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JP2716330B2 - 低反射ガラスおよびその製法 - Google Patents

低反射ガラスおよびその製法

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JP2716330B2
JP2716330B2 JP4303711A JP30371192A JP2716330B2 JP 2716330 B2 JP2716330 B2 JP 2716330B2 JP 4303711 A JP4303711 A JP 4303711A JP 30371192 A JP30371192 A JP 30371192A JP 2716330 B2 JP2716330 B2 JP 2716330B2
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修 高橋
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Central Glass Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロピット状表面
または凹凸状表面を有し、ピットまたは凹凸の孔の径を
コントロールすることができるゾルゲル膜である低反射
ガラスならびにその製法に関し、該低反射ガラスは、刺
激純度、反射の低下率等の光学特性が高性能であって、
しかも単純かつ安全な工程でもって製造できるので安価
であり、また大面積化も可能で均一な膜となり、強固な
密着力で耐摩耗性あるいは耐久性等が優れたものとな
り、ことに建築用窓材をはじめ、ことに屋内用の各種膜
付きガラス物品において有用となる低反射ガラスおよび
その製法を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】従来、大面積のガラスの反
射率を低下させる方法として代表的なものとしては例え
ば、ガラス表面に、厚さ約１００ｎｍ程度で屈折率がガ
ラスより低い層を形成する方法、あるいは２層以上に積
層した薄膜の多重干渉を利用して予め計算により設計さ
れた高屈折率膜・低屈折率膜を交互に積層した多層膜を
形成する方法等がある。
【０００３】先ず、前者の例としては、特公昭４１ー６
６６号公報あるいは特公平２ー１４３００号公報等に開
示されているように、弗化水素等により、ガラス表面を
エッチングする方法および珪弗化水素酸のシリカ過飽和
水溶液によりシリカのポーラスな被膜を形成する方法が
ある。
【０００４】これらの方法は、製造工程が簡単とは必ず
しも言えず製造時間がかかる方法であり、低反射特性は
よいとしても大面積化した際に製品面内あるいは製品間
の光学特性のバラツキが多いといった問題点があり、比
較的高価格な低反射ガラスとなるものである。さらに原
料として弗酸を用いるため、人体に対して危険であり、
取扱いが厄介である。
【０００５】また、その他の方法としては、加熱処理に
より、燃焼や分解する有機高分子を金属アルコキシド溶
液中に添加する方法があり、一度形成されたマイクロピ
ット状が例えば４００℃程度以上の加熱処理により緻密
化を起こすため、熱処理条件をきびしく制御する必要が
あって、均一で頑固なマイクロピット状の被膜を得るこ
とが非常に困難である。
【０００６】さらに、前記した高屈折率膜・低屈折率膜
を交互に積層し、薄膜の多重干渉を利用した反射の低い
ガラスを製造する方法は、実際に建築用あるいは産業用
または車両用等に広く採用されているものの、複雑な作
業工程を伴い、必ずしも高効率で経済性が良いとは言え
ないものであり、また多重干渉を利用した低反射ガラス
は斜入射での反射率が高く、しかも刺激純度が高いた
め、ギラツキ感があるといった問題点もあるものであ
る。さらにまた、例えば特公平３ー23493号公報には防
汚性を有する低反射率ガラスが記載されているが、該膜
の最終加熱温度は400℃以下、例えば160〜200℃程度に
することとなり、最上膜の硬度や強度が低いものしか得
ることができないという問題点がある。本発明は、高い
