JP2947621B2 - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JP2947621B2 JP2947621B2 JP2416892A JP41689290A JP2947621B2 JP 2947621 B2 JP2947621 B2 JP 2947621B2 JP 2416892 A JP2416892 A JP 2416892A JP 41689290 A JP41689290 A JP 41689290A JP 2947621 B2 JP2947621 B2 JP 2947621B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic layer
- layer
- sub
- main
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 40
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 191
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 29
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 28
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 8
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 229910018523 Al—S Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001199 N alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018499 Ni—F Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
- G11B5/3146—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers
- G11B5/3153—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers including at least one magnetic thin film coupled by interfacing to the basic magnetic thin film structure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、媒体対向面で下部磁性
層と上部磁性層により磁気ギャップ層を挾む構造の薄膜
磁気ヘッドに関する。
層と上部磁性層により磁気ギャップ層を挾む構造の薄膜
磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置に用いられる磁
気ヘッドにあっては、磁気ディスク媒体に対する高密度
化および高効率化が進められ、その形状もますます小型
化されるとともに、高精度化がなされている。このよう
な要求に対し、磁気記録に寄与する磁極先端部での磁界
分布が急峻で高密度な磁気記録を可能とする小型の薄膜
磁気ヘッドが種々提案され、実用化されている。
気ヘッドにあっては、磁気ディスク媒体に対する高密度
化および高効率化が進められ、その形状もますます小型
化されるとともに、高精度化がなされている。このよう
な要求に対し、磁気記録に寄与する磁極先端部での磁界
分布が急峻で高密度な磁気記録を可能とする小型の薄膜
磁気ヘッドが種々提案され、実用化されている。
【０００３】図５は、この種の薄膜磁気ヘッドの一構造
例を示すものである。図５に示す薄膜磁気ヘッドＡは、
基板２４上に下部絶縁層２６を介して下部磁性層１４と
ギャップ層１０が積層され、その上に層間絶縁層２０で
被包されたコイル導体２２が積層され、それらの上に上
部磁性層１２と被覆層１６とが積層された構造となって
いる。ここで現在、前記磁性層１２,１４をパーマロイ
から構成することが一般的である。
例を示すものである。図５に示す薄膜磁気ヘッドＡは、
基板２４上に下部絶縁層２６を介して下部磁性層１４と
ギャップ層１０が積層され、その上に層間絶縁層２０で
被包されたコイル導体２２が積層され、それらの上に上
部磁性層１２と被覆層１６とが積層された構造となって
いる。ここで現在、前記磁性層１２,１４をパーマロイ
から構成することが一般的である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この構造の薄膜磁気ヘ
ッドＡの現状での最大の欠点は、パーマロイ製の磁性層
１２,１４を使用しているために、パーマロイよりも磁
気特性に優れた磁性体を使用している薄膜磁気ヘッド以
外の他の種類の磁気ヘッドに比較して記録特性に劣る面
であり、特に、保磁力の高い磁気記録媒体には磁気情報
の書き込みが難しい問題がある。このため、現在多用さ
れているパーマロイよりも磁気特性に優れた磁性材料を
使用して磁性層１２,１４を形成するならば、記録特性
が向上することは種々のシュミレーションや実験などか
らも判明していることである。
ッドＡの現状での最大の欠点は、パーマロイ製の磁性層
１２,１４を使用しているために、パーマロイよりも磁
気特性に優れた磁性体を使用している薄膜磁気ヘッド以
外の他の種類の磁気ヘッドに比較して記録特性に劣る面
であり、特に、保磁力の高い磁気記録媒体には磁気情報
の書き込みが難しい問題がある。このため、現在多用さ
れているパーマロイよりも磁気特性に優れた磁性材料を
使用して磁性層１２,１４を形成するならば、記録特性
