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JP4068086B2 - 静電アクチュエータおよび撮像装置 - Google Patents

静電アクチュエータおよび撮像装置 Download PDF

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Description

本発明は、静電アクチュエータおよび静電アクチュエータを用いてレンズを駆動する撮像装置に関する。
近年、携帯電話等のモバイル機器にズーム機能やオートフォーカス機能を有する撮像装置を組み込むことが検討されている。このような撮像装置ではレンズを駆動することで焦点やピントを調節して、最終的にセンサに結像させる。このようにレンズを光軸方向に駆動する駆動源としては、静電アクチュエータが用いられる場合がある。
撮像装置は、レンズを駆動することでズーム倍率やピントを調整するものである。静電アクチュエータは、固定子と可動子とを備えており、可動子はレンズを保持している。
固定子は、固定子枠の上下内壁にそれぞれ取付けられた駆動用電極基板と保持用電極基板とを備えている。また、可動子は、一対の電極基板の間を数μmのギャップをもってレンズの軸方向に沿って往復動可能となるように配置されている。駆動用電極基板には、可動子を駆動するための駆動用電極を有している。また、保持用電極基板には、可動子を保持するための保持用電極を有している。
このような構成をした撮像装置においては、固定子の電極基板の電極にスイッチング回路を用いて所定の順序で電圧を供給することで、可動子を静電気力で駆動するようにしている。(特許文献1)
特開2003−9550公報 図3
しかし、従来の撮像装置は、可動子の有する残留応力や温度変化、湿度変化により、可動子が変形してしまう。可動子が変形すると、駆動用電極と可動子が接触し、駆動用電極と可動子とが短絡し、撮像装置を破損してしまう場合がある。
本発明は、このような事情を鑑みてされたもので、可動子が変形してしまった場合に、撮像装置が破壊してしまう可能性を低減する静電アクチュエータおよび撮像装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の静電アクチュエータは、固定子と、前記固定子に設けられ、前記固定子に案内されて所定方向に移動可能に設けられた可動子と、前記固定子に設けられた2つの基板と、一方の前記基板に設けられ、前記可動子を吸引保持するための保持用電極と、他方の前記基板に設けられ、前記可動子を駆動するために前記所定方向に一定のピッチで設けられた駆動用電極と、前記可動子の前記駆動用電極と対向する位置に、前記可動子を駆動するために前記所定方向に一定のピッチで設けられた可動子側駆動用電極と、他方の前記基板に設けられた第1の凸部と、前記可動子が前記所定方向に移動する際、前記駆動用電極と前記可動子側駆動用電極との間に間隙を有するように、前記可動子の前記第1の凸部と対向する位置に設けられた第2の凸部と、を有することを特徴とする。
また、上記目的を達成するために、本発明の撮像装置は、固定子と、前記固定子に設けられ、前記固定子に案内されて所定方向に移動可能に設けられた可動子と、前記固定子に設けられた2つの基板と、一方の前記基板に設けられ、前記可動子を吸引保持するための保持用電極と、他方の前記基板に設けられ、前記可動子を駆動するために前記所定方向に一定のピッチで設けられた駆動用電極と、前記可動子の前記駆動用電極と対向する位置に、前記可動子を駆動するために前記所定方向に一定のピッチで設けられた可動子側駆動用電極と、他方の前記基板に設けられた第1の凸部と、前記可動子が前記所定方向に移動する際、前記駆動用電極と前記可動子側駆動用電極との間に間隙を有するように、前記可動子の前記第1の凸部と対向する位置に設けられた第2の凸部と、前記可動子に設けられ、被写体の像を結像させるためのレンズと、前記レンズによって結像された被写体の像を検出するための撮像素子部と、を有することを特徴とする。
可動子が変形してしまった場合に、撮像装置が破壊してしまう可能性を低減する静電アクチュエータおよび撮像装置を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
(第1の実施の形態)
図1は本発明の第1の実施の形態に係る静電アクチュエータを用いた撮像装置10を一部切欠して示す斜視図、図2は撮像装置10を示す分解斜視図、図3は駆動用電極基板42(他方の基板)と、保持用電極基板43(一方の基板)を模式的に示す平面図、図4は駆動用電極基板42および保持用電極基板43の製造工程を模式的に示す断面図、図5は第1の可動子50の拡大図、図6はズームレンズユニット(静電アクチュエータ)30を模式的に示す縦断面図である。これらの図中矢印XYZは互いに直交する三方向を示しており、特に矢印Xは貫通部の貫通方向(所定方向)であり、すなわち第1及び第2の可動子50、60の移動方向(光軸方向)である。また、実施の形態の説明において、図1に示すZの矢印方向を仮に上方向として説明する。
