JP2869561B2 - 血小板粘着抑制剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、血小板粘着抑制剤に関する。

発明の開示 本発明の血小板粘着抑制剤は、下記一般式（１）で表
わされるベンゾアゾール化合物又はその塩を有効成分と
するものである。

一般式 ［式中Ｘは、硫黄原子又は基 を示す。

（R³は、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル
基又はフェニル低級アルキル基を示す。）R¹は、ハロゲ
ン原子、シアノ基、シアノ置換低級アルコキシ基、置換
基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル
基、低級アルカノイル基、低級アルコキシ基、水酸基、
ニトロ基、アミノ基、置換基として水酸基を有する低級
アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル
基及び水酸基なる群より選ばれた基を１〜３個有するこ
とのあるフェニル低級アルキル基、フリル環上にシクロ
アルキル基を有することのあるフリル低級アルコキシ
基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、置換
基として低級アルキル基を有することのあるアミノチオ
カルボニルオキシ基、置換基として低級アルキル基を有
することのあるアミノカルボニルチオ基、フェニル環上
に置換基としてハロゲン原子、低級アルキル基及び水酸
基なる群より選ばれた基を１〜３個有することのあるフ
ェニル低級アルコキシ基、ピロリジニル環上に置換基と
して水酸基を有する低級アルキル基を有することのある
ピロリジニル低級アルキル基、置換基としてフェニル環
上に置換基としてハロゲン原子を有することのあるフェ
ニル低級アルキル基を有することのあるアミジノ基、置
換基として低級アルキル基を有することのあるアミジノ
低級アルコキシ基、又は基 を示す。｛Ａは低級アルキレン基を示す。ｍは０又は１
を示す。R⁴又はR⁵は同一又は異なって水素原子、フェニ
ル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのある
フェニル低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を
有することのある低級アルカノイル基、置換基として水
酸基もしくはハロゲン原子を有するこのとある低級アル
キル基、シクロアルキル基又は基 （ｌは０又は１を示す。Ｂは低級アルキレン基を示す。
R⁶及びR⁷は同一又は異なって水素原子又は低級アルキル
基を示す。またこのR⁶及びR⁷は、これらが結合する窒素
原子と共に窒素原子を介し又は介することなく、５又は
６員の飽和の複素環を形成してもよい。該複素環上に
は、置換基として低級アルキル基を有することのあるア
ミノ基が置換していてもよい。）を示す。またR⁴及びR⁵
は、これらが結合する窒素原子と共に窒素原子を介し又
は介することなく、５又は６員の飽和又は不飽和の複素
環を形成してもよい。該複素環上には、置換基として低
級アルキル基を有することのあるアミノ基、置換基とし
て水酸基を有する低級アルキル基又は置換基として低級
アルキル基を有することのあるアミノカルボニル基が置
換していてもよい。ｎは０又は１〜２の整数を示す。R²
は置換基として低級アルキル基を有することのあるピロ
リル基、チエニル基、ピリジルチオ低級アルキル基、フ
ェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することの
ある低級アルコキシ基、低級アルキル基、水酸基、ハロ
ゲン原子及び基 （Ｙは低級アルキレン基を示す。R⁸及びR⁹は同一又は異
なって水素原子、低級アルキル基又はシクロアルキル基
を示す。またR⁸及びR⁹は、これらが結合する窒素原子と
共に窒素原子を介し又は介することなく５又は６員環の
飽和の複素環を形成してもよい。）なる群より選ばれた
基を１〜３個有することのあるフェニル基、又は基 ［｛R¹⁰及びR¹¹は同一又は異なって、水素原子、低級ア
ルキル基又はフェニル環上に置換基としてハロゲン原
子、低級アルキルチオ基及び置換基としてハロゲン原子
を有することのある低級アルキル基なる群から選ばれた
基を有することのあるフェニル基を示す。またR¹⁰及びR
¹¹は、これらが結合する窒素原子と共に窒素原子を介し
又は介することなく５又は６員の飽和の複素環を形成し
てもよい。該複素環上には低級アルキル基、フェニル低
級アルコキシカルボニル基及び基 （R¹²及びR¹³は同一又は異なって水素原子、低級アルキ
ル基又は低級アルカノイル基を示す。またR¹²及びR¹³は
これらが結合する窒素原子と共に窒素原子を介し又は介
することなく５又は６員の飽和の複素環を形成してもよ
い。）なる群から選ばれた基を１〜３個有していてもよ
い。｝を示す。］ で表わされるベンズアゾール化合物又はその塩を有効成
分として含有することを特徴とする血小板粘着抑制剤。

上記一般式（１）で表わされるベンズアゾール化合物
又はその塩は、血小板粘着抑制作用を有し、例えば動脈
硬化症、虚血性心疾患、慢性動脈閉塞症、急性又は慢性
の腎炎等の治療及び予防薬として、或は人工透析時や人
工臓器埋め込み時等に使用され得る。

上記一般式（１）において示される各基は、各々次の
通りである。

低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、
ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基を例示できる。

低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、２−ブ
テニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペンテ
ニル、２−ヘキセニル基等の炭素数２〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルケニル基を例示できる。

フェニル低級アルキル基としては、ベンジル、２−フ
ェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニルプロ
ピル、４−フェニルブチル、1,1−ジメチル−２−フェ
ニルヘキシル、５−フェニルペンチル、６−フェニルヘ
キシル、２−メチル−３−フェニルプロピル基等のアル
キル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
であるフェニルアルキル基を例示できる。

ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原
子及び沃素原子を例示できる。

置換基としてハロゲン原子を有することのある低級ア
ルキル基としては、前記低級アルキル基に加えて、クロ
ロメチル、ブロモメチル、ヨードメチル、トリフルオロ
メチル、２−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチ
ル、2,2,2−トリフルオロエチル、３−クロロプロピ
ル、４−クロロブチル、3,4−ジクロロブチル、３−フ
ルオロペンチル、2,3,4−トリフルオロペンチル、2,3−
ジクロロヘキシル、6,6−ジブロモヘキシル基等の置換
基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。

低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜
６の分子鎖状アルコキシ基を例示できる。

置換基として水酸基を有する低級アルキル基として
は、例えばヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、
１−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、４−
ヒドロキシブチル、1,1−ジメチル−２−ヒドロキシエ
チル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘキシ
ル、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基等の置換基
として水酸基を有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基を例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルキル基及び水酸
基なる群より選ばれた基を１〜３個有することのあるフ
ェニル低級アルキル基としては、例えば前記フェニル低
級アルキル基に加えて、３−メチルベンジル、２−（3,
4−ジメチルフェニル）エチル、１−（４−エチルフェ
ニル）エチル、３−（２−プロピルフェニル）プロピ
ル、４−（３−ブチルフェニル）ブチル、1,1−ジメチ
ル−２−（４−ペンチルフェニル）エチル、５−（４−
ヘキシルフェニル）ペンチル、６−（3,4,5−トリメチ
ルフェニル）ヘキシル、２−メチル−３−（2,5−ジメ
チルフェニル）プロピル、３−ヒドロキシベンジル、２
−（3,4−ジヒドロキシフェニル）エチル、１−（４−
ヒドロキシフェニル）エチル、３−（２−ヒドロキシフ
ェニル）プロピル、４−（３−ヒドロキシフェニル）ブ
チル、1,1−ジメチル−２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）エチル、５−（４−ヒドロキシフェニル）ペンチ
ル、６−（3,4,5−トリヒドロキシフェニル）ヘキシ
ル、２−メチル−３−（2,5−ジヒドロキシフェニル）
プロピル、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルベン
ジル、４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルベンジル基等の
フェニル環上に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基及び水酸基なる群より選ばれ基を１〜３個有するこ
とがあり且つアルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を例示で
きる。

フリル環上にシクロアルキル基を有することのあるフ
リル低級アルコキシ基としては、例えば（２−フリル）
メトキシ、２−（３−フリル）エトキシ、１−（２−フ
リル）エトキシ、３−（３−フリル）プロポキシ、４−
（２−フリル）ブトキシ、1,1−ジメチル−２−（３−
フリル）エトキシ、５−（２−フリル）ペンチルオキ
シ、６−（３−フリル）ヘキシルオキシ、（５−シクロ
プロピル−２−フリル）メトキシ、２−（２−シクロブ
チル−３−フリル）エトキシ、１−（４−シクロペンチ
ル−２−フリル）エトキシ、３−（５−シクロヘキシル
−２−フリル）プロポキシ、４−（５−シクロヘプチル
−２−フリル）ブトキシ、1,1−ジメチル−２−（４−
シクロオクチル−３−フリル）エトキシ、５−（３−シ
クロヘキシル−２−フリル）ペンチルオキシ、６−（５
−シクロヘキシル−３−フリル）ヘキシルオキシ基等の
フリル環上に炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する
ことのあるアルコキシ部分の炭素数が１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルコキシ基であるフリルアルコキシ基を例示
できる。

低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基として
は、例えばメトキシカルボニルメトキシ、３−トメキシ
カルボニルプロポキシ、４−エトキシカルボニルブトキ
シ、６−プロポキシカルボニルヘキシルオキシ、５−イ
ソプロポキシカルボニルペンチルオキシ、1,1−ジメチ
ル−２−ブトキシカルボニルエトキシ、２−メチル−te
rt−ブトキシカルボニルプロポキシ、２−ペンチルオキ
シカルボニルエトキシ、ヘキシルオキシカルボニルメト
キシ基等のアルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルコキシ基である炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシカルボニルアルコキシ基を挙げることが
できる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるアミ
ノチオカルボニルオキシ基としては、例えばアミノチオ
カルボニルオキシ、メチルアミノチオカルボニルオキ
シ、エチルアミノチオカルボニルオキシ、プロピルアミ
ノチオカルボニルオキシ、tert−ブチルアミノチオカル
ボニルオキシ、ペンチルアミノチオカルボニルオキシ、
ヘキシルアミノチオカルボニルオキシ、ジメチルアミノ
チオカルボニルオキシ、ジエチルアミノチオカルボニル
オキシ、ジ−ｎ−プロピルアミノチオカルボニルオキ
シ、ジ−ｎ−ブチルアミノチオカルボニルオキシ、ジペ
ンチルアミノチオカルボニルオキシ、ジヘキシルアミノ
チオカルボニルオキシ、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブチルア
ミノチオカルボニルオキシ、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチル
アミノチオカルボニルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシ
ルアミノチオカルボニルオキシ基等の置換基として炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１又は２個有
することのあるアミノチオカルボニルオキシ基を例示で
きる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるアミ
ノカルボニルチオ基としては、例えばアミノカルボニル
チオ、メチルアミノカルボニルチオ、エチルアミノカル
ボニルチオ、プロピルアミノカルボニルチオ、tert−ブ
チルアミノカルボニルチオ、ペンチルアミノカルボニル
チオ、ヘキシルアミノカルボニルチオ、ジメチルアミノ
カルボニルチオ、ジエチルアミノカルボニルチオ、ジ−
ｎ−プロピルアミノカルボニルチオ、ジ−ｎ−ブチルア
ミノカルボニルチオ、ジペンチルアミノカルボニルチ
オ、ジヘキシルアミノカルボニルチオ、Ｎ−メチル−Ｎ
−ｎ−ブチルアミノカルボニルチオ、Ｎ−メチル−Ｎ−
ペンチルアミノカルボニルチオ、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキ
シルアミノカルボニルチオ基等の置換基として炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１又は２個有する
ことのあるアミノカルボニルチオ基を例示できる。

フェニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級アル
キル基及び水酸基なる群より選ばれた基を１〜３個有す
ることのあるフェニル低級アルコキシ基としては、例え
ば２−クロロベンジルオキシ、２−（３−クロロフェニ
ル）エトキシ、１−（４−クロロフェニル）エトキシ、
３−（２−フルオロフェニル）プロポキシ、４−（３−
ブロモフェニル）ブトキシ、1,1−ジメチル−２−（４
−ヨードフェニル）エトキシ、５−（2,6−ジクロロフ
ェニル）ペンチルオキシ、６−（3,4,5−トリクロロフ
ェニル）ヘキシルオキシ、２−メチル−３−（3,4−ジ
フルオロフェニル）プロポキシ、３−メチルベンジルオ
キシ、２−（3,4−ジメチルフェニル）エトキシ、１−
（４−エチルフェニル）エトキシ、３−（２−プロピル
フェニル）プロポキシ、４−（３−ブチルフェニル）ブ
トキシ、1,1−ジメチル−２−（４−ペンチルフェニ
ル）エトキシ、５−（４−ヘキシルフェニル）ペンチル
オキシ、６−（3,4,,5−トリメチルフェニル）ヘキシル
オキシ、２−メチル−３−（2,5−ジメチルフェニル）
プロポキシ、３−ヒドロキシベンジルオキシ、２−（3,
4−ジヒドロキシフェニル）エトキシ、１−（４−ヒド
ロキシフェニル）エトキシ、３−（２−ヒドロキシフェ
ニル）プロポキシ、４−（３−ヒドロキシフェニル）ブ
トキシ、1,1−ジメチル−２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）エトキシ、５−（４−ヒドロキシフェニル）ペンチ
ルオキシ、６−（3,4,5−トリヒドロキシフェニル）ヘ
キシルオキシ、２−メチル−３−（2.5−ジヒドロキシ
フェニル）プロポキシ、ベンジルオキシ、２−フェニル
エトキシ、１−フェニルエトキシ、３−フェニルプロポ
キシ、４−フェニルブトキシ、1,1−ジメチル−２−フ
ェニルエトキシ、５−フェニルペンチルオキシ、６−フ
ェニルヘキシルオキシ、２−メチル−３−フェニルプロ
ポキシ、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチル−ベン
ジルオキシ、２−クロロ−４−ヒドロキシベンジルオキ
シ、４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルベンジルオキシ基
等のフェニル環上に置換基としてハロゲン原子、炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基及び水酸基なる群
より選ばれた基を１〜３個有することがあり且つアルコ
キシ部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキ
シ基であるフェニルアルコキシ基を例示できる。

ピロリジニル環上に置換基として水酸基を有する低級
アルキル基を有することのあるピロリジニル低級アルキ
ル基としては、例えば（１−ピロリジニル）メチル、２
−（２−ピロリジニル）エチル、１−（３−ピロリジニ
ル）エチル、３−（１−ピロリジニル）プロピル、４−
（２−ピロリジニル）ブチル、1,1−ジメチル−２−
（３−ピロリジニル）エチル、５−（１−ピロリジニ
ル）ペンチル、６−（２−ピロリジニル）ヘキシル、２
−メチル−３−（３−ピロリジニル）プロピル、（２−
ヒドロキシメチル−１−ピロリジニル）メチル、２−
［３−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジニル］
エチル、１−［２−（１−ヒドロキシエチル）−３−ピ
ロリジニル］エチル、３−［２−（３−ヒドロキシプロ
ピル）−１−ピロリジニル］プロピル、４−［１−（４
−ヒドロキシブチル）−２−ピロリジニル］ブチル、1,
1−ジメチル−２−［４−（５−ヒドロキシペンチル）
−３−ピロリニジル］エチル、５−［３−（６−ヒドロ
キシヘキシル）−１−ピロリジニル］ペンチル、６−
［５−（２−メチル−３−ヒドロキシプロピル）−２−
ピロリジニル］ヘキシル、２−メチル−３−［４−（1,
1−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−３−ピロリジ
ニル］プロピル基等のピロリジニル環上に置換基として
水酸基を有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基を有することのあるアルキル部分の炭素数が１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピロリジニルアル
キル基を例示できる。

置換基としてフェニル環上に置換基としてハロゲン原
子を有することのあるフェニル低級アルキル基を有する
ことのあるアミジノ基としては、例えばアミジノ、N¹−
ベンジルアミジノ、N²−（２−フェニルエチル）アミジ
ノ、N¹−（１−フェニルエチル）アミジノ、N²−（４−
フェニルブチル）アミジノ、N¹−（1,1−ジメチル−２
−フェニルエチル）アミジノ、N²−（５−フェニルペン
チル）アミジノ、N¹−（６−フェニルヘキシル）アミジ
ノ、N²−（２−メチル−３−フェニルプロピル）アミジ
ノ、N¹,N¹−ジベンジルアミジノ、N¹,N¹,N²−トリベン
ジルアミジノ、N¹−（２−クロロベンジル）アミジノ、
N²−［２−（３−クロロフェニル）エチル］アミジノ、
N¹−［１−（４−クロロフェニル）エチル］アミジノ、
N²−［３−（２−フルオロフェニル）プロピル］アミジ
ノ、N¹−［４−（３−ブロモフェニル）ブチル］アミジ
ノ、N²−［1,1−ジメチル−２−（４−ヨードフェニ
ル）エチル］アミジノ、N¹−［５−（2,6−ジクロロフ
ェニル）ペンチル］アミジノ、N²−［６−（3,4,5−ト
リクロロフェニル）ヘキシル］アミジノ、N¹−（２−ク
ロロベンジル）−N²−（２−フェニルエチル）アミジノ
基等の置換基としてフェニル環上に置換基としてハロゲ
ン原子を１〜３個有することのあるアルキル部分の炭素
数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニ
ルアルキル基を１〜３個有することのあるアミジノ基を
例示できる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるアミ
ジノ低級アルコキシ基としては、例えばアミジノメトキ
シ、２−アミジノエトキシ、１−アミジノエトキシ、３
−アミジノプロポキシ、４−アミジノブトキシ、1,1−
ジメチル−２−アミジノエトキシ、５−アミジノペンチ
ルオキシ、６−アミジノヘキシルオキシ、２−メチル−
３−アミジノプロポキシ、N¹−メチルアミノメトキシ、
２−（N²−エチルアミジノ）エトキシ、１−（N¹−プロ
ピルアミジノ）エトキシ、３−（N²−ブチルアミジノ）
プロポキシ、４−（N¹−ペンチルアミジノ）ブトキシ、
1,1−ジメチル−２−（N²−ヘキシルアミジノ）エトキ
シ、５−（N¹−イソプロピルアミジノ）ペンチルオキ
シ、６−（N²−ｔ−ブチルアミジノ）ヘキシルオキシ、
２−メチル−３−（N¹,N¹−ジメチルアミジノ）プロポ
キシ、N¹,N¹−ジメチルアミジノプロポキシ、（N¹,N¹,N
²−トリメチルアミジノ）メトキシ、２−（N¹−メチル
−N²−エチルアミジノ）エトキシ、３−（N¹−メチル−
N²−プロピルアミジノ）プロポキシ、３−（N¹,N¹−ジ
メチル−N²−エチルアミジノ）プロポキシ基等の置換基
として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１
〜３個有することのあるアルコキシ部分の炭素数が１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるアミジノアル
コキシ基を例示できる。

低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、ト
リメチレン、２−メチルトリメチレン、2,2−ジメチル
トリメチレン、１−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキレン基を例示できる。

フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有するこ
とのあるフェニル低級アルキル基としては、前記フェニ
ル低級アルキル基に加えて、２−クロロベンジル、２−
（３−クロロフェニル）エチル、１−（４−クロロフェ
ニル）エチル、３−（２−フルオロフェニル）プロピ
ル、４−（３−ブロモフェニル）ブチル、1,1−ジメチ
ル−２−（４−ヨードフェニル）エチル、５−（2,6−
ジクロロフェニル）ペンチル、６−（3,4,5−トリクロ
ロフェニル）ヘキシル、２−メチル−３−（3,4−ジフ
ルオロフェニル）プロピル、3,5−ジクロロベンジル、
3,4−ジクロロベンジル、3,5−ジブロモベンジル基等の
フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を１〜３個有
することのあるアルキル基部分の炭素数が１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を例
示できる。

低級アルカノイル基としては、例えばホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタ
ノイル、ヘキサノイル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルカノイル基を例示できる。

置換基として水酸基又はハロゲン原子を有することの
ある低級アルキル基としては、前記置換基としてハロゲ
ン原子を有することのある低級アルキル基及び置換基と
して水酸基を低級アルキル基を例示できる。

シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロアル
キル基を例示できる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるアミ
ノ基としては、例えばアミノ、メチルアミノ、エチルア
ミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルア
ミノ、tert−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシル
アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピル
アミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシ
ルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチル
−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミ
ノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ基等の炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が１〜２個置換するこ
とのあるアミノ基を挙げることができる。R⁶及びR⁷が結
合する窒素原子と共に窒素原子を介し又は介することな
く形成される５又は６員の飽和の複素環としては、例え
ばピペラジニル、ピペリジニル、ピロリジニル基等を例
示できる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるアミ
ノ基が置換した前記複素環としては、例えば４−ジメチ
ルアミノ−１−ピペリジニル、２−アミノ−１−ピペリ
ジニル、３−メチルアミノ−１−ピペリジニル、４−エ
チルアミノ−１−ピペリジニル、２−プロピルアミノ−
１−ピペリジニル、３−ブチルアミノ−１−ピペリジニ
ル、４−ペンチルアミノ−１−ピペリジニル、３−ヘキ
シルアミノ−１−ピペリジニル、４−ジエチルアミノ−
１−ピペリジニル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルア
ミノ）−１−ピペリジニル、３−アミノ−１−ピペラジ
ニル、２−イソプロピルアミノ−１−ピペラジニル、３
−tert−ブチルアミノ−１−ピペラジニル、２−ジプロ
ピルアミノ−１−ピペラジニル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ
−エチルアミノ）−１−ピペラジニル、２−アミノ−１
−ピロリジニル、３−メチルアミノ−１−ピロリジニ
ル、２−ジヘキシルアミノ−１−ピロリジニル、３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミノ）−１−ピロリジニル
基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基が１〜２個置換することのあるアミノ基が置換
した前記複素環を例示できる。

R⁴及びR⁵が結合する窒素原子と共に窒素原子を介し又
は介することなく形成される５又は６員の飽和又は不飽
和の複素環としては、例えばピペラジニル、ピペリジニ
ル、ピロリジニル、ピロリル、イミダゾリル、イミダゾ
リジニル、２−イミダゾリニル、２−ピロリニル、ピラ
ゾリル、２−ピラゾリニル、ビラゾリジニル基等を例示
できる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるアミ
ノカルボニル基としては、例えばアミノカルボニル、メ
チルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、プロ
ピルアミノカルボニル、イソプロピルアミノカルボニ
ル、ブチルアミノカルボニル、tert−ブチルアミノカル
ボニル、ペンチルアミノカルボニル、ヘキシルアミノカ
ルボニル、ジメチルアミノカルボニル、ジエチルアミノ
カルボニル、ジプロピルアミノカルボニル、ジブチルア
ミノカルボニル、ジペンチルアミノカルボニル、ジヘキ
シルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ
カルボニル、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノカルボニ
ル、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミノカルボニル、Ｎ−メ
チル−Ｎ−ヘキシルアミノカルボニル基等の炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が１〜２個置換するこ
とのあるアミノカルボニル基を挙げることができる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるアミ
ノ基、置換基として水酸基を有する低級アルキル基又は
置換として低級アルキル基を有することのあるアミノカ
ルボニル基が置換した前記R⁴及びR⁵で形成される複素環
としては、例えば４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニ
ル、２−アミノ−１−ピペリジニル、３−メチルアミノ
−１−ピペリジニル、４−エチルアミノ−１−ピペリジ
ニル、２−プロピルアミノ−１−ピペリジニル、３−ブ
チルアミノ−１−ピペリジニル、４−ペンチルアミノ−
１−ピペリジニル、３−ヘキシルアミノ−１−ピペリジ
ニル、４−ジエチルアミノ−１−ピペリジニル、４−
（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）−１−ピペリジニ
ル、３−アミノ−１−ピペラジニル、２−イソプロピル
アミノ−１−ピペラジニル、３−tert−ブチルアミノ−
１−ピペラジニル、２−ジプロピルアミノ−１−ピペラ
ジニル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）−１−
ピペラジニル、２−アミノ−１−ピロリジニル、３−メ
チルアミノ−１−ピロリジニル、２−ジヘキシルアミノ
−１−ピロリジニル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルア
ミノ）−１−ピロリジニル、３−メチルアミノ−１−ピ
ロリル、２−エチルアミノ−１−ピロリル、２−プロピ
ルアミノ−１−イミダゾリル、４−ブチルアミノ−１−
イミダゾリジニル、２−ペンチルアミノ−２−イミダゾ
リニル、３−ヘキシルアミノ−２−ピロリニル、３−ジ
メチルアミノピラゾリル、４−ジエチルアミノピラゾリ
ル、３−ジプロピルアミノ−２−ピラゾリニル、４−ジ
ブチルアミノピラゾリジニル、３−ジペンチルアミノ−
２−イミダゾリニル、５−ジヘキシルアミノ−２−ピロ
リニル、５−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）ビラゾ
リル、２−ジメチルアミノカルボニル−１−ピロリジニ
ル、４−ヒドロキシメチル−１−ピペラジニル、２−ヒ
ドロキシメチル−１−ピロリジニル、３−（２−ヒドロ
キシエチル）−１−ピペリジニル、３−（１−ヒドロキ
シエチル）−１−ピロリル、２−（３−ヒドロキシプロ
ピル）−１−イミダゾリル、４−（４−ヒドロキシブチ
ル）−１−イミダゾリジニル、５−（５−ヒドロキシペ
ンチル）−２−イミダゾリニン−１−イル、２−（６−
ヒドロキシヘキシル）−２−ピロリニン−１−イル、３
−（２−メチル−３−ヒドロキシプロピル）ピラゾリ
ル、４−（1,1−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−
２−ピラゾリニン−１−イル、５−ヒドロキシメチルピ
ラゾリジニル、２−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピ
ロリジニル、４−アミノカルボニル−１−ピペラジニ
ル、３−メチルアミノカルボニル−１−ピペラジニル、
２−エチルアミノカルボニル−１−ピペラジニル、４−
イソプロピルアミノカルボニル−１−ピペリジニル、３
−ブチルアミノカルボニル−１−ピペリジニル、２−ペ
ンチルアミノカルボニル−１−ピペリジニル、３−ヘキ
シルアミノカルボニル−１−ピロリジニル、２−ジメチ
ルアミノカルボニル−１−ピロリジニル、２−ジエチル
アミノカルボニル−１−ピロリル、３−ジプロピルアミ
ノカルボニル−１−ピロリル、２−ジブチルアミノカル
ボニル−１−イミダゾリル、４−ジペンチルアミノカル
ボニル−１−イミダゾリル、５−ジヘキシルアミノカル
ボニル−２−イミダゾリニン−１−イル、２−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−エチルアミノカルボニル）−２−ピロリニン
−１−イル、３−（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノカ
ルボニル）−１−ピラゾリニル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ
−ブチルアミノカルボニル）−２−ピラゾリニン−１−
イル、５−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノカルボニ
ル）−１−ピラゾリジニル基等の置換基として炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜２個有するこ
とのあるアミノ基、置換基として水酸基を有する炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、或いは置換基と
して炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜
２個有することのあるアミノカルボニル基が置換した前
記複素環を例示できる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるピロ
リル基としては、例えば２−ピロリル、３−ピロリル、
１−ピロリル、１−メチル−２−ピロリル、３−エチル
−２−ピロリル、２−プロピル−３−ピロリル、２−ブ
チル−１−ピロリル、１−ペンチル−２−ピロリル、５
−ヘキシル−３−ピロリル基等の置換基として炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を有することのある
ピロリル基を例示できる。

ピリジルチオ低級アルキル基としては、例えば（２−
ピリジル）チオメチル、２−（３−ピリジルチオ）エチ
ル、１−（４−ピリジルチオ）エチル、３−（２−ピリ
ジルチオ）プロピル、４−（３−ピリジルチオ）ブチ
ル、1,1−ジメチル−２−（４−ピリジルチオ）エチ
ル、５−（２−ピリジルチオ）ペンチル、６−（３−ピ
リジルチオ）ヘキシル、２−メチル−３−（４−ピリジ
ルチオ）プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピリジルチオアルキ
ル基を例示できる。

R⁸及びR⁹、R¹⁰及びR¹¹並びにR¹²及びR¹³が結合する窒
素原子と共に窒素原子を介し又は介することなく形成さ
れる５又は６員環の飽和の複素環としては、例えばピペ
ラジニル、ピペリジニル、ピロリジニル基等を例示でき
る。

フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有するこ
とのある低級アルコキシ基、低級アルキル基、水酸基、
ハロゲン原子及び基 （R⁸及びR⁹は前記に同じ。）なる群から選ばれた基を１
〜３個有することのあるフェニル基としては、例えばフ
ェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４
−クロロフェニル、２−フルオロフェニル、３−フルオ
ロフェニル、４−フルオロフェニル、２−ブロモフェニ
ル、３−ブロモフェニル、４−ブロモフェニル、２−ヨ
ードフェニル、３−ヨードフェニル、４−ヨードフェニ
ル、3,5−ジクロロフェニル、2,6−ジクロロフェニル、
3,4−ジクロロフェニル、3,4−ジフルオロフェニル、3,
5−ジブロモフェニル、3,4,5−トリクロロフェニル、２
−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフ
ェニル、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、４
−エチルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−ヘ
キシルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチ
ルフェニル、3,4,5−トリメチルフェニル、２−メトキ
シフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェ
ニル、２−エトキシフェニル、３−エトキシフェニル、
４−エトキシフェニル、４−イソプロポキシフェニル、
２−プロポキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェニ
ル、3,4−ジメトキシフェニル、3,4−ジエトキシフェニ
ル、3,4,5−トリメトキシフェニル、2,5−ジメトキシフ
ェニル、３−メチル−４−クロロフェニル、２−クロロ
−６−メチルフェニル、２−メトキシ−３−クロロフェ
ニル、２−（２−クロロエトキシ）フェニル、３−ブロ
モメトキシフェニル、４−トリフルオロメトキシフェニ
ル、２−（2,2−ジフルオロエトキシ）フェニル、３−
（３−クロロプロポキシ）フェニル、４−（４−クロロ
ブトキシ）フェニル、２−（３−フルオロペンチルオキ
シ）フェニル、３−（6,6−ジブロモヘキシルオキシ）
フェニル、２−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフ
ェニル、４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル、４
−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル、４−ヒドロキシ
−3,5−ｔ−ブチルフェニル、４−ヒドロキシフェニ
ル、3,4−ヒドロキシフェニル、3,4,5−トリヒドロキシ
フェニル、２−（アミノメトキシ）フェニル、２−（２
−アミノエトキシ）フェニル、４−（１−アミノエトキ
シ）フェニル、2,4−ジ（アミノメチル）フェニル、３
−（３−メチルアミノプロポキシ）フェニル、３−（４
−メチルアミノブトキシ）フェニル、４−（５−メチル
アミノペンチルオキシ）フェニル、２−（６−エチルア
ミノヘキシルオキシ）フェニル、３−（２−エチルアミ
ノメトキシ）フェニル、４−（２−エチルアミノエトキ
シ）フェニル、４−（１−イソプロピルアミノエトキ
シ）フェニル、４−（３−ヘキシルアミノプロポキシ）
フェニル、3,4−ビス（３−メチルアミノプロポキシ）
フェニル、２−（２−ジメチルアミノエトキシ）フェニ
ル、２−（３−ジメチルアミノプロポキシ）フェニル、
２−（４−ジメチルアミノブトキシ）フェニル、２−
（５−ジエチルアミノペンチルオキシ）フェニル、３−
［１−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）エトキシ）フ
ェニル、４−［６−（Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルア
ミノ）ヘキシルオキシ］フェニル、４−［（Ｎ−イソプ
ロピル−Ｎ−ヘキシルアミノ）メトキシ］フェニル、２
−（２−ジ−ｎ−ブチルアミノエトキシ）フェニル、２
−（３−シクロヘキシルアミノプロポキシ）フェニル、
３−（２−シクロペンチルアミノエトキシ）フェニル、
４−［４−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロペプチルアミノ）
ブトキシ）フェニル、２−［２−（Ｎ−エチル−Ｎ−シ
クロオクチルアミノ）エトキシ］フェニル、２−［３−
（１−ピペリジニル）プロポキシ］フェニル、３−［２
−（１−ピペラジニル）エトキシ］フェニル、４−［４
−（１−ピロリジニル）ブトキシ］フェニル基のフェニ
ル環上に置換基としてハロゲン原子を１〜３個有するこ
とのある炭素素１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ
基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、水酸
基、ハロゲン原子及び基 （Ｙは炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を
示す。R⁸及びR⁹は同一又は異なって水素原子、炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基又は炭素数３〜８の
シクロアルキル基を示す。またR⁸及びR⁹は、これらが結
合する窒素原子と共に窒素原子を介し又は介することな
く５又は６員環の飽和の複素環を形成してもよい。）な
る群より選ばれた基を１〜３個有することのあるフェニ
ル基を例示できる。

低級アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、te
rt−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等の炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルチオ基を例示で
きる。

フェニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級アル
キルチオ基及び置換基としてハロゲン原子を有すること
のある低級アルキル基なる群から選ばれた基を有するこ
とのあるフェニル基としては、フェニル、２−クロロフ
ェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２
−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フル
オロフェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモフェニ
ル、４−ブロモフェニル、２−ヨードフェニル、３−ヨ
ードフェニル、４−ヨードフェニル、3,5−ジクロロフ
ェニル、2,6−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフェニ
ル、3,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジブロモフェニ
ル、3,4,5−トリクロロフェニル、２−メチルフェニ
ル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２−エ
チルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニ
ル、３−イソプロピルフェニル、４−ヘキシルフェニ
ル、3,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、
3,4,5−トリメチルフェニル、２−メチルチオフェニ
ル、３−メチルチオフェニル、４−メチルチオフェニ
ル、２−エチルチオフェニル、３−エチルチオフェニ
ル、４−エチルチオフェニル、４−イソプロピルチオフ
ェニル、４−ヘキシルチオフェニル、3,4−ジメチルチ
オフェニル、3,4−ジエチルチオフェニル、3,4,5−トリ
メチルチオフェニル、2,5−ジメチルチオフェニル、３
−メチル−４−クロロフェニル、２−クロロ−６−メチ
ルフェニル、２−メチルチオ−３−クロロフェニル、２
−トリフルオロメチルフェニル、４−トリフルオロメチ
ルフェニル、３−（３−クロロプロピル）フェニル、４
−（２−フルオロエチル）フェニル、２−（４−クロロ
ブチル）フェニル、３−（３−ブロモペンチル）フェニ
ル、２−（ヨードメチル）フェニル、４−（2,3−ジク
ロロヘキシル）フェニル、３−（2,2,2−トリフルオロ
エチル）フェニル基等のフェニル環上にハロゲン原子を
１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキルチオ基なる群から選ばれた置換基
を１〜３個有することのあるフェニル基を例示できる。

低級アルキル基、フェニル低級アルコキシカルボニル
基及び基 なる群より選ばれた基を１〜３個有する前記R¹⁰及びR¹¹
で形成される複素環としては、例えば3,5−ジメチル−
１−ピペラジニル、４−エチル−１−ピペリジニル、3,
4,5−ジメチル−１−ピペリジニル、３−プロピル−１
−ピペリジニル、3,4,5−トリメチル−１−ピペラジニ
ル、４−ブチル−１−ピペラジニル、２−ペンチル−１
−プロリジニル、３−ヘキシル−１−ピロリジニル、３
−エチル−４−プロピル−１−ピペラジニル、３−プロ
ピル−５−メチル−１−ピペラジニル、４−アミノ−１
−ピペリジニル、３−アミノ−１−ピロリジニル、３−
アミノ−１−ピペラジニル、４−アセチルアミノ−１−
ピペリジニル、２−プロピオニルアミノ−１−ピロリジ
ニル、２−ブチリルアミノ−１−ピペラジニル、３−ペ
ンタノイルアミノ−１−ピペリジニル、２−ヘキサノイ
ルアミノ−１−ピペリジニル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−
アセチルアミノ）−１−ピペリジニル、３−メチル−４
−アミノ−１−ピペリジニル、４−エチルアミノ−１−
ピペリジニル、３−メチルアミノ−１−ピペラジニル、
４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニル、２−プロピル
アミノ−１−ピロリジニル、３−ブチルアミノ−１−ピ
ペラジニル、４−ペンチルアミノ−１−ピペリジニル、
３−ヘキシルアミノ−１−ピペリジニル、２−ジエチル
アミノ−１−ピペラジニル、４−ベンジルオキシカルボ
ニル−１−ピペラジニル、４−ベンジルオキシカルボニ
ル−１−ピペリジニル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピ
ルアミノ）−１−ピペリジニル、３−ベンジルオキシカ
ルボニル−１−ピロリジニル、3,5−ジメチル−４−ベ
ンジルオキシカルボニル−１−ピペラジニル、３−（Ｎ
−エチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）−１−ピロリジニル、
３−メチル−４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニル、
３−エチル−５−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアミノ）
−１−ピペラジニル、４−（１−ピペリジニル）−１−
ピペリジニル、３−（１−ピロリジニル）−１−ピペラ
ジニル、２−（１−ピペラジニル）−１−ピロリジニ
ル、3,5−ジメチル−４−アミノ−１−ピペリジニル基
等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、アル
コキシカルボニル基部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキコシカルボニル基であるフェニルアルコキ
シカルボニル基及び基 （R¹²及びR¹³は同一又は異なって水素原子、炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基或いは炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を示す。またR¹²及びR
¹³は、これらが結合する窒素原子と共に窒素原子を介し
又は介することなく５又は６員の飽和の複素環を形成し
てもよい。）なる群より選ばれた基を１〜３個有する前
記複素環を例示できる。

フェニル低級アルコキシカルボニル基としては、例え
ばベンジルオキシカルボニル、２−フェニルエトキシカ
ルボニル、１−フェニルエトキシカルボニル、３−フェ
ニルプロピルオキシカルボニル、４−フェニルブトキシ
カルボニル、1,1−ジメチル−２−フェニルエトキシカ
ルボニル、５−フェニルペンチルオキシカルボニル、６
−フェニルヘキシルオキシカルボニル、２−メチル−３
−フェニルプロポキシカルボニル基等のアルコキシカル
ボニル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキ
シカルボニル基であるフェニルアルコキシカルボニル基
を例示できる。

シアノ置換低級アルコキシ基としては、例えばシアノ
メトキシ、２−シアノエトキシ、１−シアノエトキシ、
３−シアノプロポキシ、４−シアノブトキシ、1,1−ジ
メチル−２−シアノエトキシ、５−シアノペンチルオキ
シ、６−シアノヘキシルオキシ、２−メチル−３−シア
ノプロポキシ基等のアルコキシ部分が炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるシアノアルコキシ基
を例示できる。

置換基としてハロゲン原子を有することのある低級ア
ルコキシ基としては、例えば前記低級アルコキシ基に加
えて、クロロメトキシ、ブロモメトキシ、ヨードメトキ
シ、トリフルオロメトキシ、２−フルオロエトキシ、２
−クロロエトキシ、2,2−ジフルオロエトキシ、2,2,2−
トリフルオロエトキシ、３−クロロプロポキシ、４−ク
ロロブトキシ、3,4−ジクロロブトキシ、３−フルオロ
ペンチルオキシ、2,3,4−トリフルオロペンチルオキ
シ、2,3−ジクロロヘキシルオキシ、6,6−ジブロモヘキ
シルオキシ基等の置換基としてハロゲン原子を１〜３個
有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
コキシ基を例示できる。

置換基としてハロゲン原子を有することのある低級ア
ルカノイル基としては、例えば前記低級アルカノイル基
に加えて、２−クロロアセチル、２−ブロモアセチル、
２−ヨードアセチル、2,2,2−トリフルオロアセチル、
３−フルオロプロパノイル、３−クロロプロパノイル、
3,3−ジフルオロプロパノイル、3,3,3−トリフルオロプ
ロパノイル、４−クロロブチリル、５−クロロペンタノ
イル、4,5−ジクロロペンタノイル、３−フルオロペン
タノイル、2,3,4−トリフルオロペンタノイル、2,3−ジ
クロロヘキサノイル、6,6−ジブロモヘキサノイル基等
の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのあ
る炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を例
示できる。

上記一般式（１）で表わされるベンズアゾール誘導体
は、種々の方法により製造され得るが、その好ましい一
例を挙げれば例えば下記の反応式に示す方法に従い製造
される。

［反応式−１］ ［式中R¹、R¹⁰、R¹¹、Ｘ及びｎは前記に同じ。R¹⁴は
ハロゲン原子を示す。］ 化合物（２）と化合物（３）の反応は、適当な溶媒中
塩基性化合物の存在下又は非存在下にて行なわれる。こ
こで使用される溶媒としては、具体的には塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、エチ
ルセロソルブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、ピ
リジン、2,6−ルチジン、アセトン、アセトニトリル、
Ｎ−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド
の非プロトン性極性溶媒等やこれらの混合溶媒等を挙げ
ることができる。用いられる塩基性化合物としては、シ
ョッテン−バウマン反応に慣用の化合物が用いられ、例
えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、1,5−ジア
ザビシクロ［4,3,0］ノネン−５（DBN）、1,8−ジアザ
ビシクロ［5,4,0］ウンデセン−７（DBU）、1,4−ジア
ザビシクロ［2,2,2］オクタン（DABCO）等の有機塩基、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、炭酸銀、ナト
リウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコラ
ート等の無機塩基等を挙げることができる。

化合物（２）と化合物（３）との使用割合は、特に限
定がなく広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常前者
に対して後者を少なくとも等モル量程度、好ましくは等
モル〜20倍モル量程度とするのがよい。該反応は、通常
０〜180℃程度、好ましくは室温〜150℃程度にて好適に
進行し、一般に５分〜30時間程度で完結する。

［反応式−２］ ［式中R¹、Ｘ及びｎは前記に同じ。R¹⁵は置換基とし
て低級アルキル基を有することのあるピロリル基、チエ
ニル基、ピリジルチオ低級アルキル基又はフェニル環上
に置換基としてハロゲン原子を有することのある低級ア
ルコキシ基、低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子及
び基 （Ｙ、R⁸及びR⁹は前記に同じ。）なる群から選ばれた基
を１〜３個有することのあるフェニル基を示す。］ 化合物（４）の化合物（５）の反応は、無溶媒又は適
当な溶媒中、縮合剤の存在下に行なわれる。ここで使用
される縮合剤としては、オキシ塩化リン、五塩化リン、
三塩化リン、チオニルクロリド、濃硫酸、塩酸、ポリリ
ン酸、五酸化リン−メタンスルホン酸等を例示できる。
使用される溶媒としては、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、３−メトキシ−１−ブ
タノール、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ等のア
ルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジグライム、モノグライム等のエーテル
類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド（DMF）、
ジルチルスルホキシド（DMSO）、ヘキサメチルリン酸ト
リアミド（HMPA）、アセトニトリル等の極性溶媒等を例
示できる。該反応は通常温度〜150℃、好ましくは室温
〜100℃付近にて15分〜15時間程度にて終了する。化合
物（５）の使用量は、化合物（４）に対して少なくとも
等モル、好ましくは等モル〜1.5倍モル量程度とするの
がよい。

［反応式−３］ ［式中R¹、R¹⁵、Ｘ及びｎは前記に同じ。］ 化合物（４）と化合物（６）の反応は、塩基性化合物
の存在下又は非存在下、適当な溶媒中にて行なわれる。
ここで使用される塩基性化合物としては、例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の無機塩基、ピペリジン、ピリジン、トリエチ
ルアミン、DBN、DBU、DABCO等の有機塩基等を挙げるこ
とができる。また溶媒としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、DMF、DMS
O、HMPA等の極性溶媒等を例示できる。化合物（６）の
使用量は、化合物（４）に対して少なくとも等モル、好
ましくは等モル〜５倍モル量とするのがよい。上記反応
は、通常０〜150℃、好ましくは０〜100℃にて好適に進
行し、一般に10分〜30時間程度で終了する。

［反応式−４］ ［式中、R¹、R¹⁵、Ｘ及びｎは前記に同じ。］ 化合物（４）と化合物（５）の反応は、通常のアミド
結合生成反応に付すことにより達成される。この場合、
カルボン酸（５）は活性化された化合物を用いてもよ
い。アミド結合生成反応として通常のアミド結合生成反
応の条件を適用することができる。例えば（イ）混合酸
無水物法、即ちカルボン酸（５）にアルキルハロカルボ
ン酸を反応させて混合酸無水物とし、これに化合物
（４）を反応させる方法、（ロ）活性エステル法又は活
性アミド法、即ちカルボン酸（５）を例えばｐ−ニトロ
フェニルエステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエス
テル、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル等の
活性エステル、又はベンズオキサゾリン−２−チオンと
の活性アミドとし、これに化合物（４）を反応させる方
法、（ハ）カルボジイミド法、即ちカルボン酸（５）に
化合物（４）を例えばジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、カルボニルジイミダゾール等の脱水剤の存在下に脱
水結合させる方法、（ニ）カルボン酸ハライド法、即ち
カルボン酸（５）をハライド体に誘導し、これに化合物
（４）を反応させる方法、（ホ）その他の方法としてカ
ルボン酸（５）を例えば無水酢酸等の脱水剤により、カ
ルボン酸無水物とし、これに化合物（４）を反応させる
方法、カルボン酸（５）と例えば低級アルコールとのエ
ステルに化合物（４）を高圧高温下に反応させる方法等
を挙げることができる。またカルボン酸（５）をトリフ
ェニルホスフィンやジエチルクロロホスフェート等のリ
ン化合物で活性化し、これに化合物（４）を反応させる
方法も採用されうる。

混合酸無水物法において使用されるアルキルハロカル
ボン酸としては、例えばクロルギ酸メチル、ブロムギ酸
メチル、クロルギ酸エチル、ブロムギ酸エチル、クロル
ギ酸イソブチル等が挙げられる。混合酸無水物は通常の
ショッテン−バウマン反応により得られ、これを通常単
離することなく化合物（４）と反応させることにより化
合物（７）が製造される。ショッテン−バウマン反応は
通常塩基性化合物の存在下行なわれる。用いられる塩基
性化合物としてはショッテン−バウマン反応に慣用の化
合物が用いられ、例えばトリエチルアミン、トリメチル
アミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ジメチル
アニリン、Ｎ−メチルモルホリン、４−ジメチルアミノ
ピリジン、DBN、DBU、DABCO等の有機塩基、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナト
リウム等の無機塩基が挙げられる。該反応は−20〜100
℃程度、好ましくは０〜50℃において行なわれ、反応時
間は５分〜10時間程度、好ましくは５分〜２時間であ
る。得られた混合酸無水物と化合物（４）との反応は−
20〜150℃程度、好ましくは10〜50℃にて５分〜10時間
程度、好ましくは５〜５時間程度行なわれる。混合酸無
水物法は特に溶媒を用いなくてもよいが、一般に溶媒中
で行なわれる。用いられる溶媒は混合酸無水物法に慣用
の溶媒がいずれも使用可能であり、具体的には塩化メチ
レン、クロロホルム、ジクロルエタン等のハロゲン化炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げら
れる。該法におけるカルボン酸（５）、アルキルハロカ
ルボン酸及び化合物（４）の使用割合は、通常少なくと
も当モルづつ使用されるが、カルボン酸（５）に対して
アルキルハロカルボン酸及び化合物（４）をそれぞれ１
〜２倍モル用いるのが好ましい。

上記（ロ）の活性エステル法又は活性アミド法は、例
えばベンズオキサゾリン−２−チオンアミドを用いる場
合を例にとれば、反応に影響を与えない適当な溶媒、例
えば上記混合酸無水物法に用いるものと同様の溶媒のほ
か１−メチル−２−ピロリドン等を用い、０〜150℃、
好ましくは10〜100℃にて、0.5〜75時間反応させること
により行なわれる。この場合、化合物（４）とベンズオ
キサゾリン−２−チオンアミドとの使用割合は、前者に
対して後者を通常少なくとも等モル、好ましくは等モル
〜２倍モルとする。またＮ−ヒドロキシコハク酸イミド
エステルを用いる場合は、適当な塩基、例えば後記カル
ボン酸ハライド法に用いられるものと同様の塩基を用い
ると反応は有利に進行する。

上記（ハ）のカルボン酸ハライド法は、カルボン酸
（５）にハロゲン化剤を反応させて、カルボン酸ハライ
ドとし、このカルボン酸ハライドを単離精製し、又は単
離精製することなく、これに化合物（４）を反応させて
行なわれる。このカルボン酸ハライドと化合物（４）と
の反応は、脱ハロゲン化水素剤の存在下又は非存在下に
適当な溶媒中で行なわれる。脱ハロゲン化水素剤として
通常塩基性化合物が用いられ、上記ショッテン−バウマ
ン反応に用いられる塩基性化合物のほか、水酸基ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウム、炭酸銀等の無機塩基等が挙げられる。尚化合物
（４）を過剰量用いて脱ハロゲン化水素剤として兼用さ
せることもできる。溶媒としては前記ショッテン−バウ
マン反応に用いられる溶媒の他、例えば水、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、３−メト
キシ−１−ブタノール、エチルセロソルブ、メチルセロ
ソルブ等のアルコール類、ピリジン、アセトン、アセト
ニトリル等、又はそれらの２種以上の混合溶媒か挙げら
れる。化合物（４）とカルボン酸ハライドとの使用割合
は特に制限されず広範囲に選択されるが、通常前者に対
して後者を少なくとも等モル、好ましくは等モル〜５倍
モル用いられる。反応温度は通常−30〜180℃程度、好
ましくは約０〜150℃で、一般に５分〜30時間で反応は
完結する。用いられるカルボン酸ハライドは、カルボン
酸（５）とハロゲン化剤とを無溶媒又は溶媒中にて反応
させて製造される。溶媒としては、反応に悪影響を与え
ないものであれば使用でき、例えばベンゼン、イルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等の
エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等が挙げられる。ハロゲン化剤としては、カルボキ
シ基の水酸基をハロゲンに変え得る通常のハロゲン化剤
を使用でき、例えば塩化チオニル、オキザリルクロリ
ド、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、五塩化リン、五
臭化リン等が例示できる。カルボン酸（５）とハロゲン
化剤との使用割合は特に限定されず適宜選択されるが、
無溶媒下で反応を行なう場合には、通常前者に対して、
後者を大過剰量、また溶媒中で反応を行なう場合には、
通常前者に対して後者を少なくとも等モル量程度、好ま
しくは２〜４倍モル量用いる。その反応温度及び反応時
間も特に限定されないが、通常室温〜100℃程度、好ま
しくは50〜80℃にて、30分間〜６時間程度で行なわれ
る。

カルボン酸（５）をトリフェニルホスフィンやジエチ
ルクロロホスフェート、ジフェニルホスフィニルクロリ
ド、フェニル−Ｎ−フェニルホスホラミドクロリデー
ト、シアノリン酸ジエチル、ビス（２−オキソ−３−オ
キサゾリジニル）ホスフィニッククロリド等のリン化合
物で活性化し、これに化合物（４）を反応させる方法
は、適当な溶媒中で行なわれる。溶媒としては反応に影
響を与えないものならば、いずれも使用することがで
き、具体的には塩化メチレン、クロロホルム、ジクロル
エタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル
リン酸トリアミドの非プロトン性極性溶媒等が挙げられ
る。該反応では化合物（４）自体が塩基性化合物として
働くため、これを理論量より過剰に用いることによって
反応は良好に進行するが、必要に応じて、他の塩基性化
合物、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピ
リジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、４
−ジメチルアミノピリジン、DBN、DBU、DABCO等の有機
塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基を用いることもで
きる。該反応は約０〜150℃、好ましくは約０〜100℃
で、一般に５分〜30時間程度行なうことにより達成され
る。化合物（４）に対するリン化合物及びカルボン酸
（５）の使用割合は、それぞれ通常少なくとも等モル量
程度、好ましくは１〜３倍モル量である。

化合物（７）を化合物（1b）に導く反応は、前記化合
物（４）と化合物（５）との反応と同様の条件下に行な
われる。

［反応式−５］ ［式中、R¹、R¹⁴、R¹⁵及びｎは前記に同じ。］ 化合物（８）と化合物（５）の反応は、前記反応式−
４の化合物（４）と化合物（５）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

化合物（９）を化合物（10）に導く反応は、2,4−ビ
ス（４−メトキシフェニル）−1,3−ジチア−2,4−ジフ
ォスフェタン−2,4−ジサルフィド（Lawesson′s Reage
nt）、五硫化リン等の硫黄化剤の存在下、無溶媒又は適
当な溶媒中で行なわれる。ここで使用される溶媒として
は、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等の
低級アルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエー
テル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の極性溶媒又はこ
れらの混合溶媒等を例示できる。硫黄化剤の使用量は、
化合物（９）に対して、通常0.5〜２倍モル量、好まし
くは0.5〜1.5倍モル量とするのがよい。該反応は、通常
50〜300℃、好ましくは50〜250℃付近にて、１〜15時間
程度にて終了する。

化合物（10）を化合物（1c）に導く反応は、1,1,3,3
−テトラメチルグアニジンの存在下、適当な溶媒中で行
なわれる。ここで使用される溶媒としては、前記反応式
−５の化合物（９）を化合物（10）に導く反応で用いた
溶媒をいずれも使用できる。1,1,3,3−テトラメチルグ
アニジンの使用量は、化合物（10）に対して、少なくと
も等モル〜２倍モル量とするのがよい。該反応は、通常
室温〜200℃、好ましくは室温〜150℃付近にて、１〜７
時間程度にて終了する。

［反応式−６］ ［式中、R¹、R¹⁵及びｎは前記に同じ。］ 化合物（11）と化合物（５）の反応は、前記反応式−
４の化合物（４）と化合物（５）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

化合物（12）を化合物（1d）に導く反応は、適当な不
活性溶媒中、金属、金属もしくは金属塩と酸又は金属も
しくは金属塩とアルカリ金属水酸化物、硫化物、アンモ
ニウム塩等との混合物等を還元剤として用いて還元する
ことにより行なわれる。該反応は、塩化第一錫、鉄、亜
鉛等の金属、鉄、亜鉛、錫もしくは塩化第一錫と塩酸、
硫酸等の鉱酸、又は鉄、硫酸第一鉄、亜鉛もしくは錫と
水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、硫化アン
モニウム等の硫化物、アンモニア水、塩化アンモニウム
等のアンモニウム塩との混合物が還元剤として用いられ
る。使用され不活性溶媒としては、例えば水、酢酸、メ
タノール、エタノール、ジオキサン等を例示できる。上
記還元反応の条件としては、用いられる還元剤によって
適宜選択すればよく、例えば塩化第一錫と塩酸とを還元
剤として用いる場合、有利には０〜150℃付近、0.5〜10
時間程度反応を行なうのがよい。還元剤は、原料化合物
に対して少なくとも等モル量、通常は等モル〜６倍モル
量用いられる。

［反応式−７］ ［式中R¹、Ｘ及びｎは前記に同じ。Ｚは低級アルキレ
ン基を示す。R¹⁶はハロゲン原子、低級アルカンスルホ
ニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基又はアラル
キルスルホニルオキシ基を示す。］ R¹⁶で示されるハロゲン原子は上記したものと同じで
あり、低級アルカンスルホニルオキシ基としては、具体
的にはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキ
シ、イソプロパンスルホニルオキシ、プロパンスルホニ
ルオキシ、ブタンスルホニルオキシ、tert−ブタンスル
ホニルオキシ、ペンタンスルホニルオキシ、ヘキサンス
ルホニルオキシ基等を例示でき、またアリールスルホニ
ルオキシ基としては、具体的にはフェニルスルホニルオ
キシ、４−メチルフェニルスルホニルオキシ、２−メチ
ルフェニルスルホニルオキシ、４−ニトロフェニルスル
ホニルオキシ、４−メトキシフェニルスルホニルオキ
シ、３−クロルフェニルスルホニルオキシ、α−ナフチ
ルスルホニルオキシ基等の置換又は未置換のアリールス
ルホニルオキシ基を例示でき、またアラルキルスルホニ
ルオキシ基としては、具体的にはベンジルスルホニルオ
キシ、２−フェニルエチルスルホニルオキシ、４−フェ
ニルブチルスルホニルオキシ、４−メチルベンジルスル
ホニルオキシ、２−メチルベンジルスルホニルオキシ、
４−ニトロベンジルスルホニルオキシ、４−メトキシベ
ンジルスルホニルオキシ、３−クロルベンジルスルホニ
ルオキシ、α−ナフチルメチルスルホニルオキシ基等の
置換又は未置換のアラルキルスルホニルオキシ基を例示
できる。

化合物（13）と化合物（14）の反応は、適当な溶媒
中、塩基性化合物の存在下に行なうことができる。使用
される溶媒としては反応に影響を与えないものであれば
いずれも使用可能であり、例えば、水、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグ
ライム、ジグライム等のエーテル類、アセトン等のケト
ン類、メチルアセテート、エチルアセテート等のエステ
ル類、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等又はそれらの混
合溶媒を例示できる。使用される塩基性化合物として
は、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩基、金属ナ
トリウム、金属カリウム等のアルカリ金属、ナトリウム
メチラート、ナトリウムエチラート等のアルコラート
類、トリエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアミ
ノピリジン、DBN、DBU、DABCO等の有機塩基を例示でき
る。該反応は、通常０〜150℃、好ましくは０〜100℃付
近にて、15分〜10時間程度で終了する。一般式（14）の
化合物の使用量としては、一般式（13）の化合物に対し
て、通常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜1.5倍
モル量使用するのがよい。

［反応式−８］ ［式中、R¹、R²、Ｘ及びR¹⁴は前記に同じ。ｎ′は０
又は１を示す。R¹⁷は低級アルキル基、フリル環上にシ
クロアルキル基を有することのあるフリル低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、置換基
として低級アルキル基を有することのあるアミノチオカ
ルボニル基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原
子、低級アルキル基及び水酸基なる群より選ばれた基を
１〜３個有することのあるフェニル低級アルキル基、又
は基 （R⁴及びR⁵は前記に同じ。）を示す。］ 化合物（1f）と化合物（15）の反応は、一般式（1f）
の化合物と一般式（15）の化合物との反応は、一般に適
当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下又は不存在下
に行なわれる。用いられる不活性溶媒としては例えば
水、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等の芳香
族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール
等の低級アルコール類、酢酸、酢酸エチル、アセトン、
アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等又はこれら
の混合溶媒を挙げることができる。また塩基性化合物と
しては例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、水素化ナト
リウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等の金属ア
ルコラート、ピリジン、エチル−ジイソプロピルアミ
ン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、DB
N、DBU、DABCO等の有機塩基等を挙げることができる。
一般式（1f）の化合物と一般式（15）の化合物との使用
割合としては、特に限定がなく広い範囲で適宜選択すれ
ばよいが、前者に対して後者を少なくとも等モル量程
度、好ましくは等モル〜10倍モル量程度用いるのがよ
い。該反応は通常０〜200℃程度、好ましくは０〜170℃
程度にて行なわれ、一般に30分〜50時間程度で反応は終
了する。該反応の反応系内には、ヨウ化ナトリウム、ヨ
ウ化カリウム等のアルカリ金属ハロゲン化物を添加して
もよい。

［反応式−９］ ［式中R¹、R²、R¹⁴、Ｘ、ｎ′、Ａ、R⁴及びR⁵は前記
に同じ。R¹⁴′はハロゲン原子を示す。］ 化合物（1f）と化合物（16）との反応は、前記反応式
−８の化合物（1f）と化合物（15）の反応と同様の条件
下に行なわれる。

化合物（17）と化合物（18）の反応は、前記反応式−
８の化合物（1f）と化合物（15）の反応と同様の条件下
に行なわれる。該反応では塩基性化合物に代えて化合物
（18）を大過剰用いてもよい。

［反応式−10］ ［式中R¹、R²、R¹⁴、Ａ、Ｘ、ｍ及びｎ′は前記に同
じ。R^4aは水素原子、フェニル環上に置換基としてハロ
ゲン原子を有することのあるフェニル低級アルキル基、
置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アル
カノイル基、置換基として水酸基又はハロゲン原子を有
することのある低級アルキル基、シクロアルキル基又は
基 （ｌ、Ｂ、R⁶及びR⁷は前記に同じ。）を示す。R^5aは、
フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有すること
のあるフェニル低級アルキル基、置換基として水酸基又
はハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、シ
クロアルキル基又は基 （R⁶及びR⁷は前記に同じ）を示す。R^5bは置換基として
ハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基又
は基 （R⁶及びR⁷は前記に同じ）を示す。R^5cはハロゲン原子
を有することのある低級アルキル基又は基 （R⁶及びR⁷は前記に同じ。Ｂ′は低級アルキレン基を示
す。）を示す。］ 化合物（1i）と化合物（19）の反応は、前記反応式−
８の化合物（1f）と化合物（15）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

化合物（1i）と化合物（20）の反応は、前記反応式−
４の化合物（４）と化合物（５）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

化合物（1k）を化合物（11）の導く反応は、化合物
（1k）を還元することにより行なわれる。該還元反応
は、適当な溶媒中、水素化還元剤の存在下に行なわれ
る。使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化アルミニウムリチウム、ジボラン等を例示で
きる。還元剤の使用量は、出発原料に対して少なくとも
等モル、好ましくは等モル〜５倍モル使用するのがよ
い。使用される溶媒としては、例えば水、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低
級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エチルエーテル、ジグライム等のエーテル類又はこれら
の混合溶媒等を例示できる。該反応は、通常−60〜100
℃、好ましくは−30〜100℃付近にて、10分〜５時間程
度で終了する。水素化アルミニウムリチウム又はジボラ
ンを還元剤として使用する場合は、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジグライム等の無水溶媒を使用す
るのがよい。還元剤として水素化ホウ素ナトリウムを用
いる場合、酢酸等の酸を添加してもよい。

また、一般式（1k）の化合物においてR^5bが置換基と
してハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル
基の場合は（R^5b′）_２Ｏ（R^5b′は置換基としてハロゲ
ン原子を有することのある低級アルカノイル基を示
す。）等のアルカノイル化剤と化合物（1i）とを、無溶
媒又は適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下もしくは非
存在下、好ましくは存在下に反応させることによって
も、これら各化合物を収得することがきる。

上記において適当な溶媒としては例えば前述した芳香
族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール
等の低級アルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の他、クロロホルム、塩化メチレン等
のハロゲン化炭化水素類、アセトン、ピリジン等を使用
できる。塩基性化合物としては例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン等の第三級アミン類、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等を
例示できる。上記反応はまた酢酸等の溶媒中、硫酸等の
鉱酸の存在下に実施することもできる。

低級アルカノイル化剤の使用量は、出発原料に対して
等モル量以上、好ましくは等モル〜10倍モル量程度とす
ればよく、反応は通常０〜200℃程度、好ましくは０〜1
50℃程度下に、0.5〜15時間程度で完結する。

また、一般式（1j）においてR^5aが低級アルキル基又
はフェニル低級アルキル基である化合物は、化合物（1
i）と下記化合物 R²⁹‐CO-R³⁰ （40） ［R²⁹及びR³⁰はそれぞれ水素原子、フェニル基又は低
級アルキル基を示す。］ とを反応させることによっても、それぞれ得ることが
できる。

該反応は、無溶媒又は適当な溶媒中、還元剤の存在下
に行なわれる。ここで使用される溶媒としては例えば
水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のア
ルコール類、ギ酸、酢酸、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、ジグライム、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
又はこれらの混合溶媒を例示できる。還元剤としては例
えばギ酸、ギ酸ナトリウム等の脂肪族アルカリ金属塩、
水素化硼素ナトリウム、水素化シアノ硼素ナトリウム、
水素化アルミニウムリチウム等の水素化還元剤、パラジ
ウム−黒、パラジウム−炭素、酸化白金、白金黒、ラネ
ーニッケル等の接触還元剤等を例示できる。

還元剤としてギ酸を使用する場合、反応温度は通常室
温〜200℃程度、好ましくは50〜150℃程度付近が適当で
あり、反応は１〜10時間程度にて終了する。ギ酸の使用
量は化合物（1i）に対して大過剰量使用するのがよい。

また水素化還元剤を使用する場合、反応温度は通常−
30〜100℃程度、好ましくは０〜70℃程度が適当であ
り、30分〜12時間程度で反応は完結する。還元剤の使用
量は、化合物（1i）に対して通常等モル〜20倍モル量程
度、好ましくは１〜６倍モル量程度とするのがよい。特
に還元剤として水素化アルミニウムリチウムを使用する
場合、溶媒としてジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジグライム等のエーテル類、ベンゼ
ン、トルエンキシレン等の芳香族炭化水素類を使用する
のが好ましい。

更に接触還元剤を用いる場合は、通常常圧〜20気圧程
度、好ましくは常圧〜10気圧程度の水素雰囲気中で、又
はギ酸、ギ酸アンモニウム、シクロヘキセン、抱水ヒド
ラジン等の水素供与剤の存在下で、通常−30〜100℃程
度、好ましくは０〜60℃程度の温度で反応を行なうのが
よく、通常１〜12時間程度で反応は終了する。接触還元
剤の使用量としては化合物（1i）に対して通常0.1〜40
重量％、好ましくは１〜20重量％程度とするのがよい。

また化合物（40）の使用量としては化合物（1i）に対
して通常少くとも等モル量、好ましくは等モル〜大過剰
量とするのがよい。該反応で、化合物（1i）のR^4aが水
素原子を示す場合、化合物（40）と反応して化合物（1
i）のR^5a及びR^4aが同時に基 である化合物を得ることもある。

［反応式−11］ ［式中、R¹、R^4a、R¹⁴、R¹⁴′、R⁶、R⁷、Ａ、Ｘ、
ｎ′、ｍ及びｌは前記に同じ。］ 化合物（1i）と化合物（21）の反応及び化合物（1m）
と化合物（22）の反応は、それぞれ前記反応式−８の化
合物（1f）と化合物（15）の反応及び前記反応式−９の
化合物（17）と化合物（18）の反応と同様の条件下に行
なわれる。

［反応式−12］ ［式中R¹、R²、R¹⁴、Ｘ及びｎ′は前記に同じ。R¹⁸は水
素原子又は置換基として水酸基を有する低級アルキル基
を示す。］ 化合物（23）を化合物（24）に導く反応は、化合物
（23）を還元することにより行なわれる。該還元反応
は、適当な溶媒中、水素化還元剤の存在下により行なわ
れる。使用される還元剤としては、水素化ジイソブチル
アルミニウム、水素化トリエトキシアルミニウムナトリ
ウム、水素化トリ−ｔ−ブチルアルミニウムリチウム、
水素化トリエトキシアルミニウムナトリウム等の水素化
アルキルアルミニウム類、水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］アルミ
ニウムナトリウム、テトラフルオロホウ酸トリエチルオ
キソニウム−水素化トリエチルシラン等を例示できる。
使用される溶媒としては例えばテトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類等を例示できる。該反応は通常−60〜100℃、
好ましくは−60℃〜50℃付近にて、10分〜10時間程度に
て終了する。水素化アルミニウムリチウムを還元剤とし
て使用する場合は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジグライム等の無水溶媒を使用するのがよい。還
元剤の使用量としては、化合物（23）に対して、少なく
とも等モル、好ましくは等モル〜３倍モル程度とするの
がよい。

化合物（24）を化合物（25）に導く反応は、前記反応
式−10の化合物（1k）を化合物（１）に導く反応と同
様の条件下に行なわれる。

化合物（25）のハロゲン化反応には、通常の水酸基の
ハロゲン化反応における反応条件がいずれも採用され、
例えば適当な不活性溶媒中又は無溶媒にて化合物（25）
にハロゲン化剤を反応させればよい。用いられるハロゲ
ン化剤としては、例えば塩酸、臭化水素酸等のハロゲン
化水素酸、N,N−ジエチル−1,2,2−トリクロロビニルア
ミド、五塩化リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、チオ
ニルクロリド等が挙げられる。不活性溶媒としては、例
えばジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類等が挙げられる。化合物（25）とハロゲン
化剤との使用割合は、前者に対して後者を少なくとも等
モル、通常は過剰量である。該反応は、通常０〜150
℃、好ましくは０〜120℃にて、10分〜15時間程度で行
なわれる。

化合物（26）と化合物（27）の反応は、前記反応式−
８の化合物（1f）と化合物（15）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

［反応式−13］ ［式中R¹、R²、Ｘ及びｎ′は前記に同じ。R¹⁹は低級
アルキル基、R²⁰は水素原子又はフェニル環上に置換基
としてハロゲン原子を有することのあるフェニル低級ア
ルキル基をそれぞれ示す。］ 化合物（23）と化合物（28）の反応は、適当な溶媒中
もしくは無溶媒で、適当な塩基性化合物もしくは塩化水
素ガスの共存下に行なわれる。ここで用いられる溶媒と
しては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類等を例示できる。

化合物（28）の使用量は、化合物（23）に対して等モ
ル量以上、好ましくは等モル量〜大過剰量程度とするの
がよい。更に塩基性化合物としては例えばナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート
等が好ましく、特に上記反応に用いられるアルコール類
（化合物（28））と同じアルコラートを用いるのが好適
である。反応温度は、通常−10〜50℃程度、好ましくは
０℃〜室温付近とするのがよく、反応は一般に１〜200
時間程度にて終了する。

化合物（29）と化合物（30）の反応に用いられる溶媒
としては例えばメタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等の低級アルコール類、クロロホルム、ジクロロメ
タン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、アセト
ン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等又はこれ
らの混合溶媒等を例示できる。該反応には、塩酸、硫
酸、臭化水素酸等の鉱酸を添加してもよい。該反応に用
いられる化合物（30）の使用量は、化合物（29）に対し
て通常等モル量以上、好ましくは等モル〜50倍モル量程
度の範囲とすればよい。反応は通常０〜150℃程度、好
ましくは０〜100℃付近にて、一般に10分〜15時間程度
を要して行なわれる。

［反応式−14］ ［式中R¹、R²、R¹⁴、R¹⁹、Ａ、Ｘ及びｎ′は前記に同
じ。R²¹は水素原子又は低級アルキル基を示す。］ 化合物（1f）と化合物（31）の反応は、前記反応式−
８の化合物（1f）と化合物（15）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

化合物（32）と化合物（28）の反応は、前記反応式−
13の化合物（23）と化合物（28）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

化合物（33）と化合物（34）の反応は、前記反応式−
13の化合物（29）と化合物（30）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

［反応式−15］ ［式中R¹、R²、Ｘ及びR¹⁴は前記に同じ。ｎ″は０又
は１を示す。R²²は低級アルキル基又はフェニル環上に
置換基として低級アルキル基及び水酸基なる群より選ば
れた基を１〜３個有することのあるフェニル低級アルキ
ル基を示す。］ 化合物（1r）と化合物（35）の反応は、前記反応式−
８の化合物（1f）と化合物（15）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

化合物（1s）と化合物（1t）に導く反応は、通常クラ
イゼン転位反応と呼ばれ、この反応は適当な溶媒中で原
料化合物を加熱することにより行なわれる。ここで使用
される溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジフェニ
ルエーテル、ジメチルアニリン、テトラヒドロナフタレ
ン等の高沸点溶媒を例示できる。該反応は、通常100〜2
50℃、好ましくは150〜250℃にて行なわれ、１〜30時間
程度で終了する。

上記反応で化合物（1s）の基−O-R²²の種類によって
は化合物（1r）と化合物（35）の反応の同様の条件下に
直接化合物（1t）を得ることもある。

［反応式−16］ ［式中R¹、R²、Ｘ及びｎ′は前記に同じ。R²³は置換
基として低級アルキル基を有することのあるアミノチオ
カルボニル基を示す。R²⁴は置換基として低級アルキル
基を有することのあるアミノカルボニルチオ基を示
す。］ 化合物（1u）を化合物（1v）に導く反応は、適当な溶
媒中で、原料化合物を加熱することにより行なわれる。
ここで使用される溶媒としては、ジメチルホルムアミ
ド、ジフェニルエーテル、ジメチルアニリン、テトラヒ
ドロナフタレン等の高沸点溶媒を例示できる。該反応
は、通常100〜350℃、好ましくは150〜300℃付近にて、
１〜30時間程度で終了する。

［反応式−17］ ［式中R¹、R²、Ｘ及びｎ′は前記に同じ。R²⁶及びR²⁵
は、それぞれ低級アルコキシ基を示す。］ 化合物（1w）と化合物（36）との反応は、適当な溶媒
中、酸の存在下に実施することができる。ここで使用さ
れる溶媒としては例えば水、メタノール、エタノール、
イソプロパノール等の低級アルコール類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、酢酸、ギ酸等の脂肪酸、これらの混合溶媒
等を挙げることができる。また使用される酸としては例
えば塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、ギ酸、酢酸、芳
香族スルホン酸等の有機酸を例示できる。該反応は通常
室温〜200℃程度、好ましくは室温〜150℃程度にて好適
に進行し、一般に0.5〜５時間程度で終了する。化合物
（36）の使用量としては、化合物（1w）に対して少なく
とも等モル、好ましくは等モル〜２倍モル量使用するの
がよい。

［反応式−18］ ［式中R¹、R²、R¹⁴、R¹⁴′、Ｘ及びｎ′は前記に同
じ。R²⁷は水素原子、低級アルキル基を有することのあ
るアミノ基、置換基として水酸基を有する低級アルキル
基又は置換基として低級アルキル基を有することのある
アミノカルボニル基を示す。］ 化合物（1w）と化合物（37）の反応は、前記反応式−
８の化合物（1f）と化合物（15）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

［反応式−19］ ［式中R¹、R²、R¹⁴、R¹⁴′、R²⁷、Ｘ及びｎ′は前記
に同じ。ｗは基−CH₂−又は窒素原子を示す。］ 化合物（1w）と化合物（38）の反応は、前記反応式−
８の化合物（1f）と化合物（15）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

［反応式−20］ ［式中R¹、R²、R¹⁴及びｎは前記に同じ。R²⁸は低級ア
ルキル基、低級アルケニル基又はフェニル低級アルキル
基を示す。］ 一般式（1A）の化合物と一般式（39）の化合物との反
応は、例えば塩基性化合物の存在下適当な溶媒中にて行
なうのがよい。ここで塩基性化合物としては、例えば水
素化ナトリウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムア
ミド、カリウムアミド等を挙げることができる。また溶
媒としては、例えばジオキサン、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙
げることができる。化合物（1A）と化合物（39）との使
用割合としては、特に限定がなく広い範囲内で適宜選択
すればよいが、通常前者に対して後者を少なくとも等モ
ル程度、好ましくは等モル〜２倍モル程度とするのがよ
い。該反応は、通常０〜100℃程度、好ましくは０〜70
℃付近にて行なわれ、一般に0.5〜12時間程度で終了す
る。

［反応式−21］ ［式中R¹、R⁸、R⁹、R¹⁴、Ｙ、Ｘ及びｎは前記に同
じ。R³²はハロゲン原子を有することのある低級アルキ
ル基、又は基 （Ｙ、R⁸及びR⁹は前記に同じ。）を示す。ｒは０、１又
は２を示す。

R³¹はハロゲン原子を有することのある低級アルコキ
シ基、低級アルキル基、水酸基、ハロゲン原子又は基 （Ｙ、R⁸及びR⁹は前記に同じ。）を示す。］ 化合物（1D）と化合物（41）の反応及び化合物（1D）
と化合物（42）の反応は、前記反応式−８の化合物（1
f）と化合物（15）の反応と同様の条件下に行なわれ
る。

化合物（43）と化合物（44）の反応は、前記反応式−
９の化合物（17）と化合物（18）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

前記反応式−１で出発原料（２）は例えば、以下の方
法にて製造される。

［反応式−22］ ［式中R¹、Ｘ、R¹⁴及びｎは前記に同じ。］ 化合物（４）を化合物（45）に導く反応は、適当な溶
媒中、カルボニル化剤の存在下に両者を反応させること
により行なわれる。ここで使用される溶媒としては、ク
ロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類を例示できる。カルボニ
ル化剤としては、尿素、N,N′−カルボニルジイミダゾ
ール等を例示できる。該反応は、通常室温〜200℃、好
ましくは室温〜150℃付近にて、１〜10時間程度にて終
了する。カルボニル化剤の使用量としては、化合物
（４）に対して、少なくとも等モル、好ましくは等モル
〜２倍モル量とするのがよい。

化合物（45）のハロゲン化反応は、前記反応式−12の
化合物（25）のハロゲン化反応と同様の条件下に行なわ
れる。

化合物（45）は以下の反応式の方法により製造される
ことができる。

［反応式−23］ ［式中R¹及びｎは前記に同じ。R³³は低級アルキル基
を示す。］ 化合物（46）を化合物（45a）に導く反応は、前記反
応式−６の化合物（12）を化合物（1d）に導く反応と同
様の条件下に還元後、続いて水、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類等の溶媒中、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等のアルカリ金属アルコラート類等の
存在下通常０〜100℃、好ましくは０〜70℃付近にて、1
0分〜５時間反応させることにより行なわれる。該反応
の反応系内に過酸化水素を添加することにより反応は有
利に進行する。

反応式−７の出発原料である化合物（13）は例えば下
記反応式に示す方法により製造される。

［反応式−24］ ［式中R¹、ｎ、Ｘ、R¹⁶及びＺは前記に同じ。R³⁵は低
級アルコキシ基を示す。］ 化合物（４）と化合物（47）の反応は、前記反応式−
２の化合物（４）と化合物（５）の反応と同様の条件下
に行なわれる。

化合物（４）と化合物（48）との反応は、適当な溶媒
中にて行なわれる。ここで使用される溶媒としては、例
えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、エタノール、メタノール、イソプ
ロパノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチル
スルホキシド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド等の極性溶媒等を例示できる。該反応は
通常０〜100℃、好ましくは室温〜70℃付近にて10〜80
時間程度にて終了する。

化合物（48）の使用量は、化合物（４）に対して少な
くとも等モル、好ましくは等モル〜３倍モル量とするの
がよい。

一般式（１）の化合物で、R¹の少なくとも一つがニト
ロ基を示すとき、これを還元することによりR¹の少なく
とも一つがアミノ基である化合物に導くことができる。

該還元反応は、前記反応式−６の化合物（12）を化合
物（1d）に導く反応と同様の条件下に行なわれる。それ
に加えて、以下に示すような適当な溶媒中接触還元触媒
を用いて還元する方法によっても行なわれることができ
る。

使用される溶媒としては、例えば水、酢酸、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、
ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、酢酸エ
チル、酢酸メチル等のエステル類、N,N−ジメチルホル
ムアミド等の非プロトン極性溶媒等が挙げられる。また
接触還元触媒としては、例えばパラジウム、パラジウム
−黒、パラジウム−炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸
銅、ラネーニッケル等が挙げられる。触媒は、出発原料
に対して一般に0.02〜１倍量程度用いるのがよい。反応
温度は、通常−20〜150℃付近、好ましくは０〜100℃付
近、水素圧は通常１〜10気圧とするのがよく、該反応は
一般に0.5〜10時間程度で終了する。

一般式（１）でR¹の少なくとも一つが低級アルコキシ
基である化合物又はR²がフェニル環上の置換基の少なく
とも一つが低級アルコキシ基であるフェニル基のとき、
臭化水素酸、塩酸等の酸と水、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール等の溶媒との混合物中で、
30〜150℃、好ましくは50〜120℃に加熱処理することに
より、R¹の少なくとも一つが水酸基又はR²がフェニル環
上の置換基の少なくとも一つが水酸基であるフェニル基
である化合物（１）に導くことができる。また、加水分
解することによってもR¹の少なくとも一つが水酸基又は
R²がフェニル環上の置換基の少なくとも一つが水酸基で
あるフェニル基である化合物（１）を得ることができ
る。この加水分解は適当な溶媒中酸の存在下にて行なわ
れる。溶媒としては例えば水、メタノール、エタノー
ル、イソプロルアルコール等の低級アルコール類、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等のエタノール類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類、アセトニトリル等の極性溶媒、これらの混合
溶媒等を挙げることができる。酸としては例えば塩酸、
硫酸、臭化水素酸等の鉱酸類、三弗化ホウ素、塩化アル
ミニウム、三臭化ホウ素等のルイス酸、ヨウ化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウム等のヨウ化物、上記ルイス酸とヨウ
化物の混合物等を挙げることができる。該反応は通常室
温〜150℃、好ましくは室温〜100℃にて好適に進行し、
一般に0.5〜20時間程度で終了する。また、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド、ジメチルホルムアミド等の溶媒
中、ｎ−ブタンチオリチウム、ｔ−ブタンチオリチウム
等のアルキルチオリチウム塩、エタンチオナトリウム等
のアルキルチオアルカリ金属塩等の存在下反応させるこ
とによっても行なうことができる。

一般式（１）で、R²が基 （R^12aは低級アルカノイル基、R^13aは水素原子、低級ア
ルキル基又は低級アルカノイル基を示す。）を有する５
又は６員環の飽和の複素環のとき、前記一般式−10の化
合物（11c）を化合物（11）に導く反応と同様にして、
基 の部分が低級アルキル基である化合物に導くことができ
る。

一般式（１）で、R²が （R^12a及びR^13aは前記に同じ。）を有する５又は６員環
の飽和の複素環又はR¹が （Ａ、ｍ、R^4a及びR^5bは前記に同じ。）のとき、加水分
解することにより、基 の部分及び基 の部分が水素原子である化合物に導くことができる。

この加水分解反応には、通常の加水分解の反応条件を
いずれも適用でき、具体的には例えば炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化バリウム等の塩基性化合物、硫酸、塩酸、硝酸等の
鉱酸、酢酸、芳香族スルホン酸等の有機酸等の存在下、
水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル等のエーテル類、酢酸等の溶媒又はそれらの混合
溶媒中にて行なわれる。該反応は、通常室温〜200℃、
好ましくは室温〜150℃付近にて進行し、一般に0.5〜20
時間程度にて終了する。

一般式（１）でR²が基−NH-R^13a（R^13aは前記に同
じ。）を有する５又は６員環の飽和の複素環のとき、前
記反応式−10の化合物（1i）を化合物（1j）に導く反応
と同様の条件下に反応して、R²が基 （R^12bは低級アルキル基を示す。）を有する５又は６員
環の飽和の複素環に導くことができる。

一般式（１）でR²が基 を示し、R¹⁰及びR¹¹が複素環を形成し、その窒素原子上
にフェニル低級アルコキシカルボニル基を有するとき、
前記一般式（１）でR^12aが低級アルカノイル基である化
合物の加水分解反応と同様の条件下に加水分解して、そ
の窒素原子上が水素原子である化合物に導くことができ
る。

一般式（１）で、R²がフェニル環上に少なくとも一つ
低級アルキル基を有するフェニル基のとき、メタンスル
ホン酸、酢酸等の酸中、通常室温〜150℃、好ましくは5
0〜120℃付近にて１〜７時間程度加熱することによりフ
ェニル環上の少なくとも一つの低級アルキル基が脱アル
キル化された化合物を得ることとができる。

一般式（１）でR²がピロリル基であるとき、前記反応
式−20の化合物（1A）と化合物（39）の反応と同様の条
件下に反応してピロリル基の１位が低級アルキル化され
た化合物を得ることができる。

一般式（１）でR⁶又はR⁷の少なくとも一方が水素原子
を示すとき、前記反応式−10の化合物（1i）と化合物
（19）の反応と同様の条件下に反応してR⁶又はR⁷の少な
くとも一方が低級アルキル基である化合物に導くことが
できる。

一般式（１）でR⁸又はR⁹の少なくとも一方が水素原子
を示すとき、前記反応式−10の化合物（1i）と化合物
（19）との反応と同様の条件下に反応して、R⁸又はR⁹の
少なくとも一方が低級アルキル基又はシクロアルキル基
である化合物に導くことができる。

一般式（１）でR¹⁰又はR¹¹或いはR¹²又はR¹³の少なく
とも一方が水素原子を示すとき、前記反応式−10の化合
物（1i）と化合物（19）との反応と同様の条件下に反応
して、R¹⁰又はR¹¹或いはR¹²又はR¹³の少なくとも一方
が、低級アルキル基である化合物に導くことができる。

一般式（１）でR¹²又はR¹³の少なくとも一方が水素原
子を示すとき、前記反応式−10の化合物（1i）と化合物
（20）との反応条件と同様の条件下に反応して、R¹²又
はR¹³の少なくとも一方が低級アルカノイル基である化
合物に導くことができる。

斯くして得られる各々の行程での目的化合物は、通常
の分離手段により容易に単離精製することができる。該
分離手段としては、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶
法、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層ク
ロマトグラフィー等を例示できる。

上記一般式（１）のベンズアゾール誘導体は、薬理的
に許容される酸と塩を形成させることができる。斯かる
酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機
酸、蓚酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、酢酸、
リンゴ酸、クエン酸、乳酸等の有機酸を例示できる。

また上記一般式（１）のベンズアゾール誘導体の内、
酸性基を有する化合物は、薬理的に許容される塩基と塩
を形成させることができる。斯かる塩基としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の
アルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物を例示で
きる。

本発明の化合物は、当然に光学異性体、立体異性体を
含有するものである。

本発明の化合物は通常、一般的な医薬製剤の形態で用
いられる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合
剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤あ
るいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤としは
各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的な
ものとして錠剤丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒
剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）等が
挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては、担体と
してこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば
乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプ
ン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ
酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロ
ップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カルボ
キシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース、
リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、乾
燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミ
ナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリ
チオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デン
プン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバタ
ー、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩
基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリ
ン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、
ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タル
ク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコー
ル等の滑沢剤等が例示できる。更に錠剤は必要に応じ通
常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包
錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠或いは二重錠、
多層錠とすることができる。丸剤の形態に成形するに際
して、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用
でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬
化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム
末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、
ラミナランカンテン等の崩壊剤等が例示できる。坐剤の
形態に成形するに際しては、担体として従来公知のもの
を広く使用でき、例えばポリエチレングリコール、カカ
オ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、
ゼラチン、半合成グリセライド等を挙げることができ
る。注射剤として調製される場合には、液剤、乳剤及び
懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好まし
く、これら液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成形するに際
しては、希釈剤としてこの分野において慣用されている
ものを全て使用でき、例えば水、乳酸水溶液、エチルア
ルコール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステ
アリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコ
ール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類
等を挙げることができる。なお、この場合等張性の溶液
を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖或いはグリセリ
ンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解
補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必
要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や
他の医薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペース
ト、クリーム及びゲルの形態に成形するに際しては、希
釈剤として例えば白色ワセリン、パラフィン、グリセリ
ン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、シリ
コン、ベントナイト等を使用できる。

本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般式（１）の
化合物又はその塩の量は、特に限定されず広範囲に適宜
選択されるが、通常全組成物中１〜70重量％とするのが
よい。

本発明の医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種
製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度
等に応じた方法で投与される。例えば錠剤、丸剤、液
剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経
口投与される。また注射剤の場合には単独で或いはブド
ウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与さ
れ、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もし
くは腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与され
る。

本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別
その他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、
通常有効成分である一般式（１）の化合物の量は１日当
り体重1kg約0.06〜100mgとするのがよく、該製剤は１日
に２〜４回に分けて投与することができる。

実施例 以下に製剤例、参考例、実施例及び薬理試験を掲げ
る。

製剤例１ 錠剤の調製 配 合 量（ｇ） ６−トリフルオロメチル−２−（２−チエニル）ベンズ
イミダゾール 5 乳糖（日本薬局方品） 50 コーンスターチ（日本薬局方品） 25 結晶セルローズ（日本薬局方品） 25 メチルセルローズ（日本薬局方品） 1.5 ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品） 1 上記本発明の化合物、乳糖、コーンスターチ及び結晶
セルローズを充分混合し、メチルセルローズの５％水溶
液で顆粒化し、200メッシュの篩に通して注意深く乾燥
し、これを常法により打錠して錠剤1000錠を調製する。

製剤例２ カプセル剤の調製 配 合 量（ｇ） ６−ヒドロキシ−（２−メトキシフェニル）ベンズチア
ゾール 10 乳糖（日本薬局方品） 80 澱粉（日本薬局方品） 30 滑石（日本薬局方品） 5 ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品） 1 上記成分を細かく粉末にし、均一な混合物になるよう
に充分攪拌した後所望の寸法を有する経口投与用のゼラ
チンカプセルに充填し、カプセル1000個を調製する。

製剤例３ 注射剤の調製 配 合 量（ｇ） ６−（ジメチルアミノカルボニルチオ）−２−（１−メ
チル−２−ピロリル）ベンズチアゾール 1 ポリエチレングリコール（分子量:4000）（日本薬局方
品） 0.3 塩化ナトリウム（日本薬局方品） 0.9 ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート（日本薬局
方品） 0.4 メタ重亜硫酸ナトリウム 0.1 メチル−パラベン（日本薬局方品） 0.18 プロピル−パラベン（日本薬局方品） 0.02 注射用蒸留水 100（ml） 上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び塩化ナ
トリウムを攪拌しながら80℃で上記の約半量の蒸留水に
溶解し、その溶液を40℃まで冷却し、本発明の化合物、
ポリエチレングリコール及びポリオキシエチレンソルビ
タンモノオレエートをその溶液中に溶解し、その溶液に
注射用蒸留水を加えて最終の容量に調製し、適当なフィ
ルターペーパーを用いて滅菌過することにより滅菌し
て注射剤を調製する。

参考例１ ２−メルカプト−４−クロロアニリン30g、尿素20gを
クロロベンゼン400mlに加え窒素雰囲気下、130℃で６時
間加熱攪拌した。デカンテーションして溶媒を除き残渣
の結果を取、ジエチルエーテルで洗浄し、無色針状晶
17.8gの６−クロロベンズチアゾール−２−オンを得
た。

融点:192〜195℃ 参考例２ ６−クロロベンズチアゾール−２−オン5gをオキシ塩
化リン30mlに加え10時間加熱還流した。氷水にあけクロ
ロホルムで抽出した。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫
酸マグネシウム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン）で
精製し、ｎ−ヘキサンから再結晶し、無色針状晶の2,6
−ジクロロベンズチアゾール2.7gを得た。

融点:93〜94℃ 参考例２と同様にして以下の化合物を得る。

2,7−ジクロロベンズチアゾール 融点:49〜50℃（ｎ−ヘキサンより再結晶）、無色針
状 2,6−ジクロロ−４−メチルベンズチアゾール NMR（CDCl₃）δ： 2.67（3H,s） 7.28（1H,m） 7.58（1H,m） 2,5−ジクロロベンズチアゾール 融点:65〜66℃（ｎ−ヘキサンより再結晶）、無色板
状 ２−クロロ−６−（１−ピペリジニル）ベンズチアゾ
ール 融点:66〜67℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結
晶）、淡黄色プリズム状 ２−クロロ−６−エトキシ−４−ニトロベンズチアゾ
ール 融点:174.5〜175.5℃（クロロホルム−ｎ−ヘキサン
より再結晶）、淡黄色針状 ２−クロロ−６−メトキシ−５−ニトロベンズチアゾ
ール 淡褐色プリズム状（塩化メチレン−ｎ−ヘキサンより
再結晶） NMR（CDCl₃）δ： 1.52（3H,t,J＝7Hz） 4.22（2H,q,J＝7Hz） 7.40（1H,s） 8.33（1H,s） 参考例３ ２−エトキシカルボニルメチオ−５−クロロニトロベ
ンゼン5g及び還元鉄5.3gをメタノール40mlに加え加熱還
流下、濃塩酸10mlを30分で滴下した。その後１時間毎に
濃塩酸10mlを滴下し、３時間加熱還流した。反応液を熱
時セライト過し残分をアセトンで洗浄した。母液及び
アセトン洗浄液を濃縮し、水を加え析出晶を取した。
析出晶を水酸化ナトリウム0.6gを含む50mlの水に加え更
に0.5時間攪拌した。そこに28％過酸化水素水３滴、及
び活性炭0.5gを加え、更に0.5時間攪拌した。不溶物を
去し母液を10％塩酸で中和し析出晶を取、水洗後、
乾燥し白色粉末の５−クロロベンズチアゾール−２−オ
ン2.4gを得た。

NMR:δppm（DMSO-d₆）： 7.13（1H,d,J＝2.1Hz） 7.20（1H,d−d,J＝2.1,8,3Hz） 7.63（1H,d,J＝8.4Hz） 11.5（1H,br-s） 参考例４ ２−クロロ−４−ニトロアニリン25g、トリエチルア
ミン22gをクロロホルム300mlに加え氷冷下、ｏ−メトキ
シベンゾイルクロライド29.6gの塩化メチレン溶液30ml
を滴下し、室温にて終夜攪拌した。クロロホルムを留去
し、残渣に水を加えて結晶化させ、エタノールを加え
取した。エタノールで洗浄し、乾燥し、３−クロロ−４
−（ｏ−メトキシベンゾイルアミノ）ニトロベンゼン28
gを得た。

参考例５ ３−クロロ−４−（ｏ−メトキシベンゾイルアミノ）
ニトロベンゼン28g、五硫化リン22gをトルエン300mlに
加え、100℃で終夜加熱攪拌した。氷水にあけクロロホ
ルムで抽出した。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナ
トリウム）し、減圧下、溶媒を留去した。残渣をエタノ
ールより再結晶し橙色針状晶の３−クロロ−４−（ｏ−
メトキシチオベンゾイルアミノ）ニトロベンゼン19.7g
を得た（融点:132〜136℃）。

参考例６ ４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル安息香酸2gを塩化チ
オニル20mlに加え、ジメチルホルムアミド１滴を加え室
温下、２時間攪拌した。減圧下濃縮後、乾燥クロロホル
ムを加え、３回共沸させた。このものを乾燥クロロホル
ム5mlに溶解後、４−シアノ−２−ブロモアニリン1.89
g、４−ジメチルアミノピリジン0.12g、ピリジン10mlの
混合物中に室温にて滴下した。室温下、終夜攪拌後、減
圧下、ピリジンを留去した。エタノールを加え、析出晶
を取し、エタノール：ジエチルエーテル＝1:2で洗浄
した。エタノールより再結晶し、白色粉末の３−ブロモ
−４−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルベンゾイルアミ
ノ）ベンゾニトリル2.93gを得た。

融点:181〜182℃ 参考例７ ３−ブロモ−４−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルベ
ンゾイルアミノ）ベンゾニトリル2.7g、2,4−ビス（４
−メトキシフェニル）−1,3−ジチア−2,4−ジフォスフ
ェタン−2,4−ジスルフィド2.82gをキシレン100mlに加
え、110℃で２時間加熱攪拌した。減圧下キシレンを留
去後、飽和重曹水を加え、塩化メチレン抽出した。塩化
メチレン層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧
下、溶媒を留去した。エタノール−ｎ−ヘキサンより再
結晶し、黄色針状晶1.5gの３−ブロモ−４−（４−メト
キシ−３−ｔ−ブチルベンゾイルアミノ）ベンゾニトリ
ルを得た。

融点188〜189℃ 上記参考例５又は７と同様にして３−クロロ−４−
（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルチオベンゾイルアミ
ノ）ニトロベンゼンを得る。

融点:185℃（昇華）、 無色鱗片状（キシレンより再結晶） 参考例８ 3,4−ジアミノベンズトリフルオライド1.2g、N,N′−
カルボニルジイミダゾール1.4gを無水テトラヒドロフラ
ン20mlに加え、窒素気流下、９時間加熱還流した。水に
あけ、析出晶を取し、水洗、乾燥し、白色粉末の５−
トリフルオロメチル−２−ベンズイミダゾロン1.3gを得
た。

参考例９ ５−トリフルオロメチル−２−ベンズイミダゾロン1.
3gをオキシ塩化燐20mlに加え、３時間加熱還流した。減
圧下濃縮後、残渣に水を加えクロロホルムで抽出した。
クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減
圧下、溶媒留去した。残渣にｎ−ヘキサンを加え、結晶
化させた後、取、乾燥し、白色粉末の２−クロロ−５
−トリフルオロメチルベンズイミダゾール0.9gを得た。

参考例10 ２−アミノ−４−クロロアニリン14.3gの塩化メチレ
ン溶液（300ml）に氷冷下、クロロアセトイミド酸メチ
ル・塩酸塩18.7gを少量ずつ添加した。添加後、室温下
２時間攪拌後、更にクロロアセトイミド酸メチル・塩酸
塩10gを添加した。更に１日攪拌後、塩化メチレン層を
飽和重曹水、水で洗浄後、乾燥（硫酸ナトリウム）し
た。減圧下濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（クロロホルム：酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:
1:1）で精製し、クロロホルム−ｎ−ヘキサンで再結晶
し、淡褐色粉末の２−クロロメチル−５−クロロベンズ
イミダゾール13gを得た。

NMR:δppm（CDCl₃）： 4.85（2H,s） 7.27（1H,d−d,J＝2,8.5Hz） 7.33〜7.90（2H,m） 9.96（1H,br-s） 参考例11 ２−アミノ−４−クロロアニリン2.9g、クロロ酢酸2.
5gを4N−塩酸50mlに加え、２時間加熱還流した。アンモ
ニア水で中和し、水を加えクロロホルムで抽出した。ク
ロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧
下、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（塩化メチレン：メタノール＝30:1）で精製
し、淡黄色結晶の２−クロロメチル−５−クロロベンズ
イミダゾール0.6gを得た。

NMR:δppm（CDCl₃）： 4.85（2H,s） 7.27（1H,d−d,J＝2,8.5Hz） 7.33〜7.90（2H,m） 9.96（1H,br-s） 参考例12 ３−ニトロ−４−アミノベンゾトリフルオライド4g、
４−ジメチルアミノビリジン0.12gのピリジン溶液40ml
に２−テノイルクロライド3.4gを滴下した。室温下３時
間攪拌後氷水にあけ析出晶を取した。結晶を酢酸エチ
ルに溶かし、1N塩酸、水、飽和重曹水、水で洗浄し、乾
燥（硫酸ナトリウム）した。減圧下濃縮後、酢酸エチル
−ｎ−ヘキサンより再結晶し、黄色針状晶の３−ニトロ
−４−（２−テノイルアミノ）−ベンゾトリフルオライ
ド1.6gを得た。

参考例13 ４−ニトロ−ｏ−フェニレンジアミン1g、４−ジメチ
ルアミノピリジン40mgをピリジン10mlに溶解させ氷冷
下、２−テノイルクロライド0.96gを滴下した。室温に
て終夜攪拌後、ピリジンを減圧下留去した。５％塩酸を
加え塩化メチレン抽出し、有機層を水洗、乾燥（硫酸マ
グネシウム）し、減圧下濃縮した。析出した結晶を
取、塩化メチレンより再結晶し、黄色粒状晶の２−（２
−テノイルアミノ）−５−ニトロアニリン1gを得た。

融点:204〜205℃ 参考例14 ２−（3,5-t−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−
６−（３−シアノプロポキシ）ベンズチアゾール2gをク
ロロホルム100ml、エタノール10mlの混液に加えメタノ
ール−氷冷下、塩酸ガスを通じた。５℃で一夜放置後、
冷水酸化ナトリウム溶液にあけ、クロロホルム抽出し
た。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）
し、減圧下、溶媒留去し、淡緑色油状物の２−（3,5-t
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−６−（３−エト
キシ−３−イミノプロポキシ）ベンズチアゾール2.2gを
得た。

NMR:δppm（CDCl₃）： 1.30（3H,t,J＝7Hz） 1.51（18H,s） 2.10（2H,m） 2.48（2H,t,J＝7Hz） 4.06（2H,t,J＝7Hz） 4.13（2H,q,J＝7Hz） 5.54（1H,s） 7.03（1H,d−d,J＝9,2.5Hz） 7.31（2H,d,J＝2.5Hz） 7.85（2H,s） 7.90（2H,d,J＝9Hz） 実施例１ 2,6−ジクロロベンズチアゾール1g、ピペラジン4.2g
をα−ピコリン30mlに加え100℃で５時間加熱攪拌し
た。減圧下濃縮後、残渣に水を加えクロロホルムで抽出
した。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）
し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール＝8:1）
で精製し、塩酸を加え、濃縮乾固した。含水エタノール
より再結晶して、無色板状晶の２−ピペラジノ−６−ク
ロロベンズチアゾール・塩酸塩0.31gを得た。

NMR:δppm（DMSO-d₆）： 3.2〜3.4（4H,m） 3.8〜4.0（4H,m） 7.35（1H,d−d,J＝2.1,8.6Hz） 7.51（1H,d,J＝8.6Hz） 7.99（1H,d,J＝2.2Hz） 実施例２ ２−クロロ−６−トリフルオロメチルベンズイミダゾ
ール0.6gを３−クロロアニリン5mlに加え、窒素雰囲気
下、140℃で２時間、加熱攪拌した。減圧下濃縮後、残
渣に水を加え塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層
を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩
化メチレン：メタノール＝20:1）で精製し、アセトン
中、蓚酸塩とした後、含水エタノールより再結晶し、白
色粉末の２−（３−クロロフェニルアミノ）−６−トリ
フルオロメチルベンズイミダゾール・蓚酸塩0.3gを得
た。

融点:247〜250℃（分解） 実施例３ 2,6−ジクロロベンズチアゾール3g、４−アセトアミ
ドピペリジン・塩酸塩5g及びDBU2mlを2,6−ルチジン50m
lに加え100℃で８時間加熱攪拌した。減圧下濃縮後、残
渣に水を加えクロロホルムで抽出した。クロロホルム層
を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩
化メチレン：メタノール＝20:1）で精製した。クロロホ
ルムより再結晶して、無色針状晶の２−（４−アセトア
ミドピペリジノ）−６−クロロベンズチアゾール2.5gを
得た。

融点:234〜235℃ 実施例１、２及び３と同様にして適当な出発原料を用
いて下記第１表に示す化合物を得る。

実施例33 ２−アミノ−５−エトキシチオフェノール5g及びピリ
ジン3.5gをトルエン120mlを懸濁攪拌下、ｏ−メトキシ
ベンゾイルクロライド6gを滴下した。８時間加熱還流
後、水にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム
層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留
去した。残渣にエタノールを加え、析出晶を取した。
得られた結晶をメタンスルホン酸60mlに溶解し、五酸化
リン6gを加え80℃で４時間加熱攪拌した。氷水にあけク
ロロホルムで抽出し、クロロホルム層を水洗、乾燥（硫
酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン:n−ヘ
キサン＝1:1）で精製した。ｎ−ヘキサンより再結晶
し、淡青色針状晶の２−（２−クロロフェニル）−６−
エトキシベンズチアゾール1.6gを得た。

融点:75〜75.5℃ 実施例34 ２−（２−テノイルアミノ）−５−ニトロアニリン0.
1gを6N塩酸3mlに加え、0.5時間加熱還流した。水を加
え、放冷して析出晶を取、水より再結晶し無色針状晶
の２−（２−チエニル）−６−ニトロベンズイミダゾー
ル・塩酸塩70mgを得た。

融点:150〜152℃ 実施例33及び実施例34と同様にして適当な出発原料を
用いて、下記第２表に示す各化合物を得た。また該化合
物のNMR分析結果を下記第３表に示す。

実施例136 ２−アミノチオフェノール3g、２−カルボキシチオフ
ェン4.4g及び五酸化リン5.1gをメタンスルホン酸40gに
加え、窒素雰囲気下、70℃で８時間加熱攪拌した。氷水
にあけクロロホルムで抽出し、クロロホルム層を水洗、
乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒を留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチ
レン:n−ヘキサン＝1:1）で精製後、塩化メチレン−ｎ
−ヘキサンより再結晶し、無色針状晶の２−（２−チエ
ニル）ベンズチアゾール3.5gを得た。

融点:97.5〜98℃ 実施例137 窒素雰囲気下、五酸化リン8g及びメタンスルホン酸80
gの混合物に、ｏ−アニス酸4g及び3,4−ジアミノベンゾ
トリフルオライド4gを加え80℃で12時間加熱攪拌した。
氷水にあけ水酸化ナトリウム溶媒でアルカリ性にし、析
出晶を取、水洗乾燥した。結晶をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸エチル:n−ヘキ
サン＝1:1:1）で精製後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンよ
り再結晶し、白色粉末の２−（２−メトキシフェニル）
−６−トリフルオロメチルベンズイミダゾール4.3gを得
た。

融点:205〜206.5℃ 実施例136及び137と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例33〜84、87〜135の化合物を得る。

実施例138 窒素雰囲気下、２−アミノ−５−エトキシチオフェノ
ール6.9g、２−ホルミルピロール3.4g及び粉砕したモレ
キュラーシーブス４Å6gをピリジン60mlに加え、室温に
て２日間攪拌した。氷水にあけクロロホルムで抽出し、
クロロホルム層を水、５％塩酸水、飽和重曹水、飽和食
塩水で洗浄し、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（塩化メチレン）で精製後、エタノールより再結晶し
淡褐色プリズム晶の２−（２−ピロリル）−６−エトキ
シベンズチアゾール2.1gを得た。

融点:142.5〜143.5℃ 実施例139 ４−クロロ−ｏ−フェニレンジアミン2g及び３−チオ
フェンアルデヒド1.57gをエタノール20mlに加え、６時
間加熱還流した。減圧下濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸エチル:n−
ヘキサン＝1:1:1）で精製し、塩化メチレン−ｎ−ヘキ
サンより再結晶し淡褐色粉末の２−（３−チエニル）−
６−クロロベンズイミダゾール0.6gを得た。

融点:237〜238℃ 実施例138及び139と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例33〜94、96〜128、130〜135の化合物を
得る。

実施例140 ３−ブロモ−４−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルチ
オベンゾイルアミノ）ベンゾニトリル1.48gをジメチル
ホルムアミド15mlに溶解し、1,1,3,3−テトラメチルグ
アニジン0.89gを加え、100℃で1.5時間加熱攪拌した。
減圧下濃縮後、残渣にエタノールを加え、析出晶を取
し、エタノールより再結晶し無色針状晶の２−（４−メ
トキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６−シアノベンズ
チアゾール0.93gを得た。

融点:164〜165℃ 実施例140と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例33〜85、109〜123、125〜130、135の化合物を
得る。

実施例141 SnCl₂・2H₂O 2.4gを濃塩酸10mlに50〜60℃で溶解さ
せ、同温度で３−ニトロ−４−（２−テノイルアミノ）
−ベンゾトリフルオライド1gを添加した。更に１時間加
熱還流後、冷却し析出晶を取した。得られた結晶を水
に懸濁させ、飽和重曹水で中和した。析出晶を取した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホル
ム：酢酸エチル;n−ヘキサン＝1:1:1）で精製した。塩
化メチレン−ｎ−ヘキサンより再結晶し、無色針状晶の
２−（２−チエニル）−６−トリフルオロメチルベンズ
イミダゾール0.6gを得た。

融点:191.5〜192.5℃ 実施例141と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例34、86〜92、94〜108、131〜134の化合物を得
る。

実施例142 ２−クロロメチル−６−クロロベンズイミダゾール1
g、２−メルカプトピリジン0.72g及び炭酸カリウム0.83
gをアセトン30mlに加え0.5時間加熱還流した。減圧下濃
縮後、残渣に水を加えクロロホルムで抽出した。クロロ
ホルム層を1N水酸化ナトリウム溶液及び水で洗浄後、乾
燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホル
ム：酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:1:1）で精製した。塩
酸／エタノールを加え、塩酸塩とした後イソプロパノー
ルより再結晶し、白色粉末の２−（２−ピリジルメルカ
プトメチル）−６−クロロベンズイミダゾール・塩酸塩
0.65gを得た。

融点:184.5〜194.5℃（分解） NMR:δ（DMSO-d₆）： 4.97（2H,s） 7.20（1H,m） 7.52（1H,br-d,J＝8Hz） 7.57（1H,d−d,J＝2,8.5Hz） 7.75（1H,m） 7.82（1H,d,J＝8.5Hz） 7.90（1H,d,J＝2Hz） 8.46（1H,m） 実施例143 ２−（４−ジメチルアミノピペリジニル）−６−ヒド
ロキシベンズチアゾール・臭素酸塩1g、ｏ−クロロベン
ジルクロライド0.5g、DBU1gをイソプロピルアルコール3
0mlに加え８時間加熱還流した。減圧下濃縮後、残渣に
水を加えクロロホルムで抽出した。クロロホルム層を水
洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化
メチレン：メタノール＝20:1→8:1）で精製し、塩酸を
加え減圧下、濃縮乾固した。含水イソプロピルアルコー
ルより再結晶し、白色粉末の２−（４−ジメチルアミノ
ピペリジニル）−６−（ｏ−クロロベンジロキシ）−ベ
ンズチアゾール・塩酸塩0.12gを得た。

融点:244〜245℃ 実施例144 ２−（２−チエニル）−６−ヒドロキシベンズイミダ
ゾール2.2gのジメチルホルムアミド溶液（20ml）に窒素
雰囲気下、水素化ナトリウム（60％油性）0.49gを加え
室温下２時間攪拌した。氷冷下ジメチルチオカルバモイ
ルクロライド1.5gを加え室温下、終夜攪拌した。氷水に
あけ析出晶を取、乾燥後シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（塩化メチレン：メタノール＝20:1）で精製し
た。クロロホルム−ジエチルエーテルより再結晶し、淡
黄色粉末の２−（２−チエニル）−６−（ジメチルチオ
カルバモイルオキシ）−ベンズイミダゾール0.7gを得
た。

融点:113〜117℃ 実施例143及び147と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例11、18、19、20、29、30、33、34、38、
39、40、41、50、55、60、62〜69、80、81、82、83、9
9、120、129、130、132、135の化合物を得る。

実施例145 ２−（２−メトキシフェニル）−６−ヒドロキシベン
ズチアゾール4g、１−ブロモ−３−クロロプロパン4.9g
及びDBU4.7gをイソプロピルアルコール100mlに加え12時
間加熱還流した。減圧下濃縮後、残渣に水を加えクロロ
ホルムで抽出した。クロロホルム層を５％水酸化ナトリ
ウム、水で洗浄し、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧
下、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（塩化メチレン:n−ヘキサン＝1:1）で精製
し、２−（２−メトキシフェニル）−６−（３−クロロ
プロポキシ）ベンズチアゾールの白色粉末3.3gを得た。

NMR:δ（CDCl₃）： 2.29（2H,m） 3.78（2H,t,J＝6Hz） 4.05（3H,s） 4.20（2H,t,J＝6Hz） 7.00-7.20（3H,m） 7.33-7.50（2H,m） 7.96（1H,d,J＝9Hz） 8.46（1H,dd,J＝9Hz,2Hz） 実施例146 ２−（２−メトキシフェニル）−６−（３−クロロプ
ロポキシ）ベンズチアゾール0.5g及び沃化ナトリウム1g
をアセトン10mlに加え、１時間加熱還流した。炭酸カリ
ウム1g及びジエタノールアミン0.8gを加え、更に40時間
加熱還流した。減圧下濃縮後、残渣に水を加えクロロホ
ルムで抽出した。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナ
トリウム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノー
ル＝10:1）で精製後、ｎ−ヘキサン−エーテルより再結
晶し、無色プリズム晶の２−（２−メトキシフェニル）
−６−（N,N−ジエタノールアミノプロポキシ）−ベン
ズチアゾール150mgを得た。

融点:83〜85.5℃ 実施例146と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例36、38、39、41、55、62〜64、67、68、69、83
の化合物を得る。

実施例147 ２−（４−ジメチルアミノピペリジニル）−５−アミ
ノ−６−エトキシベンズチアゾール0.64gのジメチルホ
ルムアミド溶液（15ml）に水素化ナトリウム（60％油
性）0.12gを窒素雰囲気下加え、室温下15分攪拌した。
ｏ−クロロベンジルクロライド0.38gを滴下後、室温下2
4時間攪拌した。減圧下濃縮後、残渣に水を加えクロロ
ホルムで抽出した。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸
ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノ
ール＝15:1）で精製後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより
再結晶し、淡オレンジ色針状晶の２−（４−ジメチルア
ミノピペリジニル）−５−（ｏ−クロロベンジルアミ
ノ）−６−エトキシベンズチアゾール0.07gを得た。

融点:158.5〜161.5℃ 実施例147と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例２、４、12、14〜23、26、28〜32、36、37、3
8、41、55、62、63、74、113の化合物を得る。

実施例148 ２−（４−ジメチルアミノピペリジノ）−４−アミノ
−６−ヒドロキシベンズチアゾール1.7gをエタノール30
mlに加え無水酢酸1.5mlを加え室温下、終夜攪拌した。
減圧下濃縮後炭酸カリウム2g、メタノール50mlを加え２
時間、室温にて攪拌した。炭酸カリウムを去後、濃縮
し、水に溶解後、酢酸でpH≒８〜９にし、析出晶を取
した。含水メタノールより再結晶し無色針状晶の２−
（４−ジメチルアミノピペリジノ）−４−アセトアミド
−６−ヒドロキシベンズチアゾール1.3gを得た。

融点:230〜232℃ 実施例148と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例３、10、11、18、20、24〜26、75、76、111の
化合物を得る。

実施例149 ２−（ｏ−メトキシフェニル）−６−アセトアミドベ
ンズチアゾール1.1gを無水テトラヒドロフラン30mlに溶
解させ、窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム0.
33gを加え、30分間加熱還流した。冷後、飽和硫酸ナト
リウム水溶液を加え攪拌後、クロロホルムを加えてセラ
イト過し、母液をクロロホルムで抽出した。クロロホ
ルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（塩化メチレン）で精製し、塩化メチレン−ｎ−ヘキ
サンより再結晶し、黄色針状晶の２−（ｏ−メトキシフ
ェニル）−６−エチルアミノベンズチアゾール0.85gを
得た。

融点:146.5〜147.5℃ 実施例149と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例12、14〜20、28〜32、36、37、41、55、62、6
3、74の化合物を得る。実施例150 ２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−アミノベンズチアゾール0.4g、１−ブロモ−３−クロ
ロプロパン2.02g及び炭酸ナトリウム1.36gをエタノール
12mlに加え、10時間加熱還流した。減圧下濃縮後、残渣
に水を加え塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を
水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル:n−ヘキサン＝1:4）で精製し、淡褐色油状物の
２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６−
（３−クロロプロピルアミノベンズチアゾール0.4gを得
た。

NMR:δ（CDCl₃）： 1.44（9H,s） 2.13（2H,m） 3.41（2H,t,J＝7Hz） 3.69（2H,t,J＝7Hz） 3.90（3H,s） 6.76（1H,d−d,J＝9,2Hz） 6.93（1H,d,J＝9Hz） 7.02（1H,d,J＝2Hz） 7.78-7.88（2H,m） 7.95（1H,d,J＝2Hz） 実施例151 ２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−アミノベンズチアゾール1gを塩化メチレン30mlに溶解
し、トリエチルアミン0.71gを加えた。室温攪拌下、３
−クロロプロピオニルクロライド0.45gを滴下し、同温
度で１時間攪拌した。減圧下濃縮後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（塩化メチレン）で精製し、
淡黄色粉末の２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェ
ニル）−６−［（３−クロロプロピオニル）アミノ］ベ
ンズチアゾール0.58gを得た。

NMR:δ（CDCl₃）： 1.42（9H,s） 2.90（2H,t,J＝6Hz） 3.93（3H,s） 3.94（2H,t,J＝6Hz） 7.18（1H,d,J＝9Hz） 7.60（1H,d−d,J＝9,2Hz） 7.83-8.03（3H,m） 8.52（1H,s） 実施例152 ２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−（３−クロロプロピルアミノ）ベンズチアゾール0.38
g、沃化ナトリウム0.29g及び４−ジメチルアミノピペリ
ジン0.13gをジメチルホルムアミド10mlに加え130℃で１
時間、加熱攪拌した。減圧下濃縮後、残渣に飽和重曹水
を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗、乾
燥（硫酸マグネシウム）し、減圧下、溶媒留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレ
ン：メタノール：アンモニア水＝100:10:1）で精製し
た。エタノール中フマル酸塩とした後、エタノールで再
結晶し、黄色粉末の２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチ
ルフェニル）−６−［３−（４−ジメチルアミノピペリ
ジニル）プロピルアミノ］ベンズチアゾール・フマル酸
塩0.26gを得た。

融点:185〜187℃ 実施例153 ２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−［（３−クロロプロピオニル）アミノ］ベンズチアゾ
ール0.75g、沃化ナトリウム0.56g及び４−ジメチルアミ
ノピペリジン0.26gをアセトニトリル20mlに加え50℃で
３時間、加熱攪拌した。減圧下濃縮後、残渣に飽和重曹
水を加え塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を水
洗、乾燥（硫酸マグネシウム）し、減圧下、溶媒留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化
メチレン：メタノール：アンモニア水＝50:10:1）で精
製した。酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶し、白色
粉末の２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）
−６−［３−（４−ジメチルアミノピペリジニル）プロ
ピオニルアミノ］ベンズチアゾール0.40gを得た。

融点:101〜103℃ 実施例152及び153と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例37、75の化合物を得る。

実施例154 ２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−シアノベンズチアゾール0.92gをトルエン30mlに溶解
し、−60℃でジイソブチルアルミニウムハイドライド
（1.5N、トルエン中）を滴下した。滴下終了後、30分を
かけ室温まで昇温した。氷冷下、飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、５％塩酸水溶液で酸性にした後、塩化メ
チレンで抽出した。塩化メチレン層を水洗、乾燥（硫酸
ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン:n−ヘキ
サン＝5:1）で精製後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン＝5:1
で精製し、淡黄色粉末の２−（４−メトキシ−３−ｔ−
ブチルフェニル）−６−ホルミルベンズチアゾール0.4g
を得た。

融点:161〜162℃ 実施例155 ２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−ホルミルベンズチアゾール0.37gを塩化メチレン3ml−
メタノール6mlの混合溶媒に加え、室温下、水素化ホウ
素ナトリウム43mgを加えた。１時間室温にて攪拌後、減
圧濃縮した。残渣に水を加え塩化メチレンで抽出した。
塩化メチレン層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減
圧下、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（塩化メチレン）で精製後、酢酸エチル−ｎ
−ヘキサン＝1:10より再結晶し、淡黄色針状晶の２−
（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６−ヒド
ロキシメチルベンズチアゾール0.25gを得た。

融点:147〜148℃ 実施例156 ２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−ヒドロキシメチルベンズチアゾール0.2gを塩化チオニ
ル6mlに加え、室温下、１時間攪拌した。減圧濃縮後、
乾燥クロロホルムを加え３回共沸した。得られた２−
（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６−クロ
ロメチルベンズチアゾールを含む残渣にｓ−プロリノー
ル60mg、DBU90mg及びイソプロピルアルコール6mlを加え
３時間、加熱還流した。減圧下濃縮後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノー
ル＝20:1）で精製した。ｎ−ヘキサンより再結晶し、無
色針状晶の２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニ
ル）−６−［（２−ｓ−ヒドロキシメチルピロリジル）
メチル］ベンズチアゾール0.15gを得た。

融点:134〜135℃ 実施例157 ２−（ｏ−メトキシフェニル）−６−シアノベンズチ
アゾール0.5gを無水エタノール15ml及び無水クロロホル
ム30mlに溶解させ、氷冷下、塩酸ガスを吹き込み飽和さ
せ、５℃で24時間攪拌した。5N水酸化ナトリウムで水溶
液にあけ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を
水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去し
た。残渣をクロロホルム15mlに溶解させ、ｏ−クロロベ
ンジルアミン0.7gを加え、エタノール15ml、塩酸／エタ
ノール1mlを加え、４時間加熱還流した。減圧下濃縮
後、残渣に水酸化ナトリウム水溶液を加えクロロホルム
で抽出した。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリ
ウム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール＝
20:1→8:1）で精製し、クロロホルムより再結晶し、白
色粉末の２−（ｏ−メトキシフェニル）−６−［N¹−
（ｏ−クロロベンジル）アミジノ］ベンズチアゾール18
mgを得た。

融点:275〜277℃（分解） 実施例158 ２−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−ヒドロキシベンズチアゾール4g、４−ブロモ
ブチロニトリル2g及びDBU2.1gをイソプロピルアルコヘ
ール50mlに溶解し、５時間加熱還流した。減圧下濃縮
後、残渣に水を加えクロロホルムで抽出した。クロロホ
ルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（塩化メチレン:n−ヘキサン＝3:1）で精製後、ｎ−
ヘキサン−酢酸エチルより再結晶して、無色針状晶の２
−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
−６−（３−シアノプロポキシ）ベンズチアゾール4.2g
を得た。

融点:135〜137℃ 実施例159 ２−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−（３−エトキシ−３−イミノプロポキシ）ベ
ンズチアゾール0.55gをエタノール30mlに溶解させ、ジ
メチルアミン・塩酸塩110mgを加え、室温下終夜攪拌し
た。減圧濃縮後、ジエチルエーテルを加え、析出晶を
取した。イソプロピルアルコール−ジエチルエーテルよ
り再結晶し淡緑色粉末の２−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）−６−（３−ジメチルアミノ
−３−イミノプロポキシ）ベンズチアゾール・塩酸塩0.
5gを得た。

融点:247〜250℃ 実施例159と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例65の化合物を得る。

実施例160 ２−（ｏ−メトキシフェニル）−６−ヒドロキシベン
ズチアゾール0.9g、3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルクロライド1.1g、炭酸カリウム1gをアセト
ン20mlに加え４時間加熱還流した。減圧濃縮後、残渣に
水を加えクロロホルムで抽出した。クロロホルム層を５
％水酸化ナトリウム水溶液、水で洗浄し、乾燥（硫酸ナ
トリウム）し、減圧下、溶媒を留去した。残渣に塩化メ
チレン−ｎ−ヘキサンを加え、結晶化させ取した。酢
酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶し淡黄色リン片状晶
の２−（ｏ−メトキシフェニル）−６−ヒドロキシ−７
−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンズチアゾール0.7gを得た。

融点:225〜226.5℃ 実施例161 ２−［２−（Ｎ−メチル）ピロリル］−６−ジメチル
チオカルバモイルオキシベンズチアゾールをジフェニル
エーテル200mlに加え、２時間加熱還流した。冷後、反
応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチ
レン）で精製した。酢酸エチル−ジエチルエーテル＝1:
1より再結晶し、白色粉末の２−［２−（Ｎ−メチル）
ピロリル］−６−（ジメチルカルバモイルチオ）ベンズ
チアゾール7.04gを得た。

融点:155〜156℃ 実施例161と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例100の化合物を得る。

実施例162 ２−（２−チエニル）−６−アミノベンズイミダゾー
ル・２塩酸塩240mgに飽和重曹水を加え塩化メチレンで
抽出し、減圧下溶媒を留去した。残渣に2,5−ジメトキ
シテトラヒドロフラン110mg及び酢酸6mlを加え、80℃で
２時間加熱攪拌した。酢酸を留去後、飽和重曹水を加え
塩化メチレンで抽出した。有機層を水洗、乾燥（硫酸マ
グネシウム）後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（塩化メチレン）で精製し、塩
化メチレン−ジエチルエーテルより再結晶して白色粉末
の２−（２−チエニル）−６−（１−ピロリル）ベンズ
イミダゾール120mgを得た。

融点:171〜172℃ 実施例163 ２−（２−チエニル）−６−アミノベンズイミダゾー
ル・２塩酸塩390mgをエタノール12mlに加え、炭酸ナト
リウム1.7g及び1,4−ジブロモブタン2.89gを加え１時間
加熱還流した。減圧下濃縮後、残渣に水を加え塩化メチ
レンで抽出した。塩化メチレン層を水洗、乾燥（硫酸マ
グネシウム）し、減圧下、溶媒を留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタ
ノール＝50:1）で精製し、塩化メチレン:n−ヘキサン＝
1:2より再結晶して白色粉末の２−（２−チエニル）−
６−（１−ピロリジニル）ベンズイミダゾール160mgを
得た。

融点:230℃（分解） NMR:δ（CDCl₃）： 1.94-2.14（4H,m） 3.32-3.40（4H,m） 6.50-6.70（2H,m） 7.09（1H,d−d,J＝4,5Hz） 7.37（1H,d,J＝4Hz） 7.47-7.57（2H,m） 実施例163と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例16の化合物を得る。

実施例164 ２−（２−チエニル）−５−トリフルオロメチルベン
ズイミダゾール0.6gをDMF20mlに溶解させ、水素化ナト
リウム（60％油性）0.11gを加え室温下、20分攪拌し
た。室温にて沃化メチル0.48gを滴下後40℃で２時間攪
拌した。減圧下濃縮後、残渣に水を加え塩化メチレンで
抽出した。塩化メチレン層を水洗、乾燥（硫酸マグネシ
ウム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（塩化メチレン:n−ヘキサン＝
2:1）で精製し、Rf≒0.5及び0.6［TLC上（シリカゲル：
塩化メチレン）］をそれぞれ分取し、Rf≒0.5のほうを
ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンより再結晶し白色粉末
の１−メチル−２−（２−チエニル）−６−トリフルオ
ロメチルベンズイミダゾール 80mgを得た。

融点:145℃（昇華） Rf≒0.6のほうを塩化メチレン−ｎ−ヘキサンより再
結晶し淡黄色粉末の１−メチル−２−（２−チエニル）
−５−トリフルオロメチルベンズイミダゾール160mgを
得た。

融点:129〜130℃ 実施例164と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例91、103〜108の化合物を得る。

実施例165 ２−（２−ヒドロキシフェニル）−６−クロロベンズ
チアゾール2g、N,N−ジメチルアミノプロピルクロライ
ド1.2g及びDBU1.6gをイソプロピルアルコール50mlに加
え、３時間加熱還流した。減圧下濃縮後、残渣に水を加
え、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を水洗、
乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレ
ン：メタノール＝20:1）で精製後、蓚酸塩とし、含水エ
タノールより再結晶し、白色粉末の２−（２−ジメチル
アミノプロポキシフェニル）−６−クロロベンズチアゾ
ール・蓚酸塩2gを得た。

融点:199.5〜201.5℃ 実施例165と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例35〜44、46〜54、86〜88、109〜117、120、12
1、124〜128、135の化合物を得る。

実施例166 ２−（２−ヒドロキシフェニル）−６−クロロベンズ
チアゾール6g、炭酸カリウム4.14gをアセトニトリル−
水＝1:1（100ml）に加え、５分間、加熱還流した。更に
１−クロロ−２−ブロモエタン5.8mlを加え、10時間加
熱還流した。更に炭酸カリウム2g、１−クロロ−２−ブ
ロモエタン5.8gを加え、４時間加熱還流した。冷後、析
出晶を取し、クロロホルムに溶解後、クロロホルム層
を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩
化メチレン）で精製後、塩化メチレン−ｎ−ヘキサンよ
り再結晶し、無色針状晶の２−（２−クロロエトキシフ
ェニル）−６−クロロベンズチアゾール5gを得た。

NMR:δ（CDCl₃）： 4.02（2H,t,J＝6Hz） 4.45（2H,t,J＝6Hz） 7.00（1H,d,J＝8Hz） 7.16（1H,m） 7.38-7.55（2H,m） 7.90（1H,d,J＝2Hz） 7.97（1H,d,J＝8.7Hz） 8.53（1H,d−d,J＝1.7,8Hz） 実施例167 ２−（２−クロロエトキシフェニル）−６−クロロベ
ンズチアゾール1g、メチルアミン（40％溶液）20mlをエ
タノール20mlに加え、60〜70℃で５時間加熱攪拌した。
減圧下濃縮後、残渣に水を加えクロロホルムで抽出し
た。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）
し、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（塩化メチレン：メタノール＝10:1）で
精製し、アセトン中、蓚酸塩とした。含水エタノールよ
り再結晶し、白色粉末の２−（２−メチルアミノエトキ
シフェニル）−６−クロロベンズチアゾール・蓚酸塩0.
55gを得た。

融点:226.0〜227.0℃（分解） 実施例167と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例43〜51、53、54、120、121の化合物を得る。

実施例168 ２−（４−アセトアミドピペリジノ）−６−クロロベ
ンズチアゾール2gを6N塩酸30mlに加え、５時間加熱還流
した。反応液を濃縮乾固後、残渣を含水エタノールより
再結晶し淡黄色リン片状晶の２−（４−アミノピペリジ
ノ）−６−クロロベンズチアゾール・塩酸塩1gを得た。

融点:300℃以上 NMR:δ（DMSO-d₆）： 1.55-1.7（2H,m） 2.0-2.2（2H,m） 3.15-3.4（2H,m） 4.1-4.2（2H,m,） 7.32（1H,d−d,J＝2.2,8.6Hz） 7.46（1H,d,J＝8.6Hz） 7.92（1H,d,J＝2.1Hz） 実施例169 ２−（４−アミノピペリジノ）−６−クロロベンズチ
アゾール・塩酸塩0.9g及び35％ホルマリン1mlを98％蟻
酸5mlに加え、100℃、５時間加熱攪拌した。減圧下濃縮
後残渣に水を加えクロロホルムで抽出した。クロロホル
ム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、溶媒
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（塩化メチレン：メタノール:20:1）で精製した。塩酸
を加え、濃縮乾固後、エタノール−ｎ−ヘキサンより再
結晶して白色粉末の２−（４−ジメチルアミノピペリジ
ノ）−６−クロロベンズチアゾール・塩酸塩0.71gを得
た。

融点:285℃（分解） 実施例169と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例12、15〜20、28〜32、36、37、43〜52、55、6
2、63、67〜69、74、75、76、113、120、121の化合物を
得る。

実施例170 ２−（４−カルボベンジロキシピペラジニル）−６−
ニトロベンズチアゾール8g、SnCl₂・2H₂O 23gを無水エ
タノール200mlに加え、窒素雰囲気下70〜80℃で２時間
加熱攪拌した。冷後、水にあけ、飽和重曹水で中和後、
クロロホルムを加えて、不溶物を去した。水層をクロ
ロホルムで抽出し、有機層を併せて水洗乾燥（硫酸ナト
リウム）した。減圧濃縮後、メタノール−ｎ−ヘキサン
より再結晶し、灰色粉末の２−（４−カルボベンジロキ
シピペラジニル）−６−アミノベンズチアゾール5.6gを
得た。

融点:126〜129℃ 実施例171 ２−（ｏ−メトキシフェニル）−６−ニトロベンズチ
アゾール4.6g、SnCl₂・2H₂O 20gを濃塩酸100mlに加え、
80℃で１時間加熱攪拌した。氷水にあけ、水酸化ナトリ
ウムでアルカリ性とし、クロロホルムで抽出した。クロ
ロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧
下、溶媒留去した。粗結晶を酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
で再結晶し淡黄色リン片状晶の２−（ｏ−メトキシフェ
ニル）−６−アミノベンズチアゾール4gを得た。