が向上することは種々のシュミレーションや実験などか
らも判明していることである。
【０００５】ところが、前記上部磁性層１２と下部磁性
層１４を現在知られている高磁束密度かつ高透磁率の
膜、例えばアモルファス合金膜、Ｆe-Ｎ合金膜などから
構成しようとすると、これらがいずれも熱的に不安定で
あり、耐腐食性に問題があるために、実用的ではない問
題がある。また、熱的に安定な磁性材料を用い、この磁
性材料の成分調節や製造条件の調節を行って前記安定な
磁性材料を高磁束密度材料にすると、透磁率を高くでき
ない問題があった。
層１４を現在知られている高磁束密度かつ高透磁率の
膜、例えばアモルファス合金膜、Ｆe-Ｎ合金膜などから
構成しようとすると、これらがいずれも熱的に不安定で
あり、耐腐食性に問題があるために、実用的ではない問
題がある。また、熱的に安定な磁性材料を用い、この磁
性材料の成分調節や製造条件の調節を行って前記安定な
磁性材料を高磁束密度材料にすると、透磁率を高くでき
ない問題があった。
【０００６】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、従来の薄膜磁気ヘッドで扱っていた従来の磁気記録
媒体よりも高い保磁力の磁気記録媒体に対して磁気情報
の書き込みと読み出しができる薄膜磁気ヘッドを提供す
ることを目的とする。
で、従来の薄膜磁気ヘッドで扱っていた従来の磁気記録
媒体よりも高い保磁力の磁気記録媒体に対して磁気情報
の書き込みと読み出しができる薄膜磁気ヘッドを提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、基板上に、下部絶縁層と、下部磁性層と、ギャップ
層と、層間絶縁層で被包されたコイル導体と、上部磁性
層と、被覆層とが積層されてなる薄膜磁気ヘッドにおい
て、磁気記録媒体との対向面で上部磁性層と下部磁性層
の間にはギャップ層が配置され、前記磁気記録媒体との
対向面より内部にてコイル導体が被包され、上部磁性層
と下部磁性層のうち、少なくとも一方が、主磁性層と副
磁性層とからなり、前記副磁性層は前記ギャップ層と前
記主磁性層の間に配置され、前記主磁性層がＮｉ−Ｆｅ
系合金またはＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金からなり、前記副
磁性層がＣｏ−Ｎｉ−Ｆｅ系合金からなり、前記副磁性
層の飽和磁束密度が主磁性層の飽和磁束密度よりも大き
く、前記副磁性層の透磁率が前記主磁性層の透磁率より
も小さく、前記副磁性層の膜厚が前記主磁性層の膜厚よ
りも小さく、前記副磁性層の前記主磁性層に対する膜厚
の比が０より大きく、１／４以下であることを特徴とす
る薄膜磁気ヘッドを前記課題の解決手段とした。
は、基板上に、下部絶縁層と、下部磁性層と、ギャップ
層と、層間絶縁層で被包されたコイル導体と、上部磁性
層と、被覆層とが積層されてなる薄膜磁気ヘッドにおい
て、磁気記録媒体との対向面で上部磁性層と下部磁性層
の間にはギャップ層が配置され、前記磁気記録媒体との
対向面より内部にてコイル導体が被包され、上部磁性層
と下部磁性層のうち、少なくとも一方が、主磁性層と副
磁性層とからなり、前記副磁性層は前記ギャップ層と前
記主磁性層の間に配置され、前記主磁性層がＮｉ−Ｆｅ
系合金またはＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金からなり、前記副
磁性層がＣｏ−Ｎｉ−Ｆｅ系合金からなり、前記副磁性
層の飽和磁束密度が主磁性層の飽和磁束密度よりも大き
く、前記副磁性層の透磁率が前記主磁性層の透磁率より
も小さく、前記副磁性層の膜厚が前記主磁性層の膜厚よ
りも小さく、前記副磁性層の前記主磁性層に対する膜厚
の比が０より大きく、１／４以下であることを特徴とす
る薄膜磁気ヘッドを前記課題の解決手段とした。
【０００８】また、請求項２記載の発明は、前記副磁性
層の厚さが０より大きく、０．５μｍ以下であり、前記
主磁性層の厚さが０より大きく、２μｍ以下であること
を特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッドを前記課
題の解決手段とした。また、請求項３記載の発明は、前
記副磁性層の飽和磁束密度と透磁率の各値が次式の関係
を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載の薄
膜磁気ヘッドを前記課題の解決手段とした。 飽和磁束密度（Ｂs）≧１．７Ｔ、透磁率（μ）≦５０
０
層の厚さが０より大きく、０．５μｍ以下であり、前記
主磁性層の厚さが０より大きく、２μｍ以下であること
を特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッドを前記課
題の解決手段とした。また、請求項３記載の発明は、前
記副磁性層の飽和磁束密度と透磁率の各値が次式の関係
を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載の薄
膜磁気ヘッドを前記課題の解決手段とした。 飽和磁束密度（Ｂs）≧１．７Ｔ、透磁率（μ）≦５０
０
【０００９】
【作用】本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、高い飽和磁
束密度と低い透磁率の副磁性層と、低い飽和磁束密度と
高い透磁率の主磁性層とが共同して磁気記録を行うの
で、主磁性層と副磁性層とによって磁性層全体で高い飽
和磁束密度と高い透磁率でもって磁気記録と読み出しが
できる。
束密度と低い透磁率の副磁性層と、低い飽和磁束密度と
高い透磁率の主磁性層とが共同して磁気記録を行うの
で、主磁性層と副磁性層とによって磁性層全体で高い飽
和磁束密度と高い透磁率でもって磁気記録と読み出しが
