliptical. It has become. Thereby, compared with the case where the curvature of each micro lens is equal, more light can be entered with respect to the peripheral part of SL element 31a. Therefore, it becomes possible to make the light quantity of the emitted light from the peripheral part of the SL element 31a equal to the light quantity of the emitted light from the center part of the SL element 31a. As a result, as shown in FIG. 5C, the light quantity distribution of the entire SL array 31 becomes flat, and periodic light quantity unevenness can be eliminated. The exposure quality of the image forming apparatus can be improved by exposing the photosensitive drum 41 shown in FIG. 1 using such a line head module having no light amount unevenness.

なお、図5(b)に示す1個のSL素子31aの光読み込み角は±11°程度である。したがって、ラインヘッド1から出射した光が上記角度範囲を超えてSL素子31aに入射した場合には、その光は結像に寄与しないことになる。そこで、上述したようにマイクロレンズ14からの出射光を光軸の近傍に絞れば、上記角度範囲内でSL素子31aに入射する光を格段に増加させることができる。そして、SLアレイ31全体における光量ムラのレベルは±5%程度であるから、本実施形態の構成によってこの光量ムラを十分に解消することができるのである。   The light reading angle of one SL element 31a shown in FIG. 5B is about ± 11 °. Therefore, when the light emitted from the line head 1 enters the SL element 31a beyond the angular range, the light does not contribute to image formation. Therefore, if the light emitted from the microlens 14 is narrowed to the vicinity of the optical axis as described above, the light incident on the SL element 31a within the above angle range can be significantly increased. Since the level of the light amount unevenness in the entire SL array 31 is about ± 5%, the light amount unevenness can be sufficiently eliminated by the configuration of the present embodiment.

[第2実施形態]
次に、第2実施形態のラインヘッドにつき、図6等を用いて説明する。
図6は、第2実施形態に係るラインヘッドの光束分布およびSLアレイの光量ムラの説明図である。なお、図6(a)はラインヘッドの平面図であり、図6(b)はラインヘッドおよびSLアレイの正面断面図であり、図6(c)はSLアレイの光量分布を示すグラフである。第2実施形態のラインヘッドは、SL素子31aの周辺部に対向配置されたマイクロレンズ16の平面積が、SL素子31aの中央部に対向配置されたマイクロレンズ15の平面積より、大きく形成されているものである。
[Second Embodiment]
Next, a line head according to a second embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 6 is an explanatory diagram of the light flux distribution of the line head and the light amount unevenness of the SL array according to the second embodiment. 6A is a plan view of the line head, FIG. 6B is a front sectional view of the line head and the SL array, and FIG. 6C is a graph showing the light quantity distribution of the SL array. . The line head according to the second embodiment is formed such that the plane area of the microlens 16 disposed opposite to the periphery of the SL element 31a is larger than the plane area of the microlens 15 disposed opposite to the center of the SL element 31a. It is what.

第2実施形態のラインヘッドでは、図6(a)および図6(b)に示すように、各マイクロレンズの平面積を連続的に変化させている。すなわち、SL素子31aの周縁部に対向配置されたマイクロレンズ16の平面積を、SL素子31aの中央部に対向配置されたマイクロレンズ15の平面積より大きくしている。なお、平面積の異なるマイクロレンズは、親液処理領域の面積を異ならせることによって形成することが可能である。   In the line head according to the second embodiment, as shown in FIGS. 6A and 6B, the plane area of each microlens is continuously changed. That is, the plane area of the microlens 16 disposed opposite to the peripheral portion of the SL element 31a is larger than the plane area of the microlens 15 disposed opposite to the center of the SL element 31a. Note that microlenses having different plane areas can be formed by changing the areas of the lyophilic processing regions.

図7(b)は、マイクロレンズの平面積と集光作用との関係の説明図である。図7(b)に示すように、マイクロレンズ16の平面積S2は、マイクロレンズ15の平面積S1より大きくなっている。この場合、マイクロレンズ16では、マイクロレンズ15に比べて、有機EL素子3から多くの光を入射させることができる。したがって、図6(b)に示すように、マイクロレンズ15からの出射光の光束分布15bに比べて、マイクロレンズ16からの出射光の光束分布16bは、面積が広く(光が強く)なっている。これにより、各マイクロレンズの平面積が等しい場合と比べて、SL素子31aの周縁部に対してより多くの光を入射させることができる。したがって、SL素子31aの周縁部からの出射光の光量を、SL素子31aの中央部からの出射光の光量と同等にすることが可能になる。その結果、図6(c)に示すように、SLアレイ31全体の光量分布がフラットになり、周期的な光量ムラを解消することができる。そして、このような光量ムラのないラインヘッドモジュールを用いて、図1に示す感光体ドラム41を露光することにより、画像形成装置の描画品質を向上させることができる。   FIG. 7B is an explanatory diagram of the relationship between the plane area of the microlens and the light condensing function. As shown in FIG. 7B, the plane area S2 of the microlens 16 is larger than the plane area S1 of the microlens 15. In this case, the microlens 16 can make more light incident from the organic EL element 3 than the microlens 15. Therefore, as shown in FIG. 6B, the luminous flux distribution 16b of the outgoing light from the microlens 16 has a larger area (stronger light) than the luminous flux distribution 15b of the outgoing light from the microlens 15. Yes. Thereby, compared with the case where the planar area of each microlens is equal, more light can be entered with respect to the peripheral part of SL element 31a. Therefore, it becomes possible to make the light quantity of the emitted light from the peripheral part of the SL element 31a equal to the light quantity of the emitted light from the center part of the SL element 31a. As a result, as shown in FIG. 6C, the light quantity distribution of the entire SL array 31 becomes flat, and periodic light quantity unevenness can be eliminated. The exposure quality of the image forming apparatus can be improved by exposing the photosensitive drum 41 shown in FIG. 1 using such a line head module having no light amount unevenness.

(有機EL素子および駆動素子)
次に、ラインヘッドにおける有機EL素子や駆動素子等の詳細な構成について、図8(a)、(b)を参照して説明する。
発光層60で発光した光を画素電極23側から出射する、いわゆるボトムエミッション型である場合には、素子基板2側から発光光を取り出す構成であるので、素子基板2としては透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂(プラスチック、プラスチックフィルム)等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。
(Organic EL element and driving element)
Next, detailed configurations of the organic EL element and the driving element in the line head will be described with reference to FIGS.
In the case of a so-called bottom emission type in which the light emitted from the light emitting layer 60 is emitted from the pixel electrode 23 side, the light emitting light is extracted from the element substrate 2 side. Therefore, the element substrate 2 is transparent or translucent. Things are adopted. For example, glass, quartz, resin (plastic, plastic film) and the like can be mentioned, and a glass substrate is particularly preferably used.

