JP2990608B2 - 表面処理方法 - Google Patents
表面処理方法Info
- Publication number
- JP2990608B2 JP2990608B2 JP1322872A JP32287289A JP2990608B2 JP 2990608 B2 JP2990608 B2 JP 2990608B2 JP 1322872 A JP1322872 A JP 1322872A JP 32287289 A JP32287289 A JP 32287289A JP 2990608 B2 JP2990608 B2 JP 2990608B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- treatment
- plasma
- treated
- cfc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M10/00—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
- D06M10/04—Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
- D06M10/08—Organic compounds
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M14/00—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials
- D06M14/18—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation
- D06M14/26—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation on to materials of synthetic origin
- D06M14/30—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation on to materials of synthetic origin of macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- D06M14/32—Polyesters
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M14/00—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials
- D06M14/18—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation
- D06M14/26—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation on to materials of synthetic origin
- D06M14/30—Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials using wave energy or particle radiation on to materials of synthetic origin of macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- D06M14/34—Polyamides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/08—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain an anti-friction or anti-adhesive surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
- B29C2059/145—Atmospheric plasma
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、含フッ素化合物を含むガスを用いて被処理
物表面を大気圧グロープラズマ法により処理することに
より、被処理物の表面エネルギーを低下させる表面処理
方法に関する。
物表面を大気圧グロープラズマ法により処理することに
より、被処理物の表面エネルギーを低下させる表面処理
方法に関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 従来、プラスチックなどの固体表面を撥水化する方法
としてCF4,C2F6,SF6,NF3などのフッ素化合物などを用
い、減圧下でプラズマ処理する方法が種々提案されてい
る。このようなプラズマ処理によれば、プラズマ中に生
じたフッ素原子やフッ素を含む基が被処理物表面の結合
手と非選択的に結合し、被処理物表面がフッ素原子やフ
ッ素原子を含む基で覆われ、該被処理物表面はポリテト
ラフルオロエチレン（テフロン）と類似の分子構造やCF
3基などの含フッ素基を持つ構造となる。これにより被
処理物の表面エネルギーが低下し、表面が撥水化される
ものである。
としてCF4,C2F6,SF6,NF3などのフッ素化合物などを用
い、減圧下でプラズマ処理する方法が種々提案されてい
る。このようなプラズマ処理によれば、プラズマ中に生
じたフッ素原子やフッ素を含む基が被処理物表面の結合
手と非選択的に結合し、被処理物表面がフッ素原子やフ
ッ素原子を含む基で覆われ、該被処理物表面はポリテト
ラフルオロエチレン（テフロン）と類似の分子構造やCF
3基などの含フッ素基を持つ構造となる。これにより被
処理物の表面エネルギーが低下し、表面が撥水化される
ものである。
しかし、CF4,C2F6,SF6,NF3などのフッ素化合物を用い
たプラズマ処理による撥水化処理は、その撥水化のレベ
ルが必ずしも十分といえるものではなく、その上比較的
短時間で撥水性能が低下してしまうことが多い。
たプラズマ処理による撥水化処理は、その撥水化のレベ
ルが必ずしも十分といえるものではなく、その上比較的
短時間で撥水性能が低下してしまうことが多い。
また、このようなプラズマ処理は、通常10Torr以下の
減圧下で行なわれるので、これを工業的に実施するため
には、大型の真空装置が必要となり、設備費や処理コス
トが大きくなる。更に、被処理物が水分やガス可塑剤な
どを多く含む場合は、これらが減圧雰囲気中で気化し、
被処理物表面から放出され、このためプラズマ処理にお
いて目的とする性能や機能が得られない場合もある。し
かも、このようなプラズマ処理では、処理中に熱が発生
しやすく、このため低融点物質からなる被処理物には適
用し難い。
減圧下で行なわれるので、これを工業的に実施するため
には、大型の真空装置が必要となり、設備費や処理コス
トが大きくなる。更に、被処理物が水分やガス可塑剤な
どを多く含む場合は、これらが減圧雰囲気中で気化し、
被処理物表面から放出され、このためプラズマ処理にお
いて目的とする性能や機能が得られない場合もある。し
かも、このようなプラズマ処理では、処理中に熱が発生
しやすく、このため低融点物質からなる被処理物には適
用し難い。
一方、CF4,C2F6,SF6,NF3などの含フッ素化合物と不活
性ガスとの混合ガスを用い、大気圧で被処理物表面を大
気圧グロープラズマ法により処理することにより、被処
理物の表面エネルギーを低下させ、撥水化する方法（特
開昭62−235339号公報）も提案されている。この方法に
よれば上プラズマ処理に比べて経時変化の少ない撥水化
処理を行なうことができる。更に、この処理法は大気圧
付近の圧力下で行なわれるため、大型の真空装置を必要
とせず、また水分やガス可塑剤などを多く含むものにも
良好に適応し得、また処理時の発熱もほとんど生じるこ
とがなく、このため低融点の被処理物にも適応可能であ
る。
性ガスとの混合ガスを用い、大気圧で被処理物表面を大
気圧グロープラズマ法により処理することにより、被処
理物の表面エネルギーを低下させ、撥水化する方法（特
開昭62−235339号公報）も提案されている。この方法に
よれば上プラズマ処理に比べて経時変化の少ない撥水化
処理を行なうことができる。更に、この処理法は大気圧
付近の圧力下で行なわれるため、大型の真空装置を必要
とせず、また水分やガス可塑剤などを多く含むものにも
良好に適応し得、また処理時の発熱もほとんど生じるこ
