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JP3650859B2 - 遮断開放器およびこれを備えた流体制御装置 - Google Patents

遮断開放器およびこれを備えた流体制御装置 Download PDF

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JP3650859B2 JP16467396A JP16467396A JP3650859B2 JP 3650859 B2 JP3650859 B2 JP 3650859B2 JP 16467396 A JP16467396 A JP 16467396A JP 16467396 A JP16467396 A JP 16467396A JP 3650859 B2 JP3650859 B2 JP 3650859B2
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、弁本体と複数の弁アクチュエータとよりなる遮断開放器およびこれを備えた流体制御装置に関する。
【０００２】
この明細書において、前後・上下・左右については、図２を基準とし、同図の右を前、左を後、上下を上下というものとし、左右は前方に向かっていうものとする。この前後・上下・左右は便宜的なもので、前後が逆になったり、上下が左右になったりして使用されることもある。
【０００３】
【従来の技術】
直方体状弁本体および複数の弁アクチュエータよりなる遮断開放器は、従来より知られている。このような遮断開放器は、例えばマスフローコントローラ等の調整器の入口側および出口側にそれぞれ設けられて、半導体製造装置などに用いられる流体制御装置を構成するのに用いられる。
【０００４】
図１７は、従来の遮断開放器を示すもので、従来の遮断開放器(61)は、直方体状弁本体(63)およびこの上面に前後方向に並んで取り付けられた３つの弁アクチュエータ(64)(65)(66)よりなり、弁本体(63)に、弁本体(63)の後端面から前端側の弁アクチュエータ(64)近くまでのびる主通路(67)と、主通路(67)と各弁アクチュエータ(64)(65)(66)を介して接続されている３つの副通路(68)(69)(70)とが形成されている。弁本体(63)の上面は下面と平行でかつ平坦であり、各弁アクチュエータ(64)(65)(66)はこの平坦面に等間隔で取り付けられている。
【０００５】
この遮断開放器(61)のデッドボリューム（流体溜り部分）については、主通路(67)から第１の副通路(68)に流体が流れるときには、主通路(67)と第２および第３の弁アクチュエータ(65)(66)とをつなぐ短い通路(71)(72)だけとなる。そして、主通路(67)から第２の副通路(69)に流体が流れるときには、主通路(67)と第３の弁アクチュエータ(66)とをつなぐ短い通路(72)および第１弁アクチュエータ(64)と第２弁アクチュエータ(65)との間にある主通路(67)の前端部分(67a)(67b)がデッドボリュームとなる。また、主通路(67)から第３の副通路(70)に流体が流れるときには、主通路(67)と第２の弁アクチュエータ(65)とをつなぐ短い通路(71)、第１弁アクチュエータ(64)と第２弁アクチュエータ(65)との間にある主通路(67)の前端部分(67a)(67b)および第２弁アクチュエータ(65)と第３弁アクチュエータ(66)との間にある主通路(67)の中間部分(67c) がデッドボリュームとなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
半導体製造装置に用いられる遮断開放器や流体制御器に対しては、プロセスガスの純度を下げる原因となるデッドボリュームを減少することが重要であり、また、内容積減少、体積減少および軽量化も要求されているが、従来のものでは、これらの点で不十分であった。
【０００７】
この発明の目的は、従来のものに比べて、デッドボリュームを減少するとともに、体積および重量も減少した遮断開放器とこれを備えた流体制御器とを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
