JP3734760B2 - サイレントチェーン - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐摩耗性を向上させたサイレントチェーンに関する。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】
一般に、サイレントチェーンは、一対のピン穴および歯部をそれぞれ有する多数のリンクプレートを厚み方向および長手方向に積層するとともに、ピン穴内に挿入した連結ピンで各リンクプレートを枢支可能に連結することにより構成されている。
【０００３】
このようなサイレントチェーンにおいては、チェーンの運転中にリンクがピンの回りを回転摺動することによってピンが摩耗する。そこで、従来よりピンの耐摩耗性を向上させるための種々の方法が提案されている。
【０００４】
たとえば、特開昭５６−４１３７０号公報に示すものでは、ピン素材にクロマイジング処理を施すことにより、ピン素材の表面にクロム炭化物からなる硬化層を形成している。
【０００５】
また、特開平１０−１６９７２３号公報に示すものでは、ピン素材の表面にクロム、チタニウム、バナジウム、ニオビウムのうちの少なくとも一つの炭化物からなる硬化層を形成している。
【０００６】
本件出願に係る発明者らは、クロム炭化物（ＣｒＣ）層が形成されたピン（以下、クロマイジングピンという）と、ピン素材の表面にバナジウム炭化物（ＶＣ）層が形成されたピン（以下、ＶＣピンという）について、それぞれ耐摩耗試験を繰り返し行った結果、各ピンの耐摩耗性について以下のことが検証された。
【０００７】
クロマイジングピンの場合、高面圧が繰り返し作用する使用状態下では、クロム炭化物層の表面に剥離が起こり、剥離の進行とともにピンの摩耗も進行する。また、ＶＣピンの場合には、高面圧の作用下で、バナジウム炭化物層と母材（ピン素材）との間の境界面で剥離が起こり、すなわち、硬化層であるバナジウム炭化物層全体が一度に剥離し、その結果、摩耗が急激に進行する。これらのことから、クロム炭化物は、母材との密着性（結合性）は良いが、面圧強度は低く、一方、バナジウム炭化物は、それ自体の表面からは剥離が起こりにくいため面圧強度は高いが、母材との密着性は低いということが検証された。
【０００８】
また、上記特開平１０−１６９７２３号公報には、リンクプレートのピン穴にシェービング加工を行う点も記載されている。シェービング加工は、同公報の第３欄第１〜８行に記載されているように、ブランク材の打抜き面を切削することにより、打抜き加工時に打抜き面に生じた粗面やだれを削り取る加工法をいう。
【０００９】
このようなシェービング加工をピン穴に施すことによって、ピン穴の穴開け加工時にピン穴内周面に生じていた破断面の大部分が除去されるが、シェービング加工自体があくまで切削加工であってピン穴内周面の切削しか行わないため、シェービング加工後のピン穴内周面の面粗度は、必ずしも良好なものとはいえない。
【００１０】
本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたもので、耐摩耗性を向上させることができるサイレントチェーンを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、各々一対の歯部およびピン穴を有する多数のリンクプレートを厚み方向および長手方向に積層するとともにピン穴内に挿入した連結ピンで枢支可能に連結してなるサイレントチェーンにおいて、リンクプレートのピン穴には、下穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポンチを用いてピン穴の下穴の内周面をしごきつつ内周面をバニシ仕上げする仕上加工が施されている。さらに、連結ピンの母材となる鋼の最表部において母材表面からの厚みが２０μｍ以内の範囲内に、バナジウム炭化物を主成分としかつ含有量が少なくとも１０％の少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム炭化物の含有率が減少しかつクロム炭化物の含有率が増加している境界層が形成されている。
【００１２】
請求項２の発明に係るサイレントチェーンは、請求項１の発明と同様に、リンクプレートのピン穴の下穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポンチを用いてピン穴の下穴の内周面をしごきつつ内周面をバニシ仕上げする仕上加工が施されている。さらに、連結ピンの母材となる鋼の最表部において母材表面からの厚みが２０μｍ以内の範囲内に、バナジウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を主成分としかつ含有量が少なくとも１０％の少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物の含有率が減少しかつクロム炭化物の含有率が増加している境界層が形成されている。
