JP3273124B2 - 反射鏡並びにその使用及び製造方法 - Google Patents
反射鏡並びにその使用及び製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射体の反射表面
層として反射率を増大させる複合層を有する反射鏡すな
わちリフレクタに関し、上記複合層は、上記反射体に面
するアルミニウム層と、反射されるべき放射線に面する
外側層（ＨＩ層）と、酸化アルミニウムの中間層（ＬＩ
層）とを有するサンドイッチ構造を有しており、上記中
間層（ＬＩ層）は、上記外側層（ＨＩ層）の屈折率ｎ2
よりも小さな屈折率ｎ1 を有している。本発明は、更
に、反射率を増大させる複合層を有する上述の如き反射
鏡の使用、並びに、そのような反射鏡を製造するプロセ
スに関する。
層として反射率を増大させる複合層を有する反射鏡すな
わちリフレクタに関し、上記複合層は、上記反射体に面
するアルミニウム層と、反射されるべき放射線に面する
外側層（ＨＩ層）と、酸化アルミニウムの中間層（ＬＩ
層）とを有するサンドイッチ構造を有しており、上記中
間層（ＬＩ層）は、上記外側層（ＨＩ層）の屈折率ｎ2
よりも小さな屈折率ｎ1 を有している。本発明は、更
に、反射率を増大させる複合層を有する上述の如き反射
鏡の使用、並びに、そのような反射鏡を製造するプロセ
スに関する。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウムの上に設けられたＬＩ層／
ＨＩ層（ＬＩ／ＨＩ＝低屈折率／高屈折率）、すなわ
ち、屈折率ｎ1 を有する内側層（ＬＩ層）、及び、ｎ1
よりも大きな屈折率ｎ2 を有する外側層（ＨＩ層）を示
す層を備える複合層系の特徴を有する反射鏡は、反射率
を増大させる表面層を有する反射鏡として、一般に周知
である。
ＨＩ層（ＬＩ／ＨＩ＝低屈折率／高屈折率）、すなわ
ち、屈折率ｎ1 を有する内側層（ＬＩ層）、及び、ｎ1
よりも大きな屈折率ｎ2 を有する外側層（ＨＩ層）を示
す層を備える複合層系の特徴を有する反射鏡は、反射率
を増大させる表面層を有する反射鏡として、一般に周知
である。
【０００３】そのような反射鏡は、通常、例えば、スパ
ッタリング又は蒸着の如きＰＶＤ（物理蒸着）法によっ
て、高純度アルミニウムの非常に薄い層を、ガラス又は
技術等級のアルミニウム（すなわち低純度アルミニウ
ム）の反射体の上に堆積させることにより、製造されて
いる。次に、高純度Ａｌ層は、通常は、ＰＶＤ又はＣＶ
Ｄ（化学蒸着）法によって、その上にＬＩ保護層（例え
ば、Ａl2Ｏ3 から形成される）を堆積させることにより
保護され、更に、ＨＩ層を設けることにより、反射率を
増大させるＬＩ／ＨＩ表面が反射鏡に形成される。
ッタリング又は蒸着の如きＰＶＤ（物理蒸着）法によっ
て、高純度アルミニウムの非常に薄い層を、ガラス又は
技術等級のアルミニウム（すなわち低純度アルミニウ
ム）の反射体の上に堆積させることにより、製造されて
いる。次に、高純度Ａｌ層は、通常は、ＰＶＤ又はＣＶ
Ｄ（化学蒸着）法によって、その上にＬＩ保護層（例え
ば、Ａl2Ｏ3 から形成される）を堆積させることにより
保護され、更に、ＨＩ層を設けることにより、反射率を
増大させるＬＩ／ＨＩ表面が反射鏡に形成される。
【０００４】上記層の厚みが小さいので、一般的には、
ＰＶＤ Ａl 層を陽極処理することは不可能であり、従
って、ＰＶＤ又はＣＶＤ法によるＬＩ層及びＨＩ層の堆
積すなわち蒸着は、通常、高真空下で実行される。反射
率を改善する複合層において高い反射率特性を得るため
には、良好な均質性を達成すると共に、個々の層の厚み
の予め正確に決定された厳密な公差を観察する必要があ
る。ＰＶＤ又はＣＶＤを用いて高真空で蒸着された酸化
物層の厳密な厚み公差に接近させ、また、そのような層
の厚みをチェックすることは困難であり、複雑で高価な
機器を必要とする。ＣＶＤ又はＰＶＤ層の蒸着速度は、
特に誘電体層の場合には、使用する方法に依存し、化学
的な方法に比較して、比較的小さい。高真空蒸着装置の
コストが高いので、製造コストが高くなる。また、ＰＶ
Ｄ又はＣＶＤプロセスに関しては、蒸着速度が小さく、
また、高真空装置を使用する必要があるので、上述の層
を連続的に形成することは困難であり、不可能でさえあ
る。
ＰＶＤ Ａl 層を陽極処理することは不可能であり、従
って、ＰＶＤ又はＣＶＤ法によるＬＩ層及びＨＩ層の堆
積すなわち蒸着は、通常、高真空下で実行される。反射
率を改善する複合層において高い反射率特性を得るため
には、良好な均質性を達成すると共に、個々の層の厚み
の予め正確に決定された厳密な公差を観察する必要があ
る。ＰＶＤ又はＣＶＤを用いて高真空で蒸着された酸化
物層の厳密な厚み公差に接近させ、また、そのような層
の厚みをチェックすることは困難であり、複雑で高価な
機器を必要とする。ＣＶＤ又はＰＶＤ層の蒸着速度は、
特に誘電体層の場合には、使用する方法に依存し、化学
的な方法に比較して、比較的小さい。高真空蒸着装置の
コストが高いので、製造コストが高くなる。また、ＰＶ
Ｄ又はＣＶＤプロセスに関しては、蒸着速度が小さく、
また、高真空装置を使用する必要があるので、上述の層
を連続的に形成することは困難であり、不可能でさえあ
る。
【０００５】反射率を増大する複合層を提供する複合層
を製造するための別の可能性は、アルミニウム表面の化
学的な酸化又は陽極酸化を用い、その後、アルミニウム
よりも高い屈折率を有する誘電体層を堆積させることで
ある。その目的のために、アルミニウムから形成された
反射鏡、あるいは、陽極処理を行うために十分に厚いア
ルミニウムの層を有する反射鏡が必要とされる。通常、
陽極処理は、硫酸の電解液の中で直流を用いて行われ
る。適正なパラメータを選択することにより、その結果
生ずる保護層は、予め決定された層厚を有する均質な層
となることができるが、通常は、プロセス自体の結果で
ある高い気孔率を示す。
を製造するための別の可能性は、アルミニウム表面の化
学的な酸化又は陽極酸化を用い、その後、アルミニウム
よりも高い屈折率を有する誘電体層を堆積させることで
ある。その目的のために、アルミニウムから形成された
反射鏡、あるいは、陽極処理を行うために十分に厚いア
ルミニウムの層を有する反射鏡が必要とされる。通常、
陽極処理は、硫酸の電解液の中で直流を用いて行われ
る。適正なパラメータを選択することにより、その結果
生ずる保護層は、予め決定された層厚を有する均質な層
となることができるが、通常は、プロセス自体の結果で
ある高い気孔率を示す。
【０００６】硫酸の電解液の中における陽極処理は、通
常、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセス（直流−硫酸プロセス）
と呼ばれている。そのようなプロセスにおいては、十分
な反射率を得るために、反射面として作用するアルミニ
ウム表面は、化学的に又は電解的につや出しされ、その
後、例えば、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスを用いて、透明
な層によって保護される。ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスに
おいては、硫酸の濃度は通常２０％であり、電解液の温
度は１５〜３０℃であり、印加電圧は１２〜３０Ｖ、電
流密度は最大１〜３Ａ／ｄｍ2である。達成される保護
層の厚みは、代表的には、１〜１０μｍである。このよ
うにして得られる層は、黄色光に対して透明である。
常、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセス（直流−硫酸プロセス）
と呼ばれている。そのようなプロセスにおいては、十分
な反射率を得るために、反射面として作用するアルミニ
ウム表面は、化学的に又は電解的につや出しされ、その
後、例えば、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスを用いて、透明
な層によって保護される。ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスに
おいては、硫酸の濃度は通常２０％であり、電解液の温
度は１５〜３０℃であり、印加電圧は１２〜３０Ｖ、電
流密度は最大１〜３Ａ／ｄｍ2である。達成される保護
層の厚みは、代表的には、１〜１０μｍである。このよ
うにして得られる層は、黄色光に対して透明である。
【０００７】ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスを用いて製造さ
れる酸化物層は、一般に、２つの層、すなわち、気孔が
なく非常に薄いベース層すなわちバリア層、及び、気孔
のあるすなわち多孔性の外側層を備えている。上記気孔
は、電解液に露呈された表面に存在する酸化物層の化学
的な部分的な溶解の結果として生ずるものである。酸化
物層すなわち酸化物膜の全厚みは、成長速度及び溶解速
度が等しいときに、その最大値に達する。一方、上記成
長速度及び溶解速度は、電解液の組成、電流密度、及
び、電解液の温度に依存する。
れる酸化物層は、一般に、２つの層、すなわち、気孔が
なく非常に薄いベース層すなわちバリア層、及び、気孔
のあるすなわち多孔性の外側層を備えている。上記気孔
は、電解液に露呈された表面に存在する酸化物層の化学
的な部分的な溶解の結果として生ずるものである。酸化
物層すなわち酸化物膜の全厚みは、成長速度及び溶解速
度が等しいときに、その最大値に達する。一方、上記成
長速度及び溶解速度は、電解液の組成、電流密度、及
び、電解液の温度に依存する。
【０００８】硫酸の中における陽極処理によって製造さ
れる酸化物層は、高純度アルミニウム、及び、高純度ア
ルミニウム（Ａl≧９９.８５％）に基づくＡlＭg 又は
ＡlＭgＳi 合金の上に形成された場合にだけ、完全に透
明であり、無色である。大部分の構造用合金には異方性
の析出物が存在するので、得られる酸化物層は多かれ少
なかれ曇っている。また、好ましくない熱処理は、組織
の中に析出物を形成し、そのような析出物は、例えば、
ホットスポットの如き、灰色の変色を生ずる。
れる酸化物層は、高純度アルミニウム、及び、高純度ア
ルミニウム（Ａl≧９９.８５％）に基づくＡlＭg 又は
ＡlＭgＳi 合金の上に形成された場合にだけ、完全に透
明であり、無色である。大部分の構造用合金には異方性
の析出物が存在するので、得られる酸化物層は多かれ少
なかれ曇っている。また、好ましくない熱処理は、組織
の中に析出物を形成し、そのような析出物は、例えば、
ホットスポットの如き、灰色の変色を生ずる。
【０００９】特に、例えば、Ａl ９９.８５、Ａl ９９.
