JP3347708B2 - 2次元画像入力装置及びそれを用いた画像処理システム - Google Patents
2次元画像入力装置及びそれを用いた画像処理システムInfo
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Description
し、更に詳しくは、医療用、産業用ディジタルX線撮影
装置等の放射線撮像装置に好適に使用し得る大面積の2
次元画像入力装置に関する。
率の向上や、より精度の高い医療機器が強く望まれ、そ
の流れの中で、従来フィルムを用いたX線撮像装置が主
流であったX線画像の分野においても、例えば直接対象
の透過X線をX線撮影装置に投射して表示装置に表示し
て、リアルタイムに診察する、" X線画像情報のディジ
タル化”による画像処理の要求が高まりつつある。
像情報を光磁気ディスクのような記録媒体を用いて管理
でき、またさまざまな通信方式等により患者のX線画像
情報を、リアルタイムに遠隔地で見ることが可能とな
る。
理により、従来に比べより一層高い精度での診断が可能
となり、従来のフィルム方式での上記課題を解決するこ
とができる。またこのディジタル化の流れは、医療の世
界ばかりでなく、産業分野においても進行しており、例
えばディジタルX線画像入力装置を材料の結晶解析に応
用したり、半導体製造装置用の一つとしてX線で半導体
露光装置に適用して極小細線の生成等によって、観測用
も含めて、微細で正確な半導体ウエハ加工に適用する研
究も行われている。
ための画像入力装置として、一つに2次元のCCD固体
撮像素子を、フィルムの代わりに用いたX線撮像装置が
開発されている。
a−Siと記す)等の光電変換膜を用いて、光電変換素
子を大面積の基板に形成したフラットパネル型センサが
開発され、これを用いたX線撮像装置が開発されてい
る。
ではなく、薄膜電界型トランジスタ(以下、TFTと記
す)としても用いることができるので、光電変換半導体
とTFTの半導体層とを同一の基板上に形成可能な利点
を有している。これとシンチレータと組み合わせて、等
倍の大面積センサが検討されている。
在、大面積画像領域、コンパクト・軽量、高感度、高速
の動画対応のフラットパネル型X線画像入力装置が求め
られている。このX線画像入力装置の画素ピッチとし
て、100μm以下が望ましく、また、例えば人の胸部
撮影を行う場合、光電変換素子の有効画素エリアとし
て、少なくとも40cm×40cmのサイズを有するこ
とが望ましい。
・X線画像入力装置の問題点として下記の項目が挙げら
れている。
大きさに匹敵する大きさで作製することはできない。現
状のCCDセンサ素子の大きさは2cm角である。従っ
て、CCD固体撮像素子を用いて、大面積の画像入力を
行う場合、縮小光学系でシンチレータからの蛍光すなわ
ちX線像をCCD受光面に結像させる必要がある。
センサであるので、レンズを介して結像するため、縮小
率にも依存するが、S/N比が一般的に、レンズを通す
前に比べ、2桁〜3桁ダウンし、高い階調性が要求され
る医療機器に利用する場合、不利となる。
子の組み合わせを一組として、これらを複数配置して、
大面積に対応しつつ、S/Nを確保する形態が提案され
ているが、これでも等倍型に対して感度が劣り、またレ
ンズ系を用いるため大面積X線撮像装置が大型化すると
いった問題が生ずる。
撮像素子や、またその周辺回路に用いられる素子はX線
に対して耐久性が劣っており、X線遮蔽のための工夫が
要求される。
レート、シンチレータと組み合わせた、図12に示すよう
な、従来例1として、CCD固体撮像装置中、4枚のモ
ジュールからなる画素領域82と、垂直・水平走査回路
や画像処理回路等の非画素領域83と、その周辺部の引
出線用のコネクタ等の電気実装領域84等から構成され
たものがある。上記従来例1に示されるような配置で、
4個のCCDをつなぎあわせる形態も提案されている
が、せいぜい最大4個のつなぎあわせしかできず、到底
要求される大面積にはできない。
5,834,782に、従来例2の形態が提案されてい
る。図13(a)に示すように、対象物の透過X線の入射
に対して、CCDセンサやCMOSセンサをX線の入射
方向に向けた片側読み出しの形態に設計し、エリアセン
サ91を周辺領域が重なるように2段構えで配置し、フ
ァイバーアレイで各画像領域にX線を導入している。ま
た、図13(b)によれば、X線入射方向から見た場合の
平面図であり、画素領域94と信号取り出し部(非画素
領域)93が配置され、単一の形態となる。これを、ス
テップを有するファイバーアレイ92に配置すること
で、多数個の貼り合わせを実現している。この方法によ
れば、モジュールの段数であるステップの数を増やすこ
とで、原理的にはいくらでも大きな面積の画像入力装置
ができる。しかしながらこの方法では、エリアセンサー
の読み出しや走査回路を全てエリアセンサーの片側に配
せざるを得ないので、電気実装領域がパネルの4辺の内
2辺に集中することとなり、実装が困難になっている。
また、残り2辺の空間を無駄になってしまい、コンパク
トなフラットパネルを実現するためには障害となる。こ
れは小さなサイズのエリアセンサーを多数枚組み合わせ
る場合、特に大きな欠点となる。
等倍で読み取ることが可能な精度の高い大面積化が可能
なため、S/N比の点でもCCD固体撮像素子に比べて
有利になる。
は、機器の小型化を促進させ、広いスペースを確保でき
ない診療所や、X線撮像装置を積載する検診用車両等に
対し、威力を発揮する。
に示されるような構成で、4枚のモジュールで1枚のパ
ネルを構成する方法が広く行われている。この方法では
2×2の4枚の組み合わせが限度であり、それ以上の枚
数を組み合わせて、より大面積のパネルを構成すること
ができない。このような4枚の組み合わせでは、パネル
の中央にどうしてもモジュールのつなぎめが位置する。
撮像パネルの中央は画像の情報を得る際利用される割合
が高く、そこにつなぎめがあることにより、つなぎめに
関わる画像上の問題が発生した場合、目立ちやすく、品
質問題になる可能性があった。
光電変換素子を用いるフラットパネルでは、a−Siの
半導体としての欠点から、更なる高感度化や、高速動作
が難しく、動画対応の高感度、高速動作のフラットパネ
ルの実現は困難と考えられる。そこで、本発明は上記困
難性を屈服することを課題とする。
み、前記従来の技術における問題点、課題を解決するた
めに、本発明においては、以下のような発明特定事項を
提示する。
域を有するエリアセンサを含むモジュールを複数配置し
た画像入力装置において、一つ又は複数の前記画素領域
を含む第1の群と、画像入力方向から見た場合に、前記
第1の群に含まれる前記一つ又は複数の画素領域の周囲
を囲む形状に隣接して配置された複数の前記画素領域を
含む第2の群とを有し、前記第2の群に含まれる前記複
数の画素領域は、前記第1の群に含まれる前記一つ又は
複数の前記画素領域よりも画像入力面側に設けられてい
ることを特徴とする2次元画像入力装置を提供する。ま
た、複数のエリアセンサーからなる2次元画像入力装置
において、モジュールは複数の画素を長方形あるいは正
方形の形状に2次元に配した画素領域とそれ以外の非画
素領域を有する前記エリアセンサーと電気実装領域から
なり、複数のモジュールは、第1の群、第2の群、…、
第n-1の群、第nの群からなり(nはn≧2の整