この発明による遮断開放器は、略直方体状弁本体およびこの上面に前後方向に並んで取り付けられた複数の通路開閉用弁アクチュエータよりなり、弁本体内に、弁本体の後端面または後端部下面から前端側の弁アクチュエータ近くまでのびる主通路と、主通路と各弁アクチュエータを介して接続されている複数の副通路とが形成されており、主通路から各副通路に流体が流れるときに、デッドボリュームとなる通路部分が生じる遮断開放器において、弁本体の前端側の弁アクチュエータが取り付けられている面が、前下がりの傾斜面とされるとともに、前端側の弁アクチュエータを介して主通路から対応する副通路に流体が流れるときにのみ流体が通過する主通路の部分が鈍角状とされており、これにより、前端側の弁アクチュエータ以外の弁アクチュエータを介して主通路から対応する副通路に流体が流れるときに、デッドボリュームとなる通路部分の容積が弁本体上面が平坦面である場合に比べて減少させられていることを特徴とするものである。
【０００９】
傾斜面の前下がり傾斜角度は、水平面に対して１５°〜６０°が好ましく、２０°〜４５°がより好ましい。傾斜角度が小さいと、効果が小さくなり、傾斜角度が大きいと、前端側の弁アクチュエータが弁本体の前端面より大きく前方に突出するため他の部材と干渉する可能性が増すものであり、傾斜角度は、弁アクチュエータの寸法およびこの遮断開放器が設けられる流体制御装置の寸法を考慮して上記好ましい範囲に設定される。弁本体に、弁アクチュエータを取り付けるためのアクチュエータ挿入用凹所が設けられていることが好ましく、この場合に、弁アクチュエータ挿入用凹所が圧力センサ取付用ねじ孔で置き換えられることにより、圧力センサが取り付け可能とされていることが好ましい。
【００１０】
この発明の遮断開放器によると、前端側の弁アクチュエータが取り付けられている弁本体上面が前下がりの傾斜面とされているので、弁本体上面が平坦な従来の遮断開放器に比べて、弁本体前方上部の体積および前方部分の前後長さが減少し、遮断開放器の内容積、体積および重量が減少する。この遮断開放器のデッドボリュームの大部分は、前端側の弁アクチュエータとこれの隣の弁アクチュエータとの間にある主通路の前端部分によって占められているが、この主通路の前端部分は、弁本体の前方部分の前後長さの減少に伴って減少し、したがって、遮断開放器のデッドボリュームが減少する。
【００１１】
上記の遮断開放器は、マスフローコントローラなどの調整器の入口側および出口側に設けられて、半導体製造用の流体制御器を構成することがある。
【００１２】
この場合に、各遮断開放器の複数の副通路のうち、調整器から最も遠い副通路がプロセスガス用とされ、これらの副通路の隣の副通路がパージガス用とされることが好ましい。このようにすると、プロセスガスが流されているときのデッドボリュームは、主通路と後寄りにある弁アクチュエータとをつなぐ短い通路部分だけとなるので、プロセスガスを切り換えるさいに残留ガスを短時間でパージすることができる。
【００１３】
上記流体制御器が複数適宜に設けられて流体制御装置が構成される。このさい、各遮断開放器の弁本体の前後長さが、弁アクチュエータの数によらず等しくされていることが好ましい。このようにすると、各遮断開放器の第１弁アクチュエータ同士はすべて同一線上に並ぶことになり、遮断開放器の操作がしやすくなる。
【００１４】
また、複数の副通路のうち前端側の弁アクチュエータを介して接続された副通路は弁本体の前端面または下面に通じ、残りの副通路は弁本体の下面に通じ、残りの副通路の配管がすべて弁本体の下方で行われていることが好ましい。このようにすると、配管部分が弁本体の下方に平面的に収められて、制御装置全体がコンパクトとなり、配管部分のメンテナンスもしやすくなる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
この発明の実施形態を、以下図面を参照して説明する。
【００１６】
図１および図２は、この発明の遮断開放器(1) の第１の実施形態を示している。この遮断開放器(1) は、図３および図４に示すように、マスフローコントローラ(2) の入口側および出口側に設けられて、流体制御器(10)を構成する。
【００１７】
図１および図２に示すように、遮断開放器(1) は、略直方体状弁本体(3) およびこの上面に前後方向に並んで取り付けられた第１（前端側）、第２（中間）および第３（後端側）の通路開閉用弁アクチュエータ(4)(5)(6) よりなる。弁本体(3) 内には、弁本体(3) の後端面から前端側の弁アクチュエータ(4) 近くまで前後に真っ直ぐのびる主通路(21)と、主通路(21)と各弁アクチュエータ(4)(5)(6) を介して接続されている第１（前端側）、第２（中間）および第３（後端側）の副通路(22)(23)(24)とが形成されている。なお、第２および第３の弁アクチュエータ(5)(6)を介して主通路(21)と接続された副通路(23)(24)は、第２および第３の弁アクチュエータ(5)(6)とをつなぐ短い通路(25)(26)の真後ろにあるが、図２においては、実際より左にずらして鎖線により表している（以下も同様）。