また、発光層60で発光した光を陰極(対向電極)50側から出射する、いわゆるトップエミッション型である場合には、この素子基板2の対向側である封止基板側から発光光を取り出す構成となるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
本実施形態では、ボトムエミッション型が採用され、したがって素子基板2には透明なガラスが用いられるものとする。
In the case of a so-called top emission type in which the light emitted from the light emitting layer 60 is emitted from the cathode (counter electrode) 50 side, the emitted light is extracted from the sealing substrate side that is the opposite side of the element substrate 2. Therefore, either a transparent substrate or an opaque substrate can be used. Examples of the opaque substrate include a thermosetting resin and a thermoplastic resin in addition to a ceramic sheet such as alumina and a metal sheet such as stainless steel that has been subjected to an insulation treatment such as surface oxidation.
In the present embodiment, a bottom emission type is adopted, and therefore transparent glass is used for the element substrate 2.

素子基板2上には、画素電極23に接続する駆動用TFT123(駆動素子4)などを含む回路部11が形成されており、その上に有機EL素子3が設けられている。有機EL素子3は、陽極として機能する画素電極23と、この画素電極23からの正孔を注入/輸送する正孔輸送層70と、有機EL物質からなる発光層60と、陰極50とが順に形成されたことによって構成されている。   On the element substrate 2, a circuit unit 11 including a driving TFT 123 (driving element 4) connected to the pixel electrode 23 is formed, and an organic EL element 3 is provided thereon. The organic EL element 3 includes a pixel electrode 23 functioning as an anode, a hole transport layer 70 for injecting / transporting holes from the pixel electrode 23, a light emitting layer 60 made of an organic EL material, and a cathode 50 in this order. It is configured by being formed.

ここで、有機EL素子3および駆動用TFT123(駆動素子4)を図2(a)に対応した模式図で示すと、図8(b)に示すようになる。図8(b)において、電源線7は駆動素子4のソース/ドレイン電極に接続し、電源線8は有機EL素子3の陰極50に接続している。
そして、このような構成のもとに有機EL素子3は、図8(a)に示すように、正孔輸送層70から注入された正孔と陰極50からの電子とが発光層60で結合することにより、発光をなすようになっている。
Here, when the organic EL element 3 and the driving TFT 123 (driving element 4) are shown in a schematic view corresponding to FIG. 2A, it is as shown in FIG. 8B. In FIG. 8B, the power supply line 7 is connected to the source / drain electrodes of the drive element 4, and the power supply line 8 is connected to the cathode 50 of the organic EL element 3.
In the organic EL element 3 having such a configuration, the holes injected from the hole transport layer 70 and the electrons from the cathode 50 are combined in the light emitting layer 60 as shown in FIG. By doing so, it emits light.

また、本実施形態においては、画素電極23上にSiO2等の親液性の絶縁材料からなる無機隔壁25が形成されており、この無機隔壁25には開口25aが形成されている。ここで、無機隔壁25は絶縁材料からなっているので、後述するように前記開口25a内に臨むようにして設けられた機能層においては、この無機隔壁25で覆われた箇所には電流が流れず、したがって発光する領域、すなわち発光面積は、この無機隔壁25の開口25aによって決定されるようになっている。   In this embodiment, an inorganic partition wall 25 made of a lyophilic insulating material such as SiO 2 is formed on the pixel electrode 23, and an opening 25 a is formed in the inorganic partition wall 25. Here, since the inorganic partition wall 25 is made of an insulating material, in the functional layer provided so as to face the opening 25a as will be described later, no current flows through the portion covered with the inorganic partition wall 25, Therefore, the light emitting region, that is, the light emitting area is determined by the opening 25 a of the inorganic partition wall 25.

陽極として機能する画素電極23は、特にボトムエミッション型である場合、透明導電材料によって形成され、具体的にはITOが好適に用いられる。
正孔輸送層70の形成材料としては、特に3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に3,4−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層70の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
The pixel electrode 23 that functions as an anode is formed of a transparent conductive material, particularly in the case of a bottom emission type, and specifically, ITO is preferably used.
As a material for forming the hole transport layer 70, in particular, a dispersion of 3,4-polyethylenediosithiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS), that is, 3,4-polyethylenedioxy in polystyrene sulfonic acid as a dispersion medium. A dispersion in which thiophene is dispersed and further dispersed in water is preferably used.
In addition, as a forming material of the positive hole transport layer 70, various things can be used, without being limited to the said thing. For example, a material obtained by dispersing polystyrene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene or a derivative thereof in an appropriate dispersion medium such as the aforementioned polystyrene sulfonic acid can be used.

発光層60を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。なお、本実施形態では、例えば発光波長帯域が赤色に対応した発光層が採用されるが、もちろん、発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光層を採用するようにしてもよい。   As a material for forming the light emitting layer 60, a known light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence is used. In this embodiment, for example, a light emitting layer whose emission wavelength band corresponds to red is adopted, but of course, a light emission layer whose emission wavelength band corresponds to green or blue may be adopted.

発光層60の形成材料として具体的には、(ポリ)フルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。   Specific examples of the material for forming the light emitting layer 60 include (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), and polyvinylcarbazole (PVK). ), Polythiophene derivatives, and polysilanes such as polymethylphenylsilane (PMPS) are preferably used. In addition, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, and quinacridone. It can also be used by doping a low molecular weight material such as.

陰極50は、前記発光層60を覆って形成されたもので、例えばCaを厚さ20nm程度に形成し、その上にAlを厚さ200nm程度に形成して積層構造の電極とし、Alを反射層としても機能させたものである。
また、この陰極50上には接着層を介して封止基板(図示せず)が貼着されている。
The cathode 50 is formed so as to cover the light emitting layer 60. For example, Ca is formed to a thickness of about 20 nm, and Al is formed thereon to a thickness of about 200 nm to form an electrode having a laminated structure, and the Al is reflected. It also functions as a layer.
Further, a sealing substrate (not shown) is stuck on the cathode 50 via an adhesive layer.

また、このような有機EL素子3の下方には、前述したように回路部11が設けられている。この回路部11は素子基板2上に形成されたものである。すなわち、素子基板2の表面にはSiO2を主体とする下地保護層281が下地として形成され、その上にはシリコン層241が形成されている。このシリコン層241の表面には、SiO2及び/又はSiNを主体とするゲート絶縁層282が形成されている。   In addition, the circuit unit 11 is provided below the organic EL element 3 as described above. The circuit unit 11 is formed on the element substrate 2. That is, a base protective layer 281 mainly composed of SiO 2 is formed on the surface of the element substrate 2 as a base, and a silicon layer 241 is formed thereon. A gate insulating layer 282 mainly composed of SiO 2 and / or SiN is formed on the surface of the silicon layer 241.