撮像装置10は、ズームレンズユニット30に設けられた後述するレンズ54、64によって結像された被写体の像を検出する。撮像装置10は、撮像素子部20と、ズームレンズユニット30とを備えている。撮像素子部20は、基板21と、この基板21上に配置されたCCD等のセンサ22及び制御用の電子部品23とを備えている。電子部品23には、駆動制御回路24が組み込まれている。
ズームレンズユニット30は、筒状のカバー31と、固定子40と、第1の可動子50と、第2の可動子60とを備えている。第1の可動子50、第2の可動子60は、互いに離間して光軸方向Xに沿って移動可能に固定子枠41(後述)内に挿入されている。
固定子40は、貫通部を有する中空の直方体形状の枠体なる固定子枠41を備えている。この固定子枠41は、上方内面41aおよび下方内面41bを有している。上方内面41aには、第1の可動子50、第2の可動子60を駆動するための駆動用電極基板42が取付けられている。さらに、下方内面41bには、可動子50、60をその位置に保持するための保持用電極基板43が取付けられている。
駆動用電極基板42は、図3に示すように絶縁性材料基板表面に所望の形状にパターニングして形成され、移動方向Xに対して直交するY方向に延伸する複数の電極群からなる駆動用電極42a〜42dが並列されている。絶縁性材料基板には、例えばガラス板や、表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハ、アラミドやガラスエポキシなどのプリント配線板用の絶縁基板を用いることができる。なお、各電極の幅は数μmから数十μm程度であり、各電極間の間隔は数μmから数十μm程度であり、電極は、一定のピッチで配列されている。ここで一定のピッチとは、加工の際に生じる加工誤差を含んでいる。
駆動用電極42a〜42dは、電子部品23の駆動制御回路24に接続され、駆動制御回路24からの制御電圧信号が入力されて駆動される。すなわち、電圧信号は、各グループの駆動用電極42a〜42dに独立して印加される。例えば、駆動用電極42aに電圧が印加される場合には、駆動用電極基板42上の全てのグループの駆動用電極42aに対応する凸部に電圧信号が印加される。ここで駆動用電極42aはチャンネル1(ch1)、駆動用電極42bはチャンネル2(ch2)、駆動用電極42cはチャンネル3(ch3)、駆動用電極42dはチャンネル4(ch4)に該当する。
駆動用電極基板42には、ストッパ42e(第1の凸部)が設けられている。ストッパ42eは、駆動用電極基板42の駆動用電極42a〜42dを有する面に設けられている。また、ストッパ42eは、駆動用電極42a〜42dよりも高さが高くなるように設けられている。
駆動用電極基板42の製造工程を図4に示す。まず図4(a)に示すように、例えばシリコンウェーハなどの基材42fの一部に、例えばRIE等のエッチング方法を用いて凹部を形成する。この凹部には、後述する工程にて駆動用電極基板の駆動用電極42a〜42dと駆動制御回路24とを接続する配線部分が設けられ、配線部分と第1の可動子50、第2の可動子60とが接触してしまうことを防止している。
次に、図4(b)に示すように、たとえばSiOなどの絶縁層42gを形成する。絶縁層42gはこの後に設けられる他の層と基材42fとの密着力を向上させるために設けられている。また、基材42fがシリコンウェーハの場合、基材42fとこの後に設けられる他の層とを絶縁するために設けられている。絶縁層42gは、例えば酸化炉を用いてシリコンウェーハ表面を酸化させることにより形成することができる。
続いて、図4(c)に示すように、絶縁層42gに導電層42hを選択的に形成する。導電層42hは、例えばスパッタ法を用いてAl−Si−Cuの層を堆積した後、導電層42hの必要な部分の表面に露光現像技術を用いてレジスト層を形成し、RIE等のエッチング方法を用いてパターンニング、レジスト除去することにより形成することができる。
そして、図4(d)に示すように、選択的に導電層42hが設けられた絶縁層42gに、絶縁層42iを形成する。絶縁層42iには、後に設けられる導電層42jと接続するためのビアホール42kが設けられている。絶縁層42iは、例えばTEOSやSiHを用いたCVD法により、SiO膜を堆積し形成することができる。また、ビアホール42kは、絶縁層42iの必要な部分の表面に露光現像技術を用いてレジスト層を形成し、RIE等のエッチング技術を用いてパターンニング、レジスト除去することにより形成することができる。
