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JP2768981B2 - 光メモリ素子 - Google Patents

光メモリ素子

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JP2768981B2
JP2768981B2 JP1160407A JP16040789A JP2768981B2 JP 2768981 B2 JP2768981 B2 JP 2768981B2 JP 1160407 A JP1160407 A JP 1160407A JP 16040789 A JP16040789 A JP 16040789A JP 2768981 B2 JP2768981 B2 JP 2768981B2
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JP
Japan
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layer
optical memory
adhesive layer
substrate
recording
Prior art date
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JP1160407A
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純一郎 中山
知之 三宅
博之 片山
和夫 伴
賢司 太田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Priority to CA002019376A priority patent/CA2019376C/en
Priority to EP90306883A priority patent/EP0404599B1/en
Priority to DE69007548T priority patent/DE69007548T2/de
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学的に情報の記録、再生および消去のう
ち少なくとも一つを行う光メモリ素子に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
例えば、コンパクトディスク（CD）等の光メモリ素子
は、光学的に情報の記録、再生および消去のうちの少な
くとも一つを行うことができる。基本的には、第３図な
いし第６図に示すように、１枚の透明基板20と反射層21
とから構成され、或いは１枚の透明基板24と記録層25と
から構成される片面タイプの光メモリ素子19・23と、２
枚の透明基板28・32およびその間に介在する反射層29・
31とから構成され、或いは２枚の透明基板36・40および
その間に介在する記録層37・39とから構成される両面タ
イプの光メモリ素子27・35とがある。
片面タイプの光メモリ素子19・23における基板20と反
射層21、並びに基板24と記録層25は、それぞれ一体的に
接合され、反射層21と記録層25上には更に、各々例えば
紫外線硬化樹脂などからなるコーティング層22、コーテ
ィング層26が重装されて形成されている。
一方、両面タイプの光メモリ素子27・35における基板
28と反射層29および基板32と反射層31、並びに、基板36
と記録層37および基板40と記録層39は、それぞれ一体的
に接合され、各々光ディスク33・34並びに光ディスク41
・42を構成している。
これら光ディスク33・34の間、並びに光ディスク41・
42の間には、それぞれ、例えば紫外線硬化樹脂などから
なる接着剤層30・38が介在し、これら接着剤層30・38に
よってそれぞれ２枚の光ディスク33・34および２枚の光
ディスク41・42が接着されている。
上記のように、基板20・24の一方の面にコーティング
層22・26を設けて構成された片面タイプの光メモリ素子
19・23では、コーティング層22・26は反射層21および記
録層25を保護するようになっている。また、２枚の光デ
ィスク33・34並びに２枚の光ディスク41・42を重ねて構
成された光メモリ素子27・35では、表と裏の両面に情報
を記録することができ、これによって記録容量が２倍に
なるという利点、および反射層29・31並びに記録層37・
39を保護できるという利点がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記従来の構造では、例えば光メモリ素子
19の製造工程においては、透明基板20に反射層21を形成
した後、さらにコーティング層22を形成させる必要があ
る。また、例えば、光メモリ素子35の製造工程において
は、透明基板36・40にそれぞれ記録層37・39を形成した
後、さらに接着剤層38を形成する必要がある。これらの
理由により、生産性の低下およびこれに伴うコストアッ
プを招来するという問題点を有している。
〔課題を解決するための手段〕
請求項第１項の発明に係る光メモリ素子は、上記の課
題を解決するために、情報が転写された基板と、この基
板における情報が転写されている側の面に形成された、
基板を保護するコーティング層とを有し、上記コーティ
ング層が、反射性金属を混入した光硬化樹脂にて形成さ
れた光を反射させるための反射層、または、記録材料を
混入した光硬化樹脂にて形成された記録層であることを
特徴としている。
請求項第２項の発明に係る光メモリ素子は、上記の課
題を解決するために、２枚の基板と、上記基板間を接着
する接着剤層とを有し、上記接着剤層が、反射性金属を
混入した光硬化樹脂にて形成された光を反射させるため
の反射層、または、記録材料を混入した光硬化樹脂にて
形成された記録層であることを特徴としている。
〔作用〕
上記のように構成することにより、基板の一方の面に
反射層あるいは記録層を形成すると同時に、光硬化樹脂
からなるコーティング層あるいは接着剤層を形成するこ
とができ、光メモリ素子の反射層または記録層の形成工
程を省略することが可能となる。
〔実施例１〕 本発明の一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以
下のとおりである。
本発明に係る光メモリ素子１は、第１図に示すよう
に、透明基板２の一方の面に有機系硬化樹脂からなるコ
ーティング層３が設けられた構造である。透明基板２
は、ポリカーボネイトあるいはアクリルなどからなり、
ディスク成型過程においてスタンパ等で既に情報が転写
されている。コーティング層３は、例えばAl、Au等の反
射性金属が混入されたアクリレート系光硬化樹脂からな
り、上記透明基板２における情報か転写された側の面に
形成されている。
上記の構成において、本光メモリ素子１の製造方法に
ついて、以下に説明する。
先ず、透明基板２における既に情報が転写されている
側の面に、上記の反射性金属が混入された光硬化樹脂を
設ける。次に、紫外線等の光で上記光硬化樹脂を硬化さ
せてコーティング層３を形成し、これにより光メモリ素
子１を得る。
これにより、コーティング層３は、透明基板２を保護
するとともに、反射層となる。従って、光を透明基板２
のコーティング層３と反対の側から照射すると、上記の
反射層を兼ねたコーティング層３によって光が反射さ
れ、情報を再生することができる。
〔実施例２〕 本発明の他の実施例を第２図（ａ）および第２図
（ｂ）に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
本発明に係る光メモリ素子４は、第２図（ａ）に示す
ように、２枚の透明基板５・７が、これら透明基板５・
７間に介装された有機系硬化樹脂からなる接着剤層６に
よって貼着された構造である。透明基板５・７はガラス
等からなり、接着剤層６は、例えば、DrexonTM（特開昭
55−108995号公報、あるいはJ.Vac.Sci.Technol.,Vol.1
8,No.1,1981,第87頁〜第91頁）等のハロゲン化銀エマル
ジョンからなる記録材料が混入されたアクリレート系光
硬化樹脂にて形成されている。これは、基本的には、透
明基板５・７のそれぞれ一方の面に記録層が形成された
構成である。
上記の構成において、光メモリ素子４の製造方法につ
いて以下に説明する。
２枚の透明基板５・７を、接着剤層６となる上記記録
材料が混入された光硬化樹脂を介して重ね合わせ、透明
基板５・７の間に接着剤層６が介装された状態とする。
この状態で、紫外線等の光を照射して接着剤層６を硬化
させ、上記透明基板５・７同士を貼着させる。次に、接
着剤層６を介して貼着された透明基板５・７を大気中で
少なくとも250℃まで加熱して記録層を形成させ、光メ
モリ素子４を得る。これにより、接着剤層６は、透明基
板５・７を貼着するとともに記録層となる。
尚、光メモリ素子４は、上記のように複数の透明基板
５・７を接着剤層６により貼着した構成の両面タイプに
限定されることはなく、例えば第２図（ｂ）に示すよう
に、透明基板５の一方の面に、接着剤層６により、記録
層を兼ねた接着剤層６を保護する金属製の基板９が貼着
された構成であってもよい。尚、上記の基板９は、プラ
スチック等からなるものであってもよい。また、上記の
基板９のない片面タイプのものであってもよい。
本発明の更に他の実施例を第２図（ａ）に基づいて説
明すれば、以下のとおりである。尚、説明の便宜上、実
施例２で用いた第２図（ａ）を再び用いて説明する。
本発明に係る光メモリ素子は、２枚の透明基板10・12
が、これら透明基板10・12間に介装された有機系硬化樹
脂からなる接着剤層11によって貼着された構造である。
透明基板10・12はガラス等からなり、接着剤層11は、例
えば一般に次の化学式で表されるシアニン色素からなる
記録材料が混入されたアクリレート系光硬化樹脂にて形
成されている。
上記の構成において、本光メモリ素子を製造する場
合、先ず、２枚の透明基板10・12を、接着剤層11となる
上記記録材料が混入された光硬化樹脂を介して重ね合わ
せ、透明基板10・12の間に接着剤層11が介装された状態
とする。この状態で、紫外線等の光を照射して接着剤層
11を硬化させることにより、上記透明基板10・12同士が
貼着して、光メモリ素子が得られる。これにより、接着
剤層11は、透明基板10・12を貼着するとともに記録層と
なる。
尚、記録材料としては、上記シアニン色素に限定され
ることなく、例えば、スクワリウム系、ナフトキノン
系、フタロシアニン系、アントラキノン系等、有機系色
素であれば、その具体的材料を問わない。
〔実施例４〕 本発明の更に他の実施例を、再び第２図（ａ）を用い
て説明する。
本発明に係る光メモリ素子は、２枚の透明基板13・15
が、これら透明基板13・15間に介装された有機系硬化樹
脂からなる接着剤層14によって貼着された構造である。
透明基板13・15はガラス等からなり、接着剤層14は、例
えば、BiXDy3-XFe5-yAlyO12（川西ら、1985年応用磁気
学会学術講演概要集、p313）や、BiXY3-XFe5-yGayO
12（阿部ら、1985年応用磁気学会学術講演概要集、p31
4）の化学式で表されるガーネットからなる記録材料が
混入されたアクリレート系光硬化樹脂にて形成されてい
る。
上記の構成において、本光メモリ素子を製造する場
合、先ず、記録材料の硝酸塩をアルコール、水および硝
酸に溶かしたものを光硬化樹脂と混合する。次に、透明
基板13・15を、接着剤層14となる上記記録材料が混入さ
れた光硬化樹脂を介して重ね合わせ、透明基板13・15の
間に接着剤層14が介装された状態とする。この状態で、
紫外線等の光を照射して接着剤層14を硬化させ、上記透
明基板13・15同士を貼着させる。次に、接着剤層14を介
して貼着された透明基板13・15を、大気中で少なくとも
500℃まで加熱して上記記録材料を結晶化することによ
り記録層を形成させ、光メモリ素子を得る。これによ