８、又はＡl ９９.５の如き、純度の低い合金の場合に
は、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスを用いて製造される多孔
性の保護層は、例えば、Ｆe 又はＳi に富む金属間相の
如き、合金組成を有することになり、そのような合金組
成は、酸化物膜の中に含まれて、望ましくない光の吸収
及び／又は散乱を生ずる。これは、光が広い角度範囲で
反射することを意味する。従って、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 陽
極処理は、電解つや出しによって達成される全反射率又
は方向反射率の如き反射率の値に対して、負の効果を有
する。
８、又はＡl ９９.５の如き、純度の低い合金の場合に
は、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスを用いて製造される多孔
性の保護層は、例えば、Ｆe 又はＳi に富む金属間相の
如き、合金組成を有することになり、そのような合金組
成は、酸化物膜の中に含まれて、望ましくない光の吸収
及び／又は散乱を生ずる。これは、光が広い角度範囲で
反射することを意味する。従って、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 陽
極処理は、電解つや出しによって達成される全反射率又
は方向反射率の如き反射率の値に対して、負の効果を有
する。
【００１０】ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスによって製造さ
れる酸化物層の厚みが大きい結果として、表面の反射率
も入射光線の吸収及び散乱によって減少する。また、ｄ
ｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスによって製造される酸化物層
は、可視波長の光線を反射する、反射率を増大する複合
層に対して適しておらず、その理由は、そのような複合
層の反射率特性はあまりにも多くの間隔が接近し過ぎて
いる最大値及び最小値を示すからであり、そのような最
大値及び最小値は、大きな層厚に関係し、入射光線の波
長の関数である。最後に、１乃至３μｍの通常の厚み範
囲においてはイリデセンスと呼ばれる阻害干渉効果が生
ずる。
れる酸化物層の厚みが大きい結果として、表面の反射率
も入射光線の吸収及び散乱によって減少する。また、ｄ
ｃ−Ｈ2ＳＯ4 プロセスによって製造される酸化物層
は、可視波長の光線を反射する、反射率を増大する複合
層に対して適しておらず、その理由は、そのような複合
層の反射率特性はあまりにも多くの間隔が接近し過ぎて
いる最大値及び最小値を示すからであり、そのような最
大値及び最小値は、大きな層厚に関係し、入射光線の波
長の関数である。最後に、１乃至３μｍの通常の厚み範
囲においてはイリデセンスと呼ばれる阻害干渉効果が生
ずる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
照明の目的で、反射率を増大する複合層を有するコスト
的に好ましい反射鏡を提供し、そのような反射鏡によっ
て、従来技術の反射鏡の上述の欠点を解消することであ
る。
照明の目的で、反射率を増大する複合層を有するコスト
的に好ましい反射鏡を提供し、そのような反射鏡によっ
て、従来技術の反射鏡の上述の欠点を解消することであ
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
って達成され、本発明においては、ＬＩ層が、透明であ
ると共に、アルミニウム層の陽極酸化によって製造さ
れ、且つ、２０℃において６〜１０.５の誘電率ε1 を
有する、気孔の無いすなわち無孔のバリア層であり、Ｌ
Ｉ層の光学的層厚ｄopt,1、及び、ＨＩ層の光学的層厚
ｄopt,2 が、以下の式で表され、 ｄopt,i＝ｄi・ｎi＝ｌi・λ／４±１０ｎｍ，ｉ＝１，
２ 上式において、ｄ1 はＬＩ層の厚み（ｎｍ）であり、ｄ
2 はＨＩ層の厚み（ｎｍ）であり、λは反射鏡の表面に
当たる光線の平均波長（ｎｍ）であり、ｌ1、ｌ2は奇数
の自然数である。
って達成され、本発明においては、ＬＩ層が、透明であ
ると共に、アルミニウム層の陽極酸化によって製造さ
れ、且つ、２０℃において６〜１０.５の誘電率ε1 を
有する、気孔の無いすなわち無孔のバリア層であり、Ｌ
Ｉ層の光学的層厚ｄopt,1、及び、ＨＩ層の光学的層厚
ｄopt,2 が、以下の式で表され、 ｄopt,i＝ｄi・ｎi＝ｌi・λ／４±１０ｎｍ，ｉ＝１，
２ 上式において、ｄ1 はＬＩ層の厚み（ｎｍ）であり、ｄ
2 はＨＩ層の厚み（ｎｍ）であり、λは反射鏡の表面に
当たる光線の平均波長（ｎｍ）であり、ｌ1、ｌ2は奇数
の自然数である。
【００１３】光線の分散のために、屈折率ｎ、すなわ
ち、ｎ 1 又はｎ2 は、波長の関数であること、すなわ
ち、本明細書においては、ｎ1 及びｎ2 は、常に、反射
鏡の表面に当たる光線の波長に関係していることを考慮
する必要がある。また、反射率を増大する複合層を得る
ための条件 ｄi・ｎi＝ｌi・λ／４，ｉ＝１，２は、反
射鏡の表面に直角に当たる電磁放射線に関してだけ完全
に有効であることも考慮する必要がある。
ち、ｎ 1 又はｎ2 は、波長の関数であること、すなわ
ち、本明細書においては、ｎ1 及びｎ2 は、常に、反射
鏡の表面に当たる光線の波長に関係していることを考慮
する必要がある。また、反射率を増大する複合層を得る
ための条件 ｄi・ｎi＝ｌi・λ／４，ｉ＝１，２は、反
射鏡の表面に直角に当たる電磁放射線に関してだけ完全
に有効であることも考慮する必要がある。
【００１４】ＬＩ／ＨＩの複数の層は、異なる回折指数
を示す、少なくとも２つの層を含む。金属表面で異なる
屈折率を有する一対の誘電体層を組み合わせ、低い屈折
率を有する層を上記金属表面に位置させることにより、
単一の均質な層によって得られる反射率特性よりも改善
された反射率特性を得ることができる。与えられた層の
組成に関して、個々の層の光学的な層厚をλ／４あるい
はその奇数倍とした場合に、最も大きな反射率を得るこ
とができる。層の材料の組成に関しては、個々の層の屈
折率の差が可能な限り大きい時に、最善の反射率特性が
得られる。
を示す、少なくとも２つの層を含む。金属表面で異なる
屈折率を有する一対の誘電体層を組み合わせ、低い屈折
率を有する層を上記金属表面に位置させることにより、
単一の均質な層によって得られる反射率特性よりも改善
された反射率特性を得ることができる。与えられた層の
組成に関して、個々の層の光学的な層厚をλ／４あるい
はその奇数倍とした場合に、最も大きな反射率を得るこ
とができる。層の材料の組成に関しては、個々の層の屈
折率の差が可能な限り大きい時に、最善の反射率特性が
得られる。
【００１５】本発明の反射鏡の反射体に面する必要があ
るアルミニウム層は、例えば、形材、梁又は他の形態の
構成要素、あるいは、アルミニウムの条片、薄板又は箔
の如き構成要素の一部とすることができ、若しくは、複
合材料のアルミニウムの外側層、特に、複合パネルのア
ルミニウムの外側層、又は、例えば、選択された材料の
上に電解によって堆積された、アルミニウム層とするこ
とができる。好ましい形態においては、アルミニウム層
を担持する部品、すなわち、反射体及び複合材料のアル
ミニウム層は、例えば、圧延、押し出し、鍛造、又は、
プレス成形によって製造された、アルミニウムからなる
構成要素である。アルミニウム層を含む部品も、曲げ加
工、深絞り、冷間プレス成形等によって成形することが
できる。
るアルミニウム層は、例えば、形材、梁又は他の形態の
構成要素、あるいは、アルミニウムの条片、薄板又は箔
の如き構成要素の一部とすることができ、若しくは、複
合材料のアルミニウムの外側層、特に、複合パネルのア
ルミニウムの外側層、又は、例えば、選択された材料の
上に電解によって堆積された、アルミニウム層とするこ
とができる。好ましい形態においては、アルミニウム層
を担持する部品、すなわち、反射体及び複合材料のアル
ミニウム層は、例えば、圧延、押し出し、鍛造、又は、
プレス成形によって製造された、アルミニウムからなる
構成要素である。アルミニウム層を含む部品も、曲げ加
工、深絞り、冷間プレス成形等によって成形することが
できる。
【００１６】本明細書においては、アルミニウムという
用語は、総ての純度のアルミニウム、及び、商業的に入
手可能な総てのアルミニウム合金を含むものと理解しな
ければならない。例えば、アルミニウムという用語は、
圧延、鍛錬、鋳造、鍛造及び押し出しされた、総てのア
ルミニウム合金を含む。通常、アルミニウム層は、９
８.３重量％又はそれ以上の純度を有する、純粋なアル
ミニウム、あるいは、上記純度を有し、且つ、Ｓi、Ｍ
g、Ｍn、Ｃu、Ｚn 及びＦe の中の少なくとも１つの元
素を含む、アルミニウム合金から形成される。純粋なア
ルミニウムのアルミニウム層は、例えば、９８.３重量
％あるいはそれ以上の純度を示し、通常は、９９.９重
量％あるいはそれ以上であり、好ましくは、９９.９重
量％あるいはそれ以上であって、より好ましくは、９
９.９５重量％あるいはそれ以上である。
用語は、総ての純度のアルミニウム、及び、商業的に入
手可能な総てのアルミニウム合金を含むものと理解しな
ければならない。例えば、アルミニウムという用語は、
圧延、鍛錬、鋳造、鍛造及び押し出しされた、総てのア
ルミニウム合金を含む。通常、アルミニウム層は、９
８.３重量％又はそれ以上の純度を有する、純粋なアル
ミニウム、あるいは、上記純度を有し、且つ、Ｓi、Ｍ
g、Ｍn、Ｃu、Ｚn 及びＦe の中の少なくとも１つの元
素を含む、アルミニウム合金から形成される。純粋なア
ルミニウムのアルミニウム層は、例えば、９８.３重量
％あるいはそれ以上の純度を示し、通常は、９９.９重
量％あるいはそれ以上であり、好ましくは、９９.９重
量％あるいはそれ以上であって、より好ましくは、９
９.９５重量％あるいはそれ以上である。
【００１７】上述の純度のアルミニウムの外に、上記ア
ルミニウム層は、０.２５〜５重量％、特に、０.５〜２
重量％のマグネシウム；０.２〜２重量％のマンガン；
０.５〜５重量％のマグネシウム及び０.２〜２重量％の
マンガン、特に、１重量％のマグネシウム、及び、０.