融点:183.5〜185℃ 実施例172 ２−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−ニトロベンズチアゾール0.96gを酢酸50mlに懸濁し、1
0％パラジウム炭素0.3gを加えた。80℃に常圧下、１時
間、接触水素添加後、触媒を去し液を減圧下濃縮し
た。飽和重曹水を加え塩化メチレンで抽出した。塩化メ
チレン層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、
溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（塩化メチレン）で精製後、酢酸エチル−ｎ−ヘキ
サン＝1:5で再結晶し、白色粉末の２−（４−メトキシ
−３−ｔ−ブチルフェニル）−６−アミノベンズチアゾ
ール0.5gを得た。

融点:150〜151℃ 実施例170、171及び172と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例29、30、31及び131の化合物を得
る。

実施例173 ２−（２−メトキシフェニル）−６−エトキシベンズ
チアゾール3.4gを47％臭化水素酸水40mlに加え４時間加
熱還流した。水にあけ析出晶を取した。含水エタノー
ルより再結晶し、淡黄色プリズム状晶の２−（２−メト
キシフェニル）−６−ヒドロキシベンズチアゾール2.3g
を得た。

融点:190〜195℃ 実施例174 窒素雰囲気下、無水ヘキサメチルフォスフォリルトリ
アミド250mlにｎ−ブタンチオールを加え、メタノール
−氷にて冷却下、ｎ−ブチルリチウム（1.6N、ｎ−ヘキ
サン中）160mlを滴下した。室温にて30分間攪拌後、２
−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
−６−メトキシベンズチアゾール35gの無水ヘキサメチ
ルフォスフォリルトリアミド溶液100mlに滴下した。同
温度で30分攪拌後、70〜80℃で６時間加熱攪拌した。水
にあけ、酢酸で中和後、酢酸エチルで抽出した。水、飽
和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥（硫酸ナトリウ
ム）した。減圧下溶媒留去後、残渣にｎ−ヘキサンを加
え結晶化し、粗結晶を取、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
より再結晶して、無色針状晶の２−（3,5−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−６−ヒドロキシベン
ズチアゾール29gを得た。

融点:289〜291℃（分解） 実施例175 ２−（２−チエニル）−６−メトキシベンズイミダゾ
ール3.1gを47％臭化水素酸40mlに加え、３時間加熱攪拌
した。冷後、析出晶を取し水に懸濁させ炭酸ナトリウ
ムで中和し析出した結晶を取、水洗、乾燥した。エタ
ノール−ｎ−ヘキサンより再結晶し淡黄色粉末の２−
（２−チエニル）−６−ヒドロキシベンズイミダゾール
2.6gを得た。

融点:202〜205℃ 実施例176 ２−（２−メトキシフェニル）−６−トリフルオロメ
チルベンズイミダゾール4gの塩化メチレン溶液40mlにBB
r₃の塩化メチレン溶液（1M溶液82ml）を氷冷下、滴下し
た。更に15時間加熱還流後、氷水にあけ水酸化ナトリウ
ム溶液で中和し、クロロホルム：メタノール＝8:1の混
液で抽出し、水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）した。減圧
下濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（塩化メチレン）で精製し、ジエチルエーテル−ｎ−ヘ
キサンより再結晶し、白色粉末の２−（２−ヒドロキシ
フェニル）−６−トリフルオロメチルベンズイミダゾー
ル0.8gを得た。

融点:264.5〜265.5℃ 実施例173〜176と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例28、31、32、56、57、59〜69、77、78、
79、84、90、115、116、118、121、123の化合物を得
る。

実施例177 ２−（４−カルボベンジロキシピペラジニル）−６−
（ｏ−クロロベンジルアミノ）ベンズチアゾール0.4gを
1N塩酸50mlに加え18時間加熱還流した。冷後、水酸化ナ
トリウム水溶液でアルカリ性にし、クロロホルムで抽出
した。クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）
し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝8:1）
で精製し、塩酸／エタノールを加え濃縮した。エタノー
ル−ジエチルエーテルより再結晶し淡黄色粉末の２−ピ
ペラジニル−６−（ｏ−クロロベンジルアミノ）ベンズ
チアゾール・塩酸塩0.15gを得た。

融点:215〜218℃（分解） 実施例178 ２−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンズチアゾール1.5gをメタンスルホン酸20mlに加
え90〜100℃で４時間攪拌した。水にあけクロロホルム
で抽出し、クロロホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウ
ム）し、減圧下、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（塩化メチレン）で精製し、酢酸
エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶し、淡黄色針状晶の２
−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ベンズ
チアゾール0.45gを得た。

融点:189〜192℃（分解） 実施例179 ２−（２−ピロリル）−６−エトキシベンズチアゾー
ル1.1gをジメチルホルムアミド15mlに溶解し、氷冷下、
水素化ナトリウム（60％油性）0.22gを加えた。室温に
て、0.5時間攪拌後、沃化メチル0.7gを加え、室温にて
終夜攪拌した。水を加えクロロホルムで抽出し、クロロ
ホルム層を水洗、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧下、
溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（塩化メチレン）で精製後、ｎ−ヘキサンより再結
晶し、無色針状晶の２−［２−（Ｎ−メチル）ピロリ
ル］−６−エトキシベンズチアゾール0.4gを得た。

融点87〜88℃ 実施例179と同様にして適当な出発原料を用いて、前
記実施例79、80、81、82、84の化合物を得る。

血小板粘着スクリーニング法 本方法は基本的にインビトロにおいて凝集反応が阻止
された条件下において血小板がコラーゲン繊維に粘着し
てゆく過程を定量化しようとするものである。血小板機
能が正常で且つ健康なヒトより0.1％エチレンジアミン
四酢酸・二ナトリウム塩（EDTA・4Na）添加にて採血を
行ない速やかに多血小板血漿（PRP）を分離した。続い
てタイロード緩衝液（50mMトリス、0.1％EDTA、Ca
（−）、Mg（−）、0.14％BSA添加pH7.4）にて２回洗浄
し同緩衝液に300000/μｌの血小板数に調整して懸濁し
た（EDTA-WP）。コラーゲンはシグマ社製タイプＩ（ウ
シ皮膚由来）4mgを83.5mMの酢酸0.25mlに溶かし、8mlの
蒸留水を加え、４℃にて２分間超音波懸濁を行った後、
上清5mlをとりコラーゲン溶液とした。化合物は可能な
限り、２×10^-2Ｍ以上の濃度となるようにジメチルホル
ムアミド（DMF）にて溶解させた。通常、血小板凝集能
の検査方法に用いられる血小板凝集トレーサー（二光バ
イオサイエンス）を利用して血小板浮游液の濁度の変化
をガラスキュベット越しに透過光の変化を記録し、血小
板粘着度を測定した。なお記録計の感度を通常の５倍の
感度（20mV）として変化をトレースした。付属のガラス
キュベットにEDTA-WP、200μｌを入れ、さらに化合物液
１μｌを添加して室温にて５分間インキュベートした
後、血小板トレーサにキュベットをセットし37℃になる
まで１分間待ちコラーゲン液を20μｌ（50μg/ml）前後
添加して、血小板粘着度を測定した。

抑制率％は以下の方法で求めた。

結果を下記第４表に示す。

供試化合物No. 1.2−（１−ピペラジニル）−６−クロロベンズチアゾ
ール・塩酸塩 2.2−（3,5−ジメチル−１−ピペラジニル）−６−クロ
ロベンズチアゾール・塩酸塩 3.2−（４−アミノ−１−ピペリジニル）−4,6−ジクロ
ロベンズチアゾール・２塩酸塩 4.2−（４−アセチルアミノ−１−ピペリジニル）−６
−エトキシカルボニルメトキシベンズチアゾール 5.2−［４−（１−ピペリジニル）−１−ピペリジニ
ル］−６−クロロベンズチアゾール 6.2−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニル）−４
−メチル−６−クロロベンズチアゾール・２塩酸塩 7.2−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニル）−６
−（２−クロロベンジルオキシ）ベンズチアゾール塩酸
塩 8.2−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニル）−５
−（２−クロロベンジルアミノ）−６−エトキシベンズ
チアゾール 9.2−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニル）−４
−［Ｎ−（２−クロロベンジル）−Ｎ−アセチルアミ
ノ］−６−（２−クロロベンジルオキシ）ベンズチアゾ
ール 10.2−（２−メトキシフェニル）−６−ヒドロキシベン
ズチアゾール 11.2−（２−メトキシフェニル）−６−［Ｎ−（３−ジ
メチルアミノプロピル）−Ｎ−エチルアミノ］ベンズチ
アゾール・蓚酸塩 12.2−（２−メトキシフェニル）−６−｛３−［N,N−
ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］プロポキシ｝ベ
ンズチアゾール 13.2−（２−メトキシフェニル）−６−［３−（２β−
ヒドロキシメチル−１−ピロリジニル）プロポキシ］ベ
ンズチアゾール 14.2（２−メトキシフェニル）−６−（3,5−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシベンジルオキシ）ベンズチアゾ
ール 15.2−（２−メトキシフェニル）−６−（３−ジメチル
アミノプロポキシ）−７−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）ベンズチアゾール 16.2−（２−メトキシフェニル）−６−［Ｎ′−（２−
クロロベンジル）アミジノ］ベンズチアゾール 17.2−［２−（３−ジメチルアミノプロポキシ）フェニ
ル］−５−ニトロベンズチアゾール・蓚酸塩 18.2−［２−（２−ジメチルアミノエトキシ）フェニ
ル］−６−クロロベンズチアゾール 19.2−｛２−［３−（１−ピペリジニル）プロポキシ］
フェニル｝−６−クロロベンズチアゾール・塩酸塩 20.2−［２−（３−シクロヘキシルアミノプロポキシ）
フェニル］−６−クロロベンズチアゾール 21.2−（２−クロロフェニル）−６−（３−ジメチルア
ミノプロポキシ）ベンズチアゾール・蓚酸塩 22.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−メトキシベンズチアゾール 23.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−［３−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロプロピルア
ミノ）プロポキシ］ベンズチアゾール 24.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−［３−（２α−ヒドロキシメチル−１−ピロ
リジニル）プロポキシ］ベンズチアゾール 25.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−（３−アミジノプロポキシ）ベンズチアゾー
ル・塩酸塩 26.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−［３−（N¹,N¹−ジメチルアミジノ）プロポ
キシ］ベンズチアゾール・塩酸塩 27.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−［３−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジ
ニル）プロポキシ］ベンズチアゾール 28.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−［３−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジ
ニル）プロポキシ］ベンズチアゾール 29.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［３−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジ
ニル）プロポキシ］ベンズチアゾール 30.2−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−ヒドロキシメチルベンズチアゾール 31.2−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−アミノベンズチアゾール 32.2−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−（２β−ヒドロキシメチル−１−ピロリジニル）メチ
ル］ベンズチアゾール 33.2−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−［３−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニル）プ
ロピルアミノ］ベンズチアゾール・２フマール酸塩 34.2−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−（３−ジメチルアミノプロパノイルアミノ）ベンズチ
アゾール 35.2−（４−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）−６
−［３−（４−ジメチルアミノ−１−ピペリジニル）プ
ロパノイルアミノ］ベンズチアゾール 36.2−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ベ
ンズチアゾール 37.2−（１−メチル−２−ピロリル）−６−ヒドロキシ
ベンズチアゾール 38.2−（１−メチル−２−ピロリル）−６−ジメチルア
ミノチオカルボニルオキシベンズチアゾール 39.2−（１−メチル−２−ピロリル）−６−ジメチルア
ミノカルボニルチオベンズチアゾール 40.2−（２−ピロリル）−６−［３−（２α−ジメチル
アミノカルボニル−１−ピロリジニル）プロポキシ］ベ
ンズチアゾール 41.2−（１−ペンチル−２−ピロリル）−６−ヒドロキ
シベンズチアゾール 42.2−（２−チエニル）ベンズチアゾール 43.2−（２−メトキシフェニル）−６−トリフルオロメ
チルベンズイミダゾール 44.2−（２−ヒドロキシフェニル）−６−トリフルオロ
メチルベンズイミダゾール 45.2−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−６−クロロベンズイミダゾール 46.1−エチル−２−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−６−クロロベンズイミダゾール 47.2−（３−クロロアニリノ）−６−トリフルオロメチ
ルベンズイミダゾール・蓚酸塩 48.2−（３−トリフルオロメチルアニリノ）−６−トリ
フルオロメチルベンズイミダゾール 49.2−（３−メチルチオアニリノ）−６−トリフルオロ
メチルベンズイミダゾール・蓚酸塩 50.2−（Ｎ−メチル−３−クロロアニリノ）−６−トリ
フルオロメチルベンズイミダゾール 51.2−（２−ピリジルチオメチル）−６−クロロベンズ
イミダゾール・塩酸塩 52.2−（２−チエニル）−６−トリフルオロメチルベン
ズイミダゾール 53.2−（２−チエニル）−６−（１−ピロリジニル）ベ
ンズイミダゾール 54.2−（２−チエニル）−６−（１−ピロリル）ベンズ
イミダゾール 55.2−（２−チエニル）−６−［３−（５−シクロヘキ
シル−２−フリル）プロポキシ］ベンズイミダゾール 56.2−（２−チエニル）−６−（ジメチルアミノカルボ
ニルチオ）ベンズイミダゾール 57.1−メチル−２−（２−チエニル）−６−クロロベン
ズイミダゾール 58.1−アリル−２−（２−チエニル）−６−トリフルオ
ロメチルベンズイミダゾール 59.1−ペンチル−２−（２−チエニル）−６−トリフル
オロメチルベンズイミダゾール 60.1−ベンジル−２−（２−チエニル）−６−クロロベ
ンズイミダゾール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 235/30 Ｃ０７Ｄ 235/30 277/66 277/66 277/82 277/82 401/12 401/12 409/00 409/00 417/00 417/00 (72)発明者 井川 武洋 徳島県徳島市中前川町５丁目10番１号 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 235/00 A61K 31/415 A61K 31/445 ＣＡ（ＳＴＡ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＡ)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 ［式中Ｘは、硫黄原子又は基 を示す。（R³は、水素原子、低級アルキル基、低級アル
   ケニル基又はフェニル低級アルキル基を示す。）R¹は、
   ハロゲン原子、シアノ基、シアノ置換低級アルコキシ
   基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級
   アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシ基、
   水酸基、ニトロ基、アミノ基、置換基として水酸基を有
   する低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級
   アルキル基及び水酸基なる群より選ばれた基を１〜３個
   有することのあるフェニル低級アルキル基、フリル環上
   にシクロアルキル基を有することのあるフリル低級アル
   コキシ基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ
   基、置換基として低級アルキル基を有することのあるア
   ミノチオカルボニルオキシ基、置換基として低級アルキ
   ル基を有することのあるアミノカルボニルチオ基、フェ
   ニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級アルキル基
   及び水酸基なる群より選ばれた基を１〜３個有すること
   のあるフェニル低級アルコキシ基、ピロリジニル環上に
   置換基として水酸基を有する低級アルキル基を有するこ
   とのあるピロリジニル低級アルキル基、置換基として環
   上に置換基としてハロゲン原子を有することのあるフェ
   ニル低級アルキル基を有することのあるアミジノ基、置
   換基として低級アルキル基を有することのあるアミジノ
   低級アルコキシ基、又は基 を示す。｛Ａは低級アルキレン基を示す。ｍは０又は１
   を示す。R⁴又はR⁵は同一又は異なって水素原子、フェニ
   ル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのある
   フェニル低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を
   有することのある低級アルカノイル基、置換基として水
   酸基もしくはハロゲン原子を有することのある低級アル
   キル基、シクロアルキル基又は基 （ｌは０又は１を示す。Ｂは低級アルキレン基を示す。
   R⁶及びR⁷は同一又は異なって水素原子又は低級アルキル
   基を示す。またこのR⁶及びR⁷は、これらが結合する窒素
   原子と共に窒素原子を介し又は介することなく、５又は
   ６員の飽和の複素環を形成してもよい。該複素環上に
   は、置換基として低級アルキル基を有することのあるア
   ミノ基が置換していてもよい。）を示す。またR⁴及びR⁵
   は、これらが結合する窒素原子と共に窒素原子を介し又
   は介することなく、５又は６員の飽和又は不飽和の複素
   環を形成してもよい。該複素環上には、置換基として低
   級アルキル基を有することのあるアミノ基、置換基とし
   て水酸基を有する低級アルキル基又は置換基として低級
   アルキル基を有することのあるアミノカルボニル基が置
   換していてもよい。ｎは０又は１〜２の整数を示す。R²
   は置換基として低級アルキル基を有することのあるピロ
   リル基、チエニル基、ピリジルチオ低級アルキル基、フ
   ェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することの
   ある低級アルコキシ基、低級アルキル基、水酸基、ハロ
   ゲン原子及び基 （Ｙは低級アルキレン基を示す。R⁸及びR⁹は同一又は異
   なって水素原子、低級アルキル基又はシクロアルキル基
   を示す。またR⁸及びR⁹は、これらが結合する窒素原子と
   共に窒素原子を介し又は介することなく５又は６員環の
   飽和の複素環を形成してもよい。）なる群より選ばれた
   基を１〜３個有することのあるフェニル基、又は基 ［｛R¹⁰及びR¹¹は同一又は異なって、水素原子、低級ア
   ルキル基又はフェニル環上に置換基としてハロゲン原
   子、低級アルキルチオ基及び置換基としてハロゲン原子
   を有することのある低級アルキル基なる群から選ばれた
   基を有することのあるフェニル基を示す。またR¹⁰及びR
   ¹¹は、これらが結合する窒素原子と共に窒素原子を介し
   又は介することなく５又は６員の飽和の複素環を形成し
   てもよい。該複素環上には低級アルキル基、フェニル低
   級アルコキシカルボニル基及び基 （R¹²及びR¹³は同一又は異なって水素原子、低級アルキ
   ル基又は低級アルカノイル基を示す。またR¹²及びR¹³は
   これらが結合する窒素原子と共に窒素原子を介し又は介
   することなく５又は６員の飽和の複素環を形成してもよ
   い。）なる群から選ばれた基を１〜３個有していてもよ
   い。｝を示す。］ で表わされるベンズアゾール化合物又はその塩を有効成
   分として含有することを特徴とする血小板粘着抑制剤。
2. 【請求項２】一般式 ［式中R^1Aはハロゲン原子又は置換基としてハロゲン原
   子を有することのある低級アルキル基を示す。R^2Aはチ
   エニル基を示す。R²⁸は低級アルキル基、低級アルケニ
   ル基又はフェニル低級アルキル基を示す。］ で表わされるベンゾアゾール化合物又はその塩。
3. 【請求項３】１−ベンジル−２−（２−チエニル）−６
   −クロロベンズイミダゾール。