JP4086713B2 - Liquid crystal cell substrate - Google Patents

Description

【００１９】
これらのエポキシ樹脂は、単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。特に、耐熱性と強靭性とが優れたバランスで発揮されることから、前記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂と前記脂環式エポキシ樹脂との組み合わせが好ましい。
【００２０】
前記脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、下記式（２）で表される３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、下記式（３）があげられ、下記式（３）において、ｎは１〜２０の整数であり、Ｒはアルキル基である。
【００２１】
【化４】

【００２２】
【化５】

【００２３】
また、前記エポキシ樹脂としては、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂が使用でき、具体的には下記式（４）、下記式（５）で表されるエポキシ樹脂等があげられる。下記式（５）において、ｎは１〜３である。
【００２４】
【化６】

【００２５】
【化７】

【００２６】
これらのエポキシ樹脂の中でも、前記式（４）または（５）で表されるエポキシ樹脂が特に好ましい。これらの樹脂を用いれば、特に液晶セル基板の厚み方向位相差を小さい値に制御できるからである。このように厚み方向位相差が小さいと、後述するように、例えば、本発明の液晶セル基板を液晶表示装置に使用した際に、黒表示における斜め方向からの光モレが十分に抑制でき、表示特性がより一層優れるからである。
【００２７】
前記エポキシ樹脂は、例えば、形成する液晶セル基板の柔軟性や強度等が向上することから、エポキシ当量１００〜１０００（ｇ／ｅｑ）、軟化点１２０℃以下であることが好ましく、より好ましくは、エポキシ当量１５０〜５００（ｇ／ｅｑ）、軟化点８０℃以下である。また、前記エポキシ樹脂は、常温（例えば、５〜３５℃）で液体であることが好ましい。
【００２８】
また、後述するように本発明の液晶セル基板を形成する際に、展開性や塗工性に優れることから、塗工時の温度以下、特に常温において液体状態を示す二液混合型のエポキシ樹脂が好ましい。
【００２９】
本発明の液晶セル基板において、前記エポキシ樹脂を含む樹脂層の割合は、例えば、２０〜８０重量％であり、好ましくは２５〜７５重量％であり、より好ましくは３０〜７０重量％である。また、前記樹脂層におけるエポキシ樹脂の割合は、例えば、３０〜１００重量％であり、好ましくは４０〜９０重量％であり、より好ましくは４０〜８０重量％である。一方、液晶セル基板における前記ガラス繊維製布状体の含有割合は、例えば、２０〜８０重量％であり、好ましくは２５〜７５重量％であり、より好ましくは３０〜７０重量％である。
【００３０】
前記エポキシ樹脂層は、例えば、必要に応じて各種添加物を含有してもよく、前記添加物としては、例えば、硬化剤、硬化促進剤、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等の従来公知の添加物があげられる。これらの添加剤は、例えば、いずれか一種を添加してもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００３１】
前記硬化剤としては、特に制限されないが、例えば、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸等の有機酸系化合物類、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、これらのアミンアダクト、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等のアミン系化合物類等が挙げられる。これらの硬化剤は、例えば、いずれか一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００３２】
また、前述のような硬化剤の他に、例えば、ジシアンジアミド、ポリアミド等のアミド系化合物類、ジヒドラジット等のヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルイミダゾール、イソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、フェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール、ヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物類、メチルイミダゾリン、２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリン、イソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリン、フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリン、ヘプタデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン系化合物類、フェノール系化合物類、ユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類等もあげられる。
【００３３】
さらに、酸無水物系化合物類等も前記硬化剤として使用でき、このような酸無水物系化合物類は、例えば、変色防止性等の点から好ましい。具体的な例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、クロレンディック酸無水物等があげられる。これらの酸無水物系化合物の中でも、特に、無色系または淡黄色系であり、分子量が約１４０〜約２００のものが好ましく、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物等があげられる。
【００３４】
前記エポキシ樹脂と硬化剤との配合割合は、特に制限されないが、前記硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対して、例えば、酸無水物当量を０．５〜１．５当量となるように配合することが好ましく、さらに好ましくは０．７〜１．２当量である。前記酸無水物の配合量が、０．５当量以上であれば、硬化後の色相がより一層優れ、１．５当量以下であれば、十分な耐湿性を保持することができる。なお、他の硬化剤を使用する場合や、一種類または二種類以上の硬化剤を併用する場合も、例えば、前述のような割合に準じて配合できる。
【００３５】
前記硬化促進剤としては、特に制限されないが、例えば、第三級アミン類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、第四級ホスホニウム塩類、有機金属塩類、リン化合物類、尿素系化合物類等があげられ、この中でも、特に第三級アミン類、イミダゾール類、第四級ホスホニウム塩類が好ましい。これらの硬化促進剤は、例えば、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００３６】
前記硬化促進剤の配合割合は、特に制限されず、例えば、エポキシ樹脂の量や種類に応じて適宜決定できる。具体的には、エポキシ樹脂１００重量部に対して、硬化促進剤が、例えば、０．０５〜７．０重量部であることが好ましく、より好ましくは０．２〜３．０重量部の範囲である。前記硬化促進剤の配合量が、０．０５重量部以上であれば、充分な硬化促進効果を得ることができ、７．０重量部以下であれば、硬化後の色相がより一層優れたものとなる。
【００３７】
前記老化防止剤としては、特に制限されないが、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等の従来公知のものが使用できる。
【００３８】
前記変性剤としては、特に制限されないが、例えば、グリコール類、シリコーン類、アルコール類等の従来公知のものが使用できる。
【００３９】
前記界面活性剤の添加は、特に制限されないが、例えば、エポキシ樹脂を空気に接触させながら硬化させてエポキシ樹脂シートを形成する際に、シート表面を平滑にするために添加できる。前記界面活性剤としては、例えば、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の各種界面活性剤が使用でき、これらの中でも、シリコーン系が好ましい。
【００４０】
本発明の液晶セル基板は、前記エポキシ樹脂および前記ガラス繊維製布状体を含有する単層体、すなわちその内部に前記ガラス繊維製布状体を含む単層のエポキシ樹脂層であってもよいし、この単層体に加えて、さらに後述するような他のシートが積層された積層体であってもよい。
【００４１】
本発明の液晶セル基板において、前記ガラス繊維製布状体の屈折率と、前記エポキシ樹脂を含む樹脂層の屈折率との差の絶対値は、０〜０．０１であり、好ましくは０〜０．００８であり、特に好ましくは０〜０．００６である。前記絶対値が０．０１以下であれば、前記ガラス繊維製布状体と前記樹脂層との界面散乱を十分に抑制し、液晶セル基板のヘイズ値を小さくし、透明性を十分に維持できるからである。本発明において前記屈折率は、例えば、アッベ屈折率測定機により、２５℃、５８９ｎｍの条件で測定することによって求めることができる。なお、この屈折率の関係においては、前記エポキシ樹脂を含む樹脂層とは、例えば、液晶セル基板における、前記ガラス繊維製布状体を除く硬化物を示す。
【００４２】
本発明の液晶セル基板は、２５℃から１６０℃における線膨張係数が、３．００×１０^-5／℃以下であることが好ましい。前記値以下であれば、本発明の液晶セル基板の表面にカラーフィルターや電極を形成する場合に、熱膨張が原因となる位置ずれ等を十分に抑制し、前記カラーフィルター等の形成がより一層容易になるからである。また、より好ましくは２．００×１０^-5／℃以下であり、特に好ましくは０〜１．５×１０^-5／℃である。
【００４３】
前記線膨張係数は、サンプルについて、例えば、ＪＩＳ Ｋ−７１９７に規定されるＴＭＡ法によりＴＭＡ測定値を得て、これを下記式に代入することによって算出できる。下記式において、ΔＩｓ（Ｔ₁）およびΔＩｓ（Ｔ₂）は、サンプル測定時の温度Ｔ₁（℃）およびＴ₂（℃）におけるＴＭＡ測定値（μｍ）をそれぞれ示し、Ｌ₀は、室温２３℃におけるサンプルの長さ（ｍｍ）を示す。
【００４４】
熱膨張係数＝［１／（Ｌ₀×１０³）］・［（ΔＩｓ（Ｔ₂）−ΔＩｓ（Ｔ₁））／（Ｔ₂−Ｔ₁）］
本発明の液晶セル基板は、前述のようにヘイズ値が１０％以下であればよいが、より好ましくは３％以下、特に好ましくは０〜２％である。
【００４５】
本発明の液晶セル基板は、その光透過率が８８％以上であることが好ましい。前記値以上であれば、本発明の液晶セル基板を用いて液晶表示装置を組み立て場合に、文字や画像がより一層鮮明となり表示品位がさらに優れるからである。また、より好ましくは９０％以上であり、特に好ましくは９２〜１００％である。前記光透過率は、例えば、高速分光光度計を用いて波長５５０ｎｍの全光線透過率を測定することによって求めることができる。
【００４６】
本発明の液晶セル基板は、その面内位相差が２ｎｍ以下であることが好ましい。前記値以下であれば、本発明の液晶セル基板を用いた液晶表示装置のコントラスト、特に斜視方向におけるコントラストが一層向上し、優れた表示品位を示すからである。また、より好ましくは０〜１ｎｍ、特に好ましくは０〜０．８ｎｍである。
【００４７】
また、本発明の液晶セル基板の厚み方向位相差は、４０ｎｍ以下である。前記値以下であれば、前述のように画像表示装置に使用した際に、斜視方向からの光モレが十分に抑制でき、斜視方向におけるコントラストが一層向上し、優れた表示品位を示すからである。より好ましくは２０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは０〜１０ｎｍであり、特に好ましくは０〜７ｎｍである。なお、厚み方向位相差を４０ｎｍ以下、特に２０ｎｍ以下に設定する場合、前記式（４）または式（５）に表されるエポキシ樹脂を使用することが特に好ましい。
【００４８】
前記面内位相差（Δｎｄ）および厚み方向位相差（Ｒｔｈ）は、例えば、それぞれ下記式で表され、下記式においてｎｘおよびｎｙは、それぞれ前記液晶セル基板におけるＸ軸およびＹ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸方向とは、前記液晶セル基板の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸方向は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、ｄは、前記液晶セル基板の厚みを示す。
【００４９】
Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ
Ｒｔｈ＝［［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ］・ｄ
本発明の液晶セル基板において、少なくとも一方の表面は、平滑であることが好ましい。このように表面を平滑にすることによって、液晶セル基板として使用する際に、前記表面上への配向膜や透明電極等の形成がより一層容易となるからである。具体的には、前記表面の表面粗さ（Ｒｔ）が、例えば、２μｍ以下であることが好ましい。本発明において「表面粗さ」とは、例えば、触針式表面粗さ測定器（例えば、商品名Ｐ−１１；テンコール社製）により、長波長カットオフ８００μｍ、短波長カットオフ２５０μｍ、評価長さ１０ｍｍの条件で測定した、最大値と最小値との差を示す。
【００５０】
本発明の液晶セル基板が前記単層体の場合、その厚みは、特に制限されないが、例えば、２０〜８００μｍの範囲であることが好ましい。前記厚みが２０μｍ以上であれば、十分な強度や剛性が維持でき、また、前記厚みが８００μｍ以下であれば、例えば、薄型化や軽量化を十分に実現できるからである。前記厚みは、より好ましくは３０〜５００μｍであり、特に好ましくは５０〜３００μｍである。
【００５１】
本発明の液晶セル基板は、前述のような単層体に加えて、さらにハードコート層およびガスバリヤ層の少なくとも一方を含む積層体でもよく、ハードコート層およびガスバリア層の両方を含む積層体であることが好ましい。特に、前記ハードコート層が最外層として積層されていれば、例えば、シートの耐擦傷性等を向上できる。また、液晶表示装置においては、水分や酸素が液晶セル基板を透過して液晶セル内に侵入すると、液晶の変質や気泡が形成し、これによって外観不良や導電膜パターンの断線等が発生するおそれがある。しかし、前記ガスバリア層を設けることによって、例えば、水分や酸素等のガス透過を防止することができる。また、ハードコート層やガスバリア層は、それぞれいずれか一方の面でもよいし、両面に積層してもよい。
【００５２】
ハードコート層とガスバリア層の両方を含む場合、その積層順序は、特に制限されないが、エポキシ樹脂層、ガスバリア層、ハードコート層の順序で積層されることが好ましい。特に、前記ハードコート層は、耐衝撃性や耐薬品性等に優れることから、最外層として積層されることが好ましく、前記エポキシ樹脂層の他方の表面にもハードコート層が積層されてもよい。このようにハードコート層とガスバリア層とを含む本発明の液晶セル基板の一例を、図２の断面図に示す。なお同図において図１と同一箇所には同一符号を付している。同図に示すように、この液晶セル基板２０は、ガラス繊維製布状体２を含むエポキシ樹脂層１の一方の表面に、ガスバリア層３が積層され、前記ガスバリア層３にさらにハードコート層４が積層されている。
【００５３】
前記ハードコート層の形成材料としては、特に制限されないが、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコールやエチレン・ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂等があげられる。また、例えば、ポリアリレート系樹脂、スルホン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリロニトリル系樹脂等も使用できる。これらの中でも、ウレタン系樹脂が好ましく、より好ましくはウレタンアクリレートである。なお、これらの樹脂は、一種類でもよいし、二種類以上を混合したブレンド樹脂であってもよい。
【００５４】
前記ハードコート層の厚みは、特に制限されないが、通常、製造時の剥離や、剥離の際におけるヒビ割れの発生を防止する点から、例えば、０．１〜５０μｍの範囲であり、好ましくは０．５〜８μｍの範囲であり、より好ましくは２〜５μｍの範囲である。
【００５５】
前記ガスバリア層の種類としては、例えば、有機ガスバリア層と無機ガスバリア層があげられる。前記有機ガスバリア層の形成材料としては、特に制限されないが、例えば、ポリビニルアルコール及びその部分ケン化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポリマー、ポリアクリロニトリルやポリ塩化ビニリデン等の酸素透過が小さい材料等が使用でき、これらの中でも、高ガスバリア性の点からビニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。
【００５６】
前記有機ガスバリア層の厚みは、例えば、透明性、着色防止、ガスバリア性等の機能性、薄型化、得られる液晶セル基板のフレキシビリティー等の点から、１０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２〜１０μｍであり、さらに好ましくは２〜１０μｍ、特に好ましくは３〜５μｍの範囲である。前記厚みが１０μｍ以下であれば、液晶セル基板において、より一層低い黄色度指数（ＹＩ値）を維持でき、２μｍ以上であれば、十分なガスバリア機能が維持される。
【００５７】
一方、無機ガスバリア層の形成材料としては、例えば、珪素酸化物、マグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物、亜鉛酸化物等の透明材料が使用でき、この中でも、例えば、ガスバリア性や基材層への密着性に優れること等から、珪素酸化物や珪素窒化物が好ましい。
【００５８】
前記珪素酸化物としては、例えば、珪素原子数に対する酸素原子数の割合が、１．５〜２．０であることが好ましい。このような割合であれば、例えば、前記無機ガスバリア層のガスバリア性、透明性、表面平坦性、屈曲性、膜応力、コスト等の点において、より一層優れるからである。なお、前記珪素酸化物においては、珪素原子数に対する酸素原子数の割合の最大値が２．０となる。
【００５９】
前記珪素窒化物としては、例えば、珪素原子数（Ｓｉ）に対する窒素原子数（Ｎ）の割合（Ｓｉ：Ｎ）が１：１〜３：４であることが好ましい。
【００６０】
前記無機ガスバリア層の厚みは、特に制限されないが、例えば、５〜２００ｎｍの範囲であることが好ましい。前記厚みが５ｎｍ以上であれば、例えば、より一層優れたガスバリア性が得られ、前記厚みが２００ｎｍ以下であれば、透明性、屈曲性、膜応力、コストの点にも優れる。
【００６１】
このように、本発明の液晶セル基板が積層体の場合、その厚みは各層の積層数によって異なるが、例えば、２０〜８００μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは３０〜５００μｍの範囲、特に好ましくは５０〜３００μｍの範囲である。なお、前記積層体の場合、前記エポキシ樹脂とガラス繊維製布状体を含む層を一層でもよいし、二層以上含んでもよい。
【００６２】
このような本発明の液晶セル基板の製造方法は、特に制限されず、例えば、前記ガラス繊維製布状体の存在下で前記エポキシ樹脂を固化することによって形成でき、例えば、注型法、流延法、含浸法、塗工法等の従来公知の方法が採用できる。具体的には、以下のようにして行うことができる。
【００６３】
前記注型法の場合には、例えば、平板金型にガラス繊維製布状体を配置し、液状のエポキシ樹脂を前記布状体上に塗布した後、減圧条件とすることによって、前記布状体に前記エポキシ樹脂を含浸させる。そして、例えば、加熱処理やＵＶ照射を施すことによって前記エポキシ樹脂を硬化させれば、前記ガラス繊維製布状体を含むエポキシ樹脂層が形成できる。
【００６４】
また、常圧条件下であっても、含浸法により、液状のエポキシ樹脂中に前記ガラス繊維製布状体を浸漬し、その状態で前記エポキシ樹脂を硬化させることによっても、前記ガラス繊維製布状体を含むエポキシ樹脂層が形成できる。また、エンドレスベルトや基板上に前記ガラス繊維製布状体を配置し、これに前記エポキシ樹脂を含浸させたり、塗工してもよい。
【００６５】
また、塗工したエポキシ樹脂に対して、必要に応じて、例えば、加熱処理、光照照射処理等の硬化処理を施してもよい。前記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂の硬化条件は、特に制限されないが、例えば、１００〜２００℃で１０分〜５時間硬化処理を行うことが好ましい。
【００６６】
前記エポキシ樹脂を、例えば、溶媒に分散または溶解してエポキシ樹脂液を調製し、これを使用してもよい。前記溶媒としては、特に制限されないが、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル等が使用できる。なお、液状のエポキシ樹脂や、溶媒に溶解したエポキシ樹脂液には、前述のような他の樹脂や各種添加剤を適宜添加できる。
【００６７】
また、本発明の液晶セル基板が、ハードコート層等を含む積層体の場合は、例えば、前記平板金型にハードコート層を形成してから、前記ハードコート層上に前記ガラス繊維製布状体を配置し、前述と同様にしてエポキシ樹脂層を形成すればよい。前記ハードコート層の形成においては、必要に応じて、加熱処理、光照射処理等の硬化処理を行ってもよい。また、ステンレス製等のエンドレスベルトや基材上に、流延法や塗工法等によってハードコート層を形成してから、前記ハードコート層と前記ガラス繊維製布状体を含むエポキシ樹脂層とを張り合わせてもよい。
【００６８】
前記ハードコート層の形成方法は、特に制限されず、前述のような形成材料を前記溶媒に混合して塗工液を調製し、基材上に塗布して、これを乾燥させればよい。前記塗工法としては、特に制限されず、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等の従来公知の方法が採用できる。
【００６９】
また、ガスバリア層を含む液晶セル基板の場合は、例えば、前述のようにして形成したハードコート層上に、ガスバリア層を形成してから、さらに前述と同様にして、ガラス繊維製布状体を含むエポキシ樹脂層を形成すればよい。前記ガスバリア層の形成方法は、特に制限されず、例えば、従来公知の方法を適宜採用できる。
【００７０】
液晶表示装置は、一般に、電極を備えた液晶セル基板に液晶が保持された液晶セル、偏光板、反射板およびバックライトを備え、駆動回路等を組み込んで構成されている。本発明の液晶表示装置においては、前記本発明の液晶セル基板として使用すればよく、この点を除いて特に限定はされず、さらに従来公知の各種構成部品を備えても良い。従って、本発明の液晶表示装置においては、前記本発明の液晶セル基板に、さらに、例えば、視認側の偏光板の上に設ける光拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の偏光と板の間に設ける補償用位相差板等の光学部品等を組み合わせてもよい。
【００７１】
前記位相板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光させる作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相板として１／４波長板を使用し、かつ、偏光板と位相板との偏光方向のなす角を、π／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。すなわち、この有機ＥＬ装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみを透過できる。この直線偏光は位相板によって一般に楕円偏光となるが、特に位相板が１／４波長板であり、しかも偏光板と位相板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。この円偏光は、例えば、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相板によって再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているため、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができるのである。
【００７２】
【実施例】
以下に、実施例をあげて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。
【００７３】
（比較例１）
エポキシ樹脂として、前記式（２）で示される３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（２７重量部）および前記式（１）で表されるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名ＡＥＲ２５０（エポキシ等量１９０）；旭化成社製）（７３重量部）、硬化剤として下記式（６）で示されるメチルヘキサヒドロフタル酸無水物（８８重量部）、硬化促進剤として下記式（７）で示されるテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート（０．９重量部）を攪拌混合して、エポキシ樹脂混合液を調製した。そして、屈折率１．５２４、厚み１００μｍのガラスクロス（商品名ガラスクロス；日東紡社製）を、前記混合液に浸漬し、減圧（２００Ｐａ）条件下で１０分間放置することによって、前記ガラスクロス内部に前記混合液を含浸させた。これによって、ガラスクロスが埋設された前駆層が形成された。
【００７４】
【化８】