図4(e)に示すように、絶縁層42iに導電層42jを選択的に形成する。導電層42jは、例えばスパッタ法を用いてAl−Si−Cuの層を堆積した後、導電層42jの必要な部分の表面に露光現像技術を用いてレジスト層を形成し、RIE等のエッチング方法を用いてパターンニング、レジスト除去することにより形成することができる。
図4(f)に示すように、選択的に導電層42jが設けられた絶縁層42iに、絶縁層42lを形成する。絶縁層42lは、例えばTEOSやSiHを用いたCVD法により、SiO膜を堆積し形成することができる。
さらに、図4(g)に示すように、絶縁層42lに、絶縁層42mを形成する。絶縁層42mはストッパ42eに相当する部分に選択的に設けられている。絶縁層42mは、例えばCVD法により、SiN膜を堆積し形成することができる。絶縁層42mは、絶縁層42mの必要な部分の表面に露光現像技術を用いてレジスト層を形成し、RIE等のエッチング技術を用いてパターンニング、レジスト除去することにより形成することができる。
最後に、図4(h)に示すように、選択的に絶縁層42mが設けられた絶縁層42lに、表面保護層42nを形成し、駆動用電極基板42の形状となるようにダイシング法を用いてシリコンウェーハを切削、分割する。表面保護層42nは、例えばCVD法により、SiN膜を堆積し形成することができる。
なお、各層の厚さは、例えば基材42fは725μm、絶縁層42g/絶縁層42iは1.1μm、導電層42h/導電層42jは0.6μm、絶縁層42lは0.5μm、絶縁層42m/絶縁層42nは0.55μmである。また、基材42fに設けられた凹部の深さは、例えば0.6μmである。
保持用電極基板43は、図3に示すように絶縁性材料基板表面に所望の形状にパターニングして形成され、第1の可動子50の第1可動子電極53(後述)に対応するストライプ電極43a(第1の保持用電極)と、第2の可動子60の第2可動子電極63(後述)に対応するストライプ電極43b(第2の保持用電極)が並行に形成されている。例えばガラス板や、表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハ、アラミドやガラスエポキシなどのプリント配線板用の絶縁基板を用いることができる。ここで第2可動子用ストライプ電極43bはチャンネル5(ch5)、第1可動子用ストライプ電極43aはチャンネル6(ch6)に該当する。また、これらストライプ電極43a、43bは、第1及び第2の可動子50、60を独立して制御されるように電気的に独立して配置される。
保持用電極基板43には、駆動用電極基板42と同様にストッパ43eが設けられている。なお、保持用電極基板43の製造工程は、駆動用電極基板42と同様の工程を用いて製造することができるため、その詳細な説明を省略する。
第1の可動子50は、中空部を有する導電材料で形成された略直方体の支持体51とを備えている。支持体51は、例えば導電性材料を物理的な研削により、または化学的なエッチングにより形成することができる。また、導電性樹脂を射出成型して成型して形成することもできる。この支持体51の上面には可動子側駆動用電極52が形成され、下面には第1可動子電極53が形成されている。さらに、中空部にはレンズ54が固定されている。
可動子側駆動用電極52の表面には、ストッパ55a(第2の凸部)が設けられている。第1の可動子50が光軸方向Xに移動する際、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間に間隙を有するように、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパ55aは設けられている。
駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間の間隙の設計値は、第1の可動子50が光軸方向Xに移動する際に最も小さい場合で3μm、最も大きい場合で15μmである。なお、ここで設計値とは、支持体51や駆動用電極基板42、保持用電極基板43の加工、およびこれらの組立の際に生じる誤差を含まない設計値である。例えば、前述の駆動用電極基板42、保持用電極基板43の製造方法を用いた場合、ストッパ55aの可動子側駆動用電極52の表面からの高さは、1.0μmから3.0μm程度が適している。
支持体51の表面には、ストッパ55bが設けられている。第1の可動子50が光軸方向Xに移動する際、ストライプ電極43a、43bと第1可動子電極53との間に間隙を有するように、ストッパ43eと対向する位置に、ストッパ55bは設けられている。