５重量％のマンガン；０.１〜１２重量％、好ましく
は、０.１〜５重量％の銅；０.５〜５重量％の亜鉛、及
び、０.５〜５重量％のマグネシウム；０.５〜５重量％
の亜鉛、０.５〜５重量％のマグネシウム、及び、０.５
〜５重量％の銅；あるいは、０.５〜５重量％の鉄、及
び、０.２〜２重量％のマンガン、特に、例えば、１.５
重量％の鉄、及び、０.４重量％のマンガンも含むこと
ができる。
ルミニウム層は、０.２５〜５重量％、特に、０.５〜２
重量％のマグネシウム；０.２〜２重量％のマンガン；
０.５〜５重量％のマグネシウム及び０.２〜２重量％の
マンガン、特に、１重量％のマグネシウム、及び、０.
５重量％のマンガン；０.１〜１２重量％、好ましく
は、０.１〜５重量％の銅；０.５〜５重量％の亜鉛、及
び、０.５〜５重量％のマグネシウム；０.５〜５重量％
の亜鉛、０.５〜５重量％のマグネシウム、及び、０.５
〜５重量％の銅；あるいは、０.５〜５重量％の鉄、及
び、０.２〜２重量％のマンガン、特に、例えば、１.５
重量％の鉄、及び、０.４重量％のマンガンも含むこと
ができる。
【００１８】上記アルミニウム表面は、任意の形状を有
することができ、必要であれば、構造化（粗面化）する
こともできる。圧延されたアルミニウム表面の場合に
は、そのようなアルミニウム表面は、例えば、高光沢ロ
ール又はデザイナロールによって処理することができ
る。粗面化されたアルミニウム表面の好ましい用途は、
例えば、昼光照明用の反射鏡の場合であり、この場合に
は、特に、０.１〜１ｍｍの構造的な特徴を示す粗面化
された表面が使用される。
することができ、必要であれば、構造化（粗面化）する
こともできる。圧延されたアルミニウム表面の場合に
は、そのようなアルミニウム表面は、例えば、高光沢ロ
ール又はデザイナロールによって処理することができ
る。粗面化されたアルミニウム表面の好ましい用途は、
例えば、昼光照明用の反射鏡の場合であり、この場合に
は、特に、０.１〜１ｍｍの構造的な特徴を示す粗面化
された表面が使用される。
【００１９】複合表面層のＬＩ／ＨＩ層を通過する電磁
放射線の吸収、及び、気孔の存在に起因する制御するの
が困難な拡散散乱を可能な限り小さい状態に維持するた
めに、ＬＩ／ＨＩ層は、無孔（気孔が存在しない状態）
でなければならず、また、反射されるべき電磁波に対し
て透明でなければならない。本明細書においては、無孔
という用語は、気孔が完全に存在しない状態ではなく、
本発明の反射鏡のＬＩ／ＨＩ層が、実質的に気孔を有し
ていない状態を意味するものと理解しなければならな
い。この点に関して重要なことは、特に、陽極処理によ
って製造されるＬＩ層が、プロセスすなわち処理の結
果、実質的に無孔の状態であるということである。これ
は、例えば、アルミニウム酸化物を溶解させる電解液を
使用するために、気孔が存在しないことを意味する。本
発明の場合には、無孔のＬＩ層は、１％よりも小さい気
孔率を示す。
放射線の吸収、及び、気孔の存在に起因する制御するの
が困難な拡散散乱を可能な限り小さい状態に維持するた
めに、ＬＩ／ＨＩ層は、無孔（気孔が存在しない状態）
でなければならず、また、反射されるべき電磁波に対し
て透明でなければならない。本明細書においては、無孔
という用語は、気孔が完全に存在しない状態ではなく、
本発明の反射鏡のＬＩ／ＨＩ層が、実質的に気孔を有し
ていない状態を意味するものと理解しなければならな
い。この点に関して重要なことは、特に、陽極処理によ
って製造されるＬＩ層が、プロセスすなわち処理の結
果、実質的に無孔の状態であるということである。これ
は、例えば、アルミニウム酸化物を溶解させる電解液を
使用するために、気孔が存在しないことを意味する。本
発明の場合には、無孔のＬＩ層は、１％よりも小さい気
孔率を示す。
【００２０】ＬＩ層の誘電率ε1 は、特に、陽極処理の
間に使用されるプロセスパラメータに依存する。本発明
のＬＩ層の誘電率ε1 は、２０℃において、６〜１０.
５であり、８〜１０であるのが好ましい。
間に使用されるプロセスパラメータに依存する。本発明
のＬＩ層の誘電率ε1 は、２０℃において、６〜１０.