数)、前記第1の群は第1のモジュールからなり、画像
入力面の中心をなし、前記第2の群は第2から第9のモ
ジュールからなり、前記第1の群の第1のモジュールの
周囲に第2の群の8枚のモジュールを3×3で2次元に
配されるように、前記第n-1の群はn=2のとき1
枚、n≧3のとき8×(n-2)枚のモジュールからな
り、前記第nの群は8×(n-1)枚のモジュールから
なり、前記第n-1の群のモジュールの周囲に前記第n
の群の8×(n-1)枚のモジュールを(2n-1)×
(2n-1)で2次元に配し、各モジュールの画素領域
は光の入射方向から見て縦、横の画素ラインが連続する
ように配され、前記第n-1の群のn=2のとき1枚、
n≧3のとき8×(n-2)枚のモジュールの画素領域
は同一平面上に配され、第nの群の8×(n-1)枚の
モジュールの画素領域は同一平面上に配され、前記第n
-1の群の各モジュールの画素領域を含む平面とその周
囲の前記第nの群の各モジュールの画素領域を含む平面
は異なり、前記第n-1の各モジュールの非画素領域と
実装領域は、第nの群の8×(n-1)枚のモジュール
の少なくとも一つの裏側(光の入射方向と反対側)に配
されることを特徴とする2次元画像入力装置を提供す
る。
からなるモジュールを複数備えた2次元画像入力装置に
おいて、前記モジュールは複数の画素を、長方形あるい
は正方形の形状に2次元に配した画素領域とそれ以外の
非画素領域を有するエリアセンサーと電気実装領域とを
配置したモジュール基板と、可視光を透過する前記ファ
イバーアレイのファイバープレートとからなり、前記複
数のモジュールは、第1の群、第2の群、…、第n-
1、第nの群を形成し(nはn≧2の整数)、前記第1
の群は第1から第4のモジュールからなり、前記第1の
群によって画像入力面の中心をなし、前記第2の群は第
5から第16のモジュールからなり、前記第1の群の4
枚のモジュールの周囲に前記第2の群の8枚のモジュー
ルを3×3で2次元に配されるように、前記第n-1の
群は4×(2n-3)枚のモジュールからなり、前記第
nの群は4×(2n-1)枚のモジュールからなり、前
記第n-1の群のモジュールの周囲に前記第nの群の4
×(2n-1)枚のモジュールを4n×4nで2次元に
配し、前記各モジュールの画素領域は光の入射方向から
見て縦、横の画素ラインが連続するように配され、前記
第n-1の群の4×(2n-3)枚のモジュールの画素領
域は同一平面上に配され、前記第nの群の4×(2n-
1)枚のモジュールの画素領域は同一平面上に配され第
n-1の群の各モジュールの画素領域を含む平面とその
周囲の前記第nの群の各モジュールの画素領域を含む平
面は異なり、第n-1の各モジュールの非画素領域と実
装領域は、前記第nの群の4×(2n-1)枚のモジュ
ールの少なくとも一つの裏側(光の入射方向と反対側)
に配されることを特徴とする2次元画像入力装置を提供
する。
らなる2次元画像入力装置において、モジュールは、複
数の画素を長方形あるいは正方形の形状に2次元に配し
た画素領域とそれ以外の非画素領域を有する前記エリア
センサーと電気実装領域からなり、複数のモジュールは
第1の群と第2の群からなり、前記第1の群は第1のモ
ジュールからなって画像入力面の中心をなし、前記第2
の群は前記第1の群より光の入射側に位置すると共に第
2から第9のモジュールからなり、前記第1の群の第1
のモジュールの周囲に第2の群の8枚のモジュールを3
×3で2次元に配置され、前記各モジュールの画素領域
は光の入射方向から見て縦、横の画素ラインが連続する
ように配置され、前記光の入射方向に1平面の可視光に
変換するシンチレータを設け、前記シンチレータと前記
各モジュールの前記エリアセンサ間に可視光を透過する
グラスファイバアレイからなるグラスファイバプレート
を設けたことを特徴とする2次元画像入力装置を提供す
る。
からなるモジュールを複数備えた2次元画像入力装置に
おいて、前記モジュールは複数の画素を長方形あるいは
正方形の形状に2次元に配した画素領域とそれ以外の非
画素領域を有するエリアセンサーと電気実装領域とを配
置したモジュール基板と、可視光を透過する前記ファイ
バーアレイのファイバープレートとからなり、前記複数
のモジュールは、第1の群と第2の群とからなり、前記
第1の群は第1から第4のモジュールからなり、前記第
1の群によって画像入力面の中心をなし、前記第2の群
は第5から第16のモジュールからなり、前記第1の群
の4枚のモジュールの周囲に前記第2の群の8枚のモジ
ュールを3×3で2次元に配置され、前記各モジュール
の画素領域は光の入射方向から見て縦、横の画素ライン
が連続するように配置され、前記第1の群及び前記第2
の群の前記各ファイバープレートの前記光の入射方向の
高さは同一として、前記光を可視光に変換するシンチレ
ータは前記第1の群と前記第2の群とで段差を設けたこ
とを特徴とする2次元画像入力装置を提供する。
の画素が2次元状に配列された画素領域と垂直走査回路
及び水平走査回路を有するエリアセンサを含むモジュー
ルを複数配置した画像入力装置において、一つ又は複数
の前記画素領域を含む第1の群と、画像入力方向から見
た場合に、前記第1の群に含まれる前記一つ又は複数の
画素領域の周囲を囲む形状に隣接して配置された複数の
前記画素領域を含む第2の群とを有し、前記第2の群に
含まれる前記複数の画素領域は、前記第1の群に含まれ
る前記一つ又は複数の前記画素領域よりも画像入力面側
に設けられ、前記第2の群に含まれる前記エリアセンサ
は、少なくとも一方に隣接する前記エリアセンサに含ま
れる前記垂直走査回路又は水平走査回路と同じ2次元平
面上にならないように、前記第2の群に含まれる前記複
数の画素領域は、異なる2次元平面上に配置されている
ことを特徴とする2次元画像入力装置を提供する。
図面を参照しつつ詳細に説明する。
実施形態の2次元画像入力装置の平面構造図を示す。図
1(a)は本実施形態の斜視図である。(b)は図1
(a)中P−Q面での断面図である。図2は本実施形態
のモジュール構成と作用効果を説明するための図であ
る。
は複数の画素が水平方向及び垂直方向に配列された画素
領域を含むエリアセンサーである。現在主流の8インチ
のウエハーからほぼ140mm角のCMOSエリアセン
サーを一枚取りで作る。図4にそのレイアウトを示す。
図4において、エリアセンサ401は画素領域403
と、その左上の2画隅に非画素領域402とを有し、8
インチウエハー404から切り出される。画素領域40
3内の1画素の画素サイズは100μm角と大きいが、
回路構成等は従来の小型エリアセンサーのものをほとん
どそのまま踏襲でき、従来の半導体技術の延長で容易に
作成できる。
が入射し、画像入力面を含むシンチレータ103を介し
て、X線を透過する等倍光学系としてファイバープレー
ト107を用い、モジュール基板106に形成したエリ
アセンサ105にX線を透過する。ここで、シンチレー
タ103とファイバプレート107間を含むファイバア
レイ102、エリアセンサ105、及びモジュール基板
106で、モジュール101を構成している。そして、
ファイバープレート107とCMOSエリアセンサ10
5とで等倍光学系を組み合わせることで、従来のフラッ
トパネルを凌駕する感度を実現できる。さらにエリアセ