また、前記シリコン層241のうち、ゲート絶縁層282を挟んでゲート電極242と重なる領域がチャネル領域241aとされている。なお、このゲート電極242は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層241を覆い、ゲート電極242を形成したゲート絶縁層282の表面には、SiO2を主体とする第1層間絶縁層283が形成されている。   In the silicon layer 241, a region overlapping with the gate electrode 242 with the gate insulating layer 282 interposed therebetween is a channel region 241a. The gate electrode 242 is a part of a scanning line (not shown). On the other hand, a first interlayer insulating layer 283 mainly composed of SiO 2 is formed on the surface of the gate insulating layer 282 that covers the silicon layer 241 and on which the gate electrode 242 is formed.

また、シリコン層241のうち、チャネル領域241aのソース側には、低濃度ソース領域241bおよび高濃度ソース領域241Sが設けられる一方、チャネル領域241aのドレイン側には低濃度ドレイン領域241cおよび高濃度ドレイン領域241Dが設けられて、いわゆるLDD(Light Doped Drain )構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域241Sは、ゲート絶縁層282と第1層間絶縁層283とにわたって開孔するコンタクトホール243aを介して、ソース電極243に接続されている。このソース電極243は、電源線(図示せず)の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域241Dは、ゲート絶縁層282と第1層間絶縁層283とにわたって開孔するコンタクトホール244aを介して、ソース電極243と同一層からなるドレイン電極244に接続されている。   Further, in the silicon layer 241, a low concentration source region 241b and a high concentration source region 241S are provided on the source side of the channel region 241a, while a low concentration drain region 241c and a high concentration drain are provided on the drain side of the channel region 241a. The region 241D is provided to form a so-called LDD (Light Doped Drain) structure. Among these, the high-concentration source region 241S is connected to the source electrode 243 through a contact hole 243a that opens over the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283. The source electrode 243 is configured as a part of a power supply line (not shown). On the other hand, the high-concentration drain region 241D is connected to the drain electrode 244 made of the same layer as the source electrode 243 through a contact hole 244a that opens through the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283.

ソース電極243およびドレイン電極244が形成された第1層間絶縁層283の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化膜284が形成されている。この平坦化膜284は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用TFT123(駆動素子4)やソース電極243、ドレイン電極244などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。   On the first interlayer insulating layer 283 on which the source electrode 243 and the drain electrode 244 are formed, for example, a planarizing film 284 mainly composed of an acrylic resin component is formed. The planarizing film 284 is formed of a heat-resistant insulating resin such as acrylic or polyimide, and has surface irregularities caused by the driving TFT 123 (driving element 4), the source electrode 243, the drain electrode 244, and the like. It is a well-known thing formed in order to eliminate.

そして、ITO等からなる画素電極23が、この平坦化膜284の表面上に形成されるとともに、該平坦化膜284に設けられたコンタクトホール23aを介してドレイン電極244に接続されている。すなわち、画素電極23は、ドレイン電極244を介して、シリコン層241の高濃度ドレイン領域241Dに接続されている。   A pixel electrode 23 made of ITO or the like is formed on the surface of the planarizing film 284 and connected to the drain electrode 244 through a contact hole 23a provided in the planarizing film 284. That is, the pixel electrode 23 is connected to the high concentration drain region 241D of the silicon layer 241 through the drain electrode 244.

画素電極23が形成された平坦化膜284の表面には、画素電極23と、前述した無機隔壁25とが形成されており、さらに無機隔壁25上には、有機隔壁221が形成されている。そして、画素電極23上には、無機隔壁25に形成された前記開口25aと、有機隔壁221に形成された開口221aとの内部、すなわち画素領域に、前記の正孔輸送層70と発光層60とが画素電極23側からこの順で積層され、これによって機能層が形成されている。   On the surface of the planarization film 284 on which the pixel electrode 23 is formed, the pixel electrode 23 and the above-described inorganic partition wall 25 are formed, and on the inorganic partition wall 25, an organic partition wall 221 is formed. On the pixel electrode 23, the hole transport layer 70 and the light emitting layer 60 are formed inside the opening 25 a formed in the inorganic partition wall 25 and the opening 221 a formed in the organic partition wall 221, that is, in the pixel region. Are stacked in this order from the pixel electrode 23 side, thereby forming a functional layer.

一方、素子基板2の下面には、有機EL素子の形成領域に開口部18aを有するバンク(隔壁)18が形成されている。そして、その開口部18aの内部に、アクリル樹脂等の光透過性材料からなるマイクロレンズ12が形成されている。   On the other hand, on the lower surface of the element substrate 2, a bank (partition wall) 18 having an opening 18a in an organic EL element formation region is formed. A microlens 12 made of a light transmitting material such as acrylic resin is formed inside the opening 18a.

(ラインヘッドの製造方法)
次に、このような構成のラインヘッドの製造方法について説明する。
まず、図9(a)に示すように、素子基板2の表面に、下地保護層281を形成し、さらにこの下地保護層281上にポリシリコン層等を形成して、このポリシリコン層等から回路部11を形成する。
次いで、素子基板2の全面を覆うように画素電極23となる透明導電膜を、ITO等によって形成する。そして、この導電膜をパターニングすることにより、平坦化膜284のコンタクトホール23aを介してドレイン電極244と導通する画素電極23を形成する。
(Line head manufacturing method)
Next, a manufacturing method of the line head having such a configuration will be described.
First, as shown in FIG. 9A, a base protective layer 281 is formed on the surface of the element substrate 2, and a polysilicon layer or the like is further formed on the base protective layer 281. The circuit unit 11 is formed.
Next, a transparent conductive film to be the pixel electrode 23 is formed of ITO or the like so as to cover the entire surface of the element substrate 2. Then, by patterning this conductive film, the pixel electrode 23 that is electrically connected to the drain electrode 244 through the contact hole 23a of the planarizing film 284 is formed.

次いで、画素電極23上および平坦化膜284上に、SiO2等の絶縁材料をCVD法等で成膜して隔壁層(図示せず)を形成し、続いて、公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いて隔壁層をパターニングする。これにより、図9(b)に示すように、形成する各有機EL素子の画素領域毎に開口25aを形成すると同時に、無機隔壁25を形成する。   Next, an insulating material such as SiO 2 is formed on the pixel electrode 23 and the planarizing film 284 by a CVD method or the like to form a partition layer (not shown), followed by a known photolithography technique or etching technique. Is used to pattern the partition wall layer. Thereby, as shown in FIG. 9B, the opening 25a is formed for each pixel region of each organic EL element to be formed, and at the same time, the inorganic partition wall 25 is formed.