【００１３】
請求項３の発明に係るサイレントチェーンは、請求項１または２において、連結ピンの炭化物層の厚みが１０μｍ以上であることを特徴としている。
【００１４】
請求項４の発明に係るサイレントチェーンは、請求項１または２において、リンクプレートの各歯部が各々内側フランク面および外側フランク面から構成され、各内側フランク面がクロッチ部により接続されるとともに、歯部の逆側に背部が配置されており、歯部、クロッチ部および背部に同時にシェービング加工が施されていることを特徴としている。
【００１５】
請求項１の発明によれば、リンクプレートのピン穴には、その下穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポンチを用いてピン穴の下穴の内周面をしごきつつ内周面をバニシ仕上げする仕上加工が施されている。この仕上加工により、ピン穴内周面の粗面が押しつぶされてピン穴内周面に仕上面が形成されるので、ピン穴内周面の面粗度を向上できる。その結果、サイレントチェーンの運転時にピン穴内周面に作用する面圧を低減でき、耐摩耗性を向上できる。
【００１６】
また、請求項１の発明においては、連結ピンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム炭化物の含有率が減少しかつクロム炭化物の含有率が増加している境界層が形成されている。
【００１７】
この場合には、面圧強度の高いバナジウム炭化物を主成分とする炭化物層が母材の最表部に形成されることにより、高面圧下でも炭化物層の表面剥離が生じにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性を向上できる。さらに、母材およびバナジウム炭化物との結合性（密着性）が高いクロム炭化物を比較的多く含むクロムリッチ層が炭化物層と母材との間の境界層に形成されることにより、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離しにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性を一層向上できる。
【００１８】
請求項２の発明によれば、請求項１の発明と同様に、Ｒ付ポンチを用いたバニシ仕上加工がリンクプレートのピン穴に施されており、これにより、ピン穴内周面の面粗度を向上でき、耐摩耗性を向上できる。
【００１９】
また、請求項２の発明においては、連結ピンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を主成分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物の含有率が減少しかつクロム炭化物の含有率が増加している境界層が形成されている。
【００２０】
この場合には、面圧強度の高いバナジウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を主成分とする炭化物層が母材の最表部に形成されることにより、請求項１の発明と同様に、高面圧下でも炭化物層の表面剥離が生じにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性を向上できる。さらに、母材およびバナジウム炭化物との結合性（密着性）が高いクロム炭化物を比較的多く含むクロムリッチ層が炭化物層と母材との間の境界層に形成されることにより、請求項１の発明と同様に、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離しにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性を一層向上できる。
【００２１】
なお、シェービング加工に用いられるポンチの先端外周縁部には、アールが形成されておらず、尖端状のエッジ部が形成されており、このため、ピン穴のシェービング加工においては、ピン穴の下穴の内周面の切削加工のみが行われるようになっている。
【００２２】
連結ピンの炭化物層の厚みは、請求項３の発明に記載されているように、１０μｍ以上であるのが好ましい。
【００２３】