【００１８】
弁本体(3) には、アクチュエータ(4)(5)(6) が取り付けられている部分の右側面(3c)から右方に張出しており、第２および第３の副通路(23)(24)が形成されているとともに、弁本体(3) を他の部材と接続するさいのねじ止め部分とされるブロック状張出部(7) が一体に形成されている。
【００１９】
弁本体(3) 上面のうち、前端側の第１弁アクチュエータ(4) 用の取付面(3a)は、前下がりの傾斜面とされており、残りの２つの第２および第３弁アクチュエータ(5)(6)用の取付面(3b)は、下面に平行な平坦面とされている。
【００２０】
各弁アクチュエータ(4)(5)(6) は、取付面(3a)(3b)に直角に取り付けられている。弁本体(3) のアクチュエータ挿入用凹所(18)(19)は、第１弁アクチュエータ(4) 挿入用の凹所(18)が相対的に浅く、第２および第３弁アクチュエータ(5)(6)挿入用の凹所(19)が相対的に深くなされており、これに応じて、第１弁アクチュエータ(4) は、第２および第３弁アクチュエータ(5)(6)よりも短くなされている。ただし、弁アクチュエータ挿入用凹所の深さをすべて同じにして、同じ長さの弁アクチュエータにすることも可能である。第１弁アクチュエータ(4) および第３弁アクチュエータ(6) は、常時閉型とされ、第２弁アクチュエータ(5) は常時開型とされている。
【００２１】
主通路(21)は、弁本体(3) の後端面から前端面近くまでのびており、第１の副通路(22)は、弁本体(3) の前端面に通じている。弁本体(3) の前端面には、第１の副通路(22)に逆止弁やプレッシャーレギュレータ等を接続するためのナット付き継手部(9) が設けられている。第２および第３の副通路(23)(24)は、それぞれ弁本体(3) の張出部(7) 内を通って弁本体(3) の下面に通じている。
【００２２】
図２において、この遮断開放器(1) のデッドボリュームは、主通路(21)から第１の副通路(22)に流体が流れるときには、主通路(21)と第２および第３の弁アクチュエータ(5)(6)とをつなぐ短い通路(25)(26)だけとなる。そして、主通路(21)から第２の副通路(23)に流体が流れるときには、主通路(21)と第３の弁アクチュエータ(6) とをつなぐ短い通路(26)および第１弁アクチュエータ(4) と第２弁アクチュエータ(5) との間にある主通路(21)の鈍角状前端部分(21a)(21b)が、デッドボリュームとなる。また、主通路(21)から第３の副通路(24)に流体が流れるときには、主通路(21)と第２弁アクチュエータ(5) とをつなぐ短い通路(25)、第１弁アクチュエータ(4) と第２弁アクチュエータ(5) との間にある主通路(21)の鈍角状前端部分(21a)(21b)および第２弁アクチュエータ(5) と第３弁アクチュエータ(6) との間にある主通路(21)の中間部分(21c) が、デッドボリュームとなる。
【００２３】
上記の遮断開放器(1) では、弁本体(3) 上面の第１弁アクチュエータ(4) 用取付面(3a)は、図１７に示す従来の遮断開放器(61)における第１弁アクチュエータ用取付面(63a) と面積が等しくなるように設定されている。したがって、従来の遮断開放器(61)と比較すると、取付面(3a)が前下がりの傾斜面となっている分だけ、弁本体(3) 前方上部の体積および前方部の前後長さが減少しており、遮断開放器(1) の内容積、体積および重量が減少している。従来の遮断開放器(61)における第１弁アクチュエータ用取付面(63a) の長さをＬとし、傾斜角度をθとすると、遮断開放器(1) は、前後長がＬ（１−cos θ）減少し、縦断面積がＬ×cos θ×sin θ÷２だけさらに減少している。デッドボリュームについては、主通路(21)の鈍角状前端部分(21a)(21b)のボリュームが、弁本体(3) の前後長さの減少に伴って、従来の遮断開放器(61)の主通路(67)の前端部分(67a)(67b)のボリュームより減少しており、これにより、遮断開放器(1) 全体のデッドボリュームも減少している。なお、傾斜角度が大きくなるにつれて、鈍角状前端部分(21a)(21b)のうち、主通路(21)から真っ直ぐ延びている部分(21a) は減少し、屈曲している部分(21b) は増加するが、全体としては、傾斜角度が大きくなるほど、デッドボリュームの減少量も大きくなる。
【００２４】
図３および図４に示す流体制御器は、マスフローコントローラ(2) と、これの入口側（図４の左側）および出口側（図４の右側）に設けられた遮断開放器(1)(1)とよりなる。入口側の遮断開放器(1) は、図１および図２に示した遮断開放器(1) を前後を逆にして取り付けたものである。
【００２５】
入口側の遮断開放器(1) においては、マスフローコントローラ(2) から最も遠い第１の副通路(22)が、プロセスガス流入用、これの隣の第２の副通路(23)が、パージガス流入用、マスフローコントローラ(2) に最も近い第３の副通路(24)が、真空吸引用として使用され、出口側の遮断開放器(1) においては、マスフローコントローラ(2) から最も遠い第１の副通路(22)が、プロセスチャンバーにつながり、これの隣の第２の副通路(23)が、パージポートとして排ガス用ダクトにつながる。マスフローコントローラ(2) に最も近い第３の副通路(24)は、真空吸引用として使用されている。
【００２６】
マスフローコントローラ(2) の入口側および出口側の側面の下端部には、下面に通じた通路(11a) を有する上側通路ブロック(11)が張出し状に設けられている。各上側通路ブロック(11)の下方には、下側通路ブロック(12)が設けられており、各下側通路ブロック(12)と各上側通路ブロック(11)とが、上側通路ブロック(11)の上方よりねじ込まれた２本のマスフローコントローラ取付ねじ(13)によりそれぞれ連結されている。下側通路ブロック(12)には、上側通路ブロック(11)の通路(11a) と弁本体(3) の主通路(21)とを連通する通路(12a) が形成されており、下側通路ブロック(12)側よりねじ込まれた遮断開放器取付ねじ(14)により下側通路ブロック(12)が弁本体(3) に連結されている。また、弁本体(3) の張出部(7) には、第２および第３の副通路(23)(24)の配管用通路ブロック(15)(16)が、張出部(7) の上側よりねじ込まれた配管取付ねじ(17)により連結されている。入口側の遮断開放器(1) の第３の副通路(24)と出口側の遮断開放器(1) の第３の副通路(24)とは、それぞれの配管用の通路ブロック(15)(15)同士が管(27)で接続されてから真空吸引ポンプ（図示略）に接続されている。また、第２の副通路(23)を形成する通路ブロック(16)の下面には、継手(28)が設けられている。この継手(28)の管接続部は、真空吸引用の管(27)よりも下に位置させられており、したがって、パージガス用の配管が真空吸引用の管(27)と干渉することはない。この流体制御器(10)を設置するさいには、図４に示すように、マスフローコントローラ(2) および遮断開放器(1) は、基板(29)の上面側に取り付けられ、配管用通路ブロック(15)(16)は基板(29)の下面側にくる。
【００２７】
上記流体制御器(10)では、マスフローコントローラ(2) が故障したときには、マスフローコントローラ取付ねじ(13)を外すことによりマスフローコントローラ(2) を上方に取り外して交換することが可能であり、また、遮断開放器(3) が故障したときには、遮断開放器取付ねじ(14)および配管取付ねじ(17)を外すことにより遮断開放器(3) を上方に取り外して交換することが可能である。
【００２８】
上記の流体制御器において、プロセスガスが流れるさいのデッドボリュームは、主通路(21)と第２および第３の弁アクチュエータ(5)(6)とをつなぐ短い通路(25)(26)だけになる。
【００２９】