り、接着剤層14は、透明基板13・15を貼着するとともに
記録層となる。
尚、上記の記録材料は、上記組成のガーネットに限定
されることはなく、ガーネットであれば、その具体的な
組成を問わない。
〔実施例５〕 本発明の更に他の実施例を、再び第２図（ａ）を用い
て説明する。本発明に係る光メモリ素子は、２枚の透明
基板16・18が、これら透明基板16・18間に介装された有
機系硬化樹脂からなる接着剤層17によって貼着された構
造である。透明基板16・18はガラス等からなり、接着剤
層17は、例えば、一般に次の化学式で表されるスチルベ
ン誘導体からなるフォトクロミック材料を記録材料と
し、この記録材料が混入されたアクリレート系光硬化樹
脂にて形成されている。
上記（ａ）、（ｂ）は互いに異性体であり、波長λ1
＝405nmの光を照射すると、（ａ）の状態となり、青紫
色を呈する。また、波長λ2＝633nmの光を照射すると、
（ｂ）の状態となり、無色になる。
上記の構成において、本光メモリ素子を製造する場
合、先ず、透明基板16・18を、接着剤層17となる上記記
録材料が混入された光硬化樹脂を介して重ね合わせ、透
明基板16・18の間に接着剤層17が介装された状態とす
る。この状態で、紫外線等の光を照射して接着剤層17を
硬化させることにより、上記透明基板16・18同士が貼着
されて光メモリ素子が得られる。これにより、接着剤層
17は、透明基板16・18を貼着するとともに記録層とな
る。
尚、フォトクロミック材料は、上記スチルベン誘導体
に限定されることなく、フルギド、スピロピラン、トリ
アリルメタン、アゾベンゼン、チオインジゴ、サリチリ
デンアニリン、ジヒドロキシアントラキノン、ジチゾン
水銀等、照射した光の波長の違いによって吸収波長が異
なる異性体となるものであれば、その具体的な種類を問
わない。
〔発明の効果〕
請求項第１項の発明に係る光メモリ素子は、以上のよ
うに、情報が転写された基板と、この基板における情報
が転写されている側の面に形成された、基板を保護する
コーティング層とを有し、上記コーティング層が、反射
性金属を混入した光硬化樹脂にて形成された光を反射さ
せるための反射層、または、記録材料を混入した光硬化
樹脂にて形成された記録層である構成である。
それゆえ、少なくとも１枚の基板における一方の面に
光を反射するための反射層または記録層を形成すると同
時に、光硬化樹脂からなるコーティング層を形成するこ
とができる。従って、光メモリ素子の反射層形成工程ま
たは記録層形成工程が不要となり、量産化およびコスト
ダウンに寄与するという効果を奏する。
請求項第２項の発明に係る光メモリ素子は、以上のよ
うに、２枚の基板と、上記基板間を接着する接着剤層と
を有し、上記接着剤層が、反射性金属を混入した光硬化
樹脂にて形成された光を反射させるための反射層、また
は、記録材料を混入した光硬化樹脂にて形成された記録
層である構成である。
それゆえ、反射層または記録層を形成すると同時に、
光硬化樹脂からなる接着剤層を形成することができる。
従って、光メモリ素子の反射層形成工程または記録層形
成工程が不要となり、量産化およびコストダウンに寄与
するという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す光メモリ素子の断面図
である。 第２図（ａ）および第２図（ｂ）は、それぞれ本発明の
他の実施例を示す光メモリ素子の断面図である。 第３図ないし第６図はそれぞれ従来例を示すものであ
る。 第３図は基板の一方の面に反射層とコーティング層とを
形成した光メモリ素子の断面図である。 第４図は基板の一方の面に記録層とコーティング層とを
形成した光メモリ素子の断面図である。 第５図は２枚の基板の間に反射層と接着剤層とを形成し
た光メモリ素子の断面図である。 第６図は２枚の基板の間に記録層と接着剤層とを形成し
た光メモリ素子の断面図である。 １・４・８は光メモリ素子、２・５・７・10・12・13・
15・16・18は透明基板、９は基板、３はコーティング層
（反射層）、６・11・14・17は接着剤層（記録層）であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伴 和夫 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 太田 賢司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−33192（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−194655（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−282940（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−189739（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/24

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】情報が転写された基板と、 この基板における情報が転写されている側の面に形成さ
    れた、基板を保護するコーティング層とを有し、 上記コーティング層が、反射性金属を混入した光硬化樹
    脂にて形成された光を反射させるための反射層、また
    は、記録材料を混入した光硬化樹脂にて形成された記録
    層であることを特徴とする光メモリ素子。
  2. 【請求項２】２枚の基板と、 上記基板間を接着する接着剤層とを有し、 上記接着剤層が、反射性金属を混入した光硬化樹脂にて
    形成された光を反射させるための反射層、または、記録
    材料を混入した光硬化樹脂にて形成された記録層である
    ことを特徴とする光メモリ素子。
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