５であり、８〜１０であるのが好ましい。
【００２１】ＬＩ／ＨＩ層の厚みに関しては、本発明に
関する研究の過程で、反射特性は、実質的に周期的に変
動すること、すなわち、層厚が増大すると、特に、６λ
／４よりも大きな光学的な層厚ｄopt,i を有する層の場
合には、層厚が増大すると、反射特性は、技術的な照明
を行う目的には適さないことが分かっている。従って、
６λ／４よりも小さい光学的な層厚を有する層が好まし
く、特に、ｌ1 及びｌ2 が１又は３に等しいのが好まし
い。
関する研究の過程で、反射特性は、実質的に周期的に変
動すること、すなわち、層厚が増大すると、特に、６λ
／４よりも大きな光学的な層厚ｄopt,i を有する層の場
合には、層厚が増大すると、反射特性は、技術的な照明
を行う目的には適さないことが分かっている。従って、
６λ／４よりも小さい光学的な層厚を有する層が好まし
く、特に、ｌ1 及びｌ2 が１又は３に等しいのが好まし
い。
【００２２】本発明に関する研究の過程において、ｄi
・ｎi＝ｌi・λ／４±１０ｎｍ（ｉ＝１，２）の厚み範
囲に存在するＬＩ／ＨＩ層の厚みを有する反射鏡は、実
質的に同じ良好な反射特性を示し、従って、層厚ｄi
は、条件ｄi・ｎi＝ｌi・λ／４，ｉ＝１，２に厳密に
従う必要はないことが分かった。
・ｎi＝ｌi・λ／４±１０ｎｍ（ｉ＝１，２）の厚み範
囲に存在するＬＩ／ＨＩ層の厚みを有する反射鏡は、実
質的に同じ良好な反射特性を示し、従って、層厚ｄi
は、条件ｄi・ｎi＝ｌi・λ／４，ｉ＝１，２に厳密に
従う必要はないことが分かった。
【００２３】本発明の反射鏡は、波長λ＝５５０ｎｍ±
２００ｎｍに応用するのが好ましく、また、昼光におい
て人間の目が最も良く応答する可視光線の平均波長に対
応する波長、すなわち、５５０ｎｍの前後の波長に応用
するのが特に好ましい。
２００ｎｍに応用するのが好ましく、また、昼光におい
て人間の目が最も良く応答する可視光線の平均波長に対
応する波長、すなわち、５５０ｎｍの前後の波長に応用
するのが特に好ましい。
【００２４】ＬＩ層の厚みｄ1、及び、ＨＩ層の厚みｄ2
は、３０〜１９０ｎｍであり、いずれかの特定の点で
測定した厚みｄ1 及びｄ2 が、複合層全体にわたって測
定した平均層厚ｄ1,av 及びｄ2,av から±５％を超えな
いことが好ましい。これにより、電磁波の反射ロスが殆
ど無い反射鏡を照明方法に使用することが可能となり、
その理由は、ＬＩ／ＨＩ層の再現性のある均質な層厚
が、反射率を増大させる高度な反射面を製造することが
可能であるからである。
は、３０〜１９０ｎｍであり、いずれかの特定の点で
測定した厚みｄ1 及びｄ2 が、複合層全体にわたって測
定した平均層厚ｄ1,av 及びｄ2,av から±５％を超えな
いことが好ましい。これにより、電磁波の反射ロスが殆
ど無い反射鏡を照明方法に使用することが可能となり、
その理由は、ＬＩ／ＨＩ層の再現性のある均質な層厚
が、反射率を増大させる高度な反射面を製造することが
可能であるからである。
【００２５】ＬＩ層として作用するアルミニウム酸化物
のバリア層は、１.５５〜１.６５の使用可能な屈折率ｎ
1 を示す。
のバリア層は、１.５５〜１.６５の使用可能な屈折率ｎ
1 を示す。
【００２６】ＨＩ層の材料として適するものは、例え
ば、総ての光学的な層材料である。ＨＩ層は、例えば、
Ｌi の如きアルカリ金属、例えば、Ｍg、Ｃa、Ｓr、Ｂa
の如きアルカリ土類金属、及び／又は、例えば、Ｓc、
Ｔi、Ｖ、Ｃr、Ｍn、Ｆe、Ｃo、Ｎi、Ｙ、Ｚr、Ｎb、Ｍ
o、Ｔe、Ｒu、Ｒh、Ｐd、Ｈf、Ｔa、Ｗ、Ｒe、Ｏs、Ｉ
r、Ｐt の如き遷移金属、及び／又は、例えば、Ｌa、Ｃ
e、Ｐr、Ｎd、Ｐm、Ｄy、Ｙb 又はＬu 等のランタニド
の酸化物を含む。本発明の反射鏡に関して好ましいの
は、約２.５の屈折率を有する、チタン酸化物（Ｔi-酸
化物）、プラセオジム-チタン酸化物（ＰrＴi-酸化
物）、ランタン-チタン酸化物（ＬaＴi-酸化物）、タン
タル酸化物（Ｔa-酸化物）、ハフニウム酸化物（Ｈf-酸
化物）、ニオブ酸化物（Ｎb-酸化物）、Ｚn-酸化物、Ｃ
e-酸化物、又は、上述の物質の合金の酸化物である。し
かしながら、特に好ましいのは、ＴiＯ2、Ｔa-酸化物、
ＰrＴi-酸化物、又は、ＬaＴi-酸化物のＨＩ層である。
ば、総ての光学的な層材料である。ＨＩ層は、例えば、
Ｌi の如きアルカリ金属、例えば、Ｍg、Ｃa、Ｓr、Ｂa
の如きアルカリ土類金属、及び／又は、例えば、Ｓc、
Ｔi、Ｖ、Ｃr、Ｍn、Ｆe、Ｃo、Ｎi、Ｙ、Ｚr、Ｎb、Ｍ
o、Ｔe、Ｒu、Ｒh、Ｐd、Ｈf、Ｔa、Ｗ、Ｒe、Ｏs、Ｉ
r、Ｐt の如き遷移金属、及び／又は、例えば、Ｌa、Ｃ
e、Ｐr、Ｎd、Ｐm、Ｄy、Ｙb 又はＬu 等のランタニド
の酸化物を含む。本発明の反射鏡に関して好ましいの
は、約２.５の屈折率を有する、チタン酸化物（Ｔi-酸
化物）、プラセオジム-チタン酸化物（ＰrＴi-酸化
物）、ランタン-チタン酸化物（ＬaＴi-酸化物）、タン
タル酸化物（Ｔa-酸化物）、ハフニウム酸化物（Ｈf-酸
化物）、ニオブ酸化物（Ｎb-酸化物）、Ｚn-酸化物、Ｃ
e-酸化物、又は、上述の物質の合金の酸化物である。し
かしながら、特に好ましいのは、ＴiＯ2、Ｔa-酸化物、
ＰrＴi-酸化物、又は、ＬaＴi-酸化物のＨＩ層である。
【００２７】本発明の反射鏡は、技術的な照明の目的に
使用するのが好ましく、あるいは、赤外線用の反射鏡と
して使用するの好ましい。本発明の反射鏡の特に好まし
い用途は、特に、技術的な照明、特に、昼光照明を行う
ためのランプに使用することであり、特に、コンピュー
タのモニタスクリーンを有する仕事場用のランプの如き
機能的なランプに用いることができ、また、二次照明、
あるいは、照明される天井又は光線反射板の如き照明要
素に用いることができる。
使用するのが好ましく、あるいは、赤外線用の反射鏡と
して使用するの好ましい。本発明の反射鏡の特に好まし
い用途は、特に、技術的な照明、特に、昼光照明を行う
ためのランプに使用することであり、特に、コンピュー
タのモニタスクリーンを有する仕事場用のランプの如き
機能的なランプに用いることができ、また、二次照明、
あるいは、照明される天井又は光線反射板の如き照明要
素に用いることができる。
【００２８】本発明は、また、反射体に面するアルミニ
ウム層と、反射されるべき放射線に面し、屈折率ｎ2 を
有するＨＩ層と、ｎ2 よりも小さい屈折率ｎ1 を有する
中間のＬＩ層とを備え、反射体の反射面としての反射率
を増大する複合層を製造するプロセスに関する。
ウム層と、反射されるべき放射線に面し、屈折率ｎ2 を
有するＨＩ層と、ｎ2 よりも小さい屈折率ｎ1 を有する
中間のＬＩ層とを備え、反射体の反射面としての反射率
を増大する複合層を製造するプロセスに関する。
【００２９】上記目的は、以下に述べる本発明によって
達成される。
達成される。
【００３０】（ａ）酸化可能な外側層が、複合表面層の
アルミニウム層の上に堆積され、該堆積された層の厚み
は、上記外側層の材料が完全に酸化された後に、厚みｄ
2 のＨＩ層が形成されて、以下の関係を満たすように選
択され、 ｄ2・ｎ2＝ｌ2・λ／４±１０ｎｍ 上式において、ｄ2 はＨＩ層の厚み（ｎｍ）であり、ｎ
2 はＨＩ層の屈折率であり、λは反射面に当たる光線の
平均波長（ｎｍ）であり、ｌ2 は奇数の自然数であり、
（ｂ）上記外側層を担持する上記アルミニウム層の少な
くとも一部である反射体が、アルミニウム酸化物を再溶
解しない電解液の中に導入され、陽極とされ、外側層の
材料の厚み全体がＨＩ層に陽極酸化されるまで電解陽極
処理され、アルミニウム酸化物のバリア層であるＬＩ層
が、上記アルミニウム層から形成され、上記バリア層の
厚みが以下の関係を満たし、 ｄ1・ｎ1＝ｌ1・λ／４±１０ｎｍ 上式において、ｄ1 は屈折率ｎ1 を有する上記ＬＩ層の
厚み（ｎｍ）を表し、ｌ1 は奇数の自然数である。
アルミニウム層の上に堆積され、該堆積された層の厚み
は、上記外側層の材料が完全に酸化された後に、厚みｄ
2 のＨＩ層が形成されて、以下の関係を満たすように選
択され、 ｄ2・ｎ2＝ｌ2・λ／４±１０ｎｍ 上式において、ｄ2 はＨＩ層の厚み（ｎｍ）であり、ｎ
2 はＨＩ層の屈折率であり、λは反射面に当たる光線の
平均波長（ｎｍ）であり、ｌ2 は奇数の自然数であり、
（ｂ）上記外側層を担持する上記アルミニウム層の少な
くとも一部である反射体が、アルミニウム酸化物を再溶
解しない電解液の中に導入され、陽極とされ、外側層の
材料の厚み全体がＨＩ層に陽極酸化されるまで電解陽極
処理され、アルミニウム酸化物のバリア層であるＬＩ層
が、上記アルミニウム層から形成され、上記バリア層の
厚みが以下の関係を満たし、 ｄ1・ｎ1＝ｌ1・λ／４±１０ｎｍ 上式において、ｄ1 は屈折率ｎ1 を有する上記ＬＩ層の
厚み（ｎｍ）を表し、ｌ1 は奇数の自然数である。
【００３１】
【発明の実施の形態】本発明のプロセスすなわち方法
は、アルミニウム層の上に反射率を増大する複合層を形
成することを可能とし、これにより、ＨＩ層及びＬＩ層
は、薄く、予め厳密に決定された層厚を有し、無孔且つ
均質であり、特に、可視光線及び／又は赤外線の範囲の
電磁放射線に対して透明である（透過性がある）。
は、アルミニウム層の上に反射率を増大する複合層を形
成することを可能とし、これにより、ＨＩ層及びＬＩ層
は、薄く、予め厳密に決定された層厚を有し、無孔且つ
均質であり、特に、可視光線及び／又は赤外線の範囲の
電磁放射線に対して透明である（透過性がある）。
【００３２】本発明の方法に適しているのは、例えば、
形材、梁又は他の形態の材料、アルミニウムのプレー
ト、条片、薄板又は箔の材料の一部であり、あるいは、
複合層の外側のアルミニウム層、特に、積層パネルの外
側のアルミニウム層、又は、例えば、適宜な材料に電解
により堆積されたアルミニウム層を表す。好ましい実施
例においては、本発明のプロセスに必要とされるアルミ
ニウムは、アルミニウムから形成された品物の表面層に
よって形成され、上記品物は、例えば、圧延、押し出
し、鍛造、又は、プレス成形のプロセスによって製造す
ることができる。
形材、梁又は他の形態の材料、アルミニウムのプレー
ト、条片、薄板又は箔の材料の一部であり、あるいは、
複合層の外側のアルミニウム層、特に、積層パネルの外
側のアルミニウム層、又は、例えば、適宜な材料に電解
により堆積されたアルミニウム層を表す。好ましい実施
例においては、本発明のプロセスに必要とされるアルミ
ニウムは、アルミニウムから形成された品物の表面層に
よって形成され、上記品物は、例えば、圧延、押し出
し、鍛造、又は、プレス成形のプロセスによって製造す
ることができる。
【００３３】本発明のプロセスに適するものは、商業的
に入手可能な総てのアルミニウム合金、及び、総ての純
度のアルミニウムである。例えば、アルミニウムという
用語は、圧延、鍛錬、鍛造及び押し出しされた、総ての
アルミニウム合金を含む。通常、アルミニウム層は、９
８.３重量％あるいはそれ以上の純度を有する純粋なア
ルミニウム、あるいは、そのようなアルミニウムとＳ
i、Ｍg、Ｃu、Ｚn 及びＦe の中の少なくとも１つの元
素とから形成されたアルミニウム合金から形成される。
純粋なアルミニウムのアルミニウム層は、９８.３重量
％あるいはそれ以上の純度を有しており、通常は、９
９.０重量％あるいはそれ以上であり、好ましくは、９
９.９重量％あるいはそれ以上であり、特に、９９.９５
重量％あるいはそれ以上であるのが好ましい。
に入手可能な総てのアルミニウム合金、及び、総ての純
度のアルミニウムである。例えば、アルミニウムという
用語は、圧延、鍛錬、鍛造及び押し出しされた、総ての
アルミニウム合金を含む。通常、アルミニウム層は、９
８.３重量％あるいはそれ以上の純度を有する純粋なア
ルミニウム、あるいは、そのようなアルミニウムとＳ
i、Ｍg、Ｃu、Ｚn 及びＦe の中の少なくとも１つの元
素とから形成されたアルミニウム合金から形成される。
純粋なアルミニウムのアルミニウム層は、９８.３重量
％あるいはそれ以上の純度を有しており、通常は、９
９.０重量％あるいはそれ以上であり、好ましくは、９
９.９重量％あるいはそれ以上であり、特に、９９.９５
重量％あるいはそれ以上であるのが好ましい。
【００３４】上述の純度のアルミニウムの外に、上記ア
ルミニウム層は、０.２５〜５重量％、特に、０.５〜２
重量％のマグネシウム；０.２〜２重量％のマンガン；
０.５〜５重量％のマグネシウム及び０.２〜２重量％の
マンガン、特に、１重量％のマグネシウム、及び、０.