ンサは単結晶シリコンデバイスであるから、原理的に高
速動作に関しては問題ない。
リアセンサー105を用いて、軽量コンパクトな高精度
X線画像入力装置を提供する。この時、3種類のエリア
センサー105を有するモジュールを作る。エリアセン
サ105の画素領域はm×m(本実施形態ではm=13
50)の正方形に形成した。また、正方形に限らず、長
方形であっても同様に構成できる。
類A、B、Cのモジュールにする。図2にそれぞれのモ
ジュールの形態と電気実装の様子を示す。このモジュー
ルA〜Cの形態は本実施形態の全体を構成する典型例で
ある。図2(a)は3種類のモジュールA〜Cを3×3
のモジュールに組み合わせた平面図を、図2(b)はそ
の断面図を示している。図2において、モジュール20
1はモジュール基板206と、エリアセンサー205
と、周辺回路とを構成する素子と、ファイバーアレイ2
02等から構成される。図2(a)には、3種類のモジ
ュールA−Cから構成され、モジュールAはモジュール
基板206上に画素領域27と、その角の2辺に垂直方
向の画素を選択する垂直走査回路、水平方向の画素を選
択する水平走査回路等が配置された非画素領域28と電
気実装領域29とを備え、モジュールBは画素領域27
とその一辺に非画素領域28と電気実装領域29とを備
え、モジュールCはモジュール基板206上に画素領域
27と、その角の2辺に非画素領域28と電気実装領域
29とを備えている。また、中央のモジュールは、3種
類のどのモジュールでもよく、電気実装の方向は任意に
選べる。
換し、X線到来方向から画素領域207をカバーするシ
ンチレータ203と、ファイバープレート207とから
なるファイバーアレイ202で、モジュール基板208
上に形成したエリアセンサ205、当該エリアセンサ2
05と外部への出力端までの信号処理を施す信号処理回
路を形成した電気実装領域29と、その間を接続するワ
イヤボンド204とからなる構成が示されている。
02は、光ファイバーを多数束ねてプレート状に構成し
た等倍光学系であるファイバープレート207と画像入
力面を含むシンチレータ203の組み合わせをいう。モ
ジュール上の電気実装領域209には、エリアセンサー
205からの信号を処理する回路が形成されており、ハ
イブリッド化されている。またこの領域にはエリアセン
サー205との電源ラインや、信号ラインとこの周辺回
路とをつなぐためのボンディングパッドが配置されてい
る。
画像読取り面上の配列の角に位置する。モジュールBは
モジュールAとCをつなぐ位置に配する。本実施形態で
はこれらのモジュールを組み合わせて3×3の配列とす
る。配列の仕方を図2(a)に示す。この配列の仕方は
本実施形態の全体を構成する典型例である。
その周囲の8枚のモジュールを第2の群とする。中央に
1枚のモジュールを配する配置方法は本実施形態におけ
る発明の内容に関わる。第1のモジュールの画素領域の
4辺に沿うように、第2の群のモジュールを配してい
く。このとき、X線の入射方向からみて、各モジュール
の縦方向画素ラインと横方向画素ラインが連続するよう
に配置する。このとき第2の群のモジュールは同一の平
面上に配置されており、第1のモジュールの配置された
面とは異なっている。
ル毎のファイバーアレイの厚さを変えることにより実現
している(図1中、L>L′の関係が成立する)。よっ
て、モジュールを配置したパネルの断面を見ると、図2
(b)のように、第1のモジュールは一段下がった形と
なっている。エリアセンサーやモジュールを段差を介し
て配置する方法のみは公知の技術である。これにより、
画素領域はパネル全面で連続しながら、読み出し系やボ
ンディングパッドを配した電気実装領域は個別に配置で
きるので、電気実装が容易になる。
示したが、図3に示すように、最内側のモジュールを第
1群とし、その周囲を第2群のモジュールとし、その周
囲を第3群のモジュールとし、順次第4,..第n群モ
ジュールとして構成し、モジュール数を増やした群番号
1〜nのモジュールが配置され、1片の数には2n−1
×2n−1配列のモジュールが配置され、各群中のモジ
ュール数は1〜8(n−1)で構成される。この場合で
も、モジュールの種類としては上述の3種類によって構
成される。
ジュールを適宜画面の中心に対して対称的に配し、かつ
3次元的にピラミッド型に配することが特徴である。
み立てたのち、X線を可視光に変換するためのシンチレ
ータ103,203として、Gd2O2S:T1を有した
蛍光体スクリーン203をファイバプレート207上の
画素領域全面に配した。シンチレータ103,203と
してはこの材料に何ら限定されない。CsI(ヨウ化セ
シウム)をファイバープレート上に蒸着した形態のもの
を利用することもできる。また、ファイバーアレイとし
て、ファイバ自体にシンチレーションファイバを用いた
一体型ファイバープレートを採用することもできる。
すれば、ファイバーアレイ202に入射した1次の放射
線としてのX線は、シンチレータ203で吸収され、こ
こで第2の放射線に変換される。シンチレータ203で
吸収されなかったX線は、鉛粒子成分を含むファイバー
プレート207中でほぼ完全に吸収される。またファイ
バーアレイ202は、シンチレータ203で変換された
可視光に対しては、ほぼ100%に近い透過率をもって
いる。
0cm角のフラットパネル型2次元画像読取装置を作製
した。
央に、第1のモジュールを配置して、大面積パネルを形
成できたので、もっとも利用される中央付近のモジュー
ルのつなぎ目に関わる問題が解消した。
利用する場合、人体に放射線照射を少なくする必要か
ら、照射X線量はできる限り少ない線量にしなければな
らない。従って、一般的にX線を吸収し、可視光に変換
するシンチレータ(蛍光体)での発光量や、その蛍光を
受光し光電変換する光電変換素子における電荷量は小さ
い。微少な信号から鮮明な画像を得るためには、パネル
からの引き出されたアナログ信号配線にノイズが乗らな
いように、できる限り配線を短くするなど、電気実装を
コンパクトに行う必要がある。本実施形態では、パネル
中の各モジュールの電気実装領域が4方向に確保されて
おり、実装設計の自由度が大きいので、微少信号を扱う
のに最適な電気実装を行うことができる。
ーアレイで覆われているので、エリアセンサーの画素を
構成するフォトダイオードやトランジスタ、周辺回路を
構成するシフトレジスタやアンプのX線による劣化を防
止することができる。
号処理回路を形成するIC等の素子は、十分な厚さのフ
ァイバーアレイがX線の遮蔽材となってX線があたる事
はなく、X線による素子の劣化をなくすことができた。
としてセンサに、大板CMOSセンサを用いたが、用途
を限定すれば、その他のセンサを用いることができる。
例えば従来のa−Siを用いたセンサの構成にも適用で
き、従来4枚の組み合わせが限度であったものを更に多
数枚組み合わせ、より大面積なパネルを作製することが
できる。
実施形態を示す。図5(a)は本実施形態の斜視図であ
る。図5(b)は図5(a)中P−Q面での断面図であ
る。
基板506と、モジュール基板506上に形成した画像
領域と非画像領域とを有するエリアセンサ505と、可
視光を透過するファイバーアレイ502を有するファイ
バープレート507と、各エリアセンサ205に対応す
るX線を可視光に変換する画像入力面を含むシンチレー