密着性であって耐久性や耐摩耗性とを併せ持ち、薄膜の
屈折率が低く、従って反射防止特性に優れてギラツキ感
もない低反射ガラスを提供すること、また、前記薄膜の
成膜に際して安全で厄介な作業工程がなく、安価に効率
よく生産できる低反射ガラスの製法を提供することを目
的とする。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】本発明は、従来のかか
る問題点に鑑みてなしたものであって、Ｓｉアルコキシ
ド系化合物および／またはＳｉアセチルアセトネート系
化合物を出発原料とし、 その縮重合度の相違から平均分
子量が著しく異なる２種以上のＳｉ系ゾルを組み合わ
せ、その混合割合を調整したコーティング溶液を用い、
また、膜付けに際し塗布環境の相対湿度を調整して該コ
ーティング溶液をガラス基板に塗布し、更に加熱し焼成
することによって、充分に加熱焼成しても型崩れせず独
立してしっかりしたマイクロピット状または凹凸状表面
あるいはこれらが適宜共存した特定の膜厚ならびにピッ
トまたは凹凸の孔の特定の径を有するゾルゲル膜を形成
する。
【０００８】すなわち、本発明は、ガラス基板の表面に
形成した薄膜において、該薄膜は、Ｓｉアルコキシド系
化合物及び／又はＳｉアセチルアセトネート系化合物を
出発原料とするＳｉＯ 2 系のゾルであって、その縮重合
度の相違により平均分子量を著しく異ならせ、一種のゾ
ルの平均分子量が数千、他の一種以上のゾルの平均分子
量が数万乃至数十万とした二種以上のＳｉＯ 2 系ゾル
を、その混合割合を調整して溶剤に溶解してコーティン
グ溶液とし、また該コーティング溶液を、常温下塗布環
境の相対湿度を調整して膜付けすることにより、加熱成
膜のままでマイクロピット状または凹凸状表面を形成し
たゾルゲル膜であり、その膜厚が６０〜１６０ｎｍ、前
記マイクロピット状または凹凸状表面のピットまたは凹
凸の孔の径が５０〜２００ｎｍ、かつ膜の屈折率が１．
２１〜１．４０でガラス基板より低屈折率とした低反射
ガラスである。
【０００９】前記二種以上のＳｉＯ 2 系のゾルの混合割
合において、高平均分子量のゾル１ｍｏｌに対して、低
平均分子量のゾルが酸化物換算で０．１〜３０ｍｏｌと
するとよい。
【００１０】また、本発明はガラス基板の表面に薄膜を
形成した低反射ガラスの製法において、a)Ｓｉアルコキシド系化合物及び／またはＳｉアセチル
アセトネート系化合物を出発原料とし、縮重合させるこ
とにより平均分子量数千の低平均分子量のＳｉＯ 2 系ゾ
ルと、Ｓｉアルコキシド系化合物及び／またはＳｉアセ
チルアセトネート系化合物を出発原料とし、縮重合させ
ることにより平均分子量数万乃至数十万の 高平均分子量
のＳｉＯ 2 系ゾルを製造し、前記低平均分子量のＳｉＯ
2 系ゾルと前記高平均分子量のＳｉＯ 2 系ゾルからなる
少なくとも二種のゾルを、前記高平均分子量のゾル１ｍ
ｏｌに対して、低平均分子量のゾルが酸化物換算で０．
１〜３０ｍｏｌとなるべく混合し、溶剤に溶解してコー
ティング溶液とし、 b)該コーティング溶液を、常温下相対湿度４０〜９０％
における適宜湿度のもと、ガラス基板上に塗布し、 c)乾燥後、１００℃以上に加熱し、膜の厚みが６０〜１
６０ｎｍ、マイクロピット状または凹凸状表面のピット
または凹凸の孔の径が５０〜２００ｎｍ、膜の屈折率が
１．２１〜１．４０の範囲にあるゾルゲル薄膜を形成し
てなる低反射ガラスの製法、から構成される。
【００１１】なお、前記したコーティング溶液は１〜１
０ｃｐ(ｓ)に粘度調整するのがよい。
【００１２】また、前記コーティング溶液の酸化物換算
固形分濃度が０．０１〜１０ｗｔ％であるのが望まし
い。
【００１３】なお、成膜に際し、最終的には、膜を強固
にするため 500℃以上で加熱焼成しても、ピット状また
は凹凸状の表面は消失しない。
【００１４】前記したように、Ｓｉアルコキシド系化合
物および／またはＳｉアセチルアセトネート系化合物を
出発原料とするのは、両化合物は安定性があって、溶液
調製の際、例えば縮重合による平均分子量の制御が容易
であり、成膜した前記マイクロピット状表層、凹凸状表
層の種々の表面形状を有する酸化物薄膜の透明性や硬度