とがなく、このため低融点の被処理物にも適応可能であ
る。
しかし、この処理方法でもその撥水化のレベルが上記
の減圧下に行なう処理と同様に不十分であり、このため
撥水化レベルの向上が望まれる。
の減圧下に行なう処理と同様に不十分であり、このため
撥水化レベルの向上が望まれる。
なお、通常フッ素化合物により直接撥水化するのが困
難な素材、例えば金属、半導体、金属酸化物などの無機
材料等に対して撥水化処理を行なう方法として、まず炭
化水素系ガスと不活性ガスとの混合ガスなどを用い、大
気圧グロープラズマ法により処理を行なって被処理物表
面にカーボン膜や炭化水素膜を堆積させた後、該膜上に
上記撥水化処理を施す方法（特開昭61−238961号公報）
があるが、この方法では、カーボン膜や炭化水素膜の堆
積速度が100Å/min程度と極めて遅く、また膜堆積処理
と撥水化処理との二段階処理となるため、非常に手間が
かかる。従ってこのような素材に対しても簡単かつ確実
に撥水化処理し得る処理方法の開発が望まれている。
難な素材、例えば金属、半導体、金属酸化物などの無機
材料等に対して撥水化処理を行なう方法として、まず炭
化水素系ガスと不活性ガスとの混合ガスなどを用い、大
気圧グロープラズマ法により処理を行なって被処理物表
面にカーボン膜や炭化水素膜を堆積させた後、該膜上に
上記撥水化処理を施す方法（特開昭61−238961号公報）
があるが、この方法では、カーボン膜や炭化水素膜の堆
積速度が100Å/min程度と極めて遅く、また膜堆積処理
と撥水化処理との二段階処理となるため、非常に手間が
かかる。従ってこのような素材に対しても簡単かつ確実
に撥水化処理し得る処理方法の開発が望まれている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、通常のフ
ッ素化合物を用いたプラズマ処理やコロナ処理には不適
当とされている素材にも簡単かつ確実に良好な表面エネ
ルギー低下処理を施すことができ、しかも処理後の経時
変化の少ない高度な低表面エネルギー化が達成される表
面処理方法を提供することを目的とする。
ッ素化合物を用いたプラズマ処理やコロナ処理には不適
当とされている素材にも簡単かつ確実に良好な表面エネ
ルギー低下処理を施すことができ、しかも処理後の経時
変化の少ない高度な低表面エネルギー化が達成される表
面処理方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段及び作用 本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行な
った結果、含フッ素化合物を含有するガスを用い、被処
理物表面を大気圧グロープラズマ法により処理して、被
処理物の表面エネルギーを低下させる表面処理方法にお
いて、上記含フッ素化合物としてオクタフルオロシクロ
ブタン（OFB）などの環状フッ化炭化水素又はヘキサフ
ルオロプロピレン（HFP）などの不飽和フッ化炭化水
素、即ち環状炭化水素又は不飽和炭化水素の水素原子の
一部又は全部をフッ素原子を含むハロゲン基で置換した
含フッ素化合物を用いることにより、良好な表面エネル
ギー低下処理を行なうことができ、このため水分やガス
可塑剤などを多く含む素材にも良好に適用し得ると共
に、処理中にほとんど発熱がないので、低融点物質から
なる素材にも良好に適用し得、その上従来フッ素化合物
により撥水化するのが困難とされていた素材に対しても
一度の処理で良好な撥水化処理を施すことができ、しか
も従来よりも被処理物の表面エネルギーをより低下させ
ることができることを見い出し、本発明を完成したもの
である。
った結果、含フッ素化合物を含有するガスを用い、被処
理物表面を大気圧グロープラズマ法により処理して、被
処理物の表面エネルギーを低下させる表面処理方法にお
いて、上記含フッ素化合物としてオクタフルオロシクロ
ブタン（OFB）などの環状フッ化炭化水素又はヘキサフ
ルオロプロピレン（HFP）などの不飽和フッ化炭化水
素、即ち環状炭化水素又は不飽和炭化水素の水素原子の
一部又は全部をフッ素原子を含むハロゲン基で置換した
含フッ素化合物を用いることにより、良好な表面エネル
ギー低下処理を行なうことができ、このため水分やガス
可塑剤などを多く含む素材にも良好に適用し得ると共
に、処理中にほとんど発熱がないので、低融点物質から
なる素材にも良好に適用し得、その上従来フッ素化合物
により撥水化するのが困難とされていた素材に対しても
一度の処理で良好な撥水化処理を施すことができ、しか
も従来よりも被処理物の表面エネルギーをより低下させ
ることができることを見い出し、本発明を完成したもの
である。
従って、本発明は、含フッ素化合物を含有するガスを
用い、被処理物表面を大気圧グロープラズマ法により処
理して、被処理物の表面エネルギーを低下させる表面処
理方法において、上記含フッ素化合物として環状炭化水
素又は不飽和炭化水素の水素原子の一部又は全部をフッ
素原子を含むハロゲン基で置換した含フッ素化合物を使
用することを特徴とする表面処理方法を提供する。
用い、被処理物表面を大気圧グロープラズマ法により処
理して、被処理物の表面エネルギーを低下させる表面処
理方法において、上記含フッ素化合物として環状炭化水
素又は不飽和炭化水素の水素原子の一部又は全部をフッ
素原子を含むハロゲン基で置換した含フッ素化合物を使
用することを特徴とする表面処理方法を提供する。
ここで、本発明方法により、従来の処理方法に比べて
より高いレベルの低表面エネルギー化が達成される理由
は、環状炭化水素又は不飽和炭化水素の水素原子の一部
又は全部をフッ素原子を含むハロゲン基に置換した含フ
ッ素化合物がある程度その分子構造の保持したまま被処
理物表面で重合し、堆積するためと考えられる。また、
このように膜の堆積と撥水化が同時に行なわれるので、
金属、金属酸化物、半導体等の従来フッ素化合物により
直接撥水化するのが困難とされている素材や絶縁体等に
対しても一度の処理で簡単かつ良好にその表面を撥水化
し得るものである。
より高いレベルの低表面エネルギー化が達成される理由
は、環状炭化水素又は不飽和炭化水素の水素原子の一部
又は全部をフッ素原子を含むハロゲン基に置換した含フ
ッ素化合物がある程度その分子構造の保持したまま被処
理物表面で重合し、堆積するためと考えられる。また、
このように膜の堆積と撥水化が同時に行なわれるので、
金属、金属酸化物、半導体等の従来フッ素化合物により
直接撥水化するのが困難とされている素材や絶縁体等に
対しても一度の処理で簡単かつ良好にその表面を撥水化
し得るものである。
以下、本発明につき、更に詳しく説明する。
本発明の表面処理方法は、前述したように環状炭化水
素又は不飽和炭化水素の水素原子の一部又は全部をフッ
素原子で置換した含フッ素化合物を含むガスを用い、被
処理物表面を大気圧グロープラズマ法により処理するも
のである。
素又は不飽和炭化水素の水素原子の一部又は全部をフッ
素原子で置換した含フッ素化合物を含むガスを用い、被
処理物表面を大気圧グロープラズマ法により処理するも
のである。
ここで、上記環状炭化水素の水素原子の一部又は全部
をフッ素原子を含むハロゲン基で置換した含フッ素化合
物としては、ヘキサフルオロシクロプロパン（フロンＣ
−216）、1,1,2,2−テトラクロロテトラフルオロシクロ
ブタン（フロンＣ−314）、1,2−ジクロロヘキサフルオ
ロシクロブタン（フロンＣ−316）、モノクロロヘプタ
フルオロシクロブタン（フロンＣ−317）、オクタフル
オロシクロブタン（フロンＣ−318,OFB）、1,2,2−トリ
クロロ−3,3,4,4−テトラフルオロシクロブタン（フロ
ンＣ−324）、1,1−ジクロロ−2,2,3,3−テトラフルオ
ロシクロブタン（フロンＣ−334）、１−クロロ−2,2,
3,3−テトラフルオロシクロブタン（フロンＣ−344）、
1,1,2,2−テトラフルオロシクロブタン（フロンＣ−35
4）、1,2−ジクロロテトラフルオロシクロブテン（フロ
ンＣ−1314）、ヘキサフルオロシクロブテン（フロンＣ
−1316）、パーフルオロシクロペンタン、パーフルオロ
シクロヘキサン、パーフルオロシクロヘプタンなどを挙
げることができ、また、不飽和炭化水素の水素原子の一
部又は全部をフッ素原子を含むハロゲン基で置換した含
フッ素化合物としては、トリクロロモノフルオロエチレ
ン（フロン1111）、1,2−ジクロロジフルオロエチレン
（フロン1112）、1,1−ジクロロジフルオロエチレン
（フロン1112a）、モノクロロ−1,1,2−トリフルオロエ
チレン（フロン1113）、テトラフルオロエチレン（フロ