【００７５】
【化９】

【００７６】
一方、下記式（８）で示されるウレタンアクリレートをトルエンに溶解し、１７重量％のウレタンアクリレート液を調製した。そして、ガラス板上に前記ウレタンアクリレート液を流延塗布し、この塗工膜を風乾によってトルエン溶媒を揮発させ、ＵＶ硬化装置によって前記塗工膜を硬化させた。硬化条件は、高圧水銀ランプを使用し、２００ｍＪ／ｃｍ²、１分間とした。これによって、前記ガラス板上に厚み２μｍのハードコート層が形成された。続いて、前記ガラス板上のハードコート層に、前記ガラスクロスが埋設された前駆層を積層し、さらに前記前駆層に離型処理されたガラス板を積層し、この積層体に加熱処理を施すことによって、前記前駆層を硬化させた。硬化は、１２０℃で１時間処理した後、さらに１５０℃で１時間処理することによって行った。前記硬化処理によって、前記ハードコート層上に、ガラスクロスを含むエポキシ樹脂層が形成された。なお、エポキシ樹脂を含む硬化物の屈折率は１．５３０であるため、ガラスクロスと前記硬化物の屈折率の差は０．００６であった。なお、前記ガラスクロスを除く、エポキシ樹脂を含む樹脂層（硬化物）の屈折率は、液晶セル基板の製造とは別個に行った。すなわちガラスクロスを使用しない以外は、同様にして前記エポキシ樹脂混合物を硬化させ、その硬化物の屈折率を測定し、これを屈折率とした（以下、同様）。
【００７７】
【化１０】

【００７８】
そして、前記両面のガラス板を剥離し、ハードコート層とエポキシ樹脂層との積層体を得た。これをステンレス板上に配置して、窒素置換により酸素濃度を０．５％とした１８０℃の雰囲気中で１時間放置することによってアフターキュアを行った。このようにして、ハードコート層とガラスクロスを有するエポキシ樹脂層との積層体である液晶セル基板が得られた。なお、この液晶セル基板の厚みは、１１０μｍであった。
【００７９】
（実施例１）
前記式（２）で示される３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（７８重量部）、前記式（５）に示すｎ＝０．２のエポキシ樹脂、硬化剤としてメチルナジック酸（１１０重量部）、硬化促進剤として前記式（７）で示されるテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート（２．０重量部）を攪拌混合して、エポキシ樹脂混合液を調製した。そして、この混合液と、屈折率１．５１３、厚み１００μｍのガラスクロス（商品名ガラスクロス；日東紡社製）を使用した以外は、前記比較例１と同様にして、ハードコート層とガラスクロスを有するエポキシ樹脂層との積層体である液晶セル基板を作製した。なお、前記液晶セル基板の厚みは１１０μｍであり、エポキシ樹脂を含む硬化物の屈折率は１．５１４であるため、ガラスクロスと前記硬化物の屈折率の差は０．００１であった。
【００８０】
（比較例２）
この比較例は、ガラスクロスを含まない液晶セル基板の例である。前記比較例１と同様のハードコート層上に、前記比較例１と同じエポキシ樹脂液を流延塗布して前駆層を形成し、これに加熱処理を施すことによって、前記前駆層を硬化させた。硬化条件は、比較例１と同様とした。前記硬化処理によって、前記ハードコート層上に厚み１００μｍのエポキシ樹脂層が形成された。つぎに、前記ハードコート層とエポキシ樹脂層との積層体を前記エンドレスベルトから剥離し、前記実施例１と同じ条件でアフターキュアを行った。
【００８１】
（比較例３）
この比較例は、ガラスクロスに代えてガラスビーズを使用した例である。前記比較例１と同じエポキシ樹脂液に、平均粒径１２０μｍの球状ガラスビーズ（屈折率１．５２４）を７０重量部混合してフィラー含有エポキシ樹脂液を調製した以外は、前記比較例２と同様の方法で、ハードコート層とエポキシ樹脂層との積層体である液晶セル基板を製造した。
【００８２】
（比較例４）
ガラスクロスとして、屈折１．５５８、厚み１００μｍのガラスクロス（商品名ガラスクロス；日東紡社製）を用いたこと以外は、前記実施例１と同様にして液晶セル基板を製造した。なお、エポキシ樹脂を含む硬化物の屈折率は１．５１４であるため、ガラスクロスと前記硬化物の屈折率の差は０．０４４であった。
【００８３】
以上のようにして得られた各液晶セル基板について、以下の評価試験を行った。これらの結果を下記表１に示す。
【００８４】
１．線膨張係数
商品名ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ（セイコーインスツルメンツ社製）を用いて、２５℃および１６０℃におけるＴＭＡ値（μｍ）を測定し、前述のようにして算出した。
【００８５】
２．屈曲性試験
前記各液晶セル基板を、直径３５ｍｍの鉄柱に巻きつけて、割れが生じるか否かを目視で観察した。
【００８６】
３．光透過率（％）
前記各液晶セル基板について、高速分光光度計（商品名ＤＯＴ−３Ｃ；村上色彩技術研究所製）を用いてλ＝５５０ｎｍの全光線透過率を測定した。
【００８７】
４．面内位相差（Δｎｄ）および厚み方向位相差（Ｒｔｈ）
前記各液晶セル基板について、王子計測機器社製の商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて、５９０ｎｍにおける屈折率から面内位相差および厚み方向位相差を測定した。
【００８８】
５．表面粗さ
各液晶セル基板について、触針式表面粗さ測定器（例えば、商品名Ｐ−１１；テンコール社製）を用いて、長波長カットオフ８００μｍ、短波長カットオフ２５０μｍ、評価長さ１０ｍｍの条件で表面粗さ（最大値と最小値との差）を測定した。なお、表面粗さは、エポキシ樹脂層側表面と液晶セル基板のハードコート層側表面の両方について測定し、下記表１においてエポキシ樹脂層側表面の表面粗さを「Ｒｔ（Ｅ）」、ハードコート層側表面の表面粗さを「Ｒｔ（Ｈ）」で表した。
【００８９】
６．ヘイズ値
各液晶セル基板について、ヘイズメーター（商品名商品名ＨＭ−１５０；村上色彩社製）を用いてヘイズ値を測定した。
【００９０】
【表１】