図５は、この発明の遮断開放器(31)の第２の実施形態を示している。この遮断開放器(31)は、図６に示すように、マスフローコントローラ(2) の入口側および出口側に設けられて、流体制御器(40)を構成する。この遮断開放器(31)は、第１の副通路(32)が、弁本体(33)の下面に通じている点で第１の実施形態の遮断開放器(1) と異なっている。以下の説明においては、第１の実施形態のものと同じ構成については、図面に同じ符号を付して説明を省略する。図５において、図１に示した弁本体(3) の前端面の継手部(9) が取り除かれるとともに、弁本体(33)のブロック状張出部(34)には、第２および第３の副通路(23)(24)に加えて、下面に通じる第１の副通路(32)も形成されている。そして、図６に示すように、この張出部(34)には、第２および第３の副通路(23)(24)に通じる配管用の通路ブロック(15)(16)に加えて、第１の副通路(32)に通じる配管用の通路ブロック(35)も接続されている。この配管用の通路ブロック(35)下面に設けられた継手(36)の管接続部は、真空吸引用の管(27)と第２の副通路(23)に通じる継手(28)との中間のレベルにくるようになされており、したがって、プロセスガス用の配管がパージガス用の配管や真空吸引用の管(27)と干渉することはない。
【００３０】
図１、図２および図５に示した遮断開放器(1) は、３つの弁アクチュエータ(4)(5)(6) を備えているが、真空吸引用副通路(24)が不要であるときには、弁アクチュエータは２つとされる。この場合に、第３の弁アクチュエータ(6) を取り除くとともに弁本体の前後長を短くするようにしてももちろんよいが、図７および図８に示すように、弁本体(43)の前後長はそのままにして、第３の弁アクチュエータ(6) を取り付けるための凹所(19)および真空吸引用副通路(24)だけを形成しないようにしてもよい。
【００３１】
図７において、遮断開放器(41)は、略直方体状弁本体(43)およびこの上面に前後方向に並んで取り付けられた第１（前端側）および第２の弁アクチュエータ(4)(5)よりなり、弁本体(43)内には、弁本体(43)の後端面から前端面近くまでのびる主通路(21)と、主通路(21)との連通を各弁アクチュエータ(4)(5)によって開閉される第１（前端側）および第２の副通路(22)(23)とが形成されている。弁本体(43)上面のうち、前端側の第１弁アクチュエータ(4) 用の取付面(43a) は、前下がりの傾斜面とされており、残りの面(43b) は、下面に平行な平坦面とされている。平坦面(43b) は、２つの弁アクチュエータを取り付けることが可能な面積を有しており、その前半部に第２の弁アクチュエータ(5) が取り付けられている。
【００３２】
図７に示した遮断開放器には、図８に示すように、第３の弁アクチュエータ(6) を取り除いた部分に、圧力センサを取り付けることができる。図８において、遮断開放器(51)は、略直方体状弁本体(53)およびこの上面に前後方向に並んで取り付けられた第１（前端側）および第２の弁アクチュエータ(4)(5)よりなり、弁本体(53)内には、弁本体(53)の後端面から前端面近くまでのびる主通路(21)と、主通路(21)との連通を各弁アクチュエータ(4)(5)によって開閉される第１（前端側）および第２の副通路(22)(23)とが形成されている。弁本体(53)上面のうち、前端側の第１弁アクチュエータ(4) 用の取付面(53a) は、前下がりの傾斜面とされており、残りの面(53b) は、下面に平行な平坦面とされている。平坦面(53b) は、２つの弁アクチュエータを取り付けることが可能な面積を有しており、その前半部に第２の弁アクチュエータ(5) が取り付けられており、その後半部の中央に圧力センサ取付用ねじ孔(54)が設けられている。弁本体(53)の前端面に設けられた継手部(55)は、おねじを有するタイプとされている。
【００３３】
図３、図４および図６に示した流体制御器(10)(40)は、適宜組み合わされて半導体製造用の流体制御装置を構成する。図９は、このような流体制御装置の一部を示している。同図において、２つの弁アクチュエータ(4)(5)を有する遮断開放器(31)を含む流体制御器(40)と、３つの弁アクチュエータ(4)(5)(6) を有する遮断開放器(1) を含む流体制御器(10)とが平行にかつ両者間に間隔をあけることなく配置されている。図示省略したが、これらの流体制御器(10)(40)に平行にかつ互いに間隔をあけることなく同様の流体制御器が配置される。
【００３４】
したがって、各流体制御器(10)(40)が平面的に配置された流体制御装置ができ、各遮断開放器(1)(31) の第１弁アクチュエータ(4) 同士および第２弁アクチュエータ(5) 同士はすべて同一線上に並ぶことになる。また、第２および第３通路(23)(24)の配管(15)(16)(27)(28)は、基板(29)の下方（図の裏面）において行われることになり、配管部分(15)(16)(27)(28)により制御装置全体の幅が広がることもなく、メンテナンスがしやすくなり、また、見た目もすっきりしたものになる。
【００３５】
なお、図９において、遮断開放器(1)(31) は、マスフローコントローラ(2) の入口側および出口側で同じものが使用されており、弁本体(3)(33) の張出部(7)(8)が、入口側では左側、出口側では右側に位置している。これに対して、図１０に示す流体制御装置は、入口側の弁本体(44)(45)の張出部(46)(47)が、出口側の弁本体(1)(31) の張出部(7)(8)と同じ側、すなわち右側に位置しているものである。このような入口側の弁本体(44)(45)を得るには、例えば図１において右側面に設けられた張出部(7) を左側面に配置するとともに、主通路(21)と張出部(7) 内の通路とを連通させるだけでよい。このようにすることにより、第２および第３の副通路(23)(24)がすべて下方に通じているのに加えて、これらの開口が弁本体のすべて右側に位置することになるので、配管がより一層やりやすくなる。
【００３６】
上記の第１から第４までの実施形態の遮断開放器(1)(31)(41)(51) を使用する場合には、図３または図６に示すように、マスフローコントローラ(2) と遮断開放器(1)(31)(41)(51) とを接続するために、下側通路ブロック(12)が必要である。この下側通路ブロック(12)は、下側通路ブロック(12)側より横方向にねじ込まれた遮断開放器取付ねじ(14)により弁本体(3) に連結されている。遮断開放器(1)(31)(41)(51) を取り外すさいには、遮断開放器取付ねじ(14)および配管取付ねじ(17)を取り外さなければならないことになるが、このうち、遮断開放器取付ねじ(14)の取り外しは、多数の制御器(10)(20)(40)(50)を並列状に配置して流体制御装置を構成した後（図９または図１０参照）では、非常に面倒な作業になる。
【００３７】
以下には、遮断開放器の取り外し作業を容易にする遮断開放器の実施形態を２例示す。
【００３８】
図１１および図１２は、この発明の遮断開放器の第５の実施形態を示している。この遮断開放器(101) は、図５に示した第２の実施形態の遮断開放器(31)を基準にして、主通路(121) が、後端面(103c)には通じておらず、弁本体(103) に設けられた下向き通路(122) を介して、弁本体(103) の下面に通じている点が異なっているものである。以下の説明においては、第１または第２の実施形態のものと同じ構成については、図面に同じ符号を付して説明を省略する。
【００３９】
図１１および図１２において、弁本体(103) 内には、弁本体(103) の後端面近くから前端面近くまでのびる主通路(121) と、主通路(121) と各弁アクチュエータ(4)(5)(6) を介して接続されている第１（前端側）、第２（中間）および第３（後端側）の副通路(32)(23)(24)とが形成されている。主通路(121) は、その後端より下方に真っ直ぐのびて弁本体(103) の後端部下面に通じている下向き通路(122) を有している。各副通路(32)(23)(24)は、弁本体(103) のブロック状張出部(34)内を通って、弁本体(103) の下面に通じている。弁本体(103) 上面のうち、前端側の第１弁アクチュエータ(4) 用の取付面(103a)は、前下がりの傾斜面とされており、残りの２つの第２および第３弁アクチュエータ(5)(6)用の取付面(103b)は、下面に平行な平坦面とされている。
【００４０】
図１２において、この遮断開放器(101) のデッドボリュームは、主通路(121) から第１の副通路(32)に流体が流れるときには、主通路(121) と第２および第３の弁アクチュエータ(5)(6)とをつなぐ短い通路(25)(26)だけとなる。そして、主通路(121) から第２の副通路(23)に流体が流れるときには、主通路(121) と第３の弁アクチュエータ(6) とをつなぐ短い通路(26)および第１弁アクチュエータ(4) と第２弁アクチュエータ(5) との間にある主通路(121) の鈍角状前端部分(121a)(121b)が、デッドボリュームとなる。また、主通路(121) から第３の副通路(24)に流体が流れるときには、主通路(121) と第２弁アクチュエータ(5) とをつなぐ短い通路(25)、第１弁アクチュエータ(4) と第２弁アクチュエータ(5) との間にある主通路(121) の鈍角状前端部分(121a)(121b)および第２弁アクチュエータ(5) と第３弁アクチュエータ(6) との間にある主通路(121) の中間部分(121c)が、デッドボリュームとなる。
【００４１】
この遮断開放器(101) を用いて構成された流体制御器(140) を図１３および図１４に示す。図１３に示す流体制御器(140) は、図３に示した流体制御器(10)と比較して、下側通路ブロック(12)が省略されており、したがって、下側通路ブロック(12)側より横方向にねじ込まれた遮断開放器取付ねじ(14)が省略されていることを特徴としている。マスフローコントローラ(2) に接続されている通路ブロック(11)の通路(11a) は、下方に開口しており、この通路(11a) と下向き通路(122) とが、弁本体(103) の下方において、管継手(123) を介して接続されている。
【００４２】
このようにして、第１、第２および第３の副通路(32)(23)(24)だけでなく、主通路(121) も弁本体(103) の下方で接続され、これにより、マスフローコントローラ(2) および遮断開放器(101) の機器類と、通路ブロック(15)(16)(35)、継手(28)(36)、管(27)などの配管類とが、基板(29)の上方と下方とにそれぞれ完全に分離されている。また、上記流体制御器(140) では、マスフローコントローラ(2) が故障したときには、マスフローコントローラ取付ねじ(13)を外すことによりマスフローコントローラ(2) を上方に取り外して交換することが可能であり、また、遮断開放器(101) が故障したときには、配管取付ねじ(17)を外すことにより遮断開放器(101) を上方に取り外して交換することが可能である。したがって、機器類も配管類もそれぞれ平面的に収められて、制御装置全体がコンパクトとなり、機器類および配管類のメンテナンスもより一層しやすくなる。
【００４３】
図１５および図１６は、この発明の遮断開放器の第６の実施形態を示している。この遮断開放器(131) は、図１１および図１２に示した第５の実施形態の遮断開放器(101) を基準にして、主通路(121) が、後端面(133c)には通じておらず、弁本体(133) に設けられた下向き通路(132) を介して、弁本体(133) の下面に通じている点が共通であり、下向き通路(132) が、主通路(121) の中間部分（第２弁アクチュエータ(5) と弁アクチュエータ(6) との間）から、弁本体(133) のブロック状張出部(34)内を通って、弁本体(133) の下面に通じている点が異なっている。この遮断開放器(131) を用いて構成された流体制御器は、図１３および図１４に示した流体制御器(140) と同じ特徴を有している。
【００４４】
なお、遮断開放器(1)(31)(41)(51)(101)(131) は、マスフローコントローラ(2) 以外のものに取り付けられてももちろんよく、遮断開放器(1)(31)(41)(51)(101)(131) には、ガスでなくて液体が流される場合ももちろんある。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による遮断開放器の第１実施形態を示す斜視図である。
【図２】同縦断面図である。
【図３】この発明による流体制御器の第１実施形態を示す斜視図である。
【図４】同縦断面図である。
【図５】この発明による遮断開放器の第２実施形態を示す斜視図である。
【図６】この発明による流体制御器の第２実施形態を示す斜視図である。
【図７】この発明による遮断開放器の第３実施形態を示す縦断面図である。
【図８】この発明による遮断開放器の第４実施形態を示す縦断面図である。
【図９】この発明による流体制御器を複数配置するときの１実施形態を示す平面図である。
【図１０】この発明による流体制御器を複数配置するときの他の実施形態を示す平面図である。
【図１１】この発明による遮断開放器の第５実施形態を示す斜視図である。
【図１２】同縦断面図である。
【図１３】第５実施形態の遮断開放器を用いて構成されたこの発明による流体制御器を示す斜視図である。
【図１４】同縦断面図である。
【図１５】この発明による遮断開放器の第６実施形態を示す斜視図である。
【図１６】同縦断面図である。
【図１７】従来の遮断開放器を示す縦断面図である。
【符号の説明】
(1)(31)(41)(51)(101)(131) 遮断開放器
(2) 調整器
(3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133) 弁本体
(3a)(33a)(43a)(53a)(103a)(133a) 傾斜面
(4)(5)(6) 弁アクチュエータ
(18)(19) アクチュエータ挿入用凹所
(21)(121) 主通路
(21a)(21b) 鈍角状前端部分（デッドボリューム部分）
(22)(23)(24)(32) 副通路
(25)(26) 短い通路（デッドボリューム部分）
(54) 圧力センサ取付用ねじ孔

Claims (6)

  1. 略直方体状弁本体(3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133)およびこの上面に前後方向に並んで取り付けられた複数の通路開閉用弁アクチュエータ(4)(5)(6)よりなり、弁本体(3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133)内に、弁本体(3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133)の後端面または後端部下面から前端側の弁アクチュエータ(4)(5)(6)近くまでのびる主通路(21)(121)と、主通路(21)(121)と各弁アクチュエータ(4)(5)(6)を介して接続されている複数の副通路(22)(23)(24)とが形成されており、主通路 (21)(121) から各副通路 (22)(23)(24) に流体が流れるときに、デッドボリュームとなる通路部分 (21a)(21b)(25)(26) が生じる遮断開放器において、
    弁本体(3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133)の前端側の弁アクチュエータ(4)が取り付けられている面が、前下がりの傾斜面とされるとともに、前端側の弁アクチュエータ (4)を介して主通路 (21)(121) から対応する副通路 (22) に流体が流れるときにのみ流体が通過する主通路の部分 (21a)(21b) が鈍角状とされており、これにより、前端側の弁アクチュエータ (4) 以外の弁アクチュエータ (5)(6) を介して主通路 (21)(121) から対応する副通路 (23)(24) に流体が流れるときに、デッドボリュームとなる通路部分 (21a)(21b) の容積が弁本体上面が平坦面である場合に比べて減少させられていることを特徴とする遮断開放器。
  2. 弁本体 (3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133) に、弁アクチュエータ (4)(5)(6) を取り付けるためのアクチュエータ挿入用凹所 (18)(19) が設けられている請求項１の遮断開放器。
  3. 弁アクチュエータ挿入用凹所 (19) が圧力センサ取付用ねじ孔 (54) で置き換えられることにより、圧力センサが取り付け可能とされている請求項２の遮断開放器。
  4. 流体圧力または流量を調整する調整器(2)とこれの入口側および出口側にそれぞれ設けられた請求項１から３までのいずれかの遮断開放器(1)(31)(41)(51)とよりなる流体制御器。
  5. 請求項４の流体制御器が、複数並列状に配置されており、各遮断開放器(1)(31)の弁本体(3)(33)(44)(45)の前後長さが、弁アクチュエータ(4)(5)(6)の数によらず等しくされていることを特徴とする流体制御装置。
  6. 複数の副通路(22)(23)(24)のうち前端側の弁アクチュエータ(4)を介して接続されている副通路(22)は、弁本体(3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133)の前端面または下面に通じ、残りの副通路(23)(24)は、弁本体(3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133)の下面に通じ、残りの副通路(23)(24)の配管がすべて弁本体(3)(33)(43)(44)(45)(53)(103)(133)の下方で行われていることを特徴とする請求項５の流体制御装置。
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