ン1114）、1,2−ジクロロ−２−フルオロエチレン（フ
ロン1121）、1,1−ジクロロ−２−フルオロエチレン
（フロン1121a）、１−クロロ−2,2−ジフルオロエチレ
ン（フロン1122）、１−クロロ−1,2−ジフルオロエチ
レン（フロン1122a）、トリフルオロエチレン（フロン1
123）、１−クロロ−２−フルオロエチレン（フロン113
1）、１−クロロ−１−フルオロエチレン（フロン1131
a）、1,2−ジフロロエチレン（フロン1142）、1,1−ジ
フロロエチレン（フロン1142a）、フルオロエチレン
（フロン1141）、ヘキサフルオロプロピレン（HFP）、
フルオロプロピレン、ジフルオロプロピレン、トリフル
オロプロピレン、テトラフルオロプロピレン、ペンタフ
ルオロプロピレン、オクタフルオロブテン、フルオロブ
テン、ジフルオロブテン、トリフルオロブテン、テトラ
フルオロブテン、ペンタフルオロブテン、ヘキサフルオ
ロブテン、ヘプタフルオロブテン、パーフルオロペンタ
ンなどを挙げることができる。これらの中でも特にHFP
やOFBは比較的安価で入手し易く、また大気中でも安定
であり、同時に処理後の撥水特性も良好であるため、特
に好ましく使用される。
をフッ素原子を含むハロゲン基で置換した含フッ素化合
物としては、ヘキサフルオロシクロプロパン（フロンＣ
−216）、1,1,2,2−テトラクロロテトラフルオロシクロ
ブタン（フロンＣ−314）、1,2−ジクロロヘキサフルオ
ロシクロブタン（フロンＣ−316）、モノクロロヘプタ
フルオロシクロブタン（フロンＣ−317）、オクタフル
オロシクロブタン（フロンＣ−318,OFB）、1,2,2−トリ
クロロ−3,3,4,4−テトラフルオロシクロブタン（フロ
ンＣ−324）、1,1−ジクロロ−2,2,3,3−テトラフルオ
ロシクロブタン（フロンＣ−334）、１−クロロ−2,2,
3,3−テトラフルオロシクロブタン（フロンＣ−344）、
1,1,2,2−テトラフルオロシクロブタン（フロンＣ−35
4）、1,2−ジクロロテトラフルオロシクロブテン（フロ
ンＣ−1314）、ヘキサフルオロシクロブテン（フロンＣ
−1316）、パーフルオロシクロペンタン、パーフルオロ
シクロヘキサン、パーフルオロシクロヘプタンなどを挙
げることができ、また、不飽和炭化水素の水素原子の一
部又は全部をフッ素原子を含むハロゲン基で置換した含
フッ素化合物としては、トリクロロモノフルオロエチレ
ン（フロン1111）、1,2−ジクロロジフルオロエチレン
（フロン1112）、1,1−ジクロロジフルオロエチレン
（フロン1112a）、モノクロロ−1,1,2−トリフルオロエ
チレン（フロン1113）、テトラフルオロエチレン（フロ
ン1114）、1,2−ジクロロ−２−フルオロエチレン（フ
ロン1121）、1,1−ジクロロ−２−フルオロエチレン
（フロン1121a）、１−クロロ−2,2−ジフルオロエチレ
ン（フロン1122）、１−クロロ−1,2−ジフルオロエチ
レン（フロン1122a）、トリフルオロエチレン（フロン1
123）、１−クロロ−２−フルオロエチレン（フロン113
1）、１−クロロ−１−フルオロエチレン（フロン1131
a）、1,2−ジフロロエチレン（フロン1142）、1,1−ジ
フロロエチレン（フロン1142a）、フルオロエチレン
（フロン1141）、ヘキサフルオロプロピレン（HFP）、
フルオロプロピレン、ジフルオロプロピレン、トリフル
オロプロピレン、テトラフルオロプロピレン、ペンタフ
ルオロプロピレン、オクタフルオロブテン、フルオロブ
テン、ジフルオロブテン、トリフルオロブテン、テトラ
フルオロブテン、ペンタフルオロブテン、ヘキサフルオ
ロブテン、ヘプタフルオロブテン、パーフルオロペンタ
ンなどを挙げることができる。これらの中でも特にHFP
やOFBは比較的安価で入手し易く、また大気中でも安定
であり、同時に処理後の撥水特性も良好であるため、特
に好ましく使用される。
また、上記含フッ素化合物と混合されるガスとしては
不活性ガスが好適であり、不活性ガスとしてはヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、窒素等又はそれらの混合ガスが
使用されるが、特にヘリウムガスが好ましく用いられ
る。
不活性ガスが好適であり、不活性ガスとしてはヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、窒素等又はそれらの混合ガスが
使用されるが、特にヘリウムガスが好ましく用いられ
る。
本発明の表面処理方法は、上記含フッ素化合物を含む
ガスを用いて被処理物表面を大気圧グロープラズマ法に
より処理するものであり、この場合プラズマの発生方法
としては、プラズマを発生し、かつこれにより被処理物
表面に反応を起こすことが可能な方法であればどのよう
な方法であってもよいが、具体的には、内部電極方式に
よる直流グロー放電や低周波放電、内部電極方式、外部
電極方式又はコイル形方式による高周波放電、導波管方
式によるマイクロ波放電又は電子サイクロトロン共鳴放
電などが挙げられる。このうち、電極のうちの少なくと
も一方を絶縁体で被覆し、交流電源（好ましくは数百Hz
以上）で放電させる方法が最も好ましく用いられる。
ガスを用いて被処理物表面を大気圧グロープラズマ法に
より処理するものであり、この場合プラズマの発生方法
としては、プラズマを発生し、かつこれにより被処理物
表面に反応を起こすことが可能な方法であればどのよう
な方法であってもよいが、具体的には、内部電極方式に
よる直流グロー放電や低周波放電、内部電極方式、外部
電極方式又はコイル形方式による高周波放電、導波管方
式によるマイクロ波放電又は電子サイクロトロン共鳴放
電などが挙げられる。このうち、電極のうちの少なくと
も一方を絶縁体で被覆し、交流電源（好ましくは数百Hz
以上）で放電させる方法が最も好ましく用いられる。
ところで、グロー放電（処理に用いる均一放電）は、
従来“「プラズマ基礎工学」堤井信力著，内田老鶴圃
（1986年）,42頁”に記載されているように、「低ガス
圧で生ずる」と定義されており、大気圧では高温のアー
ク放電、コロナ放電、火花放電等の不均一な放電のみが
考えられ、大気圧でのグロー放電は一般には不可能と思
われていた。しかし、最近、ある条件、特に（１）希釈
気体としてHeなどの不活性気体を用いること、（２）好
ましくは少なくとも一方の電極を絶縁体で被覆するこ
と、（３）交流電源、好ましくは数百Hz以上の交流電源
で放電させることという条件では、容易に大気圧でグロ
ープラズマが安定に得られることが提案された（特開昭
62−235339号公報，特開平１−306569号公報，特開平２
−15171号公報）が、本発明における大気圧グロープラ
ズマ法による処理条件もかかる公知の条件を採用し得
る。
従来“「プラズマ基礎工学」堤井信力著，内田老鶴圃
（1986年）,42頁”に記載されているように、「低ガス
圧で生ずる」と定義されており、大気圧では高温のアー
ク放電、コロナ放電、火花放電等の不均一な放電のみが
考えられ、大気圧でのグロー放電は一般には不可能と思
われていた。しかし、最近、ある条件、特に（１）希釈
気体としてHeなどの不活性気体を用いること、（２）好
ましくは少なくとも一方の電極を絶縁体で被覆するこ
と、（３）交流電源、好ましくは数百Hz以上の交流電源
で放電させることという条件では、容易に大気圧でグロ
ープラズマが安定に得られることが提案された（特開昭
62−235339号公報，特開平１−306569号公報，特開平２
−15171号公報）が、本発明における大気圧グロープラ
ズマ法による処理条件もかかる公知の条件を採用し得
る。
本発明の処理方法は、通常上記方法によりプラズマ放
電領域が形成される処理室内に被処理物を収容し、この
処理室に上記含フッ素化合物を含むガスを連続的に供給
することにより実施される。この場合、上記含フッ素化
合物を上記処理室内に供給する方法は大気圧グロープラ
ズマ法により処理時の処理室内の温度や常温下における
該含フッ素化合物の状態によって選定される。即ち、該
含フッ素化合物が処理室内温度や常温下においてガス状
である場合は、これをそのまま処理室内へ流入させるこ
とができ、また液状である場合には、蒸気圧が比較的高
ければその蒸気をそのまま流入してもよいし、その液体
を不活性ガスでバブリングして流入してもよい。一方、
ガス状でなく、しかも蒸気圧が比較的低い場合には、加
熱することにより、ガス状又は蒸気圧が高い状態にして
用いることができる。
電領域が形成される処理室内に被処理物を収容し、この