導電性樹脂には、例えば導電性PPS、導電性PS樹脂を用いることができる。特に導電性PPS樹脂は、その電気特性や成形性から支持体51の材質として好ましい。また、導電性PPS樹脂には、摩擦係数を低減するためのフッ素系材料(例えばPTFE)やチタン酸カリウム、オイル、カーボンファイバーを添加することが好ましい。フッ素系材料やチタン酸カリウム、オイル、カーボンファイバーはいずれか1つを添加しても構わないが、複数(例えばPTFEとオイル)添加しても構わない。
可動子側駆動用電極52は、第1の可動子50の移動方向Xに直交するように突起状の複数のストライプが延出され、移動方向Xに並列されて凹凸部が形成されている。その間隔は例えば32μm程度であり、凸部の高さは凹部の底面から高さ10μm程度を有している。この高さは最低10μmあればよく、それ以上深くても構わない。すなわち、可動子側駆動用電極52の凸の幅は、駆動用電極基板42a〜42dのピッチの倍に等しく、また、可動子側駆動用電極52の凹の底面は、駆動用電極基板42a〜42dのピッチの倍と等しい幅を有している。例えば、駆動用電極基板42に表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハを用いる場合、可動子側駆動用電極52の凹或いは凸は、ほぼ64μmのピッチで配列されている。
第1可動子電極53は、第1の可動子50の移動方向Xに延出され、Y方向に並列されるようにエッチングにより突起状の複数のストライプが形成されている。ここで第1可動子電極53はチャンネル7(ch7)に該当する。
第2の可動子60は、中空部を有する導電材料で形成された略直方体の支持体61とを備えている。支持体61は、例えば導電性材料を物理的な研削により、または化学的なエッチングにより形成することができる。また、導電性樹脂を射出成型して成型して形成することもできる。この支持体61の上面には可動子側駆動用電極62が形成され、下面には第2可動子電極63が形成されている。さらに、中空部にはレンズ64が固定されている。
可動子側駆動用電極62は、第2の可動子60の移動方向Xに直交するようにエッチングにより突起状の複数のストライプが延出され、移動方向Xに並列されて凹凸部が形成されている。その間隔は例えば32μm程度であり、凸部の高さは凹部の底面から高さ10μm程度を有している。この高さは最低10μmあればよく、それ以上深くても構わない。すなわち、可動子側駆動用電極62の凸の幅は、駆動用電極基板42a〜42dのピッチの倍に等しく、また、可動子側駆動用電極62の凹の底面は、駆動用電極基板42a〜42dのピッチの倍と等しい幅を有している。例えば、駆動用電極基板42に表面に熱酸化膜が形成されたシリコンウェーハを用いる場合、可動子側駆動用電極62の凹或いは凸は、ほぼ64μmのピッチで配列されている。
第2可動子電極63は、第1の可動子50の移動方向Xに延出され、Y方向に並列されるようにエッチングにより突起状の複数のストライプが形成されている。ここで第2可動子電極63はチャンネル8(ch8)に該当する。
上述した第1の可動子50のレンズ54及び第2の可動子60のレンズ64の配置が変えられることによって両者で構成されるレンズ系は、ワイド及びテレ間でズームされ、また被写体に対してピントが合わせられる。
このように構成された撮像装置10は、次のようにして第1及び第2の可動子50、60の駆動が行われる。
第1の可動子50は、駆動用電極42a〜42dと可動子側電極52の間に、またストライプ電極43aと第1可動子電極53との間に電位差を設ける。すると駆動用電極42a〜42dと可動子側電極52の間に、またストライプ電極43aと第1可動子電極53との間に静電気力により吸引方向の力が生じる。公知の手順(例えば特開2004−126009号公報 段落0037乃至0049)にて、電位差を設ける駆動用電極42a〜42d、ストライプ電極43aを切り替えることにより、第1の可動子50の位置を移動させることができる。
一方、第2の可動子60は、駆動用電極42a〜42dと可動子側電極62の間に、またストライプ電極43bと第2可動子電極63との間に電位差を設ける。すると駆動用電極42a〜42dと可動子側電極62の間に、またストライプ電極43bと第2可動子電極63との間に静電気力により吸引方向の力が生じる。第1の可動子50と同様、公知の手順にて、電位差を設ける駆動用電極42a〜42d、ストライプ電極43bを切り替えることにより、第2の可動子60の位置を移動させることができる。
また、第1の可動子50を保持する場合、ストライプ電極43aと第1可動子電極53との間に電位差を設ける。ストライプ電極43aと第1可動子電極53との間に静電気力により吸引方向の力が生じ、第1の可動子50を保持することができる。第2の可動子60を保持する場合、第1の可動子50と同様にストライプ電極43bと第2可動子電極63との間に電位差を設ける。