５重量％のマンガン；０.１〜１２重量％、好ましく
は、０.１〜５重量％の銅；０.５〜５重量％の亜鉛、及
び、０.５〜５重量％のマグネシウム；０.５〜５重量％
の亜鉛、０.５〜５重量％のマグネシウム、及び、０.５
〜５重量％の銅；あるいは、０.５〜５重量％の鉄、及
び、０.２〜２重量％のマンガン、特に、例えば、１.５
重量％の鉄、及び、０.４重量％のマンガンも含むこと
ができる。
ルミニウム層は、０.２５〜５重量％、特に、０.５〜２
重量％のマグネシウム；０.２〜２重量％のマンガン；
０.５〜５重量％のマグネシウム及び０.２〜２重量％の
マンガン、特に、１重量％のマグネシウム、及び、０.
５重量％のマンガン；０.１〜１２重量％、好ましく
は、０.１〜５重量％の銅；０.５〜５重量％の亜鉛、及
び、０.５〜５重量％のマグネシウム；０.５〜５重量％
の亜鉛、０.５〜５重量％のマグネシウム、及び、０.５
〜５重量％の銅；あるいは、０.５〜５重量％の鉄、及
び、０.２〜２重量％のマンガン、特に、例えば、１.５
重量％の鉄、及び、０.４重量％のマンガンも含むこと
ができる。
【００３５】アルミニウム層は、本発明のプロセスの前
に、曲げ加工、深絞り、冷間衝撃押し出し、又は、同様
なプロセスで処理することができ、及び／又は、構造化
（粗面化）することもできる。
に、曲げ加工、深絞り、冷間衝撃押し出し、又は、同様
なプロセスで処理することができ、及び／又は、構造化
（粗面化）することもできる。
【００３６】本発明の反射鏡を製造するためには、アル
ミニウム表面を清浄にする必要がある。すなわち、陽極
酸化を受けるべきアルミニウム表面は、本発明のプロセ
スの前に、いわゆる予備処理と言われる、表面処理プロ
セスを受けなければならない。
ミニウム表面を清浄にする必要がある。すなわち、陽極
酸化を受けるべきアルミニウム表面は、本発明のプロセ
スの前に、いわゆる予備処理と言われる、表面処理プロ
セスを受けなければならない。
【００３７】アルミニウム表面は、通常、自然に生ずる
酸化物層を有しており、そのような酸化物層は、それ以
前の取り扱いすなわちハンドリング等のために、異物で
汚染されていることが多い。そのような異物は、例え
ば、残留する圧延潤滑剤、輸送の間の保護油、腐食産
物、又は、押し込まれた異物等である。そのような異物
を除去するために、アルミニウム表面は、通常、洗浄剤
で化学的に予備処理されるが、そのような洗浄剤は、エ
ッチングによってある程度の腐食を生ずる。そのような
目的に特に適するものは、水性の酸性脱脂剤の他に、縮
合リン酸塩及びホウ酸塩をベースにした、アルカリ性の
脱脂剤である。例えば、苛性ソーダ、又は、硝酸及びフ
ッ化水素酸の混合物の如き、強アルカリ性又は強酸性の
洗浄液を用いるアルカリ性又は酸性のエッチングによっ
て、穏やかな洗浄作用乃至強力な洗浄作用で、物質を除
去することができる。そのような洗浄プロセスにおい
て、上記自然に発生した酸化物層は、その中に含まれる
総ての汚染物と共に、除去される。強力な腐食作用を有
するアルカリ洗浄液を用いる場合には、洗浄堆積物が形
成されることが多く、これを酸による後処理によって除
去する必要がある。表面物質を除去しない表面処理は、
脱脂処理の形態を取り、有機溶媒あるいは水性又はアル
カリ性の洗浄剤を用いて実行することができる。
酸化物層を有しており、そのような酸化物層は、それ以
前の取り扱いすなわちハンドリング等のために、異物で
汚染されていることが多い。そのような異物は、例え
ば、残留する圧延潤滑剤、輸送の間の保護油、腐食産
物、又は、押し込まれた異物等である。そのような異物
を除去するために、アルミニウム表面は、通常、洗浄剤
で化学的に予備処理されるが、そのような洗浄剤は、エ
ッチングによってある程度の腐食を生ずる。そのような
目的に特に適するものは、水性の酸性脱脂剤の他に、縮
合リン酸塩及びホウ酸塩をベースにした、アルカリ性の
脱脂剤である。例えば、苛性ソーダ、又は、硝酸及びフ
ッ化水素酸の混合物の如き、強アルカリ性又は強酸性の
洗浄液を用いるアルカリ性又は酸性のエッチングによっ
て、穏やかな洗浄作用乃至強力な洗浄作用で、物質を除
去することができる。そのような洗浄プロセスにおい
て、上記自然に発生した酸化物層は、その中に含まれる
総ての汚染物と共に、除去される。強力な腐食作用を有
するアルカリ洗浄液を用いる場合には、洗浄堆積物が形
成されることが多く、これを酸による後処理によって除
去する必要がある。表面物質を除去しない表面処理は、
脱脂処理の形態を取り、有機溶媒あるいは水性又はアル
カリ性の洗浄剤を用いて実行することができる。
【００３８】表面の状態に応じて、機械的な手段を用い
て、表面の物質を取り除く必要があることがある。その
ような表面処理は、例えば、研削、表面ブラスティング
又は表面研磨によって実行することができ、必要であれ
ば、その後に、化学的な後処理を行うことができる。
て、表面の物質を取り除く必要があることがある。その
ような表面処理は、例えば、研削、表面ブラスティング
又は表面研磨によって実行することができ、必要であれ
ば、その後に、化学的な後処理を行うことができる。
【００３９】素材の金属状態においては、アルミニウム
表面は、光線及び熱を反射する能力が非常に高い。表面
がより円滑になると、方向反射率が大きくなり、また、
表面の外観がより明るくなる。最も明るい状態は、高純
度アルミニウム、及び、ＡlＭg 又はＡlＭgＳi の合金
の如き、特殊な合金で得られる。
表面は、光線及び熱を反射する能力が非常に高い。表面
がより円滑になると、方向反射率が大きくなり、また、
表面の外観がより明るくなる。最も明るい状態は、高純
度アルミニウム、及び、ＡlＭg 又はＡlＭgＳi の合金
の如き、特殊な合金で得られる。
【００４０】反射率が非常に高い表面は、例えば、研
磨、フライス加工により、又は、最終行程で研磨された
ロールで圧延することにより、あるいは、化学的な又は
電解的な研磨によって、得られる。上記研磨は、軟らか
い布を有する布ホイールを用いて実行することができ
る。ロールで研磨する場合には、型彫りされた又はエッ
チングされたスチールのロールを用いて、あるいは、上
記ロールと圧延されるべき材料との間に任意の構造を示
す何等かの手段を置くことにより、任意の構造（粗面）
を形成することができる。化学的な研磨、すなわち、つ
や出しは、例えば、通常は１００℃前後の高温におい
て、高濃度の酸混合物を用いて実行される。酸性又はア
ルカリ性の電解液を用いて、電解つや出しを行うことが
できるが、通常は、酸性の電解液が好ましい。
磨、フライス加工により、又は、最終行程で研磨された
ロールで圧延することにより、あるいは、化学的な又は
電解的な研磨によって、得られる。上記研磨は、軟らか
い布を有する布ホイールを用いて実行することができ
る。ロールで研磨する場合には、型彫りされた又はエッ
チングされたスチールのロールを用いて、あるいは、上
記ロールと圧延されるべき材料との間に任意の構造を示
す何等かの手段を置くことにより、任意の構造（粗面）
を形成することができる。化学的な研磨、すなわち、つ
や出しは、例えば、通常は１００℃前後の高温におい
て、高濃度の酸混合物を用いて実行される。酸性又はア
ルカリ性の電解液を用いて、電解つや出しを行うことが
できるが、通常は、酸性の電解液が好ましい。
【００４１】つやのある仕上げを維持するために、つや
出しされた表面は、化学的な及び物理的な悪影響から保
護するすなわち守る必要がある。例えば、ｄｃ−Ｈ2Ｓ
Ｏ4陽極酸化の如き従来技術の方法は、層厚が大きく制
御が困難であり、あるいは、層が不均質であるというよ
うな上述の欠点を示す。
出しされた表面は、化学的な及び物理的な悪影響から保
護するすなわち守る必要がある。例えば、ｄｃ−Ｈ2Ｓ
Ｏ4陽極酸化の如き従来技術の方法は、層厚が大きく制
御が困難であり、あるいは、層が不均質であるというよ
うな上述の欠点を示す。
【００４２】本発明のプロセスは、反射率を増大する複
合層を有する反射鏡を提供し、アルミニウム層の上の上
記複合層のＬＩ層及びＨＩ層は、均質で均一な予め決定
された厚みを示し、また、少なくとも可視光線の範囲で
実質的に透明であり、従って、光線の反射は、実質的
に、ＬＩ層／アルミニウムの界面で生ずることができ
る。
合層を有する反射鏡を提供し、アルミニウム層の上の上
記複合層のＬＩ層及びＨＩ層は、均質で均一な予め決定
された厚みを示し、また、少なくとも可視光線の範囲で