また、請求項４の発明に記載されているように、リンクプレートの歯部、クロッチ部および背部には、シェービング加工が同時に施されていてもよい。このシェービング加工により、リンクプレートの打抜き加工時に打抜き面に生じていた粗面やダレが切削されて除去されるが、この場合、歯部、クロッチ部および背部への各シェービング加工が同時に行われるので、シェービング加工時にリンクプレートの外周面に対して板厚方向の力が局所的に作用することがなくなって、シェービング加工にともなうリンクプレートのひずみや曲げ変形の発生を抑制できる。これにより、リンクプレートのピン穴の平行度を向上でき、その結果、ピン穴の偏摩耗を防止して、耐摩耗性を向上できる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施態様を添付図面に基づいて説明する。
図１は本発明の一実施態様によるサイレントチェーンの平面概略図、図２はその正面概略図、図３はリンクプレートのプレス加工工程の概要を説明するための工程図、図４および図５は、図１の加工工程においてピン穴の仕上加工法を示す図、図６および図７は、比較例としてピン穴のシェービング加工法を示す図、図８は連結ピンの組成を示すグラフ、図９はその一部拡大図、図１０および図１１は、比較例としてそれぞれ従来のクロマイジングピンおよびＶＣピンの組成を示すグラフ、図１２はピンの摩耗試験方法を説明するための図、図１３は本実施態様によるサイレントチェーンの摩耗試験結果を従来のサイレントチェーンと比較して示すグラフである。なお、図８ないし図１１においては、波長分散型Ｘ線マイクロアナライザによるＸ線線分析法により元素分析された結果が示されている。
【００２５】
図１および図２に示すように、サイレントチェーン１は、各々一対の歯部２１およびピン穴２２を有する多数のリンクプレート２を厚み方向および長手方向に積層するとともに、各ピン穴２２内に挿入した連結ピン３で各リンクプレート２を枢支可能に連結することにより構成されている。リンクプレート２の最外側には、ガイドリンク４が配置されており、ガイドリンク４のピン穴４１内には、連結ピン３の端部が固定されている。なお、ここでは、ガイドリンクとして、その背面側にクロッチ部４２が形成されたいわゆる低剛性ガイドを例にとっている。
【００２６】
次に、リンクプレート２のプレス加工工程について図３を用いて説明する。
同図に示すように、ブランク材Ｂを矢印方向に搬送して順次加工位置に移動させつつ、まず、第１の工程（ａ）において、斜線部分Ｓ１を打ち抜くことにより、リンクプレートの一対のピン穴を形成することになる下穴２２′を開ける。なお、図中の斜線部分は、抜きかす（スクラップ）となる部分を示している。また、図３では、各工程（ａ）〜（ｅ）において一度に２枚のリンクプレートに加工が行われるような板取りの例を示している。
【００２７】
次に、第２の工程（ｂ）において、下穴２２′に仕上加工を行う。この仕上加工では、図４に示すように、ポンチＰの先端外周縁部にｒ（アール）が形成されたものを用いる。ダイスＤの上に置かれたブランク材Ｂの下穴２２′に対してポンチＰを昇降させると（図４および図５参照）、下穴２２′の内周面に形成されていた破断面がポンチＰのアール部分で切削されて除去されると同時に、ポンチＰのアール部分のバニシ作用により、下穴２２′の内周面の粗面が押しつぶされてバニシ加工が施され、バニシ仕上面を有するピン穴２２が形成されることになる。これにより、ピン穴内周面の面粗度を向上でき、耐摩耗性を向上できる。
【００２８】
さらに、この場合には、一回の仕上加工により、ピン穴の下穴内周面に仕上面が形成されるので、シェービング加工およびバニシ仕上加工の双方をそれぞれ別々の工程で行う場合に比べて、高速で仕上加工を行える。また、Ｒ付ポンチを用いるので、バニシ加工のみを行う場合に比べて、ポンチを高速で下降できるようになり、高速で仕上加工を行える。このようにして、生産効率の低下を抑制しつつ、ピン穴内周面の面粗度を向上できる。
【００２９】
ここで、比較のために、第２の工程（ｂ）で下穴２２′にシェービング加工を行う場合について、図６および図７を用いて説明する。これらの図は、図４および図５にそれぞれ対応している。図６および図７に示すように、シェービング加工に用いられるポンチＰの先端外周縁部には、アールが形成されておらず、尖端状エッジ部が形成されている。
【００３０】
このようなポンチＰをダイスＤ上のブランク材Ｂの下穴２２′に対して昇降させると、下穴２２′の内周面に形成されていた破断面がポンチＰの尖端状エッジ部により切削加工されて除去され、ピン穴２２″が形成される。
【００３１】
このシェービング加工においては、ポンチＰとダイスＤとのクリアランスｃ′（図６）を比較的大きくする必要があるため、加工後に比較的長い破断面ｈ′が生じる。
【００３２】