できる。
【００１０】図１は本発明の一実施例の薄膜磁気ヘッド
Ｂの構造を示すもので、この実施例の薄膜磁気ヘッドＢ
は、図５に示す従来の薄膜磁気ヘッドと同様な構成であ
り、基板２４上に、下部絶縁層２６と、下部磁性層１４
と、ギャップ層１０と、層間絶縁層２０で被包されたコ
イル導体２２と、上部磁性層１３と、被覆層１６とが積
層されている。
Ｂの構造を示すもので、この実施例の薄膜磁気ヘッドＢ
は、図５に示す従来の薄膜磁気ヘッドと同様な構成であ
り、基板２４上に、下部絶縁層２６と、下部磁性層１４
と、ギャップ層１０と、層間絶縁層２０で被包されたコ
イル導体２２と、上部磁性層１３と、被覆層１６とが積
層されている。
【００１１】本実施例において従来の薄膜磁気ヘッドＡ
と異なっているのは、上部磁性層１３が主磁性層１３a
と副磁性層１３bとから構成されている点である。
と異なっているのは、上部磁性層１３が主磁性層１３a
と副磁性層１３bとから構成されている点である。
【００１２】前記主磁性層１３aは、従来構造の薄膜磁
気ヘッドＡにおいて用いられている上部磁性層１２の構
成材料と同等のもの(例えばＦe-Ｎi系合金のパーマロ
イ)から構成されている。前記主磁性層１３aの厚さは、
通常の薄膜磁気ヘッドとほぼ同等であり、具体的には１
〜数μm程度である。従ってこの主磁性層１３aは、飽和
磁束密度は従来と同程度であり、透磁率も従来と同程度
である。なお、この主磁性層１３aを構成する材料は、
Ｆe-Ａl-Ｓi系合金のセンダストなどを用いても良い。
気ヘッドＡにおいて用いられている上部磁性層１２の構
成材料と同等のもの(例えばＦe-Ｎi系合金のパーマロ
イ)から構成されている。前記主磁性層１３aの厚さは、
通常の薄膜磁気ヘッドとほぼ同等であり、具体的には１
〜数μm程度である。従ってこの主磁性層１３aは、飽和
磁束密度は従来と同程度であり、透磁率も従来と同程度
である。なお、この主磁性層１３aを構成する材料は、
Ｆe-Ａl-Ｓi系合金のセンダストなどを用いても良い。
【００１３】また、前記副磁性層１３ｂは、飽和磁束密
度がパーマロイよりも高いが透磁率は低い材料から構成
されている。前記副磁性層１３ｂの厚さｔは、０＜ｔ≦
０．５μｍの範囲とすることが好ましい。なお、この副
磁性層１３ｂを構成する材料は、主磁性層１３ａのパー
マロイよりも飽和磁束密度が高いが、透磁率は従来のパ
ーマロイほど高くない材料、具体的にはＣｏ−Ｎｉ−Ｆ
ｅ系合金膜を用いる。
度がパーマロイよりも高いが透磁率は低い材料から構成
されている。前記副磁性層１３ｂの厚さｔは、０＜ｔ≦
０．５μｍの範囲とすることが好ましい。なお、この副
磁性層１３ｂを構成する材料は、主磁性層１３ａのパー
マロイよりも飽和磁束密度が高いが、透磁率は従来のパ
ーマロイほど高くない材料、具体的にはＣｏ−Ｎｉ−Ｆ
ｅ系合金膜を用いる。
【００１４】以上のように構成された薄膜磁気ヘッドＢ
は、従来の薄膜磁気ヘッドＡと同様に磁気ディスクなど
の磁気記録媒体に対して磁気信号の書き込みと読み出し
を行って使用する。
は、従来の薄膜磁気ヘッドＡと同様に磁気ディスクなど
の磁気記録媒体に対して磁気信号の書き込みと読み出し
を行って使用する。
【００１５】この際、副磁性層１３bの飽和磁束密度が
高いので、保磁力の高い磁気記録媒体にも対応できる。
また、主磁性層１３aは高い透磁率を示し、副磁性層１
３bはそれよりも低い透磁率を示すが、副磁性層１３bは
主磁性層１３aよりも薄く、具体的には０.５μm以下に
形成されているので、透磁率の低下割合は少なく、磁性
層１３全体としての透磁率低下の影響は生じない。
高いので、保磁力の高い磁気記録媒体にも対応できる。
また、主磁性層１３aは高い透磁率を示し、副磁性層１
３bはそれよりも低い透磁率を示すが、副磁性層１３bは
主磁性層１３aよりも薄く、具体的には０.５μm以下に
形成されているので、透磁率の低下割合は少なく、磁性
層１３全体としての透磁率低下の影響は生じない。
【００１６】図２は本発明の第２実施例の薄膜磁気ヘッ
ドＣを示すものであり、この実施例の磁気ヘッドＣにお
いて従来例の薄膜磁気ヘッドＡと異なっているのは、下
部磁性層１５を主磁性層１５aと副磁性層１５bとから構
成した点である。その他の構成は従来例の薄膜磁気ヘッ
ドＡと同等である。
ドＣを示すものであり、この実施例の磁気ヘッドＣにお
いて従来例の薄膜磁気ヘッドＡと異なっているのは、下
部磁性層１５を主磁性層１５aと副磁性層１５bとから構
成した点である。その他の構成は従来例の薄膜磁気ヘッ
ドＡと同等である。
【００１７】この実施例の薄膜磁気ヘッドＣにおける主
磁性層１５aは、先に説明した第１実施例の主磁性層１
３aと同等の材料から構成されており、副磁性層１５bは
先の第１実施例の副磁性層１３bと同等の材料から構成
されている。主磁性層１５aと副磁性層１５bの厚さはそ
れぞれ第１実施例の場合と同等である。
磁性層１５aは、先に説明した第１実施例の主磁性層１
３aと同等の材料から構成されており、副磁性層１５bは
先の第１実施例の副磁性層１３bと同等の材料から構成
されている。主磁性層１５aと副磁性層１５bの厚さはそ
れぞれ第１実施例の場合と同等である。
【００１８】この実施例の薄膜磁気ヘッドＣにあっても
第１実施例の薄膜磁気ヘッドＢと同様な効果を得ること
ができる。
第１実施例の薄膜磁気ヘッドＢと同様な効果を得ること
ができる。
【００１９】なお、前記実施例においては上部磁性層と
下部磁性層をそれぞれ主磁性層と副磁性層から構成した
例について説明したが、上部磁性層と下部磁性層の両方
を主磁性層と副磁性層から構成しても良いのは勿論であ
る。
下部磁性層をそれぞれ主磁性層と副磁性層から構成した
例について説明したが、上部磁性層と下部磁性層の両方
を主磁性層と副磁性層から構成しても良いのは勿論であ