タ503とから構成される。
同様な形態の3種類のエリアセンサーを使う。各エリア
センサ505の画素領域はm×m(本実施形態ではm=
1350)の正方形に形成した。
ルA、B、Cにする。モジュールの形態は図2に示され
るものと同様にモジュール501はモジュール基板50
6、エリアセンサー505、周辺回路を構成する素子、
ファイバーアレイ502等から構成され、モジュール上
の電気実装領域には、エリアセンサーからの信号を処理
する回路が形成されており、ハイブリッド化されてい
る。またこの領域にはエリアセンサーとの電源ライン
や、信号ラインと、この周辺回路とをつなぐためのボン
ディングパッドが配置されている。
ためのシンチレータとして、Gd2O2S:T1を有した
蛍光体スクリーンのシンチレータ503を、各モジュー
ル501毎のファイバプレート507上の画素領域全面
に配した。シンチレータ503としてはこの材料に何ら
限定されない。CsI(ヨウ化セシウム)をファイバー
プレート507上に蒸着した形態のものを利用すること
もできる。ファイバーアレイ502として、ファイバ自
体にシンチレーションファイバを用いた一体型ファイバ
ープレート507を採用することもできる。
ファイバーアレイ502の厚さが、全てのモジュール5
01で同じになっている(図5中、L=L′の関係が成
立する)。このモジュールの形態は、以下のモジュール
の配列と相まって、本発明の内容に関わるものである。
の角に位置する。モジュールBはモジュールAとCをつ
なぐ位置に配する。本実施形態ではこれらのモジュール
を組み合わせて3×3の配列とする。配列の仕方を図1
(a)に示す。この配列の仕方は本実施形態の典型例に
関わるものである。中央の第1のモジュールを第1の群
とし、その周囲の8枚のモジュールを第2の群とする。
中央に1枚のモジュールを配する配置方法は本実施形態
における典型例の内容に関わる。
4辺に沿うように、第2の群のモジュールを配してい
く。このときX線の入射方向からみて、各モジュールの
縦方向画素ラインと横方向画素ラインが連続するように
配置する。このとき第2の群のモジュールは同一の平面
上に配置されており、第1のモジュールの配置された面
とは異なっている。よってモジュールを配置したパネル
の断面を見ると、図1(b)のように、第1のモジュー
ルは一段下がった形となっている。これにより、画素領
域はパネル全面で連続しながら、読み出し系やボンディ
ングパッドを配した実装領域は個別に配置できるので、
電気実装が容易になる。
示したが、図3に示した構造として、一般に2n−1×
2n−1の配列が可能である。このように本発明の要点
は、前記の最適モジュールを適宜画面の中心に対して対
称的に配し、かつ3次元的にピラミッド型に配すること
が特徴である。
cm角のフラットパネル型2次元画像読取装置を作製し
た。
第1のモジュールを配置して、大面積パネルを形成でき
たので、もっとも利用される中央付近のモジュールのつ
なぎ目に関わる問題が解消した。
る限り少ない線量にしなければならない。従って、一般
的にX線を吸収し可視光に変換するシンチレータ(蛍光
体)での発光量や、その蛍光を受光し光電変換する光電
変換素子における電荷量は小さい。微少な信号から鮮明
な画像を得るためには、画像領域パネルから引き出され
たアナログ信号配線にノイズが乗らないようにできる限
り配線を短くするなど、電気実装をコンパクトに行う必
要がある。本実施形態では、パネル中の各モジュールの
電気実装領域が4方向に確保されており、実装設計の自
由度が大きいので、微少信号を扱うに最適な電気実装を
行うことができる。
ーは、画素を構成するフォトダイオードやトランジス
タ、周辺回路を構成するシフトレジスタやアンプのX線
による劣化を起こしやすい。これは結晶シリコンを用い
たデバイスに共通の問題である。X線を吸収するファイ
バーアレイをエリアセンサーの上面に配しても、透過X
線を完全になくすことはできない。また産業用に用いる
場合、非常に強いX線を当てる場合もある。このような
とき、モジュール毎にファイバーアレイの厚さが異なる
と、長時間利用後の劣化の具合がモジュール毎に変わっ
てしまう問題がある。そこで本実施形態のように、中央
に配するモジュールもその周辺に配するモジュールと、
同じ厚さのファイバーアレイを用いることで、モジュー
ル毎の劣化のばらつきを減らすことができる。
理回路を形成するIC等の素子は、十分な厚さのファイ
バーアレイがX線の遮蔽材となってX線があたる事はな
く、X線による素子の劣化をなくすことができた。
してセンサに、大板CMOSセンサを用いたが、用途を
限定すれば、その他のセンサを用いることができる。例
えば従来のa−Siを用いたセンサの構成にも適用で
き、従来4枚の組み合わせが限度であったものを更に多
数枚組み合わせ、より大面積なパネルを作製することが
できる。
実施形態を示す。図6(a)は本実施形態の斜視図であ
る。(b)は図6(a)中P−Q面での断面図である。
基板606と、モジュール基板606上に形成した画像
領域と非画像領域とを有するエリアセンサ605と、可
視光を透過するファイバーアレイ602を有するファイ
バープレート607と、各エリアセンサ605に対応す
るX線を可視光に変換する画像入力面を含むシンチレー
タ603とから構成される。当該2次元画像入力装置に
は、中央部には4枚のモジュールを接合した平面領域を
有し、その周囲に12枚のモジュールが構成される。
サーである。実施形態1と同様な形態の3種類のエリア
センサーを使う。エリアセンサーの画素領域はm×m
(本実施形態ではm=1350)の正方形に形成した。
る。モジュールの形態は図2に示されるものと同様に、
モジュール601はモジュール基板606、エリアセン
サー605、周辺回路を構成する素子、ファイバーアレ
イ602等から構成され、モジュール上の電気実装領域
には、エリアセンサーからの信号を処理する回路が形成
されており、ハイブリッド化されている。またこの領域
にはエリアセンサーとの電源ラインや、信号ラインとこ
の周辺回路とをつなぐためのボンディングパッドが配置
されている。
ためのシンチレータ603として、Gd2O2S:T1を
有した蛍光体スクリーンを各モジュール毎のファイバプ
レート607上の画素領域全面に配した。シンチレータ
603としてはこの材料に何ら限定されない。CsI
(ヨウ化セシウム)をファイバープレート607上に蒸
着した形態のものを利用することもできる。ファイバー
アレイ602として、ファイバ自体にシンチレーション
ファイバを用いた一体型ファイバープレートを採用する
こともできる。シンチレーションファイバはX線を吸収
して可視光に変換する素材を混入したファイバである。
バーアレイの厚さが、全てのモジュールで同じである
(図6中、L=L′の関係が成立する)。このモジュー
ルの形態は以下のモジュールの配列と相まって、本発明
の内容に関わるものである。
の角に位置する。モジュールBはモジュールAとCをつ
なぐ位置に配する。モジュールBの配置の仕方が特徴的
である。これらのモジュールを組み合わせて4×4の配
列とする。配列の仕方を図6(a)に示す。この配列の
仕方は本実施形態の典型例の内容に関わるものである。
中央の第1から第4のモジュールを第1の群とし、その
周囲の12枚のモジュールを第2の群とする。第1群の