実質的に透明であり、従って、光線の反射は、実質的
に、ＬＩ層／アルミニウムの界面で生ずることができ
る。
【００４３】本発明の陽極処理プロセスを行うために、
アルミニウム表面には、予め決定された表面処理が行わ
れ、その上に、酸化可能な外側層が堆積される。使用さ
れる表面層の材料は、例えば、Ｌi、Ｎa、Ｋの如きアル
カリ金属、例えば、Ｍg、Ｃa、Ｓr、Ｂa の如きアルカ
リ土類金属、及び／又は、例えば、Ｓc、Ｔi、Ｖ、Ｃ
r、Ｍn、Ｆe、Ｃo、Ｎi、Ｙ、Ｚr、Ｎb、Ｍo、Ｔe、Ｒ
u、Ｒh、Ｐd、Ｈf、Ｔa、Ｗ、Ｒe、Ｏs、Ｉr、Ｐt の如
き遷移金属、及び／又は、例えば、Ｌa、Ｃe、Ｐr、Ｎ
d、Ｐm、Ｄy、Ｙb 又はＬu 等のランタニドの酸化物で
ある。Ｔi、ＰrＴi、ＬaＴi、Ｔa、Ｈf、Ｎb、Ｚn、Ｃe
が好ましく、また、そのような物質の合金が好まし
い。Ｔi、Ｔa、ＰrＴi 及びＬaＴi を用いるのが特に好
ましい。外側層の材料は、ＰＶＤ又はＣＶＤプロセス、
あるいは、電解的な手段によって、アルミニウム層の上
に堆積される。しかしながら、ステアリング、又は、電
子ビーム蒸着の如き蒸着によって、外側層の材料を堆積
させるのが好ましい。
アルミニウム表面には、予め決定された表面処理が行わ
れ、その上に、酸化可能な外側層が堆積される。使用さ
れる表面層の材料は、例えば、Ｌi、Ｎa、Ｋの如きアル
カリ金属、例えば、Ｍg、Ｃa、Ｓr、Ｂa の如きアルカ
リ土類金属、及び／又は、例えば、Ｓc、Ｔi、Ｖ、Ｃ
r、Ｍn、Ｆe、Ｃo、Ｎi、Ｙ、Ｚr、Ｎb、Ｍo、Ｔe、Ｒ
u、Ｒh、Ｐd、Ｈf、Ｔa、Ｗ、Ｒe、Ｏs、Ｉr、Ｐt の如
き遷移金属、及び／又は、例えば、Ｌa、Ｃe、Ｐr、Ｎ
d、Ｐm、Ｄy、Ｙb 又はＬu 等のランタニドの酸化物で
ある。Ｔi、ＰrＴi、ＬaＴi、Ｔa、Ｈf、Ｎb、Ｚn、Ｃe
が好ましく、また、そのような物質の合金が好まし
い。Ｔi、Ｔa、ＰrＴi 及びＬaＴi を用いるのが特に好
ましい。外側層の材料は、ＰＶＤ又はＣＶＤプロセス、
あるいは、電解的な手段によって、アルミニウム層の上
に堆積される。しかしながら、ステアリング、又は、電
子ビーム蒸着の如き蒸着によって、外側層の材料を堆積
させるのが好ましい。
【００４４】外側層の厚みは、簡単な試行によって、あ
るいは、外側層の材料が酸化する間の体積の増加を教示
する表から特定することができる。すなわち、その後の
陽極処理プロセスで形成されるＨＩ層は、ｄ2・ｎ2＝ｌ
2・λ／４±１０ｎｍの関係を満たし、これにより、ｌ2
＝１又は３を有するＨＩ層の光学的な厚みが好まし
い。
るいは、外側層の材料が酸化する間の体積の増加を教示
する表から特定することができる。すなわち、その後の
陽極処理プロセスで形成されるＨＩ層は、ｄ2・ｎ2＝ｌ
2・λ／４±１０ｎｍの関係を満たし、これにより、ｌ2
＝１又は３を有するＨＩ層の光学的な厚みが好まし
い。
【００４５】反射体の少なくとも外側層を担持する部分
が、その後、導電性の流体の中に浸漬され、陽極として
直流源に接続される。負の電極は通常、ステンレス鋼、
鉛又はアルミニウムである。
が、その後、導電性の流体の中に浸漬され、陽極として
直流源に接続される。負の電極は通常、ステンレス鋼、
鉛又はアルミニウムである。
【００４６】本発明によれば、電解液は、陽極処理プロ
セスの間に形成されるアルミニウム酸化物が溶解しない
ように、すなわち、アルミニウム酸化物が再溶解しない
ように、選択される。そのようなプロセスの間に、水素
ガスが陰極に形成され、気体酸素が陽極に形成される。
陽極に形成される酸素は、アルミニウムと反応して、プ
ロセスの過程において厚みが増大する酸化物層を形成す
る。バリア層の電気抵抗は急速に増大するので、これに
応じて、流れる電流値が減少し、層の成長は停止する。
これと同時に、外側層の金属が陽極酸化される。陽極酸
化のプロセスは、少なくとも総ての外側層の材料が完全
に酸化され、また、アルミニウム酸化物のバリア層が所
望の厚みに到達するまで、継続される。
セスの間に形成されるアルミニウム酸化物が溶解しない
ように、すなわち、アルミニウム酸化物が再溶解しない
ように、選択される。そのようなプロセスの間に、水素
ガスが陰極に形成され、気体酸素が陽極に形成される。
陽極に形成される酸素は、アルミニウムと反応して、プ
ロセスの過程において厚みが増大する酸化物層を形成す
る。バリア層の電気抵抗は急速に増大するので、これに
応じて、流れる電流値が減少し、層の成長は停止する。
これと同時に、外側層の金属が陽極酸化される。陽極酸
化のプロセスは、少なくとも総ての外側層の材料が完全
に酸化され、また、アルミニウム酸化物のバリア層が所
望の厚みに到達するまで、継続される。
【００４７】本発明のプロセスによってＬＩ層及びＨＩ
層を電解的に製造することにより、層厚を正確に制御す
ることができる。本発明のプロセスによって得られるア
ルミニウム酸化物のバリア層の最大厚み（ｎｍ）は、印
加される電圧（Ｖ）に対応する。すなわち、得られる層
の最大厚みは、外側層における電圧降下を考慮した場合
の、陽極処理の電圧の直線的な関数である。外側層の電
圧降下を考慮した場合に、印加される直流電圧Ｕの関数
として得られる最大層厚の正確な値は、簡単な試行によ
って決定することができ、１.２〜１.６ｎｍ／Ｖの間に
あり、これにより、印加電圧の関数としての層厚の正確
な値は、使用する電解液、すなわち、その組成及び温度
に依存する。
層を電解的に製造することにより、層厚を正確に制御す
ることができる。本発明のプロセスによって得られるア
ルミニウム酸化物のバリア層の最大厚み（ｎｍ）は、印
加される電圧（Ｖ）に対応する。すなわち、得られる層
の最大厚みは、外側層における電圧降下を考慮した場合
の、陽極処理の電圧の直線的な関数である。外側層の電
圧降下を考慮した場合に、印加される直流電圧Ｕの関数
として得られる最大層厚の正確な値は、簡単な試行によ
って決定することができ、１.２〜１.６ｎｍ／Ｖの間に
あり、これにより、印加電圧の関数としての層厚の正確
な値は、使用する電解液、すなわち、その組成及び温度
に依存する。
【００４８】従って、最小印加電圧Ｕmin（ボルト）
は、下式で表され、 ｄ1／１.６≦Ｕmin≦ｄ1／１.２ 上式において、ｄ1 は屈折率ｎ1 を有するＬＩ層の厚み
（ｎｍ）であり、上記屈折率は以下の関係を満足する必
要がある。
は、下式で表され、 ｄ1／１.６≦Ｕmin≦ｄ1／１.２ 上式において、ｄ1 は屈折率ｎ1 を有するＬＩ層の厚み
（ｎｍ）であり、上記屈折率は以下の関係を満足する必
要がある。
【００４９】ｄ1・ｎ1＝ｌ1・λ／４±１０ｎｍ 電圧降下を時間の関数として考慮するために、印加され
る陽極処理電圧を、陽極処理プロセス全体を通じて、連
続的に又は段階的に上昇させることができる。最適な陽
極処理電圧、あるいは、陽極処理電圧の最適な変化、及
び、陽極処理の継続時間は、事前の簡単な試行によっ
て、あるいは、陽極処理プロセスの間に行われる反射率
の測定によって、決定することができる。
る陽極処理電圧を、陽極処理プロセス全体を通じて、連
続的に又は段階的に上昇させることができる。最適な陽
極処理電圧、あるいは、陽極処理電圧の最適な変化、及
び、陽極処理の継続時間は、事前の簡単な試行によっ
て、あるいは、陽極処理プロセスの間に行われる反射率
の測定によって、決定することができる。
【００５０】電解酸化は、所定の陽極処理電圧を与える
ことにより、単一のプロセス、あるいは、連続的に、又
は、一連の工程として実行することができ、そのような
一連の工程においては、陽極処理電圧が、所定のレベ
ル、又は、最適な反射特性を測定することにより決定さ
れるレベルまで、上昇する。しかしながら、電解酸化
は、例えば、種々の陽極処理電圧を用いることにより、
複数の工程ですなわち複数のプロセス工程で実行するこ
とができる。
ことにより、単一のプロセス、あるいは、連続的に、又
は、一連の工程として実行することができ、そのような
一連の工程においては、陽極処理電圧が、所定のレベ
ル、又は、最適な反射特性を測定することにより決定さ
れるレベルまで、上昇する。しかしながら、電解酸化
は、例えば、種々の陽極処理電圧を用いることにより、
複数の工程ですなわち複数のプロセス工程で実行するこ
とができる。
【００５１】複合層の反射特性が連続的に測定され、初
期電圧ＵA から始まる陽極処理電圧Ｕが以下の関係を満