【００９１】
前記表１に示すように、比較例３の液晶セル基板は、ガラスビーズを含有することによって線膨張係数を低くできたが、その反面、屈曲性に劣り、割れが生じた。一方、ガラスクロスを含まない比較例２では、割れは生じないものの、非常に線膨張係数が高くなった。比較例１の液晶セル基板は、線膨張係数が低く、さらに、屈曲性および光透過性にも優れていたが、Ｒｔｈが４２ｎｍと大きかった。また、比較例４の液晶セル基板は、ガラスクロスとエポキシ樹脂硬化物との屈折率差が大きいため、ヘイズ値が極めて高く、透過型の液晶セル基板としては使用できなかった。これに対して、実施例１によれば、熱膨張係数が低く、また、輸送時の衝撃によってもひび割れ難い、透明性にも優れた液晶セル基板が得られるとともに、前記式（５）に示すジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂を使用することによって、より一層小さいＲｔｈを示す液晶セル基板を得ることができた。
【００９２】
【発明の効果】
このように、本発明の液晶セル基板は、ガラス繊維製布状体とエポキシ樹脂とを含むため、例えば、熱膨張等が抑制され、かつ優れた強度を示す。このため、熱膨張が原因で生じるパターニングのずれが抑制され、さらに、運搬時や、液晶表示装置等の各種表示装置を組み立てる際の衝撃によっても破断することがなく、生産効率にも優れる。さらに、本発明の液晶セル基板は、厚み方向位相差が、４０ｎｍ以下であり、ヘイズ値が１０％以下であり、前記ガラス繊維製布状体の屈折率と、前記エポキシ樹脂を含む樹脂層の屈折率との差の絶対値が０〜０．０１であるため、表示品位および透明性に優れ、例えば、透過型の液晶セル基板に有用である。したがって、本発明の液晶セル基板を使用すれば、軽量化、薄型化のみならず、優れた強度と表示品位および透明性を示す液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液晶セル基板の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の液晶セル基板のその他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
１：エポキシ樹脂層
２：ガラス繊維製布状体
３：ガスバリア層
４：ハードコート層
１０、２０：液晶セル基板 [0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention provides a liquid crystal cell substrate.Related.
[0002]
[Prior art]
  Conventionally, in a liquid crystal display device, a glass-based substrate has been used as a liquid crystal cell substrate for supporting a liquid crystal to form a liquid crystal cell in terms of strength and heat resistance. However, in recent years, with the increase in size of liquid crystal display devices, there has been a demand for lighter and thinner liquid crystal cell substrates, and a resin sheet such as an epoxy resin has been proposed as an alternative to the glass-based substrate. Have been put into practical use (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). Also, in the EL display device and the like, application of the resin sheet as described above has been proposed due to the same problem.
[0003]
  However, such a resin sheet such as an epoxy resin may undergo thermal expansion or shrinkage / expansion due to the influence of moisture, and this may cause misalignment during, for example, electrode formation or color filter formation. There was a problem that occurred. Therefore, in order to avoid such a problem, a spherical inorganic oxide having an average particle diameter of about 1 nm to 100 μm is dispersed in the resin sheet, and the linear expansion coefficient is suppressed to 5.00 × 10 −5 / ° C. or less. Attempts have been made (see, for example, Patent Document 3). However, since the strength of the resin sheet in which the spherical inorganic oxide is dispersed is reduced, for example, cracking or the like occurs during transportation or formation of a liquid crystal panel, and there is a problem in terms of manufacturing efficiency.
[0004]
[Patent Document 1]
  JP-A-6-337408
[0005]
[Patent Document 2]
  JP 7-199165 A
[0006]
[Patent Document 3]
  JP 2002-351353 A
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
  Therefore, the object of the present invention is excellent in strength, display quality and transparency without being affected by heat.A liquid crystal cell substrate is provided.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
  In order to achieve the above object, the present inventionLiquid crystal cell substrateIs an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton and a glass fiber cloth.IncludingThe thickness direction retardation is 40 nm or less, and the haze value is 10% or less.Yes, the absolute value of the difference between the refractive index of the glass fiber cloth and the refractive index of the resin layer is 0 to 0.01.It is characterized by that.
[0009]
  Thus, the present inventionLiquid crystal cell substrateBy containing the glass fiber cloth-like body, not only can the coefficient of linear expansion be lowered, but it also exhibits excellent strength and also has flexibility (flexibility). Thus, the coefficient of linear expansion is lowFrom the liquid crystal cell substrate to the liquid crystal panelWhen used for forming the film, the thermal expansion as described above can be suppressed, and the displacement of the electrodes and the color filter caused by this can be avoided. In addition, because it is excellent in strength and flexibility, for example, due to vibration during transportation,Liquid crystal cell substrateIt can also prevent cracking. Furthermore, the present inventionLiquid crystal cell substrateHas a thickness direction retardation of 40 nm or less and a haze value of 10% or less, which is excellent in display quality and transparency.A liquid crystal display device using the liquid crystal cell substrate of the present inventionWhen assembled, the characters and images become clearer and the display quality is extremely improved, which is useful. In addition, the present inventionLiquid crystal cell substrateHas a haze value of 10% or lessTo transmission typeIt is particularly useful as a liquid crystal cell substrate.In the liquid crystal cell substrate of the present invention, the absolute value of the difference between the refractive index of the glass fiber cloth and the refractive index of the resin layer containing the epoxy resin is 0 to 0.01. Interfacial scattering between the glass fiber cloth and the resin layer can be sufficiently suppressed, the haze value of the liquid crystal cell substrate can be reduced, and transparency can be sufficiently maintained.
[0010]
  In the present invention, the haze value can be measured based on, for example, JIS K 7136, and specifically, measured using a commercially available haze maker (for example, trade name HM-150, manufactured by Murakami Color Co., Ltd.). it can. In addition, this measuring method is the above-mentionedLiquid crystal cell substrateUsed only to specify the haze value of theLiquid crystal cell substrateManufacturing method of saidLiquid crystal cell substrateIt is not intended to limit the use of
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  As mentioned above, the present inventionLiquid crystal cell substrateIncludes an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton and a glass fiber cloth, the thickness direction retardation is 40 nm or less, and the haze value is 10% or less.Yes, the absolute value of the difference between the refractive index of the glass fiber cloth and the refractive index of the resin layer is 0 to 0.01.It is characterized by that.
[0012]
  In the present invention, examples of the “glass fiber cloth-like body” include woven fabric, non-woven fabric, and knitted fabric. Specifically, a glass cloth, a glass non-woven fabric, a roving cloth, a chopped strand mat, a suede woven yarn. Conventionally known commercial products such as cloth can be used.
[0013]
  As said glass fiber cloth-like body, the density (weight) is 10-500 g / m, for example.²Is preferably in the range of 20 to 350 g / m.²And particularly preferably 30 to 250 g / m.²It is. Moreover, the thickness of the filament of glass fiber is 3-15 micrometers, for example, Preferably it is 5-13 micrometers, Most preferably, it is 5-10 micrometers.
[0014]
  The thickness of the glass fiber cloth-like body is, for example, 10 to 500 μm, preferably 15 to 350 μm, and particularly preferably 30 to 250 μm.
[0015]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateThe form is not particularly limited as long as it contains the epoxy resin and the glass fiber cloth-like body, but includes, for example, the resin layer containing the epoxy resin and the glass fiber cloth-like body, and the resin layer and glass. It is preferable that it is a single layer body integrated with the fiber cloth-like body. Specifically, for example, the resin layer is preferably formed by curing in a state where the epoxy resin is impregnated in the glass fiber cloth-like body. As a more preferable form, the glass fiber cloth-like body is embedded in the resin layer containing the epoxy resin. In addition, in this invention, the said epoxy resin layer is a layer comprised from the hardened | cured material containing an epoxy resin, Comprising: In addition to an epoxy resin, various additives, such as a hardening | curing agent which are mentioned later, are contained, for example. Also good.
[0016]
  The cross-sectional view of FIG.Liquid crystal cell substrateAn example of the preferable form of is shown. thisLiquid crystal cell substrate10 is a single-layer body in which an epoxy resin and a glass fiber cloth-like body are integrated, and a glass fiber cloth-like body 2 is embedded in the epoxy resin layer 1, and the glass fiber cloth-like shape is The body 2 is impregnated with an epoxy resin and hardened to integrate the two. In the figure, “dot” indicates an epoxy resin.
[0017]
  The epoxy resin is not particularly limited except that it includes an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton, and conventionally known epoxy resins can be used. For example, bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type and water thereof Bisphenol type such as additive; novolak type such as phenol novolak type and cresol novolak type; nitrogen-containing ring type such as triglycidyl isocyanurate type and hydantoin type; aromatic type such as alicyclic type, aliphatic type and naphthalene type A low water absorption type such as a glycidyl ether type and a biphenyl type; a dicyclo type such as a dicyclopentadiene type; an ester type; an ether ester type; Among the epoxy resins, bisphenol A type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, triglycidyl isocyanurate type epoxy resin, and dicyclopentadiene type epoxy resin are preferable from the viewpoint of discoloration prevention property and the like. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. As said bisphenol A type epoxy resin, the thing of following formula (1) is mention | raise | lifted, for example, In the following formula, n is 0-2, for example.
[0018]
[Chemical 3]

[0019]
  These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. In particular, a combination of the dicyclopentadiene type epoxy resin and the alicyclic epoxy resin is preferable because heat resistance and toughness are exhibited in an excellent balance.
[0020]
  Specific examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate represented by the following formula (2), and the following formula (3). In Formula (3), n is an integer of 1 to 20, and R is an alkyl group.
[0021]
[Formula 4]

[0022]
[Chemical formula 5]

[0023]
  Moreover, as the epoxy resin, an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton can be used, and specific examples include an epoxy resin represented by the following formula (4) and the following formula (5). In following formula (5), n is 1-3.
[0024]
[Chemical 6]

[0025]
[Chemical 7]

[0026]
  Among these epoxy resins, the epoxy resin represented by the formula (4) or (5) is particularly preferable. If these resins are used, especiallyLiquid crystal cell substrateThis is because the thickness direction phase difference can be controlled to a small value. Thus, when the thickness direction retardation is small, as described later, for example,Liquid crystal cell substrateThis is because when this is used in a liquid crystal display device, light leakage from an oblique direction in black display can be sufficiently suppressed, and the display characteristics are further improved.
[0027]
  The epoxy resin is formed, for exampleLiquid crystal cell substrateFrom the viewpoint of improving the flexibility and strength of the resin, it is preferable that the epoxy equivalent is 100 to 1000 (g / eq) and the softening point is 120 ° C. or less, more preferably the epoxy equivalent is 150 to 500 (g / eq). The point is 80 ° C. or lower. Moreover, it is preferable that the said epoxy resin is a liquid at normal temperature (for example, 5-35 degreeC).
[0028]
  In addition, as described later,Liquid crystal cell substrateIn forming the film, a two-component mixed type epoxy resin that exhibits a liquid state at a temperature equal to or lower than the temperature at the time of coating, particularly at room temperature, is preferable because of excellent developability and coating property.
[0029]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateThe ratio of the resin layer containing the epoxy resin is, for example, 20 to 80% by weight, preferably 25 to 75% by weight, and more preferably 30 to 70% by weight. Moreover, the ratio of the epoxy resin in the said resin layer is 30-100 weight%, for example, Preferably it is 40-90 weight%, More preferably, it is 40-80 weight%. on the other hand,Liquid crystal cell substrateThe content ratio of the glass fiber cloth in is, for example, 20 to 80% by weight, preferably 25 to 75% by weight, and more preferably 30 to 70% by weight.
[0030]
  The epoxy resin layer may contain, for example, various additives as necessary. Examples of the additive include a curing agent, a curing accelerator, an anti-aging agent, a modifier, a surfactant, a dye, Conventionally known additives such as pigments, discoloration inhibitors, ultraviolet absorbers and the like can be mentioned. Any one of these additives may be added, or two or more of them may be used in combination.
[0031]
  The curing agent is not particularly limited, and examples thereof include organic acid compounds such as tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, and methylhexahydrophthalic acid, ethylenediamine, propylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine. And amine compounds such as these amine adducts, metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone. Any one of these curing agents may be used, or two or more of them may be used in combination.
[0032]
  In addition to the curing agent as described above, for example, amide compounds such as dicyandiamide and polyamide, hydrazide compounds such as dihydragit, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, ethylimidazole, isopropylimidazole, Imidazole compounds such as 2,4-dimethylimidazole, phenylimidazole, undecylimidazole, heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, methylimidazoline, 2-ethyl-4-methylimidazoline, ethylimidazoline, isopropylimidazoline Imidazoline compounds such as 2,4-dimethylimidazoline, phenylimidazoline, undecylimidazoline, heptadecylimidazoline, 2-phenyl-4-methylimidazoline, Phenol-based compounds, urea-based compounds, polysulfide compounds, etc. may be mentioned.
[0033]
  Furthermore, acid anhydride compounds and the like can be used as the curing agent, and such acid anhydride compounds are preferable from the viewpoint of, for example, discoloration prevention. Specific examples include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic acid Anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylnadic acid anhydride, dodecenyl succinic anhydride, dichlorosuccinic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, chlorendic acid anhydride and the like can be mentioned. Among these acid anhydride compounds, those having a colorless or light yellow color and having a molecular weight of about 140 to about 200 are preferable. For example, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride Products, methyl hexahydrophthalic anhydride, methyl nadic acid anhydride, and the like.
[0034]
  The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is not particularly limited, but when an acid anhydride curing agent is used as the curing agent, for example, the acid anhydride equivalent is 0 with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. It is preferable to mix | blend so that it may become 0.5-1.5 equivalent, More preferably, it is 0.7-1.2 equivalent. If the blending amount of the acid anhydride is 0.5 equivalents or more, the hue after curing is further excellent, and if it is 1.5 equivalents or less, sufficient moisture resistance can be maintained. In addition, when using another hardening | curing agent, or when using together 1 type, or 2 or more types of hardening | curing agents, it can mix | blend according to the above ratios, for example.
[0035]
  The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include tertiary amines, imidazoles, quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts, organometallic salts, phosphorus compounds, urea compounds, and the like. Of these, tertiary amines, imidazoles, and quaternary phosphonium salts are particularly preferable. These curing accelerators may be, for example, one type or a combination of two or more types.
[0036]
  The mixing ratio of the curing accelerator is not particularly limited, and can be appropriately determined according to, for example, the amount and type of the epoxy resin. Specifically, for example, the curing accelerator is preferably 0.05 to 7.0 parts by weight, more preferably 0.2 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. It is. When the blending amount of the curing accelerator is 0.05 parts by weight or more, a sufficient curing accelerating effect can be obtained, and when it is 7.0 parts by weight or less, the hue after curing is further excellent. It becomes.
[0037]
  Although it does not restrict | limit especially as said anti-aging agent, For example, conventionally well-known things, such as a phenol type compound, an amine type compound, an organic sulfur type compound, a phosphine type compound, can be used.
[0038]
  Although it does not restrict | limit especially as said modifier | denaturant, For example, conventionally well-known things, such as glycols, silicones, alcohol, can be used.
[0039]
  The addition of the surfactant is not particularly limited. For example, when the epoxy resin is cured by contacting the epoxy resin with air to form an epoxy resin sheet, it can be added to smooth the sheet surface. As said surfactant, various surfactants, such as silicone type, an acryl type, a fluorine type, can be used, for example, Among these, a silicone type is preferable.
[0040]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateMay be a single-layer body containing the epoxy resin and the glass fiber cloth-like body, that is, a single-layer epoxy resin layer containing the glass fiber cloth-like body therein, or this single-layer body. In addition, a laminate in which other sheets as described later are laminated may be used.
[0041]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateThe absolute value of the difference between the refractive index of the glass fiber cloth and the refractive index of the resin layer containing the epoxy resin is 0 to 0.01.Yes, preferablyIt is 0-0.008, Most preferably, it is 0-0.006. If the absolute value is 0.01 or less, sufficiently suppress the interface scattering between the glass fiber cloth and the resin layer,Liquid crystal cell substrateThis is because the haze value can be reduced and the transparency can be sufficiently maintained. In the present invention, the refractive index can be determined, for example, by measuring with an Abbe refractometer at 25 ° C. and 589 nm. In this relationship of refractive index, the resin layer containing the epoxy resin is, for example,Liquid crystal cell substrateThe hardened | cured material except the said glass fiber cloth-like body is shown.
[0042]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateThe linear expansion coefficient from 25 ° C. to 160 ° C. is 3.00 × 10^-Five/ ° C. or less is preferable. If it is below the above value,Surface of the liquid crystal cell substrate of the present inventionThis is because, when a color filter or an electrode is formed, a positional shift or the like caused by thermal expansion is sufficiently suppressed, and the formation of the color filter or the like is further facilitated. More preferably, it is 2.00 × 10.^-Five/ ° C. or less, particularly preferably 0 to 1.5 × 10^-Five/ ° C.
[0043]
  The linear expansion coefficient can be calculated by obtaining a TMA measurement value for a sample by, for example, the TMA method defined in JIS K-7197, and substituting it into the following equation. In the following formula, ΔIs (T₁) And ΔIs (T₂) Is the temperature T during sample measurement₁(° C) and T₂TMA measured value (μm) at (° C.)₀Indicates the length (mm) of the sample at a room temperature of 23 ° C.
[0044]
    Thermal expansion coefficient = [1 / (L₀× 10^Three)] ・ [(ΔIs (T₂) -ΔIs (T₁)) / (T₂-T₁]]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateAs described above, the haze value may be 10% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 0 to 2%.
[0045]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateThe light transmittance is preferably 88% or more. If it is above the value,Liquid crystal display device using liquid crystal cell substrate of the present inventionThis is because, when assembling, the characters and images become clearer and the display quality is further improved. Further, it is more preferably 90% or more, and particularly preferably 92 to 100%. The light transmittance can be obtained, for example, by measuring the total light transmittance at a wavelength of 550 nm using a high-speed spectrophotometer.
[0046]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substratePreferably has an in-plane retardation of 2 nm or less. If it is below the above value,Liquid crystal using the liquid crystal cell substrate of the present inventionThis is because the contrast of the display device, particularly the contrast in the perspective direction, is further improved and exhibits excellent display quality. Further, it is more preferably 0 to 1 nm, particularly preferably 0 to 0.8 nm.
[0047]
  In addition, the present inventionLiquid crystal cell substrateThe thickness direction retardation of is 40 nm or less. If it is less than the above value, when used in an image display device as described above, light leakage from the perspective direction can be sufficiently suppressed, the contrast in the perspective direction is further improved, and excellent display quality is exhibited. . More preferably, it is 20 nm or less, More preferably, it is 0-10 nm, Most preferably, it is 0-7 nm. In addition, when setting thickness direction phase difference to 40 nm or less, especially 20 nm or less, it is especially preferable to use the epoxy resin represented by the said Formula (4) or Formula (5).
[0048]
  The in-plane retardation (Δnd) and the thickness direction retardation (Rth) are each represented by, for example, the following formulas, where nx and nyLiquid crystal cell substrateIndicates the refractive index in the X-axis and Y-axis directions, and the X-axis direction is theLiquid crystal cell substrateIs the axial direction showing the maximum refractive index in the plane, Y-axis direction is the axial direction perpendicular to the X-axis in the plane, d is theLiquid crystal cell substrateThe thickness of is shown.
[0049]
  Δnd = (nx−ny) · d
  Rth = [[(nx + ny) / 2] −nz] · d
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateIn this, at least one surface is preferably smooth. To smooth the surface like thisTherefore, liquid crystal cellThis is because when used as a substrate, formation of an alignment film, a transparent electrode, and the like on the surface is further facilitated. Specifically, the surface roughness (Rt) of the surface is preferably 2 μm or less, for example. In the present invention, “surface roughness” means, for example, a long-wavelength cutoff of 800 μm, a short-wavelength cutoff of 250 μm, an evaluation length by a stylus type surface roughness measuring instrument (for example, trade name P-11; manufactured by Tencor). The difference between the maximum value and the minimum value measured under the condition of a thickness of 10 mm is shown.
[0050]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateIn the case of the monolayer, the thickness is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 to 800 μm, for example. This is because if the thickness is 20 μm or more, sufficient strength and rigidity can be maintained, and if the thickness is 800 μm or less, for example, a reduction in thickness and weight can be realized sufficiently. The thickness is more preferably 30 to 500 μm, and particularly preferably 50 to 300 μm.
[0051]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateMay be a laminate including at least one of a hard coat layer and a gas barrier layer in addition to the single layer as described above, and is preferably a laminate including both the hard coat layer and the gas barrier layer. In particular, if the hard coat layer is laminated as the outermost layer, for example, the scratch resistance of the sheet can be improved. Liquid crystalIn the display deviceIf moisture or oxygen penetrates the liquid crystal cell substrate and enters the liquid crystal cell, the liquid crystal may be altered or bubbles may be formed, which may cause poor appearance or disconnection of the conductive film pattern. However, by providing the gas barrier layer, for example, gas such as moisture and oxygen can be prevented from permeating. Further, each of the hard coat layer and the gas barrier layer may be on one side or may be laminated on both sides.
[0052]
  When both the hard coat layer and the gas barrier layer are included, the stacking order is not particularly limited, but it is preferable to stack in the order of the epoxy resin layer, the gas barrier layer, and the hard coat layer. In particular, since the hard coat layer is excellent in impact resistance, chemical resistance, etc., it is preferably laminated as the outermost layer, and a hard coat layer may be laminated on the other surface of the epoxy resin layer. . Thus, the hard coat layer and the gas barrier layer of the present invention are included.Liquid crystal cell substrateAn example is shown in the cross-sectional view of FIG. In the figure, the same parts as those in FIG. As shown in the figure,Liquid crystal cell substrate20, a gas barrier layer 3 is laminated on one surface of an epoxy resin layer 1 including a glass fiber cloth-like body 2, and a hard coat layer 4 is further laminated on the gas barrier layer 3.
[0053]
  The material for forming the hard coat layer is not particularly limited, and examples thereof include urethane resins, acrylic resins, polyester resins, polyvinyl alcohol resins such as polyvinyl alcohol and ethylene / vinyl alcohol copolymers, and vinyl chloride resins. And vinylidene chloride resin. Also, for example, polyarylate resins, sulfone resins, amide resins, imide resins, polyethersulfone resins, polyetherimide resins, polycarbonate resins, silicone resins, fluorine resins, polyolefin resins, styrene Resin, vinyl pyrrolidone resin, cellulose resin, acrylonitrile resin and the like can also be used. Among these, urethane resin is preferable, and urethane acrylate is more preferable. These resins may be one kind or a blend resin in which two or more kinds are mixed.
[0054]
  The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is usually in the range of, for example, 0.1 to 50 μm, preferably 0 from the viewpoint of preventing the occurrence of peeling at the time of production and cracking at the time of peeling. The range is from 5 to 8 μm, more preferably from 2 to 5 μm.
[0055]
  Examples of the gas barrier layer include an organic gas barrier layer and an inorganic gas barrier layer. The material for forming the organic gas barrier layer is not particularly limited, but, for example, polyvinyl alcohol and its partially saponified products, vinyl alcohol polymers such as ethylene-vinyl alcohol copolymer, and oxygen permeation such as polyacrylonitrile and polyvinylidene chloride. Small materials can be used, and among these, vinyl alcohol polymers are particularly preferable from the viewpoint of high gas barrier properties.
[0056]
  The thickness of the organic gas barrier layer can be obtained by, for example, transparency, prevention of coloring, functionality such as gas barrier properties, thinning, and the like.Liquid crystal cell substrateFrom the viewpoint of flexibility, the thickness is preferably 10 μm or less, more preferably 2 to 10 μm, still more preferably 2 to 10 μm, and particularly preferably 3 to 5 μm. If the thickness is 10 μm or less,Liquid crystal cell substrateIn this case, a lower yellowness index (YI value) can be maintained, and if it is 2 μm or more, a sufficient gas barrier function is maintained.
[0057]
  On the other hand, as a material for forming the inorganic gas barrier layer, for example, transparent materials such as silicon oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, and zinc oxide can be used. Among these, for example, gas barrier properties and adhesion to the base material layer can be used. From the viewpoint of excellent properties, silicon oxide and silicon nitride are preferable.
[0058]
  As said silicon oxide, it is preferable that the ratio of the number of oxygen atoms with respect to the number of silicon atoms is 1.5-2.0, for example. This is because, at such a ratio, for example, the inorganic gas barrier layer is further excellent in terms of gas barrier properties, transparency, surface flatness, flexibility, film stress, cost, and the like. In the silicon oxide, the maximum value of the ratio of the number of oxygen atoms to the number of silicon atoms is 2.0.
[0059]
  As the silicon nitride, for example, the ratio of the number of nitrogen atoms (N) to the number of silicon atoms (Si) (Si: N) is preferably 1: 1 to 3: 4.
[0060]
  The thickness of the inorganic gas barrier layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 200 nm, for example. If the thickness is 5 nm or more, for example, more excellent gas barrier properties can be obtained, and if the thickness is 200 nm or less, the transparency, flexibility, film stress, and cost are also excellent.
[0061]
  Thus, the present inventionLiquid crystal cell substrateIn the case of a laminate, the thickness varies depending on the number of laminated layers, but is preferably in the range of 20 to 800 μm, more preferably in the range of 30 to 500 μm, and particularly preferably in the range of 50 to 300 μm. In addition, in the case of the said laminated body, the layer containing the said epoxy resin and glass fiber cloth-like body may be one layer, and may include two or more layers.
[0062]
  Of the present inventionLiquid crystal cell substrateThe production method is not particularly limited, and can be formed, for example, by solidifying the epoxy resin in the presence of the glass fiber cloth-like body. For example, a casting method, a casting method, an impregnation method, a coating method, etc. The conventionally known method can be employed. Specifically, it can be performed as follows.
[0063]
  In the case of the casting method, for example, by placing a glass fiber cloth body on a flat plate mold and applying a liquid epoxy resin on the cloth body, the cloth shape The body is impregnated with the epoxy resin. And if the said epoxy resin is hardened by performing heat processing or UV irradiation, the epoxy resin layer containing the said glass fiber cloth-like body can be formed, for example.
[0064]
  Even under normal pressure conditions, the glass fiber cloth can be obtained by immersing the glass fiber cloth in a liquid epoxy resin by an impregnation method and curing the epoxy resin in that state. An epoxy resin layer containing a shaped body can be formed. Further, the glass fiber cloth-like body may be disposed on an endless belt or a substrate and impregnated with or coated with the epoxy resin.
[0065]
  Moreover, you may perform hardening processes, such as a heat processing and a light irradiation process, with respect to the coated epoxy resin as needed. The curing conditions of the epoxy resin containing the dicyclopentadiene type epoxy resin are not particularly limited, but for example, it is preferable to perform a curing treatment at 100 to 200 ° C. for 10 minutes to 5 hours.
[0066]
  For example, the epoxy resin may be dispersed or dissolved in a solvent to prepare an epoxy resin liquid, which may be used. Although it does not restrict | limit especially as said solvent, For example, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, ethyl acetate etc. can be used. It should be noted that other resins and various additives as described above can be appropriately added to the liquid epoxy resin or the epoxy resin solution dissolved in the solvent.
[0067]
  In addition, the present inventionLiquid crystal cell substrateHowever, in the case of a laminate including a hard coat layer and the like, for example, after forming a hard coat layer on the flat plate mold, the glass fiber cloth-like body is disposed on the hard coat layer, and the same as described above. Thus, an epoxy resin layer may be formed. In the formation of the hard coat layer, curing treatment such as heat treatment or light irradiation treatment may be performed as necessary. Further, a hard coat layer is formed on a stainless steel endless belt or base material by a casting method or a coating method, and then the hard coat layer and an epoxy resin layer including the glass fiber cloth-like body are formed. You may stick together.
[0068]
  The method for forming the hard coat layer is not particularly limited, and a forming liquid as described above may be mixed with the solvent to prepare a coating solution, which may be applied onto a substrate and dried. The coating method is not particularly limited, and conventionally known methods such as a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, an extrusion method, a curtain coating method, and a spray coating method can be employed. .
[0069]
  Also includes a gas barrier layerLiquid crystal cell substrateIn this case, for example, after forming a gas barrier layer on the hard coat layer formed as described above, an epoxy resin layer containing a glass fiber cloth-like body may be formed in the same manner as described above. . The method for forming the gas barrier layer is not particularly limited, and for example, a conventionally known method can be appropriately employed.
[0070]
  A liquid crystal display device generally includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is held on a liquid crystal cell substrate having electrodes, a polarizing plate, a reflector, and a backlight, and is configured by incorporating a drive circuit and the like. In the liquid crystal display device of the present invention,Liquid crystal cell substrate of the present inventionHowever, there is no particular limitation except for this point, and various conventionally known components may be provided. Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, the liquid crystal cell substrate of the present invention is further provided with, for example, a light diffusing plate, an antiglare layer, an antireflection film, a protective layer, a protective plate provided on the polarizing plate on the viewing side, Or you may combine optical components, such as a phase difference plate for compensation provided between a liquid crystal cell and the polarization | polarized-light side of a visual recognition side, and a board.
[0071]
  Since the phase plate and the polarizing plate have a function of polarizing light incident from the outside and reflected by the metal electrode, there is an effect that the mirror surface of the metal electrode is not visually recognized by the polarization action. In particular, if a quarter-wave plate is used as the phase plate and the angle between the polarization directions of the polarizing plate and the phase plate is adjusted to π / 4, the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded. . That is, external light incident on the organic EL device can transmit only the linearly polarized light component by the polarizing plate. This linearly polarized light is generally elliptically polarized light depending on the phase plate, but is particularly circularly polarized when the phase plate is a quarter wave plate and the angle between the polarization directions of the polarizing plate and the phase plate is π / 4. For example, the circularly polarized light is transmitted through the transparent substrate, the transparent electrode, and the organic thin film, is reflected by the metal electrode, is again transmitted through the organic thin film, the transparent electrode, and the transparent substrate, and becomes linearly polarized light again by the phase plate. And since this linearly polarized light is orthogonal to the polarization direction of a polarizing plate, it cannot permeate | transmit a polarizing plate. As a result, the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded.
[0072]
【Example】
  The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[0073]
  (Comparative Example 1)
  As the epoxy resin, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (27 parts by weight) represented by the above formula (2) and a bisphenol A type epoxy resin represented by the above formula (1) (commodity) Name AER250 (epoxy equivalent 190); manufactured by Asahi Kasei Corporation (73 parts by weight), methylhexahydrophthalic anhydride (88 parts by weight) represented by the following formula (6) as a curing agent, and the following formula ( Tetra-n-butylphosphonium o, o-diethyl phosphorodithioate (0.9 parts by weight) represented by 7) was mixed by stirring to prepare an epoxy resin mixture. Then, a glass cloth having a refractive index of 1.524 and a thickness of 100 μm (trade name glass cloth; manufactured by Nittobo Co., Ltd.) is immersed in the mixed solution and left to stand for 10 minutes under a reduced pressure (200 Pa) condition. The mixed solution was impregnated inside. As a result, a precursor layer in which the glass cloth was embedded was formed.
[0074]
[Chemical 8]

[0075]
[Chemical 9]

[0076]
  On the other hand, urethane acrylate represented by the following formula (8) was dissolved in toluene to prepare a 17% by weight urethane acrylate liquid. And the said urethane acrylate liquid was cast-coated on the glass plate, the toluene solvent was volatilized by air-drying this coating film, and the said coating film was hardened with the UV curing device. The curing conditions are 200 mJ / cm using a high pressure mercury lamp.²1 minute. As a result, a hard coat layer having a thickness of 2 μm was formed on the glass plate. Subsequently, a precursor layer in which the glass cloth is embedded is laminated on the hard coat layer on the glass plate, a glass plate that has been subjected to a release treatment is further laminated on the precursor layer, and the laminate is subjected to heat treatment. Thus, the precursor layer was cured. Curing was performed by treating at 120 ° C. for 1 hour, and further treating at 150 ° C. for 1 hour. Through the curing treatment, an epoxy resin layer containing glass cloth was formed on the hard coat layer. In addition, since the refractive index of the hardened | cured material containing an epoxy resin is 1.530, the difference of the refractive index of a glass cloth and the said hardened | cured material was 0.006. In addition, the refractive index of the resin layer (cured product) containing the epoxy resin, excluding the glass cloth,Liquid crystal cell substrateThe production was performed separately. That is, except that no glass cloth was used, the epoxy resin mixture was cured in the same manner, the refractive index of the cured product was measured, and this was used as the refractive index (hereinafter the same).
[0077]
Embedded image

[0078]
  And the said glass plate of both surfaces was peeled, and the laminated body of the hard-coat layer and the epoxy resin layer was obtained. This was placed on a stainless steel plate, and after-cure was performed by leaving it in an atmosphere of 180 ° C. with an oxygen concentration of 0.5% by nitrogen substitution for 1 hour. Thus, it is a laminate of a hard coat layer and an epoxy resin layer having a glass cloth.Liquid crystal cell substratewas gotten. In addition, thisLiquid crystal cell substrateThe thickness of was 110 μm.
[0079]
  Example 1
  3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (78 parts by weight) represented by the above formula (2), n = 0.2 epoxy resin represented by the above formula (5), and methyl as a curing agent Nadiic acid (110 parts by weight) and tetra-n-butylphosphonium o, o-diethylphosphorodithioate (2.0 parts by weight) represented by the above formula (7) as a curing accelerator are stirred and mixed to obtain an epoxy resin. A mixture was prepared. Then, a hard coat layer and a glass cloth were used in the same manner as in Comparative Example 1 except that this mixed liquid and a glass cloth having a refractive index of 1.513 and a thickness of 100 μm (trade name glass cloth; manufactured by Nittobo Co., Ltd.) were used. It is a laminate with an epoxy resin layer havingLiquid crystal cell substrateWas made. The aboveLiquid crystal cell substrateThe thickness of the cured product was 110 μm, and the refractive index of the cured product containing the epoxy resin was 1.514. Therefore, the difference in refractive index between the glass cloth and the cured product was 0.001.
[0080]
  (Comparative Example 2)
  This comparative example does not include glass clothLiquid crystal cell substrateIt is an example. On the same hard coat layer as in Comparative Example 1, the same epoxy resin liquid as in Comparative Example 1 was cast and formed to form a precursor layer, and the precursor layer was cured by subjecting it to a heat treatment. . The curing conditions were the same as in Comparative Example 1. By the curing treatment, an epoxy resin layer having a thickness of 100 μm was formed on the hard coat layer. Next, the laminate of the hard coat layer and the epoxy resin layer was peeled from the endless belt, and after-curing was performed under the same conditions as in Example 1.
[0081]
  (Comparative Example 3)
  In this comparative example, glass beads are used instead of glass cloth. Similar to Comparative Example 2 except that 70 parts by weight of spherical glass beads (refractive index of 1.524) having an average particle size of 120 μm were mixed with the same epoxy resin liquid as Comparative Example 1 to prepare a filler-containing epoxy resin liquid. Is a laminate of a hard coat layer and an epoxy resin layer.Liquid crystal cell substrateManufactured.
[0082]
  (Comparative Example 4)
  Except for using a glass cloth having a refraction of 1.558 and a thickness of 100 μm (trade name glass cloth; manufactured by Nittobo Co., Ltd.) as the glass cloth, the same as in Example 1 above.Liquid crystal cell substrateManufactured. In addition, since the refractive index of the hardened | cured material containing an epoxy resin is 1.514, the difference of the refractive index of a glass cloth and the said hardened | cured material was 0.044.
[0083]
  Each obtained as aboveLiquid crystal cell substrateThe following evaluation test was conducted. These results are shown in Table 1 below.
[0084]
  1. Linear expansion coefficient
  Using a trade name TMA / SS150C (manufactured by Seiko Instruments Inc.), TMA values (μm) at 25 ° C. and 160 ° C. were measured and calculated as described above.
[0085]
  2. Flexibility test
  EachLiquid crystal cell substrateWas wound around an iron pillar having a diameter of 35 mm, and whether or not cracking occurred was visually observed.
[0086]
  3. Light transmittance (%)
  EachLiquid crystal cell substrateThe total light transmittance at λ = 550 nm was measured using a high-speed spectrophotometer (trade name DOT-3C; manufactured by Murakami Color Research Laboratory).
[0087]
  4). In-plane retardation (Δnd) and thickness direction retardation (Rth)
  EachLiquid crystal cell substrateIn-plane retardation and thickness direction retardation were measured from the refractive index at 590 nm using a trade name KOBRA21ADH manufactured by Oji Scientific Instruments.
[0088]
  5). Surface roughness
  eachLiquid crystal cell substrateSurface roughness (with a long wavelength cutoff of 800 μm, a short wavelength cutoff of 250 μm, and an evaluation length of 10 mm, using a stylus type surface roughness measuring instrument (for example, trade name P-11; manufactured by Tencor). The difference between the maximum and minimum values was measured. The surface roughness is the same as the epoxy resin layer side surface.Liquid crystal cell substrateIn Table 1 below, the surface roughness of the epoxy resin layer side surface is “Rt (E)”, and the surface roughness of the hard coat layer side surface is “Rt (H)”. expressed.
[0089]
  6). Haze value
  eachLiquid crystal cell substrateThe haze value was measured using a haze meter (trade name, trade name HM-150; manufactured by Murakami Color Co., Ltd.).
[0090]
[Table 1]

[0091]
  As shown in Table 1, Comparative Example 3Liquid crystal cell substrateAlthough the linear expansion coefficient could be lowered by containing glass beads, it was inferior in flexibility and cracked. On the other hand, in Comparative Example 2 containing no glass cloth, although the crack did not occur, the linear expansion coefficient was very high. Comparative Example 1Liquid crystal cell substrateWas low in linear expansion coefficient and excellent in flexibility and light transmittance, but had a large Rth of 42 nm. Further, Comparative Example 4Liquid crystal cell substrateSince the difference in refractive index between the glass cloth and the cured epoxy resin is large, the haze value is extremely high, and cannot be used as a transmissive liquid crystal cell substrate. On the other hand, according to Example 1, the coefficient of thermal expansion is low, it is difficult to crack even by impact during transportation, and excellent in transparency.Liquid crystal cell substrateIs obtained, and by using an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton represented by the formula (5), an even smaller Rth is exhibited.Liquid crystal cell substrateCould get.
[0092]
【The invention's effect】
  Thus, the present inventionLiquid crystal cell substrateSince it contains a glass fiber cloth and an epoxy resin, for example, thermal expansion and the like are suppressed and excellent strength is exhibited. For this reason, the shift of patterning caused by thermal expansion is suppressed, and further, it is not broken by an impact when assembling various display devices such as a liquid crystal display device, and the production efficiency is excellent. Furthermore, the present inventionLiquid crystal cell substrateHas a thickness direction retardation of 40 nm or less and a haze value of 10% or less.Yes, the absolute value of the difference between the refractive index of the glass fiber cloth and the refractive index of the resin layer containing the epoxy resin is 0 to 0.01.Therefore, it is excellent in display quality and transparency, and is useful for, for example, a transmissive liquid crystal cell substrate. Therefore, the present inventionIf you use a liquid crystal cell substrate, Not only lighter and thinner, but also excellent strength, display quality and transparencyLiquid crystal displayObtainable.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 of the present inventionLiquid crystal cell substrateIt is sectional drawing which shows an example.
FIG. 2 of the present inventionLiquid crystal cell substrateIt is sectional drawing which shows the other example of.
[Explanation of symbols]
1: Epoxy resin layer
2: Glass fiber cloth
3: Gas barrier layer
4: Hard coat layer
10, 20:Liquid crystal cell substrate

Claims (15)

A liquid crystal cell substrate comprising a resin layer and a glass fiber cloth-like body containing an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton, the thickness direction retardation, it is 40nm or less, a haze value is 10% or less, wherein A liquid crystal cell substrate in which an absolute value of a difference between a refractive index of a glass fiber cloth and a refractive index of the resin layer is 0 to 0.01 . The liquid crystal cell substrate according to claim 1, wherein the epoxy resin includes at least one of an epoxy resin represented by the following formula (4) and an epoxy resin represented by the following formula (5).

The liquid crystal cell substrate according to claim 1 or 2, wherein the in-plane retardation is 2 nm or less. 4. The liquid crystal cell substrate according to claim 1, wherein a linear expansion coefficient at 25 ° C. to 160 ° C. is 3.00 × 10 ⁻⁵ / ° C. or less. The light transmittance is 88% or more, The liquid crystal cell substrate as described in any one of Claims 1-4. 6. The liquid crystal cell substrate according to claim 1, wherein the surface roughness (Rt) is 2 μm or less. The proportion of the glass fiber cloth-like material in a liquid crystal cell substrate, a liquid crystal cell substrate according to any one of claims 1 to 6 in the range of 20 to 80 wt%. The ratio of the resin layer containing the said epoxy resin in a liquid crystal cell substrate is the range of 20 to 80 weight%, The liquid crystal cell substrate as described in any one of Claims 1-7 . The liquid crystal cell substrate according to any one of claims 1 to 8 , which is a single-layer body in which the resin layer containing the epoxy resin and the glass fiber cloth-like body are integrated. The liquid crystal cell substrate according to any one of claims 1 to 9 , wherein the resin layer is formed by curing the epoxy resin impregnated in the glass fiber cloth. The liquid crystal cell substrate according to any one of claims 1 to 10 , wherein the glass fiber cloth-like body is embedded in a resin layer containing the epoxy resin. The liquid crystal cell substrate according to claim 1 , further comprising a hard coat layer. Furthermore, the liquid crystal cell substrate as described in any one of Claims 1-12 containing a gas barrier layer. A liquid crystal cell comprising the liquid crystal cell substrate according to claim 1 and a liquid crystal. A liquid crystal display device comprising the liquid crystal cell according to claim 14 .

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