モジュールの画素領域で形成される外周4辺に沿うよう
に、第2の群のモジュールを配していく。このときX線
の入射方向からみて、各モジールの縦方向画素ラインと
横方向画素ラインが連続するように配置する。このとき
第2の群のモジュールは同一の平面上に配置されてお
り、第1のモジュールの配置された面とは異なってい
る。
を見ると、図6(b)のように、第1群のモジュールは
一段下がった形となっている。このようにエリアセンサ
ーやモジュールを段差を介して配置する方法は公知の技
術である。これにより、画素領域はパネル全面で連続し
ながら、読み出し系やボンディングパッドを配した実装
領域は個別に配置できるので、電気実装が容易になる。
本実施形態では4×4のモジュール配列を示したが、一
般に4n×4nの配列が可能でその様子を図7に示す。
図7によれば、第1の群は1辺の数2、第1群中のモジ
ュール数は4個である。また、第2の群、..第n群に
対応して、一辺の数は4,..2n、群中のモジュール
数は12,..4(2n−1)である。このように本実
施形態の要点は、前記の最適モジュールを適宜画面の中
心に対して対称的に配し、かつ3次元的にピラミッド型
に配することが特徴である。
cm角のフラットパネル型2次元画像読取装置を作製し
た。
X線量はできる限り少ない線量にしなければならない。
従って、一般的にX線を吸収し可視光に変換するシンチ
レータ(蛍光体)での発光量や、その蛍光を受光し光電
変換する光電変換素子における電荷量は小さい。微少な
信号から鮮明な画像を得るためには、パネルからの引き
出されたアナログ信号配線にノイズが乗らないようにで
きる限り配線を短くするなど、電気実装をコンパクトに
行う必要がある。
の電気実装領域が4方向に確保されており、実装設計の
自由度が大きいので、微少信号を扱うに最適な電気実装
を行うことができる。
を、その周りに第2の群を配置し、第2の群を全面に、
中央部分を後面に配置したので、各群内のモジュールか
らの引き出し線等の配線を余裕を持って組み立てること
ができる。
ーは、画素を構成するフォトダイオードやトランジス
タ、周辺回路を構成するシフトレジスタやアンプのX線
による劣化を起こしやすい。これは結晶シリコンを用い
たデバイスに共通の問題である。X線を吸収するファイ
バーアレイをエリアセンサーの上面に配しても、透過X
線を完全になくすことはできない。また産業用に用いる
場合、非常に強いX線を当てる場合もある。このような
とき、モジュール毎にファイバーアレイの厚さが異なる
と、長時間利用後の劣化の具合がモジュール毎に変わっ
てしまう問題がある。そこで本実施形態のように、中央
に配するモジュールもその周辺に配するモジュールと同
じ厚さのファイバーアレイを用いることで、モジュール
毎の劣化のばらつきを減らすことができる。
理回路を形成するIC等の素子は、十分な厚さのファイ
バーアレイがX線の遮蔽材となってX線があたる事はな
く、X線による素子の劣化をなくすことができた。
パネルとしてセンサに、大板CMOSセンサを用いた
が、用途を限定すれば、その他のセンサを用いることが
できる。例えば従来のa−Siを用いたセンサの構成に
も適用でき、従来4枚の組み合わせが限度であったもの
を更に多数枚組み合わせ、より大面積なパネルを作製す
ることができる。
す。図8(a)は本実施形態の斜視図である。図8(b)は本
実施形態でのモジュール群の配置図である。
平方向及び垂直方向に画素が配列された画素領域803
と、それ以外の非画素領域803'とで構成されている。本
実施形態では2種類のエリアセンサを使う。本実施形態
では全てのエリアセンサにおいて、図4(ウエハ1枚取
りの図)に示した2辺取り出し(画隅の2辺に非画素領
域を設け、ここに垂直・水平シフトレジスタ等の走査回
路やマルチプレクサ、読出しアンプ、外部端子を設け
る)のエリアセンサを使うことができる。図ではモジュ
ール基板等は省略してある。外部端子部には電気接続用
バンプが形成され、モジュール基板の外部回路とはTAB
接続により接続されている。TAB方式ではバンプとTABの
接続部の厚さを50μm程度に設定することができ、ファ
イバープレート802を多段に用いる本実施形態では、フ
ァイバープレート同士の厚さの差を小さくでき、全体の
装置の厚さを薄くできるのでワイヤボンドを用いるより
好ましい方法である(詳細を後述)。
について説明する。
タとして、Gd2O2S:Tlを有した蛍光体スクリーンをモジ
ュールのファイバープレート上の画素領域全面に配し
た。シンチレータとしてはこの材料に何ら限定されない
が、CMOSセンサの分光感度に合った発光波長を有するシ
ンチレータが好ましい。CsI(ヨウ化セシウム)をファ
イバーフレート上に蒸着した形態のものを利用すること
もできる。またGd2O2S:Tl等のシンチレータ粉末と樹脂
を混合したものを直接ファイバープレートに塗布しても
良い。蒸着法や塗布法ではファイバープレートの表面に
段差がある場合も、その段差を埋めるようにシンチレー
タ層を形成できるので、本実施形態と実施形態2を組み
合わせた実施形態ではより好適な方法である。
バーアレイは、2種類の厚さを有する。1つは3mm厚、
他の1つは4mm厚とした。このモジュールの形態は、以
下のモジュールの配列と相まって、本発明の内容に関わ
るものである。
で説明したモジュールA、Cを形成する。モジュールの形
態は実施形態1で説明したのと同様に、モジュール基
板、エリアセンサ、信号処理回路等を構成する素子、フ
ァイバーアレイ(シンチレータ804、ファイバアレイ80
2)等から構成され、モジュール基板上の電気実装領域
には、エリアセンサからの信号を処理する信号処理回路
が形成されており、ハイブリッド化されている。モジュ
ール基板は更に複数の基板を有する構造をとることがで
き、画像入力装置の実施形態に応じて、適宜設計でき
る。モジュール基板上の電気実装領域にはエリアセンサ
との電源ラインや、信号ラインと、この外部回路とをつ
なぐための接続端子が配置されており、エリアセンサに
接続されたTABを、ここでモジュール基板上の外部回路
と接続する。ファイバーアレイ用のファイバープレート
は、更に複数のファイバープレートを張り合わせること
で一体化したものでもよい本実施形態では、これらのモ
ジュールにより図8(b)のように第1、2(2a、2b)の
群を構成する。
ァイバープレートを有していない。CMOSセンサは単結晶
シリコンを使った撮像素子であるので、X線の損傷を受
けやすいので、X線遮蔽を考慮して、ファイバープレー
ト付の構造とするのが好ましい。X線遮蔽としてファイ
バープレートを利用する場合、3mm程度以上の厚さを必
要とする。
合わせて3×3の配列とする。
ールを第1の群とし、その周囲にある8枚のモジュールを
第2の群とする。そして、第2の群は、第2a、第2b郡
とからなり、第2a群と第2b群とは、画素領域が重なら
ないように配されている。本実施形態では3段の高さで
各モジュール群をピラミッド状に配置する。
素領域は同一の平面上に配置されており、第1のモジュ
ール群により形成される画素領域の配置された面とは異
なっている。さらに第2bのモジュール群を、第2aのモ
ジュール群と画素領域が重ならないように配していく。
このとき第2bのモジュール群の画素領域は同一の平面
上に配置されており、第1、第2のモジュール群の画素