これに対して、図４および図５に示す仕上加工においては、ポンチＰとダイスＤとのクリアランスｃ（図４）が小さく（ｃ＜ｃ′）、またポンチ先端外周縁部にアールが形成されているために、加工時に破断が生じにくく、加工後においてピン穴２２内の破断面ｈの長さが短い（ｈ＜ｈ′）。
【００３３】
次に、第３の工程（ｃ）において、リンクプレートの背部を形成するための背部打抜き加工を行う。この場合には、斜線部分Ｓ２を打ち抜くことにより、リンクプレートの背部を形成することになる面Ｌ１′を含む穴を開ける。
【００３４】
次に、第４の工程（ｄ）において、斜線部分Ｓ３を打ち抜くことにより、リンクプレートの内側フランク面、外側フランク面およびクロッチ部を形成することになる略Ｗ字状の面Ｌ２′を形成する。
【００３５】
次に、第５の工程（ｅ）において、シェービング金型を用いて面Ｌ１′およびＬ２′に同時にシェービング加工を行う。これにより、面Ｌ１′およびＬ２′が切削加工されて、シェービング加工面が形成される。
【００３６】
このような加工をへてブランク材Ｂから取り出されたリンクプレート２には、その外周シェービングの際に、歯部、クロッチ部および背部に同時にシェービング加工が施されることにより、シェービング加工時にリンクプレートの外周面に対して板厚方向の力が局所的に作用することがなくなって、シェービング加工にともなうリンクプレートのひずみや曲げ変形の発生を抑制できる。これにより、リンクプレートのピン穴の平行度を向上できる。
【００３７】
次に、連結ピン３の硬化処理について説明する。
この場合には、まず、第１の処理工程において、連結ピン３の母材となる、たとえば軸受鋼や機械構造用炭素鋼に対して、８００〜９００℃の温度下でクロム浸透処理を行うことにより、数μｍ程度の厚みのクロム炭化物層を母材表面に形成させる。
【００３８】
その後、第２の処理工程において、９００〜１０００℃の温度下でクロムおよびバナジウム浸透処理を行うことにより、母材の最表面に、すなわち第１の工程で形成されたクロム炭化物層の上に、バナジウム炭化物およびクロム炭化物の混合層を形成させる。この混合層の形成時には、第１の工程で形成されたクロム炭化物層の内部に徐々にバナジウム炭化物層が浸透していくことになる。また、このクロムおよびバナジウム浸透処理は、第１の工程におけるクロム浸透処理よりも長時間にわたって実行される。これにより、クロムよりもバナジウムを多く含みかつクロム炭化物層よりも厚い炭化物層が母材表面に形成される。
【００３９】
このような硬化処理がなされた連結ピン３の組成について図８および図９を用いて説明する。図８に示すように、連結ピン３の母材となる鋼の最表部には、前記第２の工程で形成された、バナジウム炭化物（Ｖ8 Ｃ7)を主成分としかつ少量のクロム炭化物（Ｃｒn Ｃm ) を含む炭化物層が形成されている。また、この場合のバナジウム原子とクロム原子との比率は、概略８．５：１．５になっている。
【００４０】
図９に明確に示されるように、この炭化物層と母材との間の境界領域には、バナジウム炭化物の含有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が急激に増加している境界層が形成されている。境界層がこのようにクロム炭化物を比較的多量に含むクロムリッチ層となっているのは、第２の工程でのクロムおよびバナジウム浸透処理に先立って、第１の工程でクロムの浸透処理が行われているからである。そして、これら炭化物層および境界層により、母材表面に被覆層（硬化層）が形成されている。
【００４１】
一方、従来より使用されてきたクロマイジングピンおよびＶＣピンの組成をそれぞれ図１０および図１１に示す。なお、図１１のＶＣピンにおいては、バナジウムの浸透処理とともにクロムの浸透処理も併せて行われたものが示されている。これらの図に示すように、従来のクロマイジングピンおよびＶＣピンのいずれにおいても、炭化物層と母材との境界領域においては、クロム炭化物およびバナジウム炭化物の各含有率がいずれも急激に減少している。
【００４２】
これに対して、本実施態様では、バナジウム炭化物を主成分とする炭化物層と母材との間の境界層は、バナジウム炭化物の含有率が急激に減少しているもののクロム炭化物の含有率は逆に急激に増加しているクロムリッチ層となっている。
【００４３】
次に、本実施態様による連結ピンの単体の摩耗試験結果を図１１のＶＣピンと比較したものを表１に示す。
【表１】

【００４４】