このようにしてできた撮像装置10およびズームレンズユニット30は、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパ55aが設けられている。従って、第1の可動子50の有する残留応力や温度変化、湿度変化により、第1の可動子50が変形してしまっても、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50とが接触し、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50とが短絡し、撮像装置10を破損してしまう可能性を低減できる。
また、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパ55aが設けられているため、ストッパ42eとストッパ55aの寸法誤差が非常に小さい。ストッパ42eのみが設けられている場合、またはストッパ55aのみが設けられている場合、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50との接触を回避しようとしてストッパ42eまたはストッパ55aの高さを高くすると、その寸法誤差も大きくなってしまう。
例えば、ストッパ42eは例えば図4に示すような薄膜工程を用いて設けられる。ストッパ42eを高くするためには1層あたりの膜厚を大きくする、または薄膜の層数を多くする必要がある。しかし、1層あたりの膜厚を大きくしたり、または薄膜の層数を多くしたりすると、ストッパ42eの高さの誤差が大きくなる上、膜応力により駆動用電極基板42が反ってしまい、結果的に、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50とが接触してしまう危険性が高くなる。
また例えば、ストッパ55aは例えばPPS等の導電性樹脂を用いて射出成型により設けられる。射出成型における寸法寸法誤差の一つに成型収縮があるが、成型収縮は成型物の寸法の比で発生する。すなわち、より高いストッパ55aには、より大きい成型収縮が発生してしまい、結果的に、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50とが接触してしまう危険性が高くなる。
従って、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパ55aを設けると、ストッパ42eとストッパ55aの寸法誤差が非常に小さくなる。第1の可動子50の有する残留応力や温度変化、湿度変化により、可動子が変形してしまっても、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50とが接触し、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50とが短絡し、撮像装置10を破損してしまう可能性を低減できる。
また、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間の間隙の設計値は、第1の可動子50が光軸方向Xに移動する際に最も小さい場合で3μmである。従って、第1の可動子50の有する残留応力や温度変化、湿度変化により、可動子が変形してしまっても、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子とが接触し、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50とが短絡し、撮像装置10を破損してしまう可能性を低減できる。
また、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間に間隙の設計値は、第1の可動子50が光軸方向Xに移動する際に最も大きい場合で15μmである。従って、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間に発生する吸引力が大きい。すなわち、第1の可動子50を吸引するための十分力を有しているので、第1の可動子50の移動がよりスムーズとなる。
また、ストッパ43eと対向する位置に、ストッパ55bが設けられている。ストッパ42eおよびストッパ55aと同様の理由により、第1の可動子50の有する残留応力や温度変化、湿度変化により、可動子が変形してしまっても、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子50とが接触し、ストライプ電極43aと第1の可動子50とが短絡し、撮像装置10を破損してしまう可能性を低減できる。
また、ストッパ43eと対向する位置に、ストッパ55bが設けられている。ストッパ42eおよびストッパ55aと同様の理由により、第1の可動子50の移動がよりスムーズとなる。