領域が配置された面とは異なっている。
みて、各モジュールの縦方向画素ラインと横方向画素ラ
インが連続するように配置する。
しながら、読み出し系やボンディングパッドを配した実
装領域は個別に配置できるので、電気実装が容易にな
る。
ジュールを適宜画面の中心に対して対称的に配し、かつ
3次元的にピラミッド型に配することが特徴である。
第1のモジュールを配置して、大面積パネルを形成でき
たので、もっとも利用される中央付近のモジュールのつ
なぎ目に関わる問題が解消した。
めには、パネルからの引き出されたアナログ信号配線に
ノイズが乗らないようにできる限り配線を短くするな
ど、電気実装をコンパクトに行う必要がある。本実施形
態では、パネル中の各モジュールの電気実装領域が4方
向に確保されており、実装設計の自由度が大きいので、
微少信号を扱うに最適な電気実装を行うことができる。
対側)に、エリアセンサ用電源回路や、エリアセンサか
らの信号処理回路を載せたPCB基板等を配置することも
できるので、よりコンパクトな画像入力装置とすること
ができる。
造でよいので、ウエハ上のセンサ回路等の設計は容易に
なる。
(c))及びその拡大図(図8(d))について説明す
る。CMOSエリアセンサとモジュール基板805との実装を
バンプ806とTAB807で行う。エリアセンサ801の外部端子
部には電気接続用バンプが形成され、モジュール基板の
外部端子とはTAB接続により接続されている。TAB方式で
はバンプとTABの接続部の厚さを50μm程度に設定する
ことができ、ファイバープレートを多段に用いる本実施
形態では、ファイバープレート同士の厚さの差を小さく
でき、全体の装置の厚さを薄くできるのでワイヤボンド
を用いるより好ましい方法である。
ファイバープレートの厚さはL'=3mmとL=4mmとして、
その厚さの差を1mmとした。エリアセンサの厚さは500μ
mであり、500μの間隙で、ウエハと外部回路との接続を
行った。ファイバープレートの厚さの差は、原理的に
は、バンプとTABの接続の厚さ50μmとエリアセンサの厚
さ(出来上がりウエハの厚さ)程度にすることが可能で
ある。エリアセンサは裏面研磨を行うことで、50μm程
度にはすることができるので、全体で100μm程度の厚さ
が実現できる。ファイバープレートの表面を研磨するこ
とで、この程度の厚さの差を形成することができる。一
般的にファイバープレートの表面は研磨仕上げを行うの
で、材料コストはファイバープレートの厚さを変えても
変わらない。よって図8(d)に示したように3mm厚のフ
ァイバープレートを基準に用いて、これを更に100μmm
研磨したファイバープレートを用いることができる。
て描いてあるが、8インチウエハからおよそ140mm角のC
MOSエリアセンサを1枚取りし、これを3×3の9枚、3
段のモジュール構成で、画像読取り領域(画像入力面)
として40cm角を確保することができ、装置全体の厚さは
50mmとすることができた。薄型、フラットパネル型、2
次元画像入力装置を実現できた。
ダムアクセスや非破壊読出しが可能である。大板の画像
入力装置を形成し、静止画、動画等撮影のモードを切り
変えて使うなどシステムを組みやすくなり、高性能の静
止画、動画兼用の大板でかつ高速多機能の画像入力装置
を実現できる。またCMOSセンサは消費電力がCCDセンサ
に比べ一桁程度以上小さく、本発明のように大板の画像
入力装置では、発熱が少なくとくに好ましい。
像は、画像の繋ぎ目のない高品位なものが得られる。
工がしやすく、より低コストで製造できるストレートの
ものを利用できる。
実施形態を示す。図9(a)は本実施形態の斜視図である。
図9(b)は本実施形態でのモジュール群の配置図であ
る。
形態では実施形態4と同様な2種類のエリアセンサを使
う。本実施形態では2辺取り出しのエリアセンサを使う
ことができる。
る。本実施形態では、このモジュールのファイバーアレ
イは、3種類の厚さを有する。このモジュールの形態
は、以下のモジュールの配列と相まって、本発明の内容
に関わるものである。本実施形態ではこのモジュールに
より第1、2(2a、2b、2c)の群を構成する。
ァイバープレートを有していないが、X線遮蔽を考慮し
て、ファイバープレート付の構造としても良い。
合わせて3×3の配列とする。図9(b)に示すように、中
央の2つのモジュールを第1の群とし、その周辺に配置さ
れた10枚のモジュールを第2の群とする。そして、第2
の群は、それぞれ画素領域が重ならないように配置され
た第2a、第2b、第2cの群からなる。
群をピラミッド状に配置する。
2辺に沿うように、第2aの群のモジュールを配してい
く。このとき第2aのモジュール群により形成される画
素領域は同一の平面上に配置されており、第1のモジュ
ール群により形成される画素領域の配置された面とは異
なっている。さらに第2bのモジュール群を、第2aのモ
ジュール群と画素領域が重ならないように配していく。
このとき第2bのモジュール群の画素領域は同一の平面
上に配置されており、第1、第2aのモジュール群の画
素領域が配置された面とは異なっている。さらに第2c
のモジュール群を、第2bのモジュール群と画素領域が
重ならないように配していく。このとき第2cのモジュ
ール群の画素領域は同一の平面上に配置されており、第
1、第2a、第2bのモジュール群の画素領域が配置され
た面とは異なっている。
みて、各モジュールの縦方向画素ラインと横方向画素ラ
インが連続するように配置する。
しながら、読み出し系やボンディングパッドを配した実
装領域は個別に配置できるので、電気実装が容易にな
る。このように本発明の要点は、前記の最適モジュール
を適宜画面の中心に対して対称的に配し、かつ3次元的
にピラミッド型に配することが特徴である。
のフラットパネル型2次元画像読取装置を作製した。
は、パネルからの引き出されたアナログ信号配線にノイ
ズが乗らないようにできる限り配線を短くするなど、電
気実装をコンパクトに行う必要がある。本実施形態で
は、パネル中の書くモジュールの電気実装領域が4方向
に確保されており、実装設計の自由度が大きいので、微
少信号を扱うに最適な電気実装を行うことができる。ま
た段数が多いモジュール全体の厚さはやや大きくなる
が、エリアセンサの背面側の空間を電気実装のためによ
り効率的に使えば、装置全体の厚さは大して大きくはな
らない。エリアセンサは2辺取り出しの構造でよいの
で、ウエハ上のセンサ回路等の設計は容易になる。
にバンプとTABによりエリアセンサとモジュール基板と
の接続を行えば、ファイバープレートの厚さの差を極力
小さくできるので、段数が多くなっても、装置全体の厚
さは大して大きくならず、コンパクトなフラットパネル
型画層入力装置を実現できる。
画像入力面を実現できるので、医療用ばかりでなく、大
面積の検査が必要な非破壊検査用のX線画像入力装置と
して利用できる。
で、ランダムアクセスや非破壊読出しが可能である。大
板の画像入力装置を形成し、静止画、動画等撮影のモー
ドを切り変えて使うなどシステムを組みやすくなり、高
性能の静止画、動画兼用の大板でかつ高速多機能の画像
入力装置を実現できる。またCMOSセンサは消費電力がCC
Dセンサに比べ一桁程度以上小さい。戸外で用いる大型
の非破壊検査用画像入力装置では、発熱が少なく、また
消費電力が少ないことは特に好ましい。