次いで、図9(c)に示すように、無機隔壁25の所定位置、詳しくは画素領域を囲む位置に樹脂等によって有機隔壁221を形成する。
次いで、素子基板2の表面に、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とを形成する。本実施形態においては、プラズマ処理によって各領域を形成するものする。具体的には、該プラズマ処理は、予備加熱工程と、有機隔壁221の表面および開口221aの壁面ならびに画素電極23の電極面23c、無機隔壁25の表面をそれぞれ親液性にする親液化工程と、有機隔壁221の上面および開口221aの壁面を撥液性にする撥液化工程と、冷却工程とで構成する。
Next, as shown in FIG. 9C, an organic partition 221 is formed with a resin or the like at a predetermined position of the inorganic partition 25, specifically, a position surrounding the pixel region.
Next, a region showing lyophilicity and a region showing liquid repellency are formed on the surface of the element substrate 2. In the present embodiment, each region is formed by plasma processing. Specifically, the plasma treatment includes a preheating step, a lyophilic step for making the surface of the organic partition wall 221 and the wall surface of the opening 221a, the electrode surface 23c of the pixel electrode 23, and the surface of the inorganic partition wall 25 lyophilic. The liquid barrier layer 221 includes a liquid repellent process for making the upper surface of the organic partition wall 221 and the wall surface of the opening 221a liquid repellent, and a cooling process.

すなわち、基材(バンクなどを含む素子基板2)を所定温度、例えば70〜80℃程度に加熱し、次いで親液化工程として大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理(O2プラズマ処理)を行う。次いで、撥液化工程として大気圧下で4フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理(CF4プラズマ処理)を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された基材を室温まで冷却することで、親液性および撥液性が所定箇所に付与されることとなる。   That is, the base material (element substrate 2 including a bank or the like) is heated to a predetermined temperature, for example, about 70 to 80 ° C., and then a plasma treatment (O 2 plasma treatment) using oxygen as a reaction gas at atmospheric pressure as a lyophilic process. Do. Next, a plasma treatment (CF4 plasma treatment) using methane tetrafluoride as a reaction gas under atmospheric pressure is performed as a lyophobic process, and then the base material heated for the plasma treatment is cooled to room temperature. Liquidity and liquid repellency are imparted to a predetermined location.

なお、このCF4プラズマ処理においては、画素電極23の電極面23cおよび無機隔壁25についても多少の影響を受けるが、画素電極23の材料であるITOおよび無機隔壁25の構成材料であるSiO2、TiO2などはフッ素に対する親和性に乏しいため、親液化工程で付与された水酸基がフッ素基で置換されることがなく、親液性が保たれる。   In this CF4 plasma treatment, the electrode surface 23c of the pixel electrode 23 and the inorganic partition wall 25 are somewhat affected, but ITO, which is the material of the pixel electrode 23, and SiO2, TiO2, etc., which are the constituent materials of the inorganic partition wall 25, etc. Has poor affinity for fluorine, so that the hydroxyl group imparted in the lyophilic step is not substituted with the fluorine group, and the lyophilic property is maintained.

次いで、正孔輸送層形成工程によって正孔輸送層70を形成する。この正孔輸送層形成工程では、液滴吐出法として、特にインクジェット法が好適に採用される。すなわち、このインクジェット法により、正孔輸送層形成材料を電極面23c上に選択的に配し、これを塗布する。その後、乾燥処理および熱処理を行い、電極23上に正孔輸送層70を形成する。正孔輸送層70の形成材料としては、例えば前記のPEDOT:PSSをイソプロピルアルコールなどの極性溶媒に溶解させたものが用いられる。   Next, the hole transport layer 70 is formed by a hole transport layer forming step. In this hole transport layer forming step, an inkjet method is particularly preferably employed as the droplet discharge method. That is, by this ink jet method, the hole transport layer forming material is selectively disposed on the electrode surface 23c and applied. Thereafter, drying treatment and heat treatment are performed to form the hole transport layer 70 on the electrode 23. As a material for forming the hole transport layer 70, for example, a material obtained by dissolving the PEDOT: PSS in a polar solvent such as isopropyl alcohol is used.

ここで、このインクジェット法による正孔輸送層70の形成にあたっては、まず、インクジェットヘッド(図示略)に正孔輸送層形成材料を充填し、インクジェットヘッドの吐出ノズルを無機隔壁25に形成された前記開口25a内に位置する電極面23cに対向させ、インクジェットヘッドと基材(素子基板2)とを相対移動させながら、吐出ノズルから1滴当たりの液量が制御された液滴を電極面23cに吐出する。次に、吐出後の液滴を乾燥処理し、正孔輸送層材料に含まれる分散媒や溶媒を蒸発させることにより、正孔輸送層70を形成する。   Here, in forming the hole transport layer 70 by the ink jet method, first, the ink jet head (not shown) is filled with a hole transport layer forming material, and the discharge nozzle of the ink jet head is formed in the inorganic partition wall 25. Opposite the electrode surface 23c located in the opening 25a, and moving the ink jet head and the base material (element substrate 2) relative to each other, droplets with a controlled liquid amount per droplet from the discharge nozzle are applied to the electrode surface 23c. Discharge. Next, the discharged droplets are dried and the hole transport layer 70 is formed by evaporating the dispersion medium and the solvent contained in the hole transport layer material.

このとき、吐出ノズルから吐出された液滴は、親液性処理がなされた電極面23c上にて広がり、無機隔壁25の開口25a内に満たされて該開口25a内に臨むようになる。その一方で、撥液処理された有機隔壁221の上面では、液滴がはじかれて付着しない。したがって、液滴が所定の吐出位置からずれて、液滴の一部が有機隔壁221の表面にかかったとしても、該表面が液滴で濡れることがなく、弾かれた液滴が無機隔壁25の開口25a内に引き込まれる。
なお、この正孔輸送層形成工程以降では、各種の形成材料や形成した要素の酸化・吸湿を防止すべく、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
At this time, the droplet discharged from the discharge nozzle spreads on the electrode surface 23c that has been subjected to the lyophilic treatment, fills the opening 25a of the inorganic partition wall 25, and faces the opening 25a. On the other hand, droplets are repelled and do not adhere to the upper surface of the organic barrier 221 that has been subjected to the liquid repellent treatment. Therefore, even if the liquid droplet is displaced from a predetermined discharge position and a part of the liquid droplet is applied to the surface of the organic partition wall 221, the surface is not wetted by the liquid droplet, and the repelled liquid droplet is the inorganic partition wall 25. Into the opening 25a.
In addition, after this positive hole transport layer formation process, it is preferable to carry out in inert gas atmospheres, such as nitrogen atmosphere and argon atmosphere, in order to prevent oxidation and moisture absorption of various formation materials and the formed element.