る。
【００２０】
【製造例】図１と図２に示す構造の薄膜磁気ヘッドにお
いて、副磁性層の厚さを０〜２μｍの範囲で変更して得
られた薄膜磁気ヘッドによる磁気特性を測定した。
いて、副磁性層の厚さを０〜２μｍの範囲で変更して得
られた薄膜磁気ヘッドによる磁気特性を測定した。
【００２１】図３に、飽和磁束密度(Ｂs)が１.７Ｔ(テ
スラ)を示す磁性層(膜)であって、透磁率(μ)が３００
０を示す磁性層を備えた薄膜磁気ヘッドと、前記と同等
の飽和磁束密度で透磁率が５００を示す磁性層を備えた
薄膜磁気ヘッドにおいて、それぞれの記録磁界と起磁力
との関係を示す。
スラ)を示す磁性層(膜)であって、透磁率(μ)が３００
０を示す磁性層を備えた薄膜磁気ヘッドと、前記と同等
の飽和磁束密度で透磁率が５００を示す磁性層を備えた
薄膜磁気ヘッドにおいて、それぞれの記録磁界と起磁力
との関係を示す。
【００２２】図３に示す結果から、低透磁率の場合は、
０.５ＡＴでは飽和せず、磁界の大きさは低い値となっ
ている。
０.５ＡＴでは飽和せず、磁界の大きさは低い値となっ
ている。
【００２３】図４に、パーマロイ膜（主磁性層）の厚み
を２μｍと一定とし、前記１．７Ｔの飽和磁束密度を示
す磁性層（副磁性層）の厚さを増減した場合の磁性層の
厚さと記録磁界と再生出力の関係を示す。
を２μｍと一定とし、前記１．７Ｔの飽和磁束密度を示
す磁性層（副磁性層）の厚さを増減した場合の磁性層の
厚さと記録磁界と再生出力の関係を示す。
【００２４】図４によるとパーマロイ膜（主磁性層）の
厚みが２μｍのとき、前記１．７Ｔの飽和磁束密度を示
す磁性層（副磁性層）の厚さが比較的膜厚の薄い領域
（０．５μｍ以下の領域）では、記録磁界の上昇が見ら
れ、それ以上では低透磁率の悪影響（飽和しずらい）が
出て向上しない。（図３の結果による。）また、低透磁
率部分が大きくなることにより、再生出力の低下もある
ため、膜厚大の領域は実用的でないことが明らかであ
る。図４から前記１．７Ｔの飽和磁束密度を示す磁性層
（副磁性層）のパーマロイ膜（主磁性層）に対する膜厚
の比が０より大きく、１／４以下の範囲のときは、前記
１．７Ｔの飽和磁束密度を示す磁性層（副磁性層）が無
く（膜厚が０μｍ）、かつパーマロイ膜（主磁性層）の
厚みが２μｍの場合（従来の薄膜磁気ヘッド）よりも記
録磁界を増大できるうえ、前記１．７Ｔの飽和磁束密度
を示す磁性層（副磁性層）が無く（膜厚が０μｍ）、か
つパーマロイ膜（主磁性層）の厚みが２μｍの場合（従
来の薄膜磁気ヘッド）と同じ程度の再生出力を維持でき
ることがわかり、また、前記１．７Ｔの飽和磁束密度を
示す磁性層（副磁性層）のパーマロイ膜（主磁性層）に
対する膜厚の比が１／４を超える場合より再生出力を大
きくできることがわかる。
厚みが２μｍのとき、前記１．７Ｔの飽和磁束密度を示
す磁性層（副磁性層）の厚さが比較的膜厚の薄い領域
（０．５μｍ以下の領域）では、記録磁界の上昇が見ら
れ、それ以上では低透磁率の悪影響（飽和しずらい）が
出て向上しない。（図３の結果による。）また、低透磁
率部分が大きくなることにより、再生出力の低下もある
ため、膜厚大の領域は実用的でないことが明らかであ
る。図４から前記１．７Ｔの飽和磁束密度を示す磁性層
（副磁性層）のパーマロイ膜（主磁性層）に対する膜厚
の比が０より大きく、１／４以下の範囲のときは、前記
１．７Ｔの飽和磁束密度を示す磁性層（副磁性層）が無
く（膜厚が０μｍ）、かつパーマロイ膜（主磁性層）の
厚みが２μｍの場合（従来の薄膜磁気ヘッド）よりも記
録磁界を増大できるうえ、前記１．７Ｔの飽和磁束密度
を示す磁性層（副磁性層）が無く（膜厚が０μｍ）、か
つパーマロイ膜（主磁性層）の厚みが２μｍの場合（従
来の薄膜磁気ヘッド）と同じ程度の再生出力を維持でき
ることがわかり、また、前記１．７Ｔの飽和磁束密度を
示す磁性層（副磁性層）のパーマロイ膜（主磁性層）に
対する膜厚の比が１／４を超える場合より再生出力を大
きくできることがわかる。
【発明の効果】以上説明したように本発明は、基板上
に、下部絶縁層と、下部磁性層と、ギャップ層と、層間
絶縁層で被包されたコイル導体と、上部磁性層と、被覆
層とが積層されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気記
録媒体との対向面で上部磁性層と下部磁性層の間にはギ
ャップ層が配置され、前記磁気記録媒体との対向面より
内部にてコイル導体が被包され、上部磁性層と下部磁性
層のうち、少なくとも一方が、主磁性層と副磁性層とか
らなり、前記副磁性層は前記ギャップ層と前記主磁性層
の間に配置され、前記主磁性層がＮｉ−Ｆｅ系合金また
はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金からなり、前記副磁性層がＣ
ｏ−Ｎｉ−Ｆｅ系合金からなり、前記副磁性層の飽和磁
束密度が主磁性層の飽和磁束密度よりも大きく、前記副
磁性層の透磁率が前記主磁性層の透磁率よりも小さく、
前記副磁性層の膜厚が前記主磁性層の膜厚よりも小さ
く、前記副磁性層の前記主磁性層に対する膜厚の比が０
より大きく、１／４以下であることを特徴とするもので
あるので、主磁性層と副磁性層を合わせた磁性層全体と
して高い飽和磁束密度で、高い透磁率で磁気記録と再生
できる効果がある。また、本願発明においては、特に、
副磁性層がＣｏ−Ｎｉ−Ｆｅ系合金から構成されたこと
により、飽和磁束密度を１．７Ｔ程度とすることがで
き、記録磁界を増大させることができ、高密度記録を行
うことができ、また、従来用いられていたアモルファス
膜よりも耐熱性および耐食性を向上できる。また、副磁
性層をギャップ層と主磁性層との間に配置することによ
り、記録時に大きな磁界勾配が得られ、線記録密度を増
大でき、高記録密度化できる。また、副磁性層の厚さを