を示す。図10(a)は本実施形態の斜視図である。図1
0(b)は本実施形態でのモジュール群の配置図である。
施形態では実施形態4と同様な2種類のエリアセンサを
使う。
ュールの形態は実施形態4と同様である。本実施形態で
は、このモジュールのファイバーアレイは、3種類の厚
さを有する。このモジュールの形態は、以下のモジュー
ルの配列と相まって、本発明の内容に関わるものであ
る。本実施形態ではこのモジュールにより第1、2(2
a、2b、2c)の群を構成する。
ァイバープレートを有していないが、X線遮蔽を考慮し
て、ファイバープレート付の構造としても良い。
合わせて3×3の配列とする。
ジュールを第1の群とし、その周囲に配置された12枚の
モジュールを第2の群とする。そして、第2の群は、そ
れぞれ画素領域が重ならないように配置された第2a、
第2b、第2cの群からなる。
群をピラミッド状に配置する。
2辺に沿うように、第2の群のモジュールを配してい
く。このとき第2aのモジュール群により形成される画
素領域は同一の平面上に配置されており、第1のモジュ
ール群により形成される画素領域の配置された面とは異
なっている。さらに第2bのモジュール群を、第2bのモ
ジュール群と画素領域が重ならないように配していく。
このとき第2cのモジュール群の画素領域は同一の平面
上に配置されており、第1、第2aのモジュール群の画
素領域が配置された面とは異なっている。さらに第2c
のモジュール群を、第2dのモジュール群と画素領域が
重ならないように配していく。このとき第2dのモジュ
ール群の画素領域は同一の平面上に配置されており、第
1、第2a、第2bのモジュール群の画素領域が配置され
た面とは異なっている。
みて、各モジュールの縦方向画素ラインと横方向画素ラ
インが連続するように配置する。
しながら、読み出し系やボンディングパッドを配した実
装領域は個別に配置できるので、電気実装が容易にな
る。
ジュールを適宜画面の中心に対して対称的に配し、かつ
3次元的にピラミッド型に配することが特徴である。
のフラットパネル型2次元画像読取装置を作製した。
は、パネルからの引き出されたアナログ信号配線にノイ
ズが乗らないようにできる限り配線を短くするなど、電
気実装をコンパクトに行う必要がある。本実施形態で
は、パネル中の書くモジュールの電気実装領域が4方向
に確保されており、実装設計の自由度が大きいので、微
少信号を扱うに最適な電気実装を行うことができる。
ので、ウエハ上のセンサ回路等の設計は容易になる。
センサと外部回路との接続を行えば、ファイバープレー
トの厚さの差を極力小さくできるので、段数が多くなっ
ても、装置全体の厚さは大して大きくならず、コンパク
トなフラットパネル型画層入力装置を実現できる。
画像入力面を実現できるので、医療用ばかりでなく、大
面積の検査が必要な非破壊検査用のX線画像入力装置と
して利用できる。
で、ランダムアクセスや非破壊読出しが可能である。大
板の画像入力装置を形成し、静止画、動画等撮影のモー
ドを切り変えて使うなどシステムを組みやすくなり、高
性能の静止画、動画兼用の大板でかつ高速多機能の画像
入力装置を実現できる。またCMOSセンサは消費電力がCC
Dセンサに比べ一桁程度以上小さい。戸外で用いる大型
の非破壊検査用画像入力装置では、発熱が少なく、また
消費電力が少ないことは特に好ましい。
した画像入力装置を用いた画像処理システム(X線診断
システム)である。
0は患者あるいは被験者6061の胸部6062を透過
し、シンチレータ等を上部に実装した実施形態1〜6の画
像入力装置6040に入射する。この入射したX線には
患者6061の体内部の情報が含まれている。X線の入
射に対応してシンチレータは発光し、これを光電変換し
て、電気的情報を得る。この情報は、ディジタルに変換
されイメ−ジプロセッサ6070により画像処理され制
御室のディスプレイ6080で観察できる。
送手段により遠隔地へ転送でき、別の場所のドクタ−ル
ームなどディスプレイ6081に表示もしくは光ディス
ク等の保存しゅだnに保存することができ、遠隔地の医
師が診断することも可能である。またフィルムプロセッ
サ6100によりフィルム6110に記録することもで
きる。
にモジュールを構成することで実装を容易にし、多数枚
の組み合わせが可能になった。
本実施形態の斜視図であり(b)は(a)中P−Q面で
の断面図である。
用効果を示した図である。
×2n−1配列の例を示す。
0mm角のCMOSエリアセンサーを一枚取りで作る場
合のレイアウトを示す。
本実施形態の斜視図である。(b)は(a)中P−Q面
での断面図である。
本実施形態の斜視図である。(b)は(a)中P−Q面
での断面図である。
増やした4n×4nの配列図である。
いた画像処理システムを表す図である。
した図である。
した図である。
イバーアレイ 107,207,507,607,802,902,1
002 ファイバープレート 103,203,503,603,804,904,1
004 シンチレータ 105,205,505,605,801,901,1
001 エリアセンサー 104,204,504,604 ワイヤーボンド 82,94,207,402,803,903,100
3 画素領域 83,93,208,403,803’,903’,1
003’ 非画素領域 84,209,804 電気実装領域 404 ウエハー L,L’ ファイバーアレイの厚さ 806 バンプ 807 TAB
Claims (15)
- 【請求項1】 複数の画素が2次元状に配列された画素
領域を有するエリアセンサを含むモジュールを複数配置
した画像入力装置において、 一つ又は複数の前記画素領域を含む第1の群と、 画像入力方向から見た場合に、前記第1の群に含まれる
前記一つ又は複数の画素領域の周囲を囲む形状に隣接し
て配置された複数の前記画素領域を含む第2の群とを有
し、 前記第2の群に含まれる前記複数の画素領域は、前記第
1の群に含まれる前記一つ又は複数の前記画素領域より
も画像入力面側に設けられていることを特徴とする2次
元画像入力装置。 - 【請求項2】 前記モジュールは、実装領域を含むこと
を特徴とする請求項1に記載の2次元画像入力装置。 - 【請求項3】 前記モジュールは、ファイバアレイを含
むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の2次元
画像入力装置。 - 【請求項4】 前記ファイバアレイは、1次の放射線を2
次の放射線に変換する機能を有し、前記1次の放射線を
吸収し、前記2次の放射線を透過することを特徴とする
請求項3に記載の2次元画像入力装置。 - 【請求項5】 前記第1の群に含まれる前記ファイバア
レイの画像入力面は、前記第2の群に含まれる前記ファ
イバアレイの画像入力面と同じ2次元平面上であること
を特徴とする請求項3又は請求項4のいづれか1項に記載
の2次元画像入力装置。 - 【請求項6】 前記第2の群に含まれる前記ファイバア
レイの画像入力面は、前記第1の群に含まれる前記ファ
イバアレイの画像入力面と異なる2次元平面上であるこ
とを特徴とする請求項3又は請求項4のいづれか1項に記
載の2次元画像入力装置。 - 【請求項7】 前記第1の群に含まれる前記ファイバア
レイと、前記第2の群に含まれるファイバアレイの厚さ
が同じであることを特徴とする請求項6に記載の2次元画