なお、第1の実施の形態では、第1の可動子50にのみストッパ55a及び55bが設けられている実施の形態を説明したが、第2の可動子60にもストッパを設けても構わない。
具体的には、可動子側駆動用電極62の表面にも、ストッパを設けてもよい。第2の可動子60が光軸方向Xに移動する際、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極62との間に間隙を有するように、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパを設けることができる。
駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極62との間に間隙の設計値は、第2の可動子60が光軸方向Xに移動する際に最も小さい場合で3μm、最も大きい場合で15μmである。なお、ここで設計値とは、支持体61や駆動用電極基板42、保持用電極基板43の加工、およびこれらの組立の際に生じる誤差を含まない設計値である。例えば、前述の駆動用電極基板42、保持用電極基板43の製造方法を用いた場合、ストッパの可動子側駆動用電極62の表面からの高さは、1.0μmから3.0μm程度が適している。
さらに、支持体61の表面にも、ストッパを設けてもよい。第2の可動子60が光軸方向Xに移動する際、ストライプ電極43a、43bと第2可動子電極63との間に間隙を有するように、ストッパ43eと対向する位置に、ストッパを設けることができる。
(第2の実施の形態)
図7は本発明の第2の実施の形態に係る静電アクチュエータを用いた撮像装置10の第1の可動子150を模式的に示す斜視図である。なお、図1に示す第1の実施の形態の各部と同一部分は、同一符号で示し、その説明を省略する。
第1の可動子150は、第1の実施の形態の第1の可動子50と同様に、中空部を有する導電材料で形成された略直方体の支持体151とを備えている。支持体151は、例えば導電性材料を物理的な研削により、または化学的なエッチングにより形成することができる。また、導電性樹脂を射出成型して成型して形成することもできる。
可動子側駆動用電極52の表面には、ストッパ155a(第2の凸部)が設けられている。第1の可動子150が光軸方向Xに移動する際、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間に間隙を有するように、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパ155aは設けられている。
ストッパ155aは、支持体151の光軸方向Xが長手方向となるように設けられている。また、ストッパ155aは、複数の可動子側駆動用電極52の間を連結するように設けられている。
駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間に間隙の設計値は、第1の可動子150が光軸方向Xに移動する際に最も小さい場合で3μm、最も大きい場合で15μmである。なお、ここで設計値とは、支持体151や駆動用電極基板42、保持用電極基板43の加工、およびこれらの組立の際に生じる誤差を含まない設計値である。例えば、前述の駆動用電極基板42、保持用電極基板43の製造方法を用いた場合、ストッパ155aの可動子側駆動用電極52の表面からの高さは、1.0μmから3.0μm程度が適している。
このようにしてできた撮像装置10およびズームレンズユニット30は、第1の実施の形態と同様に、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパ155aが設けられている。従って、第1の可動子150の有する残留応力や温度変化、湿度変化により、第1の可動子150が変形してしまっても、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150とが接触し、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150とが短絡し、撮像装置10を破損してしまう可能性を低減できる。
また、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパ155aが設けられているため、ストッパ42eとストッパ155aの寸法誤差が非常に小さい。ストッパ42eまたはストッパ155aの寸法誤差が大きい場合、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150とが接触してしまう危険性が高い。ストッパ42eのみが設けられている場合、またはストッパ155aのみが設けられている場合、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150との接触を回避しようとしてストッパ42eまたはストッパ155aの高さを高くすると、その寸法誤差も大きくなってしまう。
例えば、ストッパ42eは図4に示すような薄膜工程を用いて設けられる。ストッパ42eを高くするためには1層あたりの膜厚を大きくする、または薄膜の層数を多くする必要がある。しかし、1層あたりの膜厚を大きくしたり、または薄膜の層数を多くしたりすると、ストッパ42eの高さの誤差が大きくなる上、膜応力により駆動用電極基板42が反ってしまい、結果的に、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150とが接触してしまう危険性が高くなる。
また例えば、ストッパ155aは例えばPPS等の導電性樹脂を用いて射出成型により設けられる。射出成型における寸法寸法誤差の一つに成型収縮があるが、成型収縮は成型物の寸法の比で発生する。すなわち、より高いストッパ155aには、より大きい成型収縮が発生してしまい、結果的に、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150とが接触してしまう危険性が高くなる。
従って、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパ155aを設けると、ストッパ42eとストッパ155aの寸法誤差が非常に小さくなる。第1の可動子150の有する残留応力や温度変化、湿度変化により、可動子が変形してしまっても、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150とが接触し、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150とが短絡し、撮像装置10を破損してしまう可能性を低減できる。
また、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間に間隙の設計値は、第1の可動子150が光軸方向Xに移動する際に最も小さい場合で3μmである。従って、第1の可動子150の有する残留応力や温度変化、湿度変化により、可動子が変形してしまっても、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子とが接触し、駆動用電極42a〜42dと第1の可動子150とが短絡し、撮像装置10を破損してしまう可能性を低減できる。
また、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間の間隙の設計値は、第1の可動子150が光軸方向Xに移動する際に最も大きい場合で15μmである。従って、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極52との間に発生する吸引力が大きい。すなわち、第1の可動子150を吸引するための十分力を有しているので、第1の可動子150の移動がよりスムーズとなる。
また、ストッパ155aが複数の可動子側駆動用電極52の間を連結するように設けられているため、支持体151は光軸方向Xが曲線となる方向の曲げに対する剛性が向上する。
支持体151は、例えば射出成型などの時に発生する内部応力を有している。可動子側駆動用電極52は、移動方向Xに並列された凹凸形状を有している。従って、支持体151は、その内部応力によって光軸方向Xが曲線となる方向に反ってしまう場合がある。しかし、ストッパ155aが複数の可動子側駆動用電極52の間を連結するように設けられているので、ストッパ155aにより支持体151は補強され、支持体151は光軸方向Xが曲線となる方向の曲げに対する剛性が向上する。
なお、第2の実施の形態では、第1の可動子150にのみストッパ155aが設けられている実施の形態を説明したが、第2の可動子60にもストッパを設けても構わない。
具体的には、支持体61の表面にも、ストッパを設けてもよい。第2の可動子60が光軸方向Xに移動する際、駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極62との間に間隙を有するように、ストッパ42eと対向する位置に、ストッパを設けることができる。
駆動用電極42a〜42dと可動子側駆動用電極62との間に間隙の設計値は、第2の可動子60が光軸方向Xに移動する際に最も小さい場合で3μm、最も大きい場合で15μmである。なお、ここで設計値とは、支持体61や駆動用電極基板42、保持用電極基板43の加工、およびこれらの組立の際に生じる誤差を含まない設計値である。例えば、前述の駆動用電極基板42、保持用電極基板43の製造方法を用いた場合、ストッパの可動子側駆動用電極62の表面からの高さは、1.0μmから3.0μm程度が適している。