たすように、測定された反射率が所望の最大値に達する
まで、連続的に又は一連の段階として増大するプロセス
が好ましい。
期電圧ＵA から始まる陽極処理電圧Ｕが以下の関係を満
たすように、測定された反射率が所望の最大値に達する
まで、連続的に又は一連の段階として増大するプロセス
が好ましい。
【００５２】ｄ1／１.６≦ＵA≦ｄ1／１.２ 再溶解させない電解液を用いることにより、アルミニウ
ム酸化物のバリア層は、殆ど気孔をもたないようにな
る。すなわち、例えば、電解液の中の汚染物又はアルミ
ニウムの表面層の構造的欠陥から生ずる気孔は存在しな
いが、電解液中でのアルミニウム酸化物の再溶解に起因
する気孔が問題とならない程度存在する。同じことが、
外側層の材料についても言える。すなわち、そのような
材料も、使用する電解液の中で化学的に不活性に挙動す
る必要がある。
ム酸化物のバリア層は、殆ど気孔をもたないようにな
る。すなわち、例えば、電解液の中の汚染物又はアルミ
ニウムの表面層の構造的欠陥から生ずる気孔は存在しな
いが、電解液中でのアルミニウム酸化物の再溶解に起因
する気孔が問題とならない程度存在する。同じことが、
外側層の材料についても言える。すなわち、そのような
材料も、使用する電解液の中で化学的に不活性に挙動す
る必要がある。
【００５３】本発明のプロセスにおいて再溶解させない
電解液として使用可能なものは、例えば、通常通り水で
希釈された、有機又は無機の酸であり、そのような酸
は、２以上のｐＨを有しており、該ｐＨは、３以上であ
るのが好ましく、特に４以上７以下、好ましくは４以上
６以下、特に４以上５.５以下であるのが好ましい。特
に好ましいのは、低濃度の硫酸又はリン酸、ホウ酸、ア
ジピン酸、クエン酸又は酒石酸あるいはこれらの混合
物、あるいは、有機酸又は無機酸のアンモニウム塩又は
ナトリウム塩の如き、無機又は有機の酸であり、特に、
上述の酸及びその混合物が好ましい。この点に関して、
上述の溶液は、全濃度が２０ｇ／ｌあるいはそれ以下、
好ましくは、２〜１５ｇ／ｌの、電解液の中に溶解した
アンモニウム塩又はナトリウム塩を含むのが好ましいこ
とが分かっている。特に好ましいのは、クエン酸又は酒
石酸のアンモニウム塩、あるいは、リン酸のナトリウム
塩である。
電解液として使用可能なものは、例えば、通常通り水で
希釈された、有機又は無機の酸であり、そのような酸
は、２以上のｐＨを有しており、該ｐＨは、３以上であ
るのが好ましく、特に４以上７以下、好ましくは４以上
６以下、特に４以上５.５以下であるのが好ましい。特
に好ましいのは、低濃度の硫酸又はリン酸、ホウ酸、ア
ジピン酸、クエン酸又は酒石酸あるいはこれらの混合
物、あるいは、有機酸又は無機酸のアンモニウム塩又は
ナトリウム塩の如き、無機又は有機の酸であり、特に、
上述の酸及びその混合物が好ましい。この点に関して、
上述の溶液は、全濃度が２０ｇ／ｌあるいはそれ以下、
好ましくは、２〜１５ｇ／ｌの、電解液の中に溶解した
アンモニウム塩又はナトリウム塩を含むのが好ましいこ
とが分かっている。特に好ましいのは、クエン酸又は酒
石酸のアンモニウム塩、あるいは、リン酸のナトリウム
塩である。
【００５４】極めて好ましい電解液は、１〜５重量％の
酒石酸を含み、そのような電解液には、例えば、適量の
水酸化アンモニウム（ＮＨ4ＯＨ）を加えて、ｐＨを所
望値に調節することができる。
酒石酸を含み、そのような電解液には、例えば、適量の
水酸化アンモニウム（ＮＨ4ＯＨ）を加えて、ｐＨを所
望値に調節することができる。
【００５５】電解液は、通常の通り、水性溶液である。
【００５６】可能な最大陽極処理電圧は、電解液の誘電
強度によって決定される。これは、例えば、電解液の組
成及び温度に依存し、通常は、３００〜６００Ｖの範囲
である。
強度によって決定される。これは、例えば、電解液の組
成及び温度に依存し、通常は、３００〜６００Ｖの範囲
である。
【００５７】例えば、電解液の誘電強度を上昇させるた
めに、追加の溶媒として、アルコールを電解液に加える
ことができる。そのような目的に適したものとして、メ
タノール、エタノール、又は、プロピルアルコール又は
イソプロパノールの如きプロパノール、あるいは、ブタ
ノールが特に挙げられる。電解液に加えられるアルコー
ルの量は、厳密なものではなく、従って、溶媒に対する
電解液の量的な比は、例えば、１：５００とすることが
できる。アルコールを加えることにより、電解液の誘電
強度は、例えば、１２００Ｖまで上昇することができ
る。しかしながら、本発明のプロセスに関しては、アル
コールを含まない電解液が好ましい。
めに、追加の溶媒として、アルコールを電解液に加える
ことができる。そのような目的に適したものとして、メ
タノール、エタノール、又は、プロピルアルコール又は
イソプロパノールの如きプロパノール、あるいは、ブタ
ノールが特に挙げられる。電解液に加えられるアルコー
ルの量は、厳密なものではなく、従って、溶媒に対する
電解液の量的な比は、例えば、１：５００とすることが
できる。アルコールを加えることにより、電解液の誘電
強度は、例えば、１２００Ｖまで上昇することができ
る。しかしながら、本発明のプロセスに関しては、アル
コールを含まない電解液が好ましい。
【００５８】本発明のプロセスに関する電解液の最適温
度は、使用する電解液に依存するが、得られるＬＩ層／
ＨＩ層の品質にはそれほど重要ではない。１５〜４０
℃、特に１８〜３０℃の温度が、本発明のプロセスに使
用される。
度は、使用する電解液に依存するが、得られるＬＩ層／
ＨＩ層の品質にはそれほど重要ではない。１５〜４０
℃、特に１８〜３０℃の温度が、本発明のプロセスに使
用される。
【００５９】本発明のプロセスは、アルミニウムの条
片、薄板、箔又は個々の品物の上に、反射率を増大する
複合層を連続的に又は一品毎に製造するために、特に適
しており、また、少なくともアルミニウムの外側層を有
する複合層を製造するのに特に適している。本発明のプ
ロセスは、例えば、ストリップコーティングの如き連続
的な生産ライン、及び、陽極処理ラインを用いて、反射
率を増大する複合層を有する反射鏡を連続的に製造する
のに特に適している。
片、薄板、箔又は個々の品物の上に、反射率を増大する
複合層を連続的に又は一品毎に製造するために、特に適
しており、また、少なくともアルミニウムの外側層を有
する複合層を製造するのに特に適している。本発明のプ
ロセスは、例えば、ストリップコーティングの如き連続
的な生産ライン、及び、陽極処理ラインを用いて、反射
率を増大する複合層を有する反射鏡を連続的に製造する
のに特に適している。
【００６０】ＬＩ層として作用するアルミニウム酸化物
のバリア層は、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 陽極処理により製造さ
れる酸化物層に比較して、薄いので、保護層における散
乱光線、すなわち、Ｆe、Ｓi 又はＡlＦeＳi の粒子の
如き散乱中心の原因となる異物粒子を殆ど含まない。ま
た、入射光線の吸収（層厚の直線的な関数である）は、
本発明の反射鏡においては小さい。また、ＬＩ層及びＨ
Ｉ層の厚みが小さいので、湾曲縁部における散乱量、特
に、複合層のクラックにより生ずる散乱量は、通常、無
視し得るほどに小さい。
のバリア層は、ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 陽極処理により製造さ
れる酸化物層に比較して、薄いので、保護層における散
乱光線、すなわち、Ｆe、Ｓi 又はＡlＦeＳi の粒子の
如き散乱中心の原因となる異物粒子を殆ど含まない。ま
た、入射光線の吸収（層厚の直線的な関数である）は、
本発明の反射鏡においては小さい。また、ＬＩ層及びＨ
Ｉ層の厚みが小さいので、湾曲縁部における散乱量、特
に、複合層のクラックにより生ずる散乱量は、通常、無
視し得るほどに小さい。
【００６１】ｄｃ−Ｈ2ＳＯ4 陽極処理によって酸化物
層が製造される場合には、大きな層厚において生ずる層
厚の変動のために、選択的な吸収が生じ、その結果、イ
リデセンスに起因する問題が生ずる。本発明の複合層を
用いると、ＬＩ層及びＨＩ層の厚みが小さく、また、そ
のような層の厚みは、反射鏡の表面にわたって極めて一
定しているので、イリデセンス（虹色）は全く生じな
い。また、ＬＩ層及びＨＩ層の厚みにより、イリデセン
ス効果に繋がる反射面の間の距離は、非常に小さい。
層が製造される場合には、大きな層厚において生ずる層