が高く、耐久性にも優れたものとなり、原料として比較
的安価で入手し易いものであるので両化合物を用いるこ
ととした。
【００１５】また、Ｓｉアルコキシド系化合物として
は、Ｓｉにすべてアルコキシ基のみが結合した場合、す
なわちメトキシド、エトキシド、イソプロポキシド等の
みならず、その一部がメチル基、エチル基等に置換した
もの、例えばモノメチルアルコキシド、モノエチルアル
コキシド等を含むものである。さらにまた、Ｓｉアセチ
ルアセトネート系化合物としては、Ｓｉにすべてアセチ
ルアセトン基のみが結合した場合のみならず、その一部
がメチルアルコキシ基、エチルアルコキシ基等に置換し
たものを含むものである。
【００１６】さらに、具体的には、例えばテトラメトキ
シシラン〔Ｓｉ（ＯＭｅ）4 Ｍｅ：ＣＨ3 〕、テトラエ
トキシシラン〔Ｓｉ（ＯＥｔ）4 Ｅｔ：Ｃ2 Ｈ5 〕、メ
チルトリエトキシシラン〔ＭｅＳｉ（ＯＥｔ）3 〕、メ
チルトリメトキシシラン〔ＭｅＳｉ（ＯＭｅ）3 〕等が
好適であり、また例えばジメチルジエトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン等がある。
【００１７】前記Ｓｉアルコキシド及び／又はＳｉアセ
チルアセトナートを出発原料とする平均分子量が著しく
異なる二種以上のＳｉＯ 2 系ゾルを採用することによ
り、被膜形成した薄膜の表面をマイクロピット状、凹凸
状表面とすることができる。混合する２種以上のＳｉＯ
2 系ゾルの平均分子量は数千（具体的には８００〜５，
０００程度、好ましくは２，０００〜３，０００程度）
のものと、数万から数十万（具体的には５０，０００〜
４００，０００程度）のものとの組み合わせとするのが
よい。
【００１８】なお、平均分子量の制御は、溶液を調製す
る際において、触媒の種類（例えば塩酸、硝酸、酢酸
等）、その添加量すなわちｐＨ値（例えばｐＨ１〜６、
好ましくは２〜４）および反応温度（例えば２０〜８０
°Ｃ、好ましくは２５〜７０°Ｃ）等によって、加水分
解反応過程あるいは縮重合過程をコントロールすること
により行うものである。ただし、化合物の種類によって
反応速度、時間等も異なるが、それは設計者が予め実験
のうえ適宜設計すればよい。
【００１９】また、マイクロピット状表面、凹凸状表面
の形状の制御は、混合する２種以上のＳｉＯ 2 系ゾルの
平均分子量が数千と数万から数十万であるゾルの混合割
合が、モル比（酸化物換算）で１：０．１〜３０程度で
あり、０．１未満あるいは３０を超えると平坦な平面形
状となる傾向にある。なかでも１〜２０程度が好まし
く、より好ましくはマイクロピット状表面では２〜５．
５程度、凹凸状表面では５．５〜７程度である。また、
前記表面におけるマイクロピットあるいは凹凸の孔の径
は、常温下（２０℃前後）で膜付けする場合に、塗布環
境の相対湿度に影響される兆候があり、相対湿度約４０
％程度の場合約５０ｎｍ程度となり、約９０％程度の場
合約２００ｎｍ程度となる。
【００２０】また、前記Ｓｉアルコキシド系化合物ある
いはＳｉアセチルアセトネート系化合物を基とするゾル
はアルコール溶媒に溶解するのが一般的であり、該アル
コール溶液中の化合物濃度については、０．１ｗｔ％程
度以上が好ましく、これ未満であれば均一な前記表面形
状を有する被膜を形成し難くなり、他方、１０ｗｔ％程
度を超えると、溶液が粘稠となり、クラックの発現等が
あり、加えて膜付け自体が困難となる。さらにアルコー
ル溶媒としては、イソプロパノールあるいは１ーブタノ
ール等が採用できる。
【００２１】ガラス基板への膜付け法としては、ディッ
ピング法、スプレー法、フローコート法あるいはスピン
コート法等既知の塗布手段が適宜採用し得る。ＳｉＯ 2
系被膜を積層形成する場合は、前記したようなコーティ
ング溶液を膜付け後、約１００°Ｃ程度の雰囲気温度下
で約３０分以内程度の乾燥を行い、さらに次のコーティ
ング溶液を同様に膜付け、乾燥する、という操作を繰返
し、最終的には加熱焼成する。
【００２２】本発明の２種類の表面形状については、縮
重合度の違いにより形成されるものであって、膜を強固