さらに、第2可動子電極63の表面にも、ストッパを設けてもよい。第2の可動子60が光軸方向Xに移動する際、ストライプ電極43a、43bと第2可動子電極63との間に間隙を有するように、ストッパ43eと対向する位置に、ストッパを設けることができる。
なお、詳述した各実施の形態の説明及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が可能である。
例えば、図5に示す第1の実施の形態のストッパ55aは、第1の可動子50の角部に設けられている例を図示している。しかし、例えば図8に示すように、第1の可動子50の支持体251の角部以外の場所に、ストッパ255aが設けられていても構わない。また、そのストッパ55aの数も4つの例を図示しているが、第1の可動子50の動きを阻害しない限り、特に4つでなくても構わない。すなわちストッパ55aは、ストッパ42eと対向する位置であれば、第1の可動子50のどの部分に設けることができる。
本発明による静電アクチュエータを用いた撮像装置の第1の実施の形態を示す斜視図 本発明による静電アクチュエータを用いた撮像装置の第1の実施の形態を示す分解斜視図 本発明による静電アクチュエータを用いた撮像装置の第1の実施の形態の駆動用電極基板と保持用電極基板を示す平面図 本発明による静電アクチュエータを用いた撮像装置の第1の実施の形態の駆動用電極基板と保持用電極基板の製造工程を示す断面図 本発明による静電アクチュエータを用いた撮像装置の第1の実施の形態の第1の可動子を示す図 本発明による静電アクチュエータを用いた撮像装置の第1の実施の形態の静電アクチュエータを示す断面図 本発明による静電アクチュエータを用いた撮像装置の第2の実施の形態を示す図 本発明による静電アクチュエータを用いた撮像装置の第1実施の形態の変形例を示す図
符号の説明
10 撮像装置
20 撮像素子部
21 基板
22 センサ
23 電子部品
24 駆動制御回路
30 ズームレンズユニット
31 カバー
40 固定子
41 固定子枠
41a 上方内面
41b 下方内面
42 駆動用電極基板
42a、42b、42c、42d駆動用電極
42e ストッパ
42f 基材
42g 絶縁層
42h 導電層
42i 絶縁層
42j 導電層
42k ビアホール
42l 絶縁層
42m 絶縁層
42n 表面保護層
43 保持用電極基板
43a ストライプ電極
43b ストライプ電極
43e ストッパ
50、150 第1の可動子
51、151、251 支持体
52 可動子側駆動用電極
53 第1可動子電極
54 レンズ
55a、155a、255a ストッパ
55b ストッパ
60 第2の可動子
61 支持体
62 可動子側駆動用電極
63 第2可動子電極
64 レンズ

Claims (2)

  1. 固定子と、
    前記固定子に案内されて所定方向に移動可能に設けられた可動子と、
    前記固定子に設けられた基板と、
    前記基板に設けられ、前記所定方向に対して直交する方向に延伸する複数の電極群が前記所定方向に一定のピッチで設けられた駆動用電極と、
    前記可動子の前記駆動用電極と対向する位置に、前記所定方向に対して直交する複数の電極群が前記所定方向に一定のピッチで設けられた可動子側駆動用電極と、
    前記可動子側駆動用電極における前記複数の電極群の少なくとも1つの電極の端部に形成された一対の第1の凸部と、
    前記基板上の前記駆動用電極を間に挟む位置に、前記所定方向に延設された一対の第2の凸部とを具備し、
    前記可動子が前記所定方向に移動する際、前記第1の凸部が常に前記第2の凸部上に対向することを特徴とする静電アクチュエータ。
  2. 固定子と、
    前記固定子に案内されて所定方向に移動可能に設けられた可動子と、
    前記固定子に設けられた基板と、
    前記基板に設けられ、前記所定方向に対して直交する方向に延伸する複数の電極群が前記所定方向に一定のピッチで設けられた駆動用電極と、
    前記可動子の前記駆動用電極と対向する位置に、前記所定方向に対して直交する複数の電極群が前記所定方向に一定のピッチで設けられた可動子側駆動用電極と、
    前記可動子側駆動用電極における前記複数の電極群の少なくとも1つの電極の端部に形成された一対の第1の凸部と、
    前記基板上の前記駆動用電極を間に挟む位置に、前記所定方向に延設された一対の第2の凸部と、
    前記可動子に設けられ、被写体の像を結像させるためのレンズと、
    前記レンズによって結像された前記被写体の像を検出するための撮像素子部とを具備し、
    前記可動子が前記所定方向に移動する際、前記第1の凸部が常に前記第2の凸部上に対向することを特徴とする撮像装置。
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