ここで用いた摩耗試験方法は、図１２に示すとおりであって、試験片としてのピンＰを治具Ｊに固定した状態で、所定の回転数で回転するディスクＤを所定の加圧力ＦでピンＰに押圧することにより、硬化層の剥離の有無を調べた。このような摩耗試験の結果、表１に示すように、本実施態様によるピンは、７０ｋｇ／ｍｍ² および１００ｋｇ／ｍｍ²の高面圧下においても硬化層の剥離が生じていないが、従来のＶＣピンの場合には、７０ｋｇ／ｍｍ²において剥離が生じた。このことにより、本実施態様によるピンが耐摩耗性に非常に優れていることが立証された。このような両者の差異は、以下のような点に起因していると考えられる。
【００４５】
すなわち、本実施態様においては
（ｉ）面圧強度の高いバナジウム炭化物を主成分とする炭化物層が母材の最表部
に形成されることにより、高面圧下でも炭化物層の表面剥離が生じにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性が向上している。さらに
（ii）母材およびバナジウム炭化物との結合性（密着性）が高いクロム炭化物を
比較的多く含むクロムリッチ層が炭化物層と母材との間の境界層に形成されることにより、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離しにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性が向上している。
【００４６】
これに対して、図１１のＶＣピンの場合には
（ｉ）面圧強度の高いバナジウム炭化物層が母材の最表部に形成されているもの
の、母材との密着性が高いクロム炭化物層の含有率がバナジウム炭化物層と母材との間の境界領域で急激に減少していることにより、高面圧下でバナジウム炭化物層が母材から剥離しやすい傾向にあり、その結果、ピンの耐摩耗性が減少している。
【００４７】
また、本実施態様においては、炭化物層は１０μｍ程度またはそれ以上の厚みがあるのが好ましく、境界層の厚みは１０μｍ以下すなわち数μｍ程度であるのが好ましい。これは、高面圧下でも炭化物層の下層の境界層が圧壊を起こさないようにするためには、炭化物層の厚みが１０μｍ以上必要だからであり、また炭化物層が母材から剥離しないためには、境界層の厚みとして数μｍもあれば十分だからである。
【００４８】
次に、上述のリンクプレート２および連結ピン３を組み合わせてなるサイレントチェーン１について、摩耗加速試験結果を行った結果を図１３に示す。この摩耗加速試験においては、歯数２５枚のドライブスプロケットおよび歯数２５枚のドリブンスプロケットに試験用チェーンを巻き掛け、該試験用チェーンに５００（Ｎ）の張力を作用させるとともに、１００（℃）の潤滑油を毎分１（ｃｃ）ずつ供給した状態で、ドライブスプロケットを６５００（ｒｐｍ）で回転させて、所定運転時間経過後のチェーン摩耗伸びを測定した。なお、本摩耗加速試験においては、通常の潤滑油で行うと摩耗がほとんど発生しないことが分かっていたので、潤滑油中に１重量％のカーボンを添加したものを用いて試験を行った。
【００４９】
図１３中には、本実施態様によるチェーンについて、最大の伸びを生じたチェーンと最小の伸びを生じたチェーンのそれぞれについて、摩耗伸びをプロットしたものが示されている。なお、比較のために、図１１に示した組成を有するＶＣピンと、ピン穴をシェービング加工したリンクプレートとから構成される従来のサイレントチェーンについて同様の摩耗加速試験を行った結果も併せて示されている。
【００５０】
図１３から明らかなように、本実施態様によるチェーンの場合、１００時間経過後の摩耗伸びは０．４２５〜０．４７（％）の範囲にあり、これに対し、従来のチェーンの場合、５０時間経過後の摩耗伸びが０．４６〜０．４７（％）であった。このように、本実施態様によるチェーンでは、従来のチェーンと比較して摩耗伸びが著しく減少しており、チェーンの耐摩耗性が向上している。これは、上述のように、連結ピンの硬化処理によりピン単体の耐摩耗性が向上していることに加えて、リンクプレートのピン穴の仕上加工によってピン穴の面粗度が向上していることにより、ピン穴への面圧が低減して、ピン穴の摩耗が減少したことによると推測される。
【００５１】
〔他の実施態様〕
前記実施態様では、ピンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物およびクロム炭化物の混合層を形成した例を示したが、本発明の適用はこれには限定されない。バナジウム炭化物のかわりに、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物またはタングステン炭化物のうちのいずれか一つを用いるようにしてもよい。また、バナジウム炭化物のかわりに、バナジウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのいずれか二つ以上の炭化物を用いるようにしてもよい。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係るサイレントチェーンによれば、Ｒ付ポンチを用いたバニシ仕上加工をリンクプレートのピン穴に施すとともに、連結ピンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層を形成し、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム炭化物の含有率が減少しかつクロム炭化物の含有率が増加している境界層を形成するようにしたので、耐摩耗性を向上できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施態様によるサイレントチェーンの平面概略図である。
【図２】サイレントチェーン（図１）の正面概略図である。
【図３】リンクプレートのプレス加工工程の概要を説明するための工程図である。
【図４】ピン穴の仕上加工法を示す図である。
【図５】ピン穴の仕上加工法を示す図である。
【図６】比較例としてピン穴のシェービング加工法を示す図である。
【図７】比較例としてピン穴のシェービング加工法を示す図である。
【図８】連結ピンの組成を示すグラフである。
【図９】図８の一部拡大図である。
【図１０】比較例として従来のクロマイジングピンの組成を示すグラフである。
【図１１】比較例として従来のＶＣピンの組成を示すグラフである。
【図１２】ピンの摩耗試験方法を説明するための図である。
【図１３】サイレントチェーンの摩耗試験結果を示すグラフである。
【符号の説明】
１： サイレントチェーン
２： リンクプレート
３： 連結ピン
２１： 歯部
２２： ピン穴

Claims (4)

1. 各々一対の歯部およびピン穴を有する多数のリンクプレートを厚み方向および長手方向に積層するとともに前記ピン穴内に挿入した連結ピンで枢支可能に連結してなるサイレントチェーンにおいて、
   前記リンクプレートの前記ピン穴には、下穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポンチを用いて前記ピン穴の前記下穴の内周面をしごきつつ内周面をバニシ仕上げする仕上加工が施されており、前記連結ピンの母材となる鋼の最表部において母材表面からの厚みが２０μｍ以内の範囲内に、バナジウム炭化物を主成分としかつ含有量が少なくとも１０％の少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとともに、前記炭化物層と前記母材との間の境界領域には、バナジウム炭化物の含有率が減少しかつクロム炭化物の含有率が増加している境界層が形成されている、
   ことを特徴とするサイレントチェーン。
2. 各々一対の歯部およびピン穴を有する多数のリンクプレートを厚み方向および長手方向に積層するとともに前記ピン穴内に挿入した連結ピンで枢支可能に連結してなるサイレントチェーンにおいて、
   前記リンクプレートの前記ピン穴には、下穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポンチを用いて前記ピン穴の前記下穴の内周面をしごきつつ内周面をバニシ仕上げする仕上加工が施されており、前記連結ピンの母材となる鋼の最表部において母材表面からの厚みが２０μｍ以内の範囲内に、バナジウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を主成分としかつ含有量が少なくとも１０％の少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとともに、前記炭化物層と前記母材との間の境界領域には、バナジウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物の含有率が減少しかつクロム炭化物の含有率が増加している境界層が形成されている、
   ことを特徴とするサイレントチェーン。
3. 請求項１または２において、
   前記連結ピンの前記炭化物層の厚みが１０μｍ以上である、
   ことを特徴とするサイレントチェーン。
4. 請求項１または２において、
   前記リンクプレートの前記各歯部が各々内側フランク面および外側フランク面から構成され、前記各内側フランク面がクロッチ部により接続されるとともに、前記歯部の逆側に背部が配置されており、前記歯部、クロッチ部および背部に同時にシェービング加工が施されている、
   ことを特徴とするサイレントチェーン。

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