像入力装置。 - 【請求項8】 前記複数のエリアセンサは、前記画素領
域の周辺部の2辺に沿ってそれぞれ走査回路を有してい
るエリアセンサと、前記画素領域の1辺に沿って走査回
路を有しているエリアセンサを含むことを特徴とする請
求項1乃至請求項7に記載の2次元画像入力装置。 - 【請求項9】 前記第2の群に含まれる前記画素領域の
それぞれは、2辺に隣接する前記第2に含まれる画素領
域のうち、少なくとも1辺に隣接する画素領域とは異な
る2次元平面上に配置していることを特徴とする請求項1
乃至請求項7のいずれか1項に記載の2次元画像入力装
置。 - 【請求項10】 前記エリアセンサのそれぞれは、前記
画素領域の周辺部の2辺に沿ってそれぞれ走査回路を有
していることを特徴とする請求項9に記載の2次元画像入
力装置。 - 【請求項11】 複数のエリアセンサーからなる2次元
画像入力装置において、モジュールは複数の画素を長方
形あるいは正方形の形状に2次元に配した画素領域とそ
れ以外の非画素領域を有する前記エリアセンサーと電気
実装領域からなり、複数のモジュールは、第1の群、第
2の群、…、第n-1の群、第nの群からなり(nはn
≧2の整数)、前記第1の群は第1のモジュールからな
り、画像入力面の中心をなし、前記第2の群は第2から
第9のモジュールからなり、前記第1の群の第1のモジ
ュールの周囲に第2の群の8枚のモジュールを3×3で
2次元に配されるように、前記第n-1の群はn=2の
とき1枚、n≧3のとき8×(n-2)枚のモジュール
からなり、前記第nの群は8×(n-1)枚のモジュー
ルからなり、前記第n-1の群のモジュールの周囲に前
記第nの群の8×(n-1)枚のモジュールを(2n-
1)×(2n-1)で2次元に配し、各モジュールの画
素領域は光の入射方向から見て縦、横の画素ラインが連
続するように配され、前記第n-1の群のn=2のとき
1枚、n≧3のとき8×(n-2)枚のモジュールの画
素領域は同一平面上に配され、第nの群の8×(n-
1)枚のモジュールの画素領域は同一平面上に配され、
前記第n-1の群の各モジュールの画素領域を含む平面
とその周囲の前記第nの群の各モジュールの画素領域を
含む平面は異なり、前記第n-1の各モジュールの非画
素領域と実装領域は、第nの群の8×(n-1)枚のモ
ジュールの少なくとも一つの裏側(光の入射方向と反対
側)に配されることを特徴とする2次元画像入力装置。 - 【請求項12】 エリアセンサーとファイバーアレイか
らなるモジュールを複数備えた2次元画像入力装置にお
いて、 前記モジュールは複数の画素を、長方形あるいは正方形
の形状に2次元に配した画素領域とそれ以外の非画素領
域を有するエリアセンサーと電気実装領域とを配置した
モジュール基板と、可視光を透過する前記ファイバーア
レイのファイバープレートとからなり、前記複数のモジ
ュールは、第1の群、第2の群、…、第n-1、第nの
群を形成し(nはn≧2の整数)、前記第1の群は第1
から第4のモジュールからなり、前記第1の群によって
画像入力面の中心をなし、前記第2の群は第5から第1
6のモジュールからなり、前記第1の群の4枚のモジュ
ールの周囲に前記第2の群の8枚のモジュールを3×3
で2次元に配されるように、前記第n-1の群は4×
(2n-3)枚のモジュールからなり、前記第nの群は
4×(2n-1)枚のモジュールからなり、前記第n-1
の群のモジュールの周囲に前記第nの群の4×(2n-
1)枚のモジュールを4n×4nで2次元に配し、前記
各モジュールの画素領域は光の入射方向から見て縦、横
の画素ラインが連続するように配され、前記第n-1の
群の4×(2n-3)枚のモジュールの画素領域は同一
平面上に配され、前記第nの群の4×(2n-1)枚の
モジュールの画素領域は同一平面上に配され第n-1の
群の各モジュールの画素領域を含む平面とその周囲の前
記第nの群の各モジュールの画素領域を含む平面は異な
り、第n-1の各モジュールの非画素領域と実装領域
は、前記第nの群の4×(2n-1)枚のモジュールの
少なくとも一つの裏側(光の入射方向と反対側)に配さ
れることを特徴とする2次元画像入力装置。 - 【請求項13】 少なくとも9個のエリアセンサーから
なる2次元画像入力装置において、 モジュールは、複数の画素を長方形あるいは正方形の形
状に2次元に配した画素領域とそれ以外の非画素領域を
有する前記エリアセンサーと電気実装領域からなり、複
数のモジュールは第1の群と第2の群からなり、前記第
1の群は第1のモジュールからなって画像入力面の中心
をなし、前記第2の群は前記第1の群より光の入射側に
位置すると共に第2から第9のモジュールからなり、前
記第1の群の第1のモジュールの周囲に第2の群の8枚
のモジュールを3×3で2次元に配置され、前記各モジ
ュールの画素領域は光の入射方向から見て縦、横の画素
ラインが連続するように配置され、前記光の入射方向に
1平面の可視光に変換するシンチレータを設け、前記シ
ンチレータと前記各モジュールの前記エリアセンサ間に
可視光を透過するグラスファイバアレイからなるグラス
ファイバプレートを設けたことを特徴とする2次元画像
入力装置。 - 【請求項14】 エリアセンサーとファイバーアレイ
からなるモジュールを複数備えた2次元画像入力装置に
おいて、 前記モジュールは複数の画素を長方形あるいは正方形の
形状に2次元に配した画素領域とそれ以外の非画素領域
を有するエリアセンサーと電気実装領域とを配置したモ
ジュール基板と、可視光を透過する前記ファイバーアレ
イのファイバープレートとからなり、前記複数のモジュ
ールは、第1の群と第2の群とからなり、前記第1の群
は第1から第4のモジュールからなり、前記第1の群に
よって画像入力面の中心をなし、前記第2の群は第5か
ら第16のモジュールからなり、前記第1の群の4枚の
モジュールの周囲に前記第2の群の8枚のモジュールを
3×3で2次元に配置され、前記各モジュールの画素領
域は光の入射方向から見て縦、横の画素ラインが連続す
るように配置され、前記第1の群及び前記第2の群の前
記各ファイバープレートの前記光の入射方向の高さは同
一として、前記光を可視光に変換するシンチレータは前
記第1の群と前記第2の群とで段差を設けたことを特徴
とする2次元画像入力装置。 - 【請求項15】 垂直方向及び水平方向に複数の画素が
2次元状に配列された画素領域と垂直走査回路及び水平
走査回路を有するエリアセンサを含むモジュールを複数
配置した画像入力装置において、 一つ又は複数の前記画素領域を含む第1の群と、 画像入力方向から見た場合に、前記第1の群に含まれる
前記一つ又は複数の画素領域の周囲を囲む形状に隣接し
て配置された複数の前記画素領域を含む第2の群とを有
し、 前記第2の群に含まれる前記複数の画素領域は、前記第
1の群に含まれる前記一つ又は複数の前記画素領域より
も画像入力面側に設けられ、前記第2の群に含まれる前
記エリアセンサは、少なくとも一方に隣接する前記エリ
アセンサに含まれる前記垂直走査回路又は水平走査回路
と同じ2次元平面上にならないように、前記第2の群に
含まれる前記複数の画素領域は、異なる2次元平面上に
配置されていることを特徴とする2次元画像入力装置。
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