０より大きく０．５μｍ以下にするならば、記録磁界を
上昇させつつ低い透磁率の副磁性層の悪影響を避けるこ
とができ、再生出力を低下させることなく高密度記録が
できる効果がある。
に、下部絶縁層と、下部磁性層と、ギャップ層と、層間
絶縁層で被包されたコイル導体と、上部磁性層と、被覆
層とが積層されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気記
録媒体との対向面で上部磁性層と下部磁性層の間にはギ
ャップ層が配置され、前記磁気記録媒体との対向面より
内部にてコイル導体が被包され、上部磁性層と下部磁性
層のうち、少なくとも一方が、主磁性層と副磁性層とか
らなり、前記副磁性層は前記ギャップ層と前記主磁性層
の間に配置され、前記主磁性層がＮｉ−Ｆｅ系合金また
はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金からなり、前記副磁性層がＣ
ｏ−Ｎｉ−Ｆｅ系合金からなり、前記副磁性層の飽和磁
束密度が主磁性層の飽和磁束密度よりも大きく、前記副
磁性層の透磁率が前記主磁性層の透磁率よりも小さく、
前記副磁性層の膜厚が前記主磁性層の膜厚よりも小さ
く、前記副磁性層の前記主磁性層に対する膜厚の比が０
より大きく、１／４以下であることを特徴とするもので
あるので、主磁性層と副磁性層を合わせた磁性層全体と
して高い飽和磁束密度で、高い透磁率で磁気記録と再生
できる効果がある。また、本願発明においては、特に、
副磁性層がＣｏ−Ｎｉ−Ｆｅ系合金から構成されたこと
により、飽和磁束密度を１．７Ｔ程度とすることがで
き、記録磁界を増大させることができ、高密度記録を行
うことができ、また、従来用いられていたアモルファス
膜よりも耐熱性および耐食性を向上できる。また、副磁
性層をギャップ層と主磁性層との間に配置することによ
り、記録時に大きな磁界勾配が得られ、線記録密度を増
大でき、高記録密度化できる。また、副磁性層の厚さを
０より大きく０．５μｍ以下にするならば、記録磁界を
上昇させつつ低い透磁率の副磁性層の悪影響を避けるこ
とができ、再生出力を低下させることなく高密度記録が
できる効果がある。
【図１】本発明の第１実施例を示す断面図である。
【図２】本発明の第２実施例を示す断面図である。
【図３】本発明で用いた副磁性層のみからなる磁性層の
薄膜磁気ヘッドによる起磁力と異方性磁界の関係を示す
図である。
薄膜磁気ヘッドによる起磁力と異方性磁界の関係を示す
図である。
【図４】本発明で用いた薄膜磁気ヘッドによる磁性層の
厚さと記録磁界と再生出力の関係を示す図である。
厚さと記録磁界と再生出力の関係を示す図である。
【図５】従来の薄膜磁気ヘッドの一構造例を示す断面図
である。
である。
１０ ギャップ層 １３ 上部磁性層 １３a 主磁性層 １３b 副磁性層 １５ 下部磁性層 １５a 主磁性層 １５b 副磁性層 １６ 被覆層 ２０ 層間絶縁層 ２２ コイル導体 ２４ 基板 ２６ 下部絶縁層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/31
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に、下部絶縁層と、下部磁性層
と、ギャップ層と、層間絶縁層で被包されたコイル導体
と、上部磁性層と、被覆層とが積層されてなる薄膜磁気
ヘッドにおいて、磁気記録媒体との対向面で上部磁性層と下部磁性層の間
にはギャップ層が配置され、 前記磁気記録媒体との対向面より内部にてコイル導体が
被包され、 上部磁性層と下部磁性層のうち、少なくとも一方が、主
磁性層と副磁性層とからなり、前記副磁性層は前記ギャ
ップ層と前記主磁性層の間に配置され、前記主磁性層がＮｉ−Ｆｅ系合金またはＦｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ系合金からなり、 前記副磁性層がＣｏ−Ｎｉ−Ｆｅ系
合金からなり、 前記副磁性層の飽和磁束密度が主磁性層の飽和磁束密度
よりも大きく、前記副磁性層の透磁率が前記主磁性層の
透磁率よりも小さく、前記副磁性層の膜厚が前記主磁性
層の膜厚よりも小さく、前記副磁性層の前記主磁性層に
対する膜厚の比が０より大きく、１／４以下であること
を特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記副磁性層の厚さが０より大きく、
０．５μｍ以下であり、前記主磁性層の厚さが０より大
きく、２μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記
載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】 前記副磁性層の飽和磁束密度と透磁率の
各値が次式の関係を満足することを特徴とする請求項１
又は２に記載の薄膜磁気ヘッド。 飽和磁束密度（Ｂs）≧１．７Ｔ、透磁率（μ）≦５０
０
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2416892A JP2947621B2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 薄膜磁気ヘッド |
| US07/809,823 US5224002A (en) | 1990-12-28 | 1991-12-17 | Thin-film magnetic head device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2416892A JP2947621B2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04232606A JPH04232606A (ja) | 1992-08-20 |