次いで、図10(a)に示すように、発光層形成工程による発光層60の形成を行う。発光層形成工程では、前記の正孔輸送層70の形成と同様に、液滴吐出法であるインクジェット法が好適に採用される。すなわち、インクジェット法により、発光層形成材料を正孔輸送層70上に吐出し、その後、乾燥処理および熱処理を行うことにより、有機隔壁221に形成された開口221a内、すなわち画素領域上に発光層60を形成する。
以上の正孔輸送層70の形成工程と発光層60の形成工程とにより、本発明における機能層を形成することができる。
Next, as shown in FIG. 10A, the light emitting layer 60 is formed by the light emitting layer forming step. In the light emitting layer forming step, as in the formation of the hole transport layer 70, an ink jet method which is a droplet discharge method is suitably employed. That is, the light emitting layer forming material is ejected onto the hole transport layer 70 by an ink jet method, and then subjected to a drying process and a heat treatment, whereby the light emitting layer is formed in the opening 221a formed in the organic partition 221, that is, on the pixel region. 60 is formed.
The functional layer in the present invention can be formed by the formation process of the hole transport layer 70 and the formation process of the light emitting layer 60 described above.

次いで、図10(b)に示すように、陰極層形成工程によって陰極50を形成する。この陰極50については、EL素子を効率よく発光させるため、電子注入層と導電層のような積層構造を採用するのが一般的であり、例えばアルミニウムなどの金属材料が使用可能である。なお、この陰極50の形成では、前記正孔輸送層70や発光層60の形成とは異なり、蒸着法やスパッタ法等で行うため、画素領域にのみ選択的に形成材料を配するのでなく、素子基板2のほぼ全面に形成材料が設けられることになる。そこで、本実施形態では、素子基板2と図示しないメタルマスクを位置合わせして蒸着法やスパッタ法で陰極50を成膜することにより、図10(b)に示したように基板周辺部に陰極50が形成されないようにする。   Next, as shown in FIG. 10B, the cathode 50 is formed by a cathode layer forming step. The cathode 50 generally employs a laminated structure such as an electron injection layer and a conductive layer in order to cause the EL element to emit light efficiently. For example, a metal material such as aluminum can be used. Unlike the formation of the hole transport layer 70 and the light emitting layer 60, the formation of the cathode 50 is performed by vapor deposition or sputtering, so that the formation material is not selectively disposed only in the pixel region. The forming material is provided on almost the entire surface of the element substrate 2. Therefore, in the present embodiment, the element substrate 2 and a metal mask (not shown) are aligned and the cathode 50 is formed by vapor deposition or sputtering, so that the cathode is formed around the substrate as shown in FIG. 50 is not formed.

その後、図10(c)に示すように、封止工程によって封止基板30を接着する。この封止工程では、透明な封止基板30と素子基板2との間に、透明な接着剤40を塗布し、気泡が入らないようにして封止基板30と素子基板2とを貼り合わせる。
なお、前記実施形態では、本発明のラインヘッド1に形成されるEL素子として、有機EL素子を用いた例を示したが、これに代えて無機EL素子を用いてもよいのはもちろんである。
Thereafter, as shown in FIG. 10C, the sealing substrate 30 is bonded by a sealing process. In this sealing step, a transparent adhesive 40 is applied between the transparent sealing substrate 30 and the element substrate 2, and the sealing substrate 30 and the element substrate 2 are bonded to each other so that bubbles do not enter.
In the above-described embodiment, an example in which an organic EL element is used as the EL element formed in the line head 1 of the present invention has been described. However, an inorganic EL element may be used instead. .

次いで、図8(a)に示すように、素子基板2の下面に、有機EL素子の形成領域に開口部18aを有するバンク(隔壁)18を形成する。そして、その開口部18aの内部に、液滴吐出法によりマイクロレンズ12を形成する。なお、素子基板2の下面に対するバンク18およびマイクロレンズ12の形成は、素子基板2の上面に回路部11等を形成する前に行ってもよい。   Next, as shown in FIG. 8A, a bank (partition wall) 18 having an opening 18 a in an organic EL element formation region is formed on the lower surface of the element substrate 2. Then, the microlens 12 is formed inside the opening 18a by a droplet discharge method. Note that the bank 18 and the microlens 12 may be formed on the lower surface of the element substrate 2 before the circuit portion 11 and the like are formed on the upper surface of the element substrate 2.

(ラインヘッドモジュールの使用形態)
次に、本実施形態のラインヘッドモジュールの使用形態について説明する。
本実施形態のラインヘッドモジュールは、画像形成装置における露光装置として使用される。その場合、ラインヘッドモジュールは感光体ドラムに対向配置され、ラインヘッドからの光をSLアレイにより感光体ドラム上に正立等倍結像させて使用する。
(Usage of line head module)
Next, the usage pattern of the line head module of this embodiment will be described.
The line head module of this embodiment is used as an exposure device in an image forming apparatus. In this case, the line head module is disposed so as to face the photosensitive drum, and the light from the line head is imaged on the photosensitive drum by the SL array and used at an equal magnification.

(タンデム方式の画像形成装置)
まず、タンデム方式の画像形成装置について説明する。
図11は、タンデム方式の画像形成装置の概略構成図であり、図11中符号80は画像形成装置である。この画像形成装置80は、本発明のラインヘッドモジュール101K、101C、101M、101Yを、対応する同様な構成である4個の感光体ドラム(像担持体)41K、41C、41M、41Yの露光装置にそれぞれ配置したもので、タンデム方式のものとして構成されたものである。
(Tandem image forming device)
First, a tandem image forming apparatus will be described.
FIG. 11 is a schematic configuration diagram of a tandem image forming apparatus, and reference numeral 80 in FIG. 11 denotes the image forming apparatus. This image forming apparatus 80 is an exposure apparatus for four photosensitive drums (image carriers) 41K, 41C, 41M, and 41Y having the same configuration corresponding to the line head modules 101K, 101C, 101M, and 101Y of the present invention. Are arranged in a tandem system.

この画像形成装置80は、駆動ローラ91と従動ローラ92とテンションローラ93とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト90を、図11中矢印方向(反時計方向)に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト90に対して、感光体ドラム41K、41C、41M、41Yが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム41K、41C、41M、41Yは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。   The image forming apparatus 80 includes a driving roller 91, a driven roller 92, and a tension roller 93. The intermediate transfer belt 90 is stretched around these rollers so as to circulate and drive in the direction of the arrow (counterclockwise) in FIG. Is. Photosensitive drums 41K, 41C, 41M, and 41Y are arranged at predetermined intervals with respect to the intermediate transfer belt 90. These photosensitive drums 41K, 41C, 41M, and 41Y have a photosensitive layer as an image carrier on the outer peripheral surface thereof.

ここで、前記符号中のK、C、M、Yは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。なお、これら符号(K、C、M、Y)の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム41K、41C、41M、41Yは、中間転写ベルト90の駆動と同期して、図11中矢印方向(時計方向)に回転駆動するようになっている。   Here, K, C, M, and Y in the symbols mean black, cyan, magenta, and yellow, respectively, and indicate that the photoconductors are for black, cyan, magenta, and yellow, respectively. The meanings of these symbols (K, C, M, Y) are the same for the other members. The photosensitive drums 41K, 41C, 41M, and 41Y are driven to rotate in the arrow direction (clockwise) in FIG. 11 in synchronization with the driving of the intermediate transfer belt 90.

各感光体ドラム41(K、C、M、Y)の周囲には、それぞれ感光体ドラム41(K、C、M、Y)の外周面を一様に帯電させる帯電手段(コロナ帯電器)42(K、C、M、Y)と、この帯電手段42(K、C、M、Y)によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム41(K、C、M、Y)の回転に同期して順次ライン走査する本発明のラインヘッドモジュール101(K、C、M、Y)とが設けられている。   Around each photosensitive drum 41 (K, C, M, Y), charging means (corona charger) 42 for uniformly charging the outer peripheral surface of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y), respectively. (K, C, M, Y) and rotation of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y) on the outer peripheral surface uniformly charged by the charging means 42 (K, C, M, Y) The line head module 101 (K, C, M, Y) of the present invention that sequentially performs line scanning in synchronism with each other is provided.

また、このラインヘッドモジュール101(K、C、M、Y)で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像(トナー像)とする現像装置44(K、C、M、Y)と、この現像装置44(K、C、M、Y)で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト90に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ45(K、C、M、Y)と、転写された後に感光体ドラム41(K、C、M、Y)の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置46(K、C、M、Y)とが設けられている。   Further, a developing device 44 (K, C) that applies a toner as a developer to the electrostatic latent image formed by the line head module 101 (K, C, M, Y) to form a visible image (toner image). , M, Y) and a primary transfer roller 45 (K) as transfer means for sequentially transferring the toner image developed by the developing device 44 (K, C, M, Y) to the intermediate transfer belt 90 which is a primary transfer target. , C, M, Y) and a cleaning device 46 (K, C, M) as a cleaning means for removing toner remaining on the surface of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y) after being transferred. , Y).

ここで、各ラインヘッドモジュール101(K、C、M、Y)は、有機EL素子の配列方向が感光体ドラム41(K、C、M、Y)の母線に沿うように設置されている。そして、各ラインヘッドモジュール101(K、C、M、Y)の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム41(K、C、M、Y)の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。   Here, each line head module 101 (K, C, M, Y) is installed such that the arrangement direction of the organic EL elements is along the bus line of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y). The emission energy peak wavelength of each line head module 101 (K, C, M, Y) and the sensitivity peak wavelength of the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y) are set so as to substantially match. Yes.

現像装置44(K、C、M、Y)は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム41(K、C、M、Y)に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム41(K、C、M、Y)の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。   The developing device 44 (K, C, M, Y) uses, for example, a non-magnetic one-component toner as a developer. The film thickness of the developed developer is regulated by a regulating blade, and the developing roller is brought into contact with or pressed against the photosensitive drum 41 (K, C, M, Y), whereby the photosensitive drum 41 (K, C, M, A developer is attached in accordance with the potential level of Y) and developed as a toner image.

このような4色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ45(K、C、M、Y)に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト90上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト90上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ66において用紙等の記録媒体Pに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対61を通ることで記録媒体P上に定着され、その後、排紙ローラ対62によって装置上部に形成された排紙トレイ68上に排出される。   The black, cyan, magenta, and yellow toner images formed by the four-color single-color toner image forming station are intermediated by the primary transfer bias applied to the primary transfer roller 45 (K, C, M, Y). Primary transfer is sequentially performed on the transfer belt 90. The toner images that are sequentially superimposed on the intermediate transfer belt 90 to become a full color are secondarily transferred to the recording medium P such as paper by the secondary transfer roller 66 and further pass through the fixing roller pair 61 that is a fixing unit. Then, the toner image is fixed on the recording medium P and then discharged onto a paper discharge tray 68 formed on the upper part of the apparatus by a pair of paper discharge rollers 62.

なお、図11中の符号63は多数枚の記録媒体Pが積層保持されている給紙カセット、64は給紙カセット63から記録媒体Pを一枚ずつ給送するピックアップローラ、65は二次転写ローラ66の二次転写部への記録媒体Pの供給タイミングを規定するゲートローラ対、66は中間転写ベルト90との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、67は二次転写後に中間転写ベルト90の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。   In FIG. 11, reference numeral 63 denotes a paper feed cassette in which a large number of recording media P are stacked and held, 64 denotes a pickup roller that feeds the recording media P from the paper feed cassette 63 one by one, and 65 denotes secondary transfer. A pair of gate rollers for defining the supply timing of the recording medium P to the secondary transfer portion of the roller 66; a secondary transfer roller 66 as a secondary transfer means for forming a secondary transfer portion with the intermediate transfer belt 90; A cleaning blade 67 serves as a cleaning unit that removes toner remaining on the surface of the intermediate transfer belt 90 after the secondary transfer.

(4サイクル方式の画像形成装置)
次に、4サイクル方式の画像形成装置について説明する。
図12は、4サイクル方式の画像形成装置画の概略構成図である。図12において、画像形成装置160には主要構成部材として、ロータリ構成の現像装置161、像担持体として機能する感光体ドラム165、像書込手段(露光手段)として機能する本実施形態のラインヘッドモジュール167、中間転写ベルト169、用紙搬送路174、定着器の加熱ローラ172、給紙トレイ178が設けられている。
(4-cycle image forming apparatus)
Next, a four-cycle image forming apparatus will be described.
FIG. 12 is a schematic configuration diagram of a four-cycle image forming apparatus image. In FIG. 12, an image forming apparatus 160 includes, as main constituent members, a rotary developing device 161, a photosensitive drum 165 that functions as an image carrier, and a line head according to the present embodiment that functions as an image writing unit (exposure unit). A module 167, an intermediate transfer belt 169, a paper conveyance path 174, a fixing unit heating roller 172, and a paper feed tray 178 are provided.

現像装置161は、現像ロータリ161aが軸161bを中心として矢印A方向に回転するよう構成されたものである。現像ロータリ161aの内部は4分割されており、それぞれイエロー(Y)、シアン(C)、マゼンタ(M)、ブラック(K)の4色の像形成ユニットが設けられている。162a〜162dは、前記4色の各像形成ユニットに配置されており、矢印B方向に回転する現像ローラ、163a〜163dは、矢印C方向に回転するトナ−供給ローラである。また、164a〜164dはトナーを所定の厚さに規制する規制ブレードである。   The developing device 161 is configured such that the developing rotary 161a rotates in the direction of arrow A about the shaft 161b. The inside of the development rotary 161a is divided into four, and image forming units for four colors of yellow (Y), cyan (C), magenta (M), and black (K) are provided. Reference numerals 162a to 162d are arranged in the image forming units for the four colors. The developing rollers rotate in the direction of the arrow B, and the toner supply rollers 163a to 163d rotate in the direction of the arrow C. Reference numerals 164a to 164d are regulating blades that regulate the toner to a predetermined thickness.

図12中符号165は、前記のように像担持体として機能する感光体ドラム、166は一次転写部材、168は帯電器である。また、167は像書込手段(露光手段)として機能する本実施形態のラインヘッドモジュールである。感光体ドラム165は、図示を省略した駆動モータ、例えばステップモータにより、現像ローラ162aとは逆の方向となる矢印D方向に回転駆動されるようになっている。   In FIG. 12, reference numeral 165 denotes a photosensitive drum that functions as an image carrier as described above, 166 a primary transfer member, and 168 a charger. Reference numeral 167 denotes a line head module according to the present embodiment that functions as an image writing unit (exposure unit). The photosensitive drum 165 is rotationally driven in the direction of arrow D, which is the direction opposite to the developing roller 162a, by a drive motor (not shown), for example, a step motor.

中間転写ベルト169は、駆動ローラ170aと従動ローラ170bとの間に張架されたものである。駆動ローラ170aは、前記感光体ドラム165の駆動モータに連結されたもので、中間転写ベルト169に動力を伝達するようになっている。すなわち、該駆動モータの駆動により、中間転写ベルト169の駆動ローラ170aは感光体ドラム165とは逆の方向となる矢印E方向に回動するようになっている。   The intermediate transfer belt 169 is stretched between the driving roller 170a and the driven roller 170b. The driving roller 170 a is connected to the driving motor of the photosensitive drum 165 and transmits power to the intermediate transfer belt 169. That is, the drive roller 170a of the intermediate transfer belt 169 is rotated in the direction of arrow E which is the opposite direction to the photosensitive drum 165 by the drive motor.

用紙搬送路174には、複数の搬送ローラと排紙ローラ対176などが設けられており、用紙が搬送されるようになっている。中間転写ベルト169に担持されている片面の画像(トナー像)が、二次転写ローラ171の位置で用紙の片面に転写されるようになっている。二次転写ローラ171は、クラッチによって中間転写ベルト169に離当接されるようになっており、クラッチオンで中間転写ベルト169に当接され、用紙に画像が転写されるようになっている。   The paper transport path 174 is provided with a plurality of transport rollers, a pair of paper discharge rollers 176, and the like, so that the paper is transported. An image (toner image) on one side carried on the intermediate transfer belt 169 is transferred to one side of the paper at the position of the secondary transfer roller 171. The secondary transfer roller 171 is brought into contact with and separated from the intermediate transfer belt 169 by a clutch. When the clutch is turned on, the secondary transfer roller 171 is brought into contact with the intermediate transfer belt 169 so that an image is transferred onto a sheet.

上記のようにして画像が転写された用紙は、次に、定着ヒータHを有する定着器で定着処理がなされる。定着器には、加熱ローラ172、加圧ローラ173が設けられている。定着処理後の用紙は、排紙ローラ対176に引き込まれて矢印F方向に進行する。この状態から排紙ローラ対176が逆方向に回転すると、用紙は方向を反転して両面プリント用搬送路175を矢印G方向に進行する。177は電装品ボックス、178は用紙を収納する給紙トレイ、179は給紙トレイ178の出口に設けられているピックアップローラである。   The sheet on which the image has been transferred as described above is then subjected to a fixing process by a fixing device having a fixing heater H. The fixing device is provided with a heating roller 172 and a pressure roller 173. The sheet after the fixing process is drawn into the discharge roller pair 176 and proceeds in the direction of arrow F. When the paper discharge roller pair 176 rotates in the reverse direction from this state, the paper reverses its direction and advances in the double-sided printing conveyance path 175 in the direction of arrow G. 177 is an electrical component box, 178 is a paper feed tray for storing paper, and 179 is a pickup roller provided at the outlet of the paper feed tray 178.

用紙搬送路において、搬送ローラを駆動する駆動モータとしては、例えば低速のブラシレスモータが用いられている。また、中間転写ベルト169については、色ずれ補正などが必要となるためステップモータが用いられている。これらの各モータは、図示を省略した制御手段からの信号によって制御されるようになっている。   For example, a low-speed brushless motor is used as a drive motor for driving the transport roller in the paper transport path. For the intermediate transfer belt 169, a step motor is used because color misregistration correction is required. Each of these motors is controlled by a signal from a control means (not shown).

図12に示した状態で、イエロー(Y)の静電潜像が感光体ドラム165に形成され、現像ローラ162aに高電圧が印加されることにより、感光体ドラム165にはイエローの画像が形成される。イエローの裏側および表側の画像がすべて中間転写ベルト169に担持されると、現像ロータリ161aが矢印A方向に90度回転する。   In the state shown in FIG. 12, a yellow (Y) electrostatic latent image is formed on the photosensitive drum 165, and a high voltage is applied to the developing roller 162a, whereby a yellow image is formed on the photosensitive drum 165. Is done. When the yellow back side and front side images are all carried on the intermediate transfer belt 169, the development rotary 161a rotates 90 degrees in the direction of arrow A.

中間転写ベルト169は1回転して感光体ドラム165の位置に戻る。次に、シアン(C)の2面の画像が感光体ドラム165に形成され、この画像が中間転写ベルト169に担持されているイエローの画像に重ねて担持される。以下、同様にして現像ロータリ161の90度回転、中間転写ベルト169への画像担持後の1回転処理が繰り返される。   The intermediate transfer belt 169 rotates once and returns to the position of the photosensitive drum 165. Next, two images of cyan (C) are formed on the photosensitive drum 165, and this image is carried on the yellow image carried on the intermediate transfer belt 169. Thereafter, the 90-degree rotation of the development rotary 161 and the one-rotation process after the image is carried on the intermediate transfer belt 169 are repeated in the same manner.

4色のカラー画像担持には中間転写ベルト169は4回転して、その後さらに回転位置が制御されて二次転写ローラ171の位置で用紙に画像を転写する。給紙トレイ178から給紙された用紙を搬送路174で搬送し、二次転写ローラ171の位置で用紙の片面に前記カラー画像を転写する。片面に画像が転写された用紙は前記のように排紙ローラ対176で反転されて、搬送径路で待機している。その後、用紙は適宜のタイミングで二次転写ローラ171の位置に搬送されて、他面に前記カラー画像が転写される。ハウジング180には、排気ファン181が設けられている。
なお、本発明のラインヘッドモジュールを備えた画像形成装置は上記に限定されることなく、種々の変形が可能である。
For carrying four color images, the intermediate transfer belt 169 rotates four times, and then the rotation position is further controlled to transfer the image onto the sheet at the position of the secondary transfer roller 171. The sheet fed from the sheet feed tray 178 is conveyed by the conveyance path 174, and the color image is transferred to one side of the sheet at the position of the secondary transfer roller 171. The sheet on which the image is transferred on one side is reversed by the discharge roller pair 176 as described above, and stands by on the conveyance path. Thereafter, the sheet is conveyed to the position of the secondary transfer roller 171 at an appropriate timing, and the color image is transferred to the other side. The housing 180 is provided with an exhaust fan 181.
The image forming apparatus including the line head module of the present invention is not limited to the above, and various modifications can be made.

ラインヘッドモジュールの側面断面図である。It is side surface sectional drawing of a line head module. ラインヘッドを模式的に示した図である。It is the figure which showed the line head typically. SLアレイの斜視図である。It is a perspective view of SL array. ラインヘッドの光束分布およびSLアレイの光量ムラの説明図である。It is explanatory drawing of the light beam distribution of a line head, and the light quantity nonuniformity of SL array. 第1実施形態に係るラインヘッドの光束分布およびSLアレイの光量ムラの説明図である。It is explanatory drawing of the light beam distribution of the line head which concerns on 1st Embodiment, and the light quantity nonuniformity of SL array. 第2実施形態に係るラインヘッドの光束分布およびSLアレイの光量ムラの説明図である。It is explanatory drawing of the light beam distribution of the line head which concerns on 2nd Embodiment, and the light quantity nonuniformity of SL array. マイクロレンズの曲率および平面積と集光作用との関係の説明図である。It is explanatory drawing of the relationship between the curvature and flat area of a micro lens, and a condensing effect | action. 有機EL素子および駆動素子の説明図である。It is explanatory drawing of an organic EL element and a drive element. ラインヘッドの製造工程の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing process of a line head. ラインヘッドの製造工程の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing process of a line head. タンデム方式の画像形成装置の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a tandem image forming apparatus. 4サイクル方式の画像形成装置の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a four-cycle image forming apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1‥ラインヘッド 13‥マイクロレンズ 14‥マイクロレンズ 31‥レンズアレイ 31a‥レンズ素子   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Line head 13 ... Micro lens 14 ... Micro lens 31 ... Lens array 31a ... Lens element

Claims (5)

複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドであって、
前記発光素子と前記レンズ素子の間に、前記発光素子からの光を集光して前記レンズ素子に入射させる、第1のマイクロレンズと、第2のマイクロレンズと、を備え、
前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記第1のマイクロレンズの曲率半径が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記第2のマイクロレンズの曲率半径より、小さいことを特徴とするラインヘッド。
A line head comprising a plurality of light emitting elements arranged and irradiating light to an exposed portion via a plurality of lens elements,
A first microlens and a second microlens that condense light from the light emitting element and enter the lens element between the light emitting element and the lens element ;
The radius of curvature of the first microlens arranged opposite to the periphery of the lens element is smaller than the radius of curvature of the second microlens arranged opposite to the center of the lens element. Line head.
複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドの製造方法であって、
前記発光素子と前記レンズ素子との間に配置された基板上、前記発光素子に対応する領域に親液処理を施すとともに、前記親液処理領域以外の領域に撥液処理を施す工程と、
前記親液処理領域に、マイクロレンズの形成材料を含む液状体を塗布する工程と、
前記液状体を硬化させて、第1のマイクロレンズと第2のマイクロレンズとを形成する工程と、を有し、
前記液状体塗布工程では、体積の異なる液状体を前記発光素子に対応する領域に塗布し、前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記第1のマイクロレンズの曲率半径が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記第2のマイクロレンズの曲率半径より、小さく形成することを特徴とするラインヘッドの製造方法。
A method of manufacturing a line head comprising a plurality of light emitting elements arranged, and irradiating light on an exposed portion via a plurality of lens elements,
On a substrate disposed between said light emitting element and the lens element, together subjected to lyophilic treatment to a region corresponding to the light emitting element, a step of performing liquid-repellent treatment to the region other than the lyophilic processing region,
Applying a liquid containing a microlens forming material to the lyophilic region;
Curing the liquid material to form a first microlens and a second microlens , and
In the liquid material application step, liquid materials having different volumes are applied to regions corresponding to the light-emitting elements, and the radius of curvature of the first microlens disposed opposite to the periphery of the lens element is equal to that of the lens element. A method of manufacturing a line head, wherein the second microlens disposed opposite to the center is formed to have a radius of curvature smaller than that of the second microlens .
前記液状体塗布工程は、液滴吐出ヘッドから前記マイクロレンズの形成材料を含む液滴を吐出することによって行うことを特徴とする請求項に記載のラインヘッドの製造方法。 The method of manufacturing a line head according to claim 2 , wherein the liquid material applying step is performed by discharging a droplet including a material for forming the microlens from a droplet discharge head. 請求項1または請求項2に記載のラインヘッド、または請求項3のいずれかに記載のラインヘッドの製造方法を使用して製造されたラインヘッドを、露光手段として備えたことを特徴とする画像形成装置。 An image comprising the line head according to claim 1 or 2 or the line head manufactured by using the line head manufacturing method according to claim 3 as an exposure unit. Forming equipment. 複数の発光素子を配列してなり、複数のレンズ素子を介して被露光部に光を照射するラインヘッドであって、
前記発光素子の前記レンズ素子の間に、第1のマイクロレンズと、第2のマイクロレンズと、を備え、
前記レンズ素子の周辺部に対向配置された前記第1のマイクロレンズの曲率半径が、前記レンズ素子の中央部に対向配置された前記第2のマイクロレンズの曲率半径より、小さいことを特徴とするラインヘッド。
A line head comprising a plurality of light emitting elements arranged and irradiating light to an exposed portion via a plurality of lens elements,
A first microlens and a second microlens are provided between the lens elements of the light emitting element ,
The radius of curvature of the first microlens arranged opposite to the periphery of the lens element is smaller than the radius of curvature of the second microlens arranged opposite to the center of the lens element. Line head.
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