処理室に上記含フッ素化合物を含むガスを連続的に供給
することにより実施される。この場合、上記含フッ素化
合物を上記処理室内に供給する方法は大気圧グロープラ
ズマ法により処理時の処理室内の温度や常温下における
該含フッ素化合物の状態によって選定される。即ち、該
含フッ素化合物が処理室内温度や常温下においてガス状
である場合は、これをそのまま処理室内へ流入させるこ
とができ、また液状である場合には、蒸気圧が比較的高
ければその蒸気をそのまま流入してもよいし、その液体
を不活性ガスでバブリングして流入してもよい。一方、
ガス状でなく、しかも蒸気圧が比較的低い場合には、加
熱することにより、ガス状又は蒸気圧が高い状態にして
用いることができる。
なお、本発明の表面処理方法により表面低エネルギー
化できる被処理物は板状、シート状、繊維状、ブロック
状等、いかなる形状であっても差支えない。本発明方法
によれば、被処理物表面が低表面エネルギー化されるの
で、撥水化の目的で、またその表面エネルギーの低下に
対応して摩擦係数を低減するので、被処理物表面に接着
剤や粘着剤などに対する離型性を付与する目的で使用す
るなど、種々の用途に用いることができる。
化できる被処理物は板状、シート状、繊維状、ブロック
状等、いかなる形状であっても差支えない。本発明方法
によれば、被処理物表面が低表面エネルギー化されるの
で、撥水化の目的で、またその表面エネルギーの低下に
対応して摩擦係数を低減するので、被処理物表面に接着
剤や粘着剤などに対する離型性を付与する目的で使用す
るなど、種々の用途に用いることができる。
発明の効果 本発明の表面処理方法によれば、処理後の経時変化の
少ない高度な低表面エネルギー化が達成されると共に、
通常のフッ素化合物を用いたプラズマ処理やコロナ処理
には不適当とされている素材にも簡単かつ確実に良好な
撥水化処理を施すことができる。
少ない高度な低表面エネルギー化が達成されると共に、
通常のフッ素化合物を用いたプラズマ処理やコロナ処理
には不適当とされている素材にも簡単かつ確実に良好な
撥水化処理を施すことができる。
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説
明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではな
い。
明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではな
い。
〔実施例1,2、比較例１〕 第１図に示した装置を用い、第１表のA,B,Cに示した
条件でナイロン布、Ｏ−ポリエチレンテレフタレートシ
ート（OPET），不織布，ガラス板，銅板，ステンレスス
チール（SUS），ブラス板及びアルミニウム板にプラズ
マ処理を行なった。なお、第１図中１は処理室、２は含
フッ素化合物供給管、３は不活性ガス供給管、４は上記
含フッ素化合物供給管２と不活性ガス供給管３からのガ
スを混合し、該混合ガスを処理室１へ供給する混合ガス
供給管、5,5は絶縁体で被覆してある電極であり、これ
ら電極5,5間にプラズマ領域が形成され、該電極5,5間に
被処理物を配置して処理を行なう。また、６はプラズマ
発生用電源、７はガス排出管である。
条件でナイロン布、Ｏ−ポリエチレンテレフタレートシ
ート（OPET），不織布，ガラス板，銅板，ステンレスス
チール（SUS），ブラス板及びアルミニウム板にプラズ
マ処理を行なった。なお、第１図中１は処理室、２は含
フッ素化合物供給管、３は不活性ガス供給管、４は上記
含フッ素化合物供給管２と不活性ガス供給管３からのガ
スを混合し、該混合ガスを処理室１へ供給する混合ガス
供給管、5,5は絶縁体で被覆してある電極であり、これ
ら電極5,5間にプラズマ領域が形成され、該電極5,5間に
被処理物を配置して処理を行なう。また、６はプラズマ
発生用電源、７はガス排出管である。
処理終了後、各基材の水滴接触角を測定し、各処理条
件間及び処理前後でこれを比較した。結果を第２表に示
す。
件間及び処理前後でこれを比較した。結果を第２表に示
す。
第２表の結果より、本発明方法によればどのような基
材に対してもより高度な撥水化処理が確実に行なわれる
ことが確認された。
材に対してもより高度な撥水化処理が確実に行なわれる
ことが確認された。
〔実施例３、比較例2,3〕 ナイロン布に第３表に示した処理A,B,Dを施した。な
お、処理Ｄは通常の減圧プラズマ処理装置による処理で
ある。次いで、それぞれのナイロン布について50℃,90
％RH中に放置したときの表面の撥水性の経時変化を調べ
た。なお、撥水性の評価としては、水滴接触角の変化と
共に臨界傾斜角の変化についても調べた。ここで、臨界
傾斜角とは、第２図に示したように、基材（ここではナ
イロン布）８に大きめの水滴９（約60μ）をつけ、基
材８を準静的に傾斜させ、水滴がころがるときの角度θ
である。従って、臨界傾斜角θが小さい程その表面は高
い撥水化がなされていることになる。水滴接触角の変化
を第３図に、臨界傾斜角の変化を第４図にそれぞれ示
す。
お、処理Ｄは通常の減圧プラズマ処理装置による処理で
ある。次いで、それぞれのナイロン布について50℃,90
％RH中に放置したときの表面の撥水性の経時変化を調べ
た。なお、撥水性の評価としては、水滴接触角の変化と
共に臨界傾斜角の変化についても調べた。ここで、臨界
傾斜角とは、第２図に示したように、基材（ここではナ
イロン布）８に大きめの水滴９（約60μ）をつけ、基
材８を準静的に傾斜させ、水滴がころがるときの角度θ
である。従って、臨界傾斜角θが小さい程その表面は高
い撥水化がなされていることになる。水滴接触角の変化
を第３図に、臨界傾斜角の変化を第４図にそれぞれ示
す。
第3,4図に示した結果より、経時変化（親水化）のス
ピードは処理Ａ（比較例２）、処理Ｄ（比較例３）、処
理Ｂ（実施例３）順に遅くなっており、特に大気圧で処
理した処理Ｂにおいては経時変化をほとんど示さず、高
度な撥水性を長期に亘って示すことが確認された。
ピードは処理Ａ（比較例２）、処理Ｄ（比較例３）、処
理Ｂ（実施例３）順に遅くなっており、特に大気圧で処
理した処理Ｂにおいては経時変化をほとんど示さず、高
度な撥水性を長期に亘って示すことが確認された。
第１図は実施例及び比較例において用いたプラズマ放電
装置を示す概略断、第２図は臨界傾斜角を説明する説明
図、第３図は実施例２及び比較例2,3の処理を施したナ
イロン布の水滴接触角の経時変化を示すグラフ、第４図
は同ナイロン布の臨界傾斜角の経時変化を示すグラフで
ある。 １……処理室、２……含フッ素化合物供給管 ３……不活性ガス供給管、４……混合ガス供給管 ５……電極、６……電源 ７……ガス排出管、８……基材 ９……水滴、θ……臨界傾斜角
装置を示す概略断、第２図は臨界傾斜角を説明する説明
図、第３図は実施例２及び比較例2,3の処理を施したナ
イロン布の水滴接触角の経時変化を示すグラフ、第４図
は同ナイロン布の臨界傾斜角の経時変化を示すグラフで
ある。 １……処理室、２……含フッ素化合物供給管 ３……不活性ガス供給管、４……混合ガス供給管 ５……電極、６……電源 ７……ガス排出管、８……基材 ９……水滴、θ……臨界傾斜角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内藤 壽夫 神奈川県川崎市宮前区馬絹969―１ (72)発明者 福浦 幸男 埼玉県狭山市北入曽199―８ (72)発明者 岡崎 幸子 東京都杉並区高井戸東２―20―11 (72)発明者 小駒 益弘 埼玉県和光市下新倉843―15 (56)参考文献 特開 平１−306569（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−235339（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−60730（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−159806（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01J 19/08 C08J 7/00
Claims (1)
- 【請求項１】含フッ素化合物を含有するガスを用い、被
処理物表面を大気圧グロープラズマ法により処理して、
被処理物の表面エネルギーを低下させる表面処理方法に
おいて、上記含フッ素化合物として環状炭化水素又は不
飽和炭化水素の水素原子の一部又は全部をフッ素原子を
含むハロゲン基で置換した含フッ素化合物を使用するこ
とを特徴とする表面処理方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1322872A JP2990608B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 表面処理方法 |
| US07/625,145 US5041304A (en) | 1989-12-13 | 1990-12-10 | Surface treatment method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1322872A JP2990608B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03202145A JPH03202145A (ja) | 1991-09-03 |
| JP2990608B2 true JP2990608B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=18148554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1322872A Expired - Lifetime JP2990608B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 表面処理方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5041304A (ja) |
| JP (1) | JP2990608B2 (ja) |
Families Citing this family (97)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE68922244T2 (de) * | 1988-06-06 | 1995-09-14 | Japan Res Dev Corp | Verfahren zur Durchführung einer Plasmareaktion bei Atmosphärendruck. |
| JP2811820B2 (ja) * | 1989-10-30 | 1998-10-15 | 株式会社ブリヂストン | シート状物の連続表面処理方法及び装置 |
| US5425832A (en) * | 1990-10-05 | 1995-06-20 | Bridgestone Corporation | Surface treatment of fluoropolymer members and preparation of composite products therefrom |
| IT1244843B (it) * | 1990-11-21 | 1994-09-06 | Donegani Guido Ist | Procedimento per ridurre il coefficiente d'attrito e per incrementare l'idrorepellenza di superfici di corpi formati in materiale polimerico |
| JPH06101462B2 (ja) * | 1991-04-30 | 1994-12-12 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 過フッ化炭化水素ポリマ膜を基板に接着する方法および 基板 |
| US5773098A (en) * | 1991-06-20 | 1998-06-30 | British Technology Group, Ltd. | Applying a fluoropolymer film to a body |
| GB9113350D0 (en) * | 1991-06-20 | 1991-08-07 | Thomas Thomas Ronald | Asymmetric/anisotropic fluoropolymer membrane manufacture |
| US5443743A (en) * | 1991-09-11 | 1995-08-22 | Pall Corporation | Gas plasma treated porous medium and method of separation using same |
| US5224441A (en) * | 1991-09-27 | 1993-07-06 | The Boc Group, Inc. | Apparatus for rapid plasma treatments and method |
| FR2697456B1 (fr) * | 1992-10-30 | 1994-12-23 | Air Liquide | Procédé et dispositif de fluxage par voie sèche. |
| US5590887A (en) * | 1992-12-22 | 1997-01-07 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Sealing apparatus |
| JP3286816B2 (ja) * | 1992-12-24 | 2002-05-27 | イーシー化学株式会社 | 大気圧グロ−放電プラズマ処理法 |
| US5466424A (en) * | 1992-12-28 | 1995-11-14 | Bridgestone Corporation | Corona discharge surface treating method |
| KR940018419A (ko) * | 1993-01-18 | 1994-08-18 | 이마무라 가즈수케 | 발수성을 향상시킨 불소 함유 고분자 성형체 및 이로 부터 제조된 세정용 지그 |
| WO1994024358A2 (de) * | 1993-04-21 | 1994-10-27 | Tecnit Ag | Verfahren zur ummantelung von garnen und fasern in textilen gegenständen |
| US5830540A (en) * | 1994-09-15 | 1998-11-03 | Eltron Research, Inc. | Method and apparatus for reactive plasma surfacing |
| JPH08188758A (ja) * | 1995-01-13 | 1996-07-23 | Sekisui Chem Co Ltd | 表面保護フィルム |
| JPH08209084A (ja) * | 1995-02-07 | 1996-08-13 | Sekisui Chem Co Ltd | 粘着テープ及びその製造方法 |
| JPH09249873A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Toyoda Gosei Co Ltd | 弾性製品 |
| JP3798491B2 (ja) * | 1997-01-08 | 2006-07-19 | 東京エレクトロン株式会社 | ドライエッチング方法 |
| DE19717825B4 (de) * | 1997-04-26 | 2004-03-04 | Daimlerchrysler Ag | Verfahren zur Aluminiumnitrid-Beschichtung der Zylinderlauffläche eines Kurbelgehäuses aus einer Al-Basislegierung und entsprechendes Kurbelgehäuse |
| GB9712338D0 (en) * | 1997-06-14 | 1997-08-13 | Secr Defence | Surface coatings |
| PT988412E (pt) * | 1997-06-14 | 2006-05-31 | Secr Defence | Revestimentos de superficies |
| GB9715508D0 (en) * | 1997-07-24 | 1997-10-01 | Scapa Group Plc | Industrial fabrics and method of treatment |
| DE19814805A1 (de) * | 1998-04-02 | 1999-10-07 | Bosch Gmbh Robert | Beschichtungsverfahren eines Wischergummis |
| US6146462A (en) * | 1998-05-08 | 2000-11-14 | Astenjohnson, Inc. | Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same |
| FR2782837B1 (fr) * | 1998-08-28 | 2000-09-29 | Air Liquide | Procede et dispositif de traitement de surface par plasma a pression atmospherique |
| US6315915B1 (en) | 1999-09-02 | 2001-11-13 | Acushnet Company | Treatment for facilitating bonding between golf ball layers and resultant golf balls |
| WO2001060496A1 (en) | 2000-02-15 | 2001-08-23 | Hollingsworth & Vose Company | Melt blown composite hepa filter media and vacuum bag |
| US7455892B2 (en) * | 2000-10-04 | 2008-11-25 | Dow Corning Ireland Limited | Method and apparatus for forming a coating |
| US6476342B1 (en) | 2000-11-24 | 2002-11-05 | Creo Srl | Method of surface preparation using plasma in air |
| WO2002089956A1 (en) * | 2001-05-02 | 2002-11-14 | Hollingsworth & Vose Company | Filter media with enhanced stiffness and increased dust holding capacity |
| TW200409669A (en) * | 2002-04-10 | 2004-06-16 | Dow Corning Ireland Ltd | Protective coating composition |
| GB0208261D0 (en) * | 2002-04-10 | 2002-05-22 | Dow Corning | An atmospheric pressure plasma assembly |
| TW200308187A (en) * | 2002-04-10 | 2003-12-16 | Dow Corning Ireland Ltd | An atmospheric pressure plasma assembly |
| US20030203696A1 (en) * | 2002-04-30 | 2003-10-30 | Healey David Thomas | High efficiency ashrae filter media |
| JP4184344B2 (ja) * | 2002-11-06 | 2008-11-19 | 株式会社野村鍍金 | 真空用部材の表面処理方法 |
| US20040131836A1 (en) * | 2003-01-02 | 2004-07-08 | 3M Innovative Properties Company | Acoustic web |
| US20040231914A1 (en) * | 2003-01-02 | 2004-11-25 | 3M Innovative Properties Company | Low thickness sound absorptive multilayer composite |
| US7320739B2 (en) * | 2003-01-02 | 2008-01-22 | 3M Innovative Properties Company | Sound absorptive multilayer composite |
| US20040152381A1 (en) * | 2003-01-22 | 2004-08-05 | The Procter & Gamble Company | Fibrous products and methods of making and using them |
| US20050008550A1 (en) * | 2003-07-09 | 2005-01-13 | Yixiang Duan | Low-power atmospheric pressure mini-plasma and array for surface and material treatment |
| JP4217564B2 (ja) * | 2003-08-08 | 2009-02-04 | キヤノン株式会社 | 近接場露光用のマスクの製造方法 |
| US7264853B2 (en) * | 2003-08-26 | 2007-09-04 | Intel Corporation | Attaching a pellicle frame to a reticle |
| US7316869B2 (en) | 2003-08-26 | 2008-01-08 | Intel Corporation | Mounting a pellicle to a frame |
| US20060222779A1 (en) * | 2003-09-09 | 2006-10-05 | Gabelnick Aaron M | Glow discharge-generated chemical vapor deposition |
| GB2421960A (en) * | 2003-09-18 | 2006-07-12 | Surface Innovations Ltd | Fibrous products and methods of making and using them |
| US20050064275A1 (en) * | 2003-09-18 | 2005-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Fuel cell gas diffusion layer |
| GB0323295D0 (en) * | 2003-10-04 | 2003-11-05 | Dow Corning | Deposition of thin films |
| US7811949B2 (en) * | 2003-11-25 | 2010-10-12 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of treating nonwoven fabrics with non-ionic fluoropolymers |
| US7931944B2 (en) * | 2003-11-25 | 2011-04-26 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of treating substrates with ionic fluoropolymers |
| US7314667B2 (en) * | 2004-03-12 | 2008-01-01 | Intel Corporation | Process to optimize properties of polymer pellicles and resist for lithography applications |
| US20050202252A1 (en) * | 2004-03-12 | 2005-09-15 | Alexander Tregub | Use of alternative polymer materials for "soft" polymer pellicles |
| GB0406049D0 (en) * | 2004-03-18 | 2004-04-21 | Secr Defence | Surface coatings |
| EA010940B1 (ru) * | 2004-11-05 | 2008-12-30 | Дау Корнинг Айэлэнд Лимитед | Плазменная система |
| US20060110997A1 (en) * | 2004-11-24 | 2006-05-25 | Snowden Hue S | Treated nonwoven fabrics and method of treating nonwoven fabrics |
| US7195360B2 (en) * | 2004-12-28 | 2007-03-27 | 3M Innovative Properties Company | Prismatic retroreflective article and method |
| CN100526917C (zh) * | 2004-12-28 | 2009-08-12 | 3M创新有限公司 | 具有含氟或含硅的棱镜的棱镜式逆向反射制品 |
| GB0509648D0 (en) * | 2005-05-12 | 2005-06-15 | Dow Corning Ireland Ltd | Plasma system to deposit adhesion primer layers |
| GB2434368B (en) | 2006-01-20 | 2010-08-25 | P2I Ltd | Plasma coated laboratory consumables |
| GB2434369B (en) * | 2006-01-20 | 2010-08-25 | P2I Ltd | Plasma coated electrical or electronic devices |
| DE102006013710A1 (de) * | 2006-03-24 | 2007-09-27 | Air Liquide Deutschland Gmbh | Wischerblatt für einen Scheibenwischer und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US20080044588A1 (en) * | 2006-08-15 | 2008-02-21 | Sakhrani Vinay G | Method for Treating a Hydrophilic Surface |
| US8084103B2 (en) * | 2006-08-15 | 2011-12-27 | Sakhrani Vinay G | Method for treating a hydrophilic surface |
| US9157191B2 (en) * | 2006-11-02 | 2015-10-13 | Apjet, Inc. | Treatment of fibrous materials using atmospheric pressure plasma polymerization |
| CN101821020A (zh) * | 2007-09-06 | 2010-09-01 | 布鲁塞尔大学 | 由前体单体沉积氟化层的方法 |
| US8962097B1 (en) * | 2007-09-07 | 2015-02-24 | Edward Maxwell Yokley | Surface properties of polymeric materials with nanoscale functional coating |
| JP5015705B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2012-08-29 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 層間絶縁膜形成方法、層間絶縁膜、半導体デバイス、および半導体製造装置 |
| JP5128303B2 (ja) * | 2008-02-06 | 2013-01-23 | Ｔｏｗａ株式会社 | 成形装置及び成形方法 |
| US8361276B2 (en) * | 2008-02-11 | 2013-01-29 | Apjet, Inc. | Large area, atmospheric pressure plasma for downstream processing |
| US8286561B2 (en) | 2008-06-27 | 2012-10-16 | Ssw Holding Company, Inc. | Spill containing refrigerator shelf assembly |
| US11786036B2 (en) | 2008-06-27 | 2023-10-17 | Ssw Advanced Technologies, Llc | Spill containing refrigerator shelf assembly |
| CA2739903C (en) | 2008-10-07 | 2016-12-06 | Ross Technology Corporation | Highly durable superhydrophobic, oleophobic and anti-icing coatings and methods and compositions for their preparation |
| JP5458272B2 (ja) * | 2009-01-27 | 2014-04-02 | 国立大学法人 香川大学 | 可視光域で透明な表示装置用防汚性フェースプレートとその製造方法及びそれらを用いた表示装置及び物品 |
| US20100212272A1 (en) * | 2009-02-24 | 2010-08-26 | Hollingsworth & Vose Company | Filter media suitable for ashrae applications |
| MX343584B (es) | 2009-11-04 | 2016-11-10 | Ssw Holding Co Inc | Superficies de equipos de coccion que tienen una estructura para la contencion de derrames y metodos de fabricarlas. |
| BR112012023312A2 (pt) | 2010-03-15 | 2019-09-24 | Ross Tech Corporation | desentupidor e métodos de produção de superfícies hidrofóbicas |
| US20110241269A1 (en) | 2010-04-01 | 2011-10-06 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles |
| US8445074B2 (en) | 2010-04-01 | 2013-05-21 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Atmospheric plasma treatment of tire cords |
| US20120067485A1 (en) * | 2010-09-20 | 2012-03-22 | Serge Julien Auguste Imhoff | Pneumatic tire and method for making a pneumatic tire |
| BR112013021231A2 (pt) | 2011-02-21 | 2019-09-24 | Ross Tech Corporation | revestimentos super-hidrofóbicos e oleofóbicos com sistemas ligantes de baixo voc |
| US8852693B2 (en) | 2011-05-19 | 2014-10-07 | Liquipel Ip Llc | Coated electronic devices and associated methods |
| EP2756008A4 (en) * | 2011-09-14 | 2015-05-13 | Pacifitech Pty Ltd | PLASMA TREATMENT OF HALOGENATED COMPOUNDS |
| DE102011085428A1 (de) | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Schott Ag | Einlegeboden |
| WO2013090939A1 (en) | 2011-12-15 | 2013-06-20 | Ross Technology Corporation | Composition and coating for superhydrophobic performance |
| WO2014003852A2 (en) | 2012-06-25 | 2014-01-03 | Ross Technology Corporation | Elastomeric coatings having hydrophobic and/or oleophobic properties |
| US9133412B2 (en) | 2012-07-09 | 2015-09-15 | Tribofilm Research, Inc. | Activated gaseous species for improved lubrication |
| US9433971B2 (en) | 2012-10-04 | 2016-09-06 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles |
| US9441325B2 (en) | 2012-10-04 | 2016-09-13 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles |
| CN103848999B (zh) * | 2012-11-30 | 2018-03-06 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种聚合物表面改性方法 |
| US20140272440A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Illinois Tool Works Inc. | Transfer Foils Utilizing Plasma Treatment to Replace the Release Layer |
| DE102013209709A1 (de) * | 2013-05-24 | 2014-11-27 | BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH | Beschichtung von gebrauchsoberflächen mit plasmapolymeren schichten unter atmosphärendruck zur verbesserung der reinigbarkeit |
| ES2565566B1 (es) * | 2015-12-14 | 2017-01-17 | Universidad De Granada | Procedimiento y dispositivo para la obtención de datos útiles para determinar cuantitativamente la capacidad antiadherente |
| EP3484949B1 (en) | 2016-07-18 | 2021-02-10 | Unilever N.V. | A method of modifying the dispensing properties of a container |
| EP4289520A3 (en) * | 2017-08-23 | 2024-03-13 | Molecular Plasma Group SA | Soft plasma polymerization process for a mechanically durable superhydrophobic nanostructured coating |
| US20210214887A1 (en) * | 2018-05-31 | 2021-07-15 | Xefco Pty Ltd | Improved water repellent substrate and application method therefor |
| CN113226389B (zh) * | 2018-11-14 | 2022-11-08 | 乐通公司 | 在经改性设备表面上具有药物洗脱涂层的医疗设备 |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP1322872A patent/JP2990608B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-12-10 US US07/625,145 patent/US5041304A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03202145A (ja) | 1991-09-03 |
| US5041304A (en) | 1991-08-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2990608B2 (ja) | 表面処理方法 | |
| JP3206095B2 (ja) | 表面処理方法及びその装置 | |
| US5795399A (en) | Semiconductor device manufacturing apparatus, method for removing reaction product, and method of suppressing deposition of reaction product | |
| TW410240B (en) | Method for cleaning etch by-product from plasma chamber surfaces | |
| JPH0831451B2 (ja) | プラズマ反応容器のクリーニング方法 | |
| EP1619268A2 (en) | Process for titanium nitride removal | |
| US20040162450A1 (en) | Process for producing perfluorocarbons and use thereof | |
| CA2222620A1 (en) | Method and apparatus for cleaning surfaces with a glow discharge plasma at one atmosphere of pressure | |
| CN1697892A (zh) | 碳氟氧基础化学的使用远端源的化学气相沉积室清洁方法 | |
| JPS6350478A (ja) | 薄膜形成法 | |
| JP2002151478A (ja) | ドライエッチング方法及びその装置 | |
| JP2904723B2 (ja) | クリーニングガス | |
| JPH0613615B2 (ja) | プラスチック表面改質方法 | |
| JP3649650B2 (ja) | 基板エッチング方法、半導体装置製造方法 | |
| JP3014111B2 (ja) | 大気圧グロープラズマエッチング方法 | |
| JP3057742B2 (ja) | フッ素系部材の表面処理方法及びフッ素系部材の複合化方法 | |
| TWI374944B (ja) | ||
| JPS61136678A (ja) | 高硬度炭素膜形成方法 | |
| JP3093072B2 (ja) | 表面改質方法 | |
| JPH08188663A (ja) | 基材の表面処理方法 | |
| JPH02127442A (ja) | フツ化オレフイン重合体成形物の表面処理法 | |
| JPH07166356A (ja) | 基板の表面処理方法 | |
| JPH08217897A (ja) | プラズマ表面処理方法及びプラスチック表面処理装置 | |
| JPH08134666A (ja) | ドライエッチング方法 | |
| JP3134001B2 (ja) | フッ素フイルムの表面改質方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071015 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081015 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091015 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101015 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101015 Year of fee payment: 11 |