| JP2947621B2 true JP2947621B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=18525073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2416892A Expired - Fee Related JP2947621B2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5224002A (ja) |
| JP (1) | JP2947621B2 (ja) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5590008A (en) * | 1991-04-25 | 1996-12-31 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc unit having a plurality of magnetic heads which include multilayer magnetic films |
| JPH05120630A (ja) * | 1991-04-25 | 1993-05-18 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク装置 |
| EP0585930A3 (en) * | 1992-09-04 | 1995-11-22 | Read Rite Corp | Thin film magnetic head |
| JPH06124415A (ja) * | 1992-10-12 | 1994-05-06 | Alps Electric Co Ltd | 複合型薄膜磁気ヘッド |
| US5506737A (en) * | 1994-07-05 | 1996-04-09 | Industrial Technology Research Institute | High-density electronic head |
| US5606478A (en) * | 1994-12-08 | 1997-02-25 | International Business Machines Corporation | Ni45 Fe55 metal-in-gap thin film magnetic head |
| JPH08339508A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気記憶装 置 |
| US5751528A (en) * | 1996-04-15 | 1998-05-12 | Read-Rite Corporation | Multilayer exchange coupled magnetic poles with approximate zero magnetostriction |
| US5864450A (en) * | 1996-10-09 | 1999-01-26 | International Business Machines Corporation | NI45FE55 metal-in-gap thin film magnetic head |
| US6038110A (en) * | 1996-12-06 | 2000-03-14 | International Business Machines Corporation | Dual header tape head design |
| JPH10188222A (ja) * | 1996-12-20 | 1998-07-21 | Read Rite S M I Kk | 複合型薄膜磁気ヘッド |
| US6032353A (en) * | 1997-05-15 | 2000-03-07 | Read-Rite Corporation | Magnetic head with low stack height and self-aligned pole tips |
| JPH10334409A (ja) * | 1997-05-27 | 1998-12-18 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| US6101068A (en) * | 1997-09-22 | 2000-08-08 | Hitachi Metals, Ltd. | MR composite-type thin-film magnetic head having an upper pole with a high saturation magnetic flux density and an intermediate pole with a high resistivity |
| JP3305244B2 (ja) | 1997-12-10 | 2002-07-22 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPH11219506A (ja) * | 1998-02-03 | 1999-08-10 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH11353614A (ja) | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド及びこれを用いた磁気記憶装置 |
| JP2000020916A (ja) * | 1998-07-01 | 2000-01-21 | Hitachi Ltd | 誘導型薄膜磁気ヘッド |