厚の変動のために、選択的な吸収が生じ、その結果、イ
リデセンスに起因する問題が生ずる。本発明の複合層を
用いると、ＬＩ層及びＨＩ層の厚みが小さく、また、そ
のような層の厚みは、反射鏡の表面にわたって極めて一
定しているので、イリデセンス（虹色）は全く生じな
い。また、ＬＩ層及びＨＩ層の厚みにより、イリデセン
ス効果に繋がる反射面の間の距離は、非常に小さい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｆ２１Ｖ 7/22 Ｆ２１Ｖ 7/22 Ａ (73)特許権者 591059652 Ｂａｄｉｓｃｈｅ Ｂａｈｎｈｏｆｓｔ ｒａｓｓｅ 16， ＣＨ−8212 Ｎｅｕ ｈａｕｓｅｎ ａｍ Ｒｈｅｉｎｆａｌ ｌ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ (56)参考文献 特開 平８−292308（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 5/08
Claims (12)
- 【請求項１】 反射体の反射面層としての反射率を増大
する複合層を有する反射鏡であって、前記複合層は、前
記反射体に面するアルミニウム層と、反射されるべき放
射線に面する、ＨＩ層である外側層と、ＬＩ層であるア
ルミニウム酸化物の中間層とを有するサンドイッチ構造
を備えており、前記外側層は屈折率ｎ2 を有し、また、
前記中間層は前記ｎ2 よりも小さい屈折率ｎ1 を有して
いる反射鏡において、 前記ＬＩ層は、透明であると共に、前記アルミニウム層
の陽極酸化によって製造され、且つ、２０℃において６
〜１０.５の誘電率ε1 を有する、気孔の無いすなわち
無孔のバリア層であり、ＬＩ層の光学的層厚ｄopt,1、
及び、ＨＩ層の光学的層厚ｄopt,2 が、以下の式で表さ
れ、 ｄopt,i＝ｄi・ｎi＝ｌi・λ／４±１０ｎｍ，ｉ＝１，
２ 上式において、ｄ1 はＬＩ層の厚み（ｎｍ）であり、ｄ
2 はＨＩ層の厚み（ｎｍ）であり、λは反射鏡の表面に
当たる光線の平均波長（ｎｍ）であり、ｌ1、ｌ2は奇数
の自然数であることを特徴とする、反射鏡。 - 【請求項２】 前記ＬＩ層の厚みｄ1 及び前記ＨＩ層の
厚みｄ2 は、各々、３０〜１９０ｎｍであるのが好まし
く、これにより、どのような特定の点で測定した厚みｄ
1 及びｄ2 も、前記複合層全体にわたって測定した平均
層厚ｄ1,av及びｄ2,av から、±５％以上異ならないこ
とを特徴とする、請求項１に記載の反射鏡。 - 【請求項３】 前記ＨＩ層は、アルカリ金属、アルカリ
土類金属、遷移金属、又は、ランタニド、あるいは、こ
れら物質を少なくとも１つ含む合金から形成されること
を特徴とする、請求項１又は２に記載の反射鏡。 - 【請求項４】 前記ＨＩ層は、Ｔi 酸化物、ＰrＴi 酸
化物、ＬaＴi 酸化物、Ｔa 酸化物、Ｈf 酸化物、Ｎb
酸化物、Ｚn 酸化物、又は、Ｃe 酸化物から形成される
ことを特徴とする、請求項３に記載の反射鏡。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかの反射鏡を、赤
外線、又は、技術照明のランプ、特に、昼光照明用の反
射鏡として使用する方法。 - 【請求項６】 請求項１〜４のいずれかの反射鏡を、コ
ンピュータのスクリーンモニタを備える作業場のラン
プ、二次照明ランプ、走査ランプ用の反射鏡として、あ
るいは、照明要素、照射される天井、又は、偏光チャン
ネルとして使用する方法。 - 【請求項７】 請求項１〜４のいずれかの反射鏡を製造
する方法であって、 （ａ）酸化可能な外側層が、複合表面層のアルミニウム
層の上に堆積され、該堆積された層の厚みは、前記外側
層の材料が完全に酸化された後に、厚みｄ2 のＨＩ層が
形成されて、以下の関係を満たすように選択され、 ｄ2・ｎ2＝ｌ2・λ／４±１０ｎｍ 上式において、ｄ2 はＨＩ層の厚み（ｎｍ）であり、ｎ
2 はＨＩ層の屈折率であり、λは反射面に当たる光線の
平均波長（ｎｍ）であり、ｌ2 は奇数の自然数であり、 （ｂ）前記外側層を担持する前記アルミニウム層の少な
くとも一部である反射体が、アルミニウム酸化物を再溶
解しない電解液の中に導入され、陽極とされ、外側層の
材料の厚み全体がＨＩ層に陽極酸化されるまで電解陽極
処理され、アルミニウム酸化物のバリア層であるＬＩ層
が、前記アルミニウム層から形成され、前記バリア層の
厚みが以下の関係を満たし、 ｄ1・ｎ1＝ｌ1・λ／４±１０ｎｍ 上式において、ｄ1 は屈折率ｎ1 を有する前記ＬＩ層の
厚み（ｎｍ）を表し、ｌ1 は奇数の自然数であることを
特徴とする、方法。 - 【請求項８】 前記外側層の材料が、ＰＶＤ（物理蒸
着）プロセスによって堆積されることを特徴とする、請
求項７に記載の方法。 - 【請求項９】 前記外側層の材料として、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、遷移金属、又は、ランタニド、
あるいは、これら元素を少なくとも１つ含む合金を用い
ることを特徴とする、請求項７又は８に記載の方法。 - 【請求項１０】 前記外側層の材料として、Ｔi、ＰrＴ
i、ＬaＴi、Ｔa、Ｈf、Ｎb、Ｚn、又は、Ｃe を用いる
ことを特徴とする、請求項７又は８に記載の方法。 - 【請求項１１】 前記複合層の反射率特性が、電解酸化
の間に連続的に測定され、初期値ＵA から始まり、ｄ1
／１.６≦ＵA≦ｄ1／１.２の関係に従う陽極処理電圧Ｕ
が、測定された反射率が所望の最大値に到達するまで、
連続的にあるいは段階的に増大することを特徴とする、
請求項７乃至１０のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１２】 前記反射率を増大する複合層の製造
が、ストリップ型（帯状）のプロセスを用いて連続的に
行われることを特徴とする、請求項７乃至１１のいずれ
かに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH2574/95 | 1995-09-12 | ||
| CH02574/95A CH690080A5 (de) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | Aluminium-Reflektor mit reflexionserhöhendem Schichtverbund. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09281313A JPH09281313A (ja) | 1997-10-31 |
| JP3273124B2 true JP3273124B2 (ja) | 2002-04-08 |
Family
ID=4236867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24211796A Expired - Fee Related JP3273124B2 (ja) | 1995-09-12 | 1996-09-12 | 反射鏡並びにその使用及び製造方法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5760981A (ja) |
| EP (1) | EP0762152B1 (ja) |
| JP (1) | JP3273124B2 (ja) |
| KR (1) | KR100323440B1 (ja) |
| AT (1) | ATE231623T1 (ja) |
| CA (1) | CA2184325C (ja) |
| CH (1) | CH690080A5 (ja) |
| DE (1) | DE59610069D1 (ja) |
| ES (1) | ES2188737T3 (ja) |
| NO (1) | NO963794L (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101250004B1 (ko) | 2010-07-02 | 2013-04-05 | 최영락 | 전주도금에 의한 반사경 및 그 제조방법 |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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