にするための加熱焼成（例えば約５００°Ｃ以上）によ
っても消失することもなく、しかも独立したピットの溝
部あるいは凹部は膜表面から深く形成され、それらピッ
トや凹凸は肉眼では全くの平坦面に見えるが、鏡下（例
えば走査電子顕微鏡）観察（倍率５千倍）で明確に認め
られる。
【００２３】膜厚は６０〜１６０ｎｍ程度とするのがよ
く、この範囲外では膜強度および低反射作用をともに満
足することができない。マイクロピットまたは凹凸の孔
の径は５０〜２００ｎｍになるようにするのがよく、５
０ｎｍ未満では低反射作用を発揮し得ず、２００ｎｍを
超えると膜強度が低下する傾向にあり、望ましくは１０
０〜１５０ｎｍ程度が好ましい。また、膜の屈折率を
１．２１〜１．４０にするのがよく、低反射作用を呈す
る最適な屈折率は１．２１程度であって該数値未満では
著しくポーラスとなり、膜強度が充分満足し得ず、１．
４０を超えると低反射の効果を得難い。より望ましく
は、１．３〜１．３９程度とするのが好ましい。なお、
これら膜厚、マイクロピットや凹凸の孔の径、ならびに
屈折率が前記範囲内で適宜巧みに組み合わさることによ
って、所期の低反射ガラスを得ることができる。
【００２４】なお、公知の例えばＨＦ等によるエッチン
グでは、膜厚もピットの孔の径の調整も困難であり、ま
た例えばゾルゲル膜での有機高分子物、溶媒、水分の揮
散等による多孔質化では、通常２５０〜３００°Ｃ付近
の加熱で膜全体が一度多孔質化するが、５００°Ｃ以上
で加熱焼成した場合、膜の緻密化、無孔化が起こるもの
で、いずれのケースにおいても５千倍程度の鏡下（走査
電子顕微鏡）観察では明瞭なピットまたは凹凸を確認し
難い。
【００２５】ガラス基板としては、屈折率１. ５以上の
無機質の透明板ガラスであって、無色または着色色調
や、形状等に特に限定されるものではなく、さらに曲げ
板ガラス、各種強化ガラス等が採用でき、単板としては
勿論、複層ガラスあるいは合せガラスとしても使用でき
ることは言うまでもない。なお、合せガラスに使用する
際には空気側となる片面のみ成膜することが好ましい。
【００２６】
【作用】本発明のマイクロピット状表面あるいは凹凸状
表面を有するゾルゲル法により形成した薄膜は、５００
℃以上の高温加熱に際しても、平坦化することなく、従
来のものより独立性があって深みのある、明確なマイク
ロピット状あるいは凹凸状表面を呈し、しかも表面形状
とピットまたは凹凸の孔の径を調整でき、ガラス基板に
強固に付着した堅固な薄膜とすることでき、優れた耐久
性を有し、透明で反射防止特性に優れ、また膜形成にあ
たり、安全性が高く厄介な作業工程がなく、安価に効率
よく得られる。
【００２７】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。
【００２８】実施例１ 大きさ約１００ｍｍｘ１００ｍｍ、厚さ約３ｍｍのクリ
ア・フロートガラス基板（ｎ＝１.５２）を中性洗剤で
洗浄後、水濯ぎし、乾燥した後、被膜用のガラス基板と
した。
【００２９】メチルトリエトキシシランを出発原料と
し、その縮重合により生成したＳｉＯ 2 ゾルの平均分子
量が約３，０００で固形分濃度が約３０ｗｔ％の溶液２
０．０ｇと、テトラエトキシシランを出発原料とし、そ
の縮重合により生成したＳｉＯ 2 ゾルの平均分子量が約
１００，０００で固形分濃度が約６ｗｔ％の溶液２８．
６ｇをビーカーに入れ、低平均分子量のＳｉＯ2 分／高
平均分子量のＳｉＯ2 分を約３．５／１のｍｏｌ比と
し、次いで１ーブタノール約１５０ｇで希釈し、８時間
撹拌後、約２週間熟成してコーティング溶液を得た。
【００３０】次に、成膜ブースで囲まれた温度約２３
℃、相対湿度約６０％の環境下で、前記ガラス基板を前
記コーティング溶液中に浸漬し引き上げ速度が約２．３
ｍｍ／ｓのスピードで引き上げるディッピング法によ
り、該溶液を前記ガラス基板の両表面に塗布し、３分間
程度静置した後、約２７０°Ｃで１０分間加熱して乾燥
ゲル膜を形成した。さらに５５０℃程度で１０分加熱し
成膜した。
【００３１】得られたＳｉＯ2 薄膜は、走査電子顕微鏡
（ＳＥＭ）により、約２万倍の倍率で表面形状状態を観
察したところ、図１に示すように、その径が約１００〜
１５０ｎｍ程度のマイクロピット状の表層を呈し、ポー
ラスな薄膜であり、またエリプソメータによる測定か
ら、屈折率が１．３３であって、膜厚が１０５ｎｍであ
った。
【００３２】該両面薄膜付ガラス基板の反射率は、ＪＩ
Ｓ Ｚ ８７２２に基づき求めたところ、図４に示すよ
うに、波長約５５０ｎｍで１．１％、可視光線平均反射
率（Ｄ６５光線ーＹ値）は１．２％と、反射性能に優れ
ていた。さらに該薄膜は布等で強く擦過してもキズを発
生するようなことはなかった。
【００３３】実施例２ 実施例１と同様なガラス基板とコーティング溶液を用
い、他は実施例１と同様にし、引き上げ速度を３ｍｍ／
ｓでディッピング法により膜付けし、３分間静置した
後、２７０℃で１０分加熱してゲル膜を形成した。これ
を６００℃で１０分間加熱処理して成膜した。
【００３４】得られたＳｉＯ2 薄膜は、実施例１と比べ
て緻密化が少々進んでいるものの、実施例１と同一条件
で表面形状を観察したところ、図２に示すように、その
孔の径が約１００ｎｍ前後程度のマイクロピット状表面
を呈しており、ポーラスな薄膜であった。また実施例１
と同様の測定から、屈折率が約１．３９５であって眼鏡
等に広く使われている弗化マグネシウム膜に近い屈折率
であり、膜厚が約１００ｎｍであった。
【００３５】該両面薄膜付ガラス基板の反射率は、図４
に示すように、約５５０ｎｍで約３％、可視光線反射率
（Ｄ６５光線ーＹ値）は約３．１％であって実施例１に
比べると低反射特性はやや低いものの、良好な反射性能
を示した。
【００３６】さらに、テーバー摩耗特性は、摩耗輪がＣ
Ｓー１０Ｆで荷重が５００ｇｆの条件により、１００回
の回転でヘーズ（△Ｈ）値が約０．８％であって、耐摩
耗性に優れていた。
【００３７】比較例１ 実施例１と同様なガラス基板に、実施例１の平均分子量
が約１００，０００で溶質濃度が約０．４ｍｏｌ％のシ
リコンエトキシドのブタノール溶液を、実施例１と同様
の環境下で、引き上げ速度を約３．５ｍｍ／ｓのスピー
ドでガラス基板の両面にディッピング法で膜付けし、実
施例１と同様な条件で加熱処理し成膜した。
【００３８】得られた薄膜は、実施例１と同様な測定と
評価により、図３に示すように、非常に平坦な表面であ
って、その屈折率が約１．４５と高く、膜厚が約９５ｎ
ｍの両面膜付ガラスとなって、その反射率は、図４に示
すように、約５５０ｎｍで最低となり、可視光線反射率
（Ｄ６５光線ーＹ値）は約５．２％であり、低反射性能
においても実施例より劣っていた。
【００３９】比較例２ 実施例２と同様な方法において、ディッピングの引き上
げスピードを約０．５ｍｍ／ｓにして膜付けし、実施例
２と同条件で加熱成膜したところ、屈折率が約１．４０
で膜厚が約５０ｎｍであって、実施例２に近い表面を有
する両面膜付ガラスではあるが、その反射率は４００ｎ
ｍ以下の波長で最低となり、可視光線反射率（Ｄ６５光
線ーＹ値）は約５．７％であり、低反射性能においても
実施例より劣っていた。
【００４０】比較例３ 実施例２と同様な方法において、ディッピングの引き上
げスピードを約６ｍｍ／ｓにして被膜し、実施例２と同
条件で加熱成膜したところ、屈折率が約１．３９で膜厚
が約１７０ｎｍであって、実施例２に近い表面を有する
両面膜付ガラスではあるが、その反射率は７８０ｎｍ以
上の波長で最低となり、可視光線反射率（Ｄ６５光線ー
Ｙ値）は約７．１％であり、低反射性能においても実施
例より劣っていた。
【００４１】比較例４ 実施例１と同様な方法において、１ーブタノールを約５
０ｇ再添加した溶液を使用し、ディッピングの引き上げ
スピードを約１ｍｍ／ｓにして被膜し、実施例１と同条
件で加熱成膜したところ、屈折率が約１．３３で膜厚が
約５０ｎｍであって、実施例１に近い表面を有する両面
膜付ガラスではあるが、その反射率は４００ｎｍ以下の
波長で最低となり、可視光線反射率（Ｄ６５光線ーＹ
値）は約５％であり、低反射性能において実施例より劣
っていた。
【００４２】比較例５ 実施例１と同様な方法において、ディッピングの引き上
げスピードを約８ｍｍ／ｓにして被膜し、実施例１と同
条件で加熱成膜したところ、屈折率が約１．３３で膜厚
が約１８０ｎｍの実施例１に近い表面を有する両面膜付
ガラスではあるが、その反射率は７８０ｎｍ以上の波長
で最低となり、可視光線反射率（Ｄ６５光線ーＹ値）は
約６．９％であり、低反射性能において実施例より劣っ
ていた。
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、容易な膜形成手段でも
って薄膜を安価に効率よく得られ、該薄膜において特異
な形状のマイクロピット状あるいは凹凸状表面を呈し、
しかもその孔の径を調整することができ、反射防止特性
に優れており、密着性、耐候性等に優れる。得られる低
反射ガラスは、建築用窓材等をはじめ、各種ガラス物品
などに採用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の低反射ガラスの走査電子顕微鏡写真
で、薄膜表面形状を示した図である。
【図２】実施例２の低反射ガラスの走査電子顕微鏡写真
で、薄膜表面形状を示した図である。
【図３】比較例１の低反射ガラスの走査電子顕微鏡写真
で、薄膜表面形状を示した図である。
【図４】実施例１、実施例２、比較例１、および通常の
ガラスにおける、分光反射率（％）を示すグラフであ
る。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ガラス基板の表面に形成した薄膜におい
    て、該薄膜は、Ｓｉアルコキシド系化合物及び／又はＳ
    ｉアセチルアセトネート系化合物を出発原料とするＳｉ
    Ｏ 2 系のゾルであって、その縮重合度の相違により平均
    分子量を著しく異ならせ、一種のゾルの平均分子量が数
    千、他の一種以上のゾルの平均分子量が数万乃至数十万
    とした二種以上のＳｉＯ 2 系ゾルを、その混合割合を調
    整して溶剤に溶解してコーティング溶液とし、また該コ
    ーティング溶液を、常温下塗布環境の相対湿度を調整し
    て膜付けすることにより、加熱成膜のままでマイクロピ
    ット状または凹凸状表面を形成したゾルゲル膜であり、
    その膜厚が６０〜１６０ｎｍ、前記マイクロピット状ま
    たは凹凸状表面のピットまたは凹凸の孔の径が５０〜２
    ００ｎｍ、かつ膜の屈折率が１．２１〜１．４０でガラ
    ス基板より低屈折率としたことを特徴とする低反射ガラ
    ス。
  2. 【請求項２】 二種以上のＳｉＯ 2 系のゾルの混合割合
    において、高平均分子量のゾル１ｍｏｌに対して、低平
    均分子量のゾルが酸化物換算で０．１〜３０ｍｏｌであ
    ることを特徴とする請求項１記載の低反射ガラス。
  3. 【請求項３】 ガラス基板の表面に薄膜を形成した低反
    射ガラスの製法において、 a)Ｓｉアルコキシド系化合物及び／またはＳｉアセチル
    アセトネート系化合物を出発原料とし、縮重合させるこ
    とにより平均分子量数千の低平均分子量のＳｉＯ 2 系ゾ
    ルと、Ｓｉアルコキシド系化合物及び／またはＳｉアセ
    チルアセトネート系化合物を出発原料とし、縮重合させ
    ることにより平均分子量数万乃至数十万の高平均分子量
    のＳｉＯ 2 系ゾルを製造し、前記低平均分子量のＳｉＯ
    2 系ゾルと前記高平均分子量のＳｉＯ 2 系ゾルからなる
    少なくとも二種のゾルを、前記高平均分子量のゾル１ｍ
    ｏｌに対して、低平均分子量のゾルが酸化物換算で０．
    １〜３０ｍｏｌとなるべく混合し、溶剤に溶解してコー
    ティング溶液とし、 b)該コーティング溶液を、常温下相対湿度４０〜９０％
    における適宜湿度のもと、ガラス基板上に塗布し、 c)乾燥後、１００℃以上に加熱し、膜の厚みが６０〜１
    ６０ｎｍ、マイクロピット状または凹凸状表面のピット
    または凹凸の孔の径が５０〜２００ｎｍ、膜の屈折率が
    １．２１〜１．４０の範囲にあるゾルゲル薄膜を形成す
    ること、 を特徴とする低反射ガラスの製法。
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