| US6259583B1 (en) | 1998-09-16 | 2001-07-10 | International Business Machines, Corporation | Laminated yoke head with a domain control element |
| US6233116B1 (en) * | 1998-11-13 | 2001-05-15 | Read-Rite Corporation | Thin film write head with improved laminated flux carrying structure and method of fabrication |
| US6151194A (en) * | 1999-03-04 | 2000-11-21 | Storage Technology Corporation | Thin film inductive transducer with alumina gap positioned over coils |
| US6353511B1 (en) | 1999-06-15 | 2002-03-05 | Read-Rite Corporation | Thin film write head for improved high speed and high density recording |
| JP3455155B2 (ja) | 1999-06-28 | 2003-10-14 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US6477765B1 (en) | 1999-11-04 | 2002-11-12 | Storage Technology Corporation | Method of fabricating a magnetic write transducer |
| US6417990B1 (en) | 1999-12-06 | 2002-07-09 | Seagate Technology Llc | Composite core structure for high efficiency writer |
| JP2001291210A (ja) * | 2000-04-03 | 2001-10-19 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| JP2002015405A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-01-18 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JP2002123906A (ja) * | 2000-10-18 | 2002-04-26 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| US6809901B2 (en) * | 2002-01-08 | 2004-10-26 | Seagate Technology Llc | Low moment material for magnetic recording head write pole |
| GB0207724D0 (en) | 2002-04-03 | 2002-05-15 | Seagate Technology Llc | Patent submission-Ruthenium as non-magnetic sedlayer for electrodeposition |
| US7339763B2 (en) * | 2005-03-04 | 2008-03-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk drive thin-film inductive write head with pole tip structure having reduced susceptibility to corrosion |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5868211A (ja) * | 1981-10-16 | 1983-04-23 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS6176642A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Hitachi Ltd | Ｃｏ―Ｎｉ―Ｆｅ合金の電気めっき浴及び電気めっき方法 |
| US4780779A (en) * | 1987-11-19 | 1988-10-25 | Ampex Corporation | Laminated sendust metal-in-gap video head |
| JPH0329104A (ja) * | 1989-06-26 | 1991-02-07 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| US5126907A (en) * | 1989-05-24 | 1992-06-30 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head having at least one magnetic core member made at least partly of a material having a high saturation magnetic flux density |
| JPH0383213A (ja) * | 1989-08-24 | 1991-04-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| US5157570A (en) * | 1990-06-29 | 1992-10-20 | Digital Equipment Corporation | Magnetic pole configuration for high density thin film recording head |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP2416892A patent/JP2947621B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-12-17 US US07/809,823 patent/US5224002A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5224002A (en) | 1993-06-29 |
| JPH04232606A (ja) | 1992-08-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2947621B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| US5828533A (en) | Thin film magnetic head with differing saturation magnetic flux density films and spacer between floating surface and coil patterns | |
| US5590008A (en) | Magnetic disc unit having a plurality of magnetic heads which include multilayer magnetic films | |
| US5126907A (en) | Thin film magnetic head having at least one magnetic core member made at least partly of a material having a high saturation magnetic flux density | |
| JP2004086961A (ja) | 磁気ヘッド及び磁気記録装置 | |
| JP2002230733A (ja) | 垂直磁気記録ディスク | |
| US4943883A (en) | Quarternary amorphous magnetic alloy thin film and magnetic head including same | |
| KR100296731B1 (ko) | 자기기록방식 | |
| JP2003272111A (ja) | 記録用磁気ヘッド及び磁気記憶装置 | |
| JPH06124415A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘッド | |
| JP2810457B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体およびその記録装置 | |
| JPS5850494Y2 (ja) | 磁気カ−ド | |
| JP3019140B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JP3039033B2 (ja) | 垂直磁気記録再生方法 | |
| JP2776832B2 (ja) | 垂直磁気記録装置 | |
| JPS58102321A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS5987612A (ja) | 垂直磁気記録方式 | |
| JP3204871B2 (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
| JPH07118061B2 (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド | |
| JPS6059516A (ja) | 垂直磁気記録再生用複合ヘッド | |
| JPS59221801A (ja) | 垂直磁気記録方法 | |
| JPS6381616A (ja) | 垂直記録用単磁極型磁気ヘツド | |
| JPH06203320A (ja) | 消去ヘッド | |
| JPH022208B2 (ja) | ||
| JPH02172010A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘッド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990608 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070702 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080702 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090702 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090702 Year of fee payment: 10 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090702 Year of fee payment: 10 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |