JP2662245B2 - ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法 - Google Patents
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法Info
- Publication number
- JP2662245B2 JP2662245B2 JP63140825A JP14082588A JP2662245B2 JP 2662245 B2 JP2662245 B2 JP 2662245B2 JP 63140825 A JP63140825 A JP 63140825A JP 14082588 A JP14082588 A JP 14082588A JP 2662245 B2 JP2662245 B2 JP 2662245B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sebacate
- tetramethyl
- piperidyl
- reaction
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 33
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 17
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 claims description 14
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 14
- -1 4-Piperidyl Chemical group 0.000 claims description 11
- KKZZSTCINUMTGD-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,3-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC1C(O)CCN(C)C1(C)C KKZZSTCINUMTGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ALOUNLDAKADEEB-UHFFFAOYSA-N dimethyl sebacate Chemical compound COC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC ALOUNLDAKADEEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000047 product Substances 0.000 description 29
- 229940014772 dimethyl sebacate Drugs 0.000 description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 15
- VDVUCLWJZJHFAV-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1 VDVUCLWJZJHFAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 10
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 10
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 10
- GKJKFGJKZVODEH-UHFFFAOYSA-N 10-oxo-10-piperidin-1-yloxydecanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(=O)ON1CCCCC1 GKJKFGJKZVODEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMQFUIWLQOVUHD-UHFFFAOYSA-N 10-oxo-10-(1,2,2,3-tetramethylpiperidin-4-yl)oxydecanoic acid Chemical compound CC1C(OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O)CCN(C)C1(C)C CMQFUIWLQOVUHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GXDHCNNESPLIKD-UHFFFAOYSA-N 2-methylhexane Natural products CCCCC(C)C GXDHCNNESPLIKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SGVYKUFIHHTIFL-UHFFFAOYSA-N 2-methylnonane Chemical compound CCCCCCCC(C)C SGVYKUFIHHTIFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001263 acyl chlorides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N isononane Chemical compound CCCCCCC(C)C ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N tridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N (3s)-n-[(3s,5s,6r)-6-methyl-2-oxo-1-(2,2,2-trifluoroethyl)-5-(2,3,6-trifluorophenyl)piperidin-3-yl]-2-oxospiro[1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine-3,6'-5,7-dihydrocyclopenta[b]pyridine]-3'-carboxamide Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(=O)[C@@H](NC(=O)C=3C=C4C[C@]5(CC4=NC=3)C3=CC=CN=C3NC5=O)C2)CC(F)(F)F)C)=C(F)C=CC(F)=C1F QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N 0.000 description 1
- HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-methylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFCONGYNRWGVGH-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-2,2,3,3-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCN(O)C1(C)C UFCONGYNRWGVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJVGFKBLUYAEOK-SFHVURJKSA-N 6-[4-[(3S)-3-(3,5-difluorophenyl)-3,4-dihydropyrazole-2-carbonyl]piperidin-1-yl]pyrimidine-4-carbonitrile Chemical compound FC=1C=C(C=C(C=1)F)[C@@H]1CC=NN1C(=O)C1CCN(CC1)C1=CC(=NC=N1)C#N SJVGFKBLUYAEOK-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000156978 Erebia Species 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWHHJYUHCZWSLS-UHFFFAOYSA-N FC=1C=C(C=CC1C1=C2CNC(C2=C(C=C1)C=1NC(=CN1)C)=O)NC(=O)NC1=C(C=C(C=C1F)F)F Chemical compound FC=1C=C(C=CC1C1=C2CNC(C2=C(C=C1)C=1NC(=CN1)C)=O)NC(=O)NC1=C(C=C(C=C1F)F)F MWHHJYUHCZWSLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- FNYLWPVRPXGIIP-UHFFFAOYSA-N Triamterene Chemical compound NC1=NC2=NC(N)=NC(N)=C2N=C1C1=CC=CC=C1 FNYLWPVRPXGIIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 230000009089 cytolysis Effects 0.000 description 1
- WMPOZLHMGVKUEJ-UHFFFAOYSA-N decanedioyl dichloride Chemical compound ClC(=O)CCCCCCCCC(Cl)=O WMPOZLHMGVKUEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIMDHDXOBDPUQW-UHFFFAOYSA-N dioctyl decanedioate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCC MIMDHDXOBDPUQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHGPEWTZABDZCE-UHFFFAOYSA-N dipropyl decanedioate Chemical compound CCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCC UHGPEWTZABDZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- LKPFBGKZCCBZDK-UHFFFAOYSA-N n-hydroxypiperidine Chemical compound ON1CCCCC1 LKPFBGKZCCBZDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCKTBJJRVPGKM-UHFFFAOYSA-N octan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-] KSCKTBJJRVPGKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N odevixibat Chemical compound C12=CC(SC)=C(OCC(=O)N[C@@H](C(=O)N[C@@H](CC)C(O)=O)C=3C=CC(O)=CC=3)C=C2S(=O)(=O)NC(CCCC)(CCCC)CN1C1=CC=CC=C1 XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N 0.000 description 1
- HDOWRFHMPULYOA-UHFFFAOYSA-N piperidin-4-ol Chemical compound OC1CCNCC1 HDOWRFHMPULYOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、各種有機材料の光安定剤として有用な、ビ
ス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケ
ートの改良された製造方法に関する。
ス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケ
ートの改良された製造方法に関する。
ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケートに代表されるポリアルキルピペリジノールのカ
ルボン酸エステルは、各種有機材料、特に、ポリプロピ
レン、ポリエチレン、ABS樹脂等の合成樹脂の光安定剤
として有用であり、これまで、ポリアルキルピペリジノ
ールとカルボン酸の反応性誘導体を反応させることによ
って得られることが知られている。
バケートに代表されるポリアルキルピペリジノールのカ
ルボン酸エステルは、各種有機材料、特に、ポリプロピ
レン、ポリエチレン、ABS樹脂等の合成樹脂の光安定剤
として有用であり、これまで、ポリアルキルピペリジノ
ールとカルボン酸の反応性誘導体を反応させることによ
って得られることが知られている。
例えば、ケミッシェ ベリヒテ（Chem.Ber.）45巻206
0頁（1912年）にはポリアルキルピペリジノールとアシ
ルクロライドの反応により、カルボン酸エステルを製造
することが記載されているが、収率が約50％程度と著し
く低く、しかも多量の塩酸捕捉剤を必要とするなどの欠
点があり、工業的な方法ではなかった。
0頁（1912年）にはポリアルキルピペリジノールとアシ
ルクロライドの反応により、カルボン酸エステルを製造
することが記載されているが、収率が約50％程度と著し
く低く、しかも多量の塩酸捕捉剤を必要とするなどの欠
点があり、工業的な方法ではなかった。
このため、特開昭47−27981号公報にはポリアルキル
ピペリジノールを、芳香族炭化水素溶媒中でアルコーリ
シス触媒の存在下に、カルボン酸エステル類と反応させ
る方法が提案されており、アルコーリシス触媒として、
アルカリ金属、その低級アルコラート、水素化物、また
は水酸化物が記載されている。この方法によれば、アシ
ルクロライドを用いた場合のような塩酸捕捉剤を使用す
る必要はなく、また、収率も比較的良好であるので工業
的な方法として有望な製法である。
ピペリジノールを、芳香族炭化水素溶媒中でアルコーリ
シス触媒の存在下に、カルボン酸エステル類と反応させ
る方法が提案されており、アルコーリシス触媒として、
アルカリ金属、その低級アルコラート、水素化物、また
は水酸化物が記載されている。この方法によれば、アシ
ルクロライドを用いた場合のような塩酸捕捉剤を使用す
る必要はなく、また、収率も比較的良好であるので工業
的な方法として有望な製法である。
しかしながら、上記公報に記載された触媒は活性が低
いため、多量に使用しなければならない欠点があった。
しかも、多価カルボン酸のピペリジルエステル、特に、
ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セバ
ケートを製造する場合には、多量の触媒を用いても、そ
の収率はまだまだ満足し得るものではなく、工業的な方
法としては不十分なものであった。
いため、多量に使用しなければならない欠点があった。
しかも、多価カルボン酸のピペリジルエステル、特に、
ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セバ
ケートを製造する場合には、多量の触媒を用いても、そ
の収率はまだまだ満足し得るものではなく、工業的な方
法としては不十分なものであった。
また、特開昭48−65180号公報には、１−置換−2,2,
6,6−テトラメチル−４−ピペリジノール類のカルボン
酸エステルを製造する方法として、カルボン酸の低級ア
ルキルエステルと１−置換−2,2,6,6−テトラメチル−
４−ピペリジノール類とを、芳香族炭化水素溶媒中で、
リチウムアミド等のアルカリ金属アミドを触媒として反
応させる方法、カルボン酸と１−置換−2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール類とを、テトラアルキル
チタネートを触媒として直接エステル化する方法、カル
ボン酸ハライドと１−置換−2,2,6,6−テトラメチル−
４−ピペリジノール類とを反応させる方法が記載されて
いる。そして、上記公報には極めて多数の化合物の合成
例が記載されているが、多価カルボン酸の全ピペリジル
エステルを製造する場合にはテトラアルキルチタネート
を用いた直接エステル化あるいはカルボン酸ハライドを
用いた反応のみが記載されており、リチウムアミドを用
いたエステル交換反応の具体例としてはモノカルボン酸
のエステルを製造する例あるいは多価カルボン酸の部分
エステルを製造する例が記載されているに過ぎない。
6,6−テトラメチル−４−ピペリジノール類のカルボン
酸エステルを製造する方法として、カルボン酸の低級ア
ルキルエステルと１−置換−2,2,6,6−テトラメチル−
４−ピペリジノール類とを、芳香族炭化水素溶媒中で、
リチウムアミド等のアルカリ金属アミドを触媒として反
応させる方法、カルボン酸と１−置換−2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール類とを、テトラアルキル
チタネートを触媒として直接エステル化する方法、カル
ボン酸ハライドと１−置換−2,2,6,6−テトラメチル−
４−ピペリジノール類とを反応させる方法が記載されて
いる。そして、上記公報には極めて多数の化合物の合成
例が記載されているが、多価カルボン酸の全ピペリジル
エステルを製造する場合にはテトラアルキルチタネート
を用いた直接エステル化あるいはカルボン酸ハライドを
用いた反応のみが記載されており、リチウムアミドを用
いたエステル交換反応の具体例としてはモノカルボン酸
のエステルを製造する例あるいは多価カルボン酸の部分
エステルを製造する例が記載されているに過ぎない。
即ち、該公報45頁実施例44には、リチウムアミドをエ
ステル交換触媒として用い、芳香族炭化水素溶媒中での
エステル交換反応により多価カルボン酸のピペリジルエ
ステルを製造しようとする場合には、化学量論量の出発
原料を用いてもエステル交換反応が充分に進行せずに、
部分エステル化合物のみが生成することが記載されてい
る。このため、該公報記載の発明では、本願発明の目的
化合物と類似のビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−
ピペリジル）セバケートを製造するためには、テトラア
ルキルチタネートを触媒とした直接エステル化あるいは
セバシン酸ジクロライドを用いた反応が行われている
が、これらの方法では、苛酷な条件下で長時間の反応が
必要であったり、または塩酸捕捉剤の使用が必要であっ
たりする欠点があり、さらにこれらの方法では目的物の
収率が低い欠点があった。
ステル交換触媒として用い、芳香族炭化水素溶媒中での
エステル交換反応により多価カルボン酸のピペリジルエ
ステルを製造しようとする場合には、化学量論量の出発
原料を用いてもエステル交換反応が充分に進行せずに、
部分エステル化合物のみが生成することが記載されてい
る。このため、該公報記載の発明では、本願発明の目的
化合物と類似のビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−
ピペリジル）セバケートを製造するためには、テトラア
ルキルチタネートを触媒とした直接エステル化あるいは
セバシン酸ジクロライドを用いた反応が行われている
が、これらの方法では、苛酷な条件下で長時間の反応が
必要であったり、または塩酸捕捉剤の使用が必要であっ
たりする欠点があり、さらにこれらの方法では目的物の
収率が低い欠点があった。
このため、反応条件が温和なエステル交換反応を用い
て、高収率でビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）セバケートを製造する方法を見出すことが強く
望まれていた。
て、高収率でビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）セバケートを製造する方法を見出すことが強く
望まれていた。
本発明者等は、エステル交換反応を用いてビス（2,2,
6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートを高
収率で製造し得る方法について鋭意検討を重ねた結果、
セバシン酸ジアルキルエステルと2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピベリジノール、リチウムアミドをエステル交
換触媒として脂肪族炭化水素溶媒中で反応させることに
より、目的のビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）セバケートが極めて高収率で得られることを見
出した。
6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートを高
収率で製造し得る方法について鋭意検討を重ねた結果、
セバシン酸ジアルキルエステルと2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピベリジノール、リチウムアミドをエステル交
換触媒として脂肪族炭化水素溶媒中で反応させることに
より、目的のビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）セバケートが極めて高収率で得られることを見
出した。
即ち、本発明は、セバシン酸ジアルキルエステルと2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジノールを、リチウ
ムアミドの存在下、脂肪族炭化水素溶媒中で反応させる
ことを特徴とする、次の式で表されるビス（2,2,6,6−
テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法
を提供するものである。
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジノールを、リチウ
ムアミドの存在下、脂肪族炭化水素溶媒中で反応させる
ことを特徴とする、次の式で表されるビス（2,2,6,6−
テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法
を提供するものである。
リチウムアミドに代えて、ナトリウムアミド等の他の
アルカリ金属アミドを用いた場合、或いは脂肪族炭化水
素溶媒に代えて芳香族炭化水素溶媒を用いた場合には目
的物を高収率で製造することはできないことから、本発
明の効果は、リチウムアミドと脂肪族炭化水素溶媒を用
いた場合にのみ奏される極めて特異的な効果であると考
えられる。
アルカリ金属アミドを用いた場合、或いは脂肪族炭化水
素溶媒に代えて芳香族炭化水素溶媒を用いた場合には目
的物を高収率で製造することはできないことから、本発
明の効果は、リチウムアミドと脂肪族炭化水素溶媒を用
いた場合にのみ奏される極めて特異的な効果であると考
えられる。
前述のごとく、リチウムアミドは触媒としての活性が
低く、１−置換−2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリ
ジノールの多価カルボン酸エステルを製造するための触
媒としては適さないと考えられていたことを考えると、
本発明の効果が極めて特異的なものであることは明らか
である。
低く、１−置換−2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリ
ジノールの多価カルボン酸エステルを製造するための触
媒としては適さないと考えられていたことを考えると、
本発明の効果が極めて特異的なものであることは明らか
である。
以下、上記要旨をもってなる本発明について詳述す
る。
る。
本発明で使用されるセバシン酸ジアルキルエステルと
しては、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セ
バシン酸ジプロピル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸
ジオクチル等があげられ、特に、炭素原子数１〜４の低
級アルキルエステル、とりわけセバシン酸ジメチルが好
ましい。
しては、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セ
バシン酸ジプロピル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸
ジオクチル等があげられ、特に、炭素原子数１〜４の低
級アルキルエステル、とりわけセバシン酸ジメチルが好
ましい。
セバシン酸ジアルキルエステルと2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジノールとのモル比は、セバシン酸ジ
アルキルエステル１モルに対してピペリジノール2.0〜
3.0モルを使用することが好ましい。セバシン酸ジアル
キルエステルを過剰に用いた場合には目的物の収率が低
下するので、特に、ピベリジノール化合物を５モル％〜
30モル％過剰（2.1〜2.6モル）に用いることが好まし
い。
チル−４−ピペリジノールとのモル比は、セバシン酸ジ
アルキルエステル１モルに対してピペリジノール2.0〜
3.0モルを使用することが好ましい。セバシン酸ジアル
キルエステルを過剰に用いた場合には目的物の収率が低
下するので、特に、ピベリジノール化合物を５モル％〜
30モル％過剰（2.1〜2.6モル）に用いることが好まし
い。
本発明で触媒として用いられるリチウムアミドの使用
量は特に制限を受けないが、一般には、反応混合物（溶
媒を除く）の0.01〜１重量％が用いられ、特に、0.05〜
0.5重量％用いることが好ましい。溶媒の使用量が0.01
重量％未満では反応に長時間を要し、また、１重量％を
越えて用いても反応時間を大幅に短縮することはできな
いので、これ以上を使用しても実際上効果がない。
量は特に制限を受けないが、一般には、反応混合物（溶
媒を除く）の0.01〜１重量％が用いられ、特に、0.05〜
0.5重量％用いることが好ましい。溶媒の使用量が0.01
重量％未満では反応に長時間を要し、また、１重量％を
越えて用いても反応時間を大幅に短縮することはできな
いので、これ以上を使用しても実際上効果がない。
本発明は、脂肪族炭化水素溶媒中で行うことが必要で
あり、用いられる脂肪族炭化水素溶媒としては、例え
ば、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソヘプタ
ン、オクタン、イソオクタン、ノナン、イソノナン、デ
カン、イソデカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカ
ン、テトラデカン、ヘキサデカン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、シクロオクタン、デカヒドロナフ
タレン、ナフテン系炭化水素等の鎖状または脂環式炭化
水素及びこれらの混合物があげられる。また、本発明で
用いられる脂肪族炭化水素溶媒は、少量の芳香族炭化水
素を含有していても良い。脂肪族炭化水素溶媒に含まれ
得る芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、エ
チルベンゼン、プロピルベンゼン、キュメン、キシレ
ン、エチルトルエン、ジエチルベンゼン、プソイドキュ
メン等があげられる。これらの芳香族炭化水素の含有量
は約30重量％以下であることが必要であり、これ以上含
まれていると、エステル変換反応が円滑に進行しなくな
るので好ましくない。
あり、用いられる脂肪族炭化水素溶媒としては、例え
ば、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソヘプタ
ン、オクタン、イソオクタン、ノナン、イソノナン、デ
カン、イソデカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカ
ン、テトラデカン、ヘキサデカン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、シクロオクタン、デカヒドロナフ
タレン、ナフテン系炭化水素等の鎖状または脂環式炭化
水素及びこれらの混合物があげられる。また、本発明で
用いられる脂肪族炭化水素溶媒は、少量の芳香族炭化水
素を含有していても良い。脂肪族炭化水素溶媒に含まれ
得る芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、エ
チルベンゼン、プロピルベンゼン、キュメン、キシレ
ン、エチルトルエン、ジエチルベンゼン、プソイドキュ
メン等があげられる。これらの芳香族炭化水素の含有量
は約30重量％以下であることが必要であり、これ以上含
まれていると、エステル変換反応が円滑に進行しなくな
るので好ましくない。
溶剤の使用量は広範に変化しえるが、一般には、セバ
シン酸ジアルキルエステル及びテトラメチルピペリジノ
ールの合計量に対して約30重量％〜200重量％が用いら
れる。溶媒の使用量が30重量％未満の場合は反応温度の
制御が困難であるばかりでなく、エステル交換反応が充
分に進行しない欠点があり、200重量％を越えて用いる
と、バッチ当たりの収量が低下するばかりでなく、反応
速度が低下する欠点もある。
シン酸ジアルキルエステル及びテトラメチルピペリジノ
ールの合計量に対して約30重量％〜200重量％が用いら
れる。溶媒の使用量が30重量％未満の場合は反応温度の
制御が困難であるばかりでなく、エステル交換反応が充
分に進行しない欠点があり、200重量％を越えて用いる
と、バッチ当たりの収量が低下するばかりでなく、反応
速度が低下する欠点もある。
また、反応は加熱下に行うことが好ましく、一般には
約50℃〜溶媒の沸点までの範囲から適宜選択されるが、
特に、120℃以上で反応を行うことが好ましい。
約50℃〜溶媒の沸点までの範囲から適宜選択されるが、
特に、120℃以上で反応を行うことが好ましい。
更に、反応は加圧、常圧、減圧の何れかまたはこれら
の組合せから適宜選ばれる圧力下で行われるが、反応に
より副生するアルコールを除去するために、反応の任意
の段階で減圧操作を行うことが好ましい。
の組合せから適宜選ばれる圧力下で行われるが、反応に
より副生するアルコールを除去するために、反応の任意
の段階で減圧操作を行うことが好ましい。
反応終了後は、常法により目的物を単離することがで
きる。例えば、反応液を水洗、脱水後、必要に応じて溶
媒を留去し、冷却して結晶化させる方法等が適宜適用で
きる。
きる。例えば、反応液を水洗、脱水後、必要に応じて溶
媒を留去し、冷却して結晶化させる方法等が適宜適用で
きる。
以下に本発明を実施例によって説明するが、本発明は
これら実施例によって制限されるものではない。
これら実施例によって制限されるものではない。
実施例−１ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5、沸点154〜197
℃、芳香族炭化水素含有率18％、エクソン化学製）473g
（反応物の80重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物
の0.1重量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次
いで、400mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去
しながら160℃で３時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5、沸点154〜197
℃、芳香族炭化水素含有率18％、エクソン化学製）473g
（反応物の80重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物
の0.1重量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次
いで、400mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去
しながら160℃で３時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の99.6％であ
った。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の99.6％であ
った。
70mmHgの減圧下に、過剰の2,2,6,6−テトラメチル−
４−ピペリジノールを留去した。
４−ピペリジノールを留去した。
水洗、乾燥後、溶媒を留去し、ｎ−ヘキサンより再結
晶して、融点83〜84℃のビス（2,2,6,6−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート461g（ジメチルセバケー
トからの収率:96.0％）を得た。
晶して、融点83〜84℃のビス（2,2,6,6−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート461g（ジメチルセバケー
トからの収率:96.0％）を得た。
実施例−２ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール329.7g（2.1モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）448g（反応物
の80重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物の0.1重
量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、4
00mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら
160℃で３時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール329.7g（2.1モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）448g（反応物
の80重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物の0.1重
量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、4
00mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら
160℃で３時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の99.2％であ
った。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の99.2％であ
った。
以下、実施例−１と同様に処理して、457g（ジメチル
セバケートからの収率:95.2％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:95.2％）の目的物を得た。
実施例−３ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）473g（反応物
の80重量％）及びリチウムアミド0.3g（反応物の0.05重
量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、4
00mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら
160℃で５時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）473g（反応物
の80重量％）及びリチウムアミド0.3g（反応物の0.05重
量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、4
00mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら
160℃で５時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の99.0％であ
った。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の99.0％であ
った。
以下、実施例−１と同様に処理して、453g（ジメチル
セバケートからの収率:94.4％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:94.4％）の目的物を得た。
実施例−４ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）473g（反応物
の90重量％）及びリチウムアミド1.2g（反応物の0.2重
量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、4
00mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら
160℃で５時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）473g（反応物
の90重量％）及びリチウムアミド1.2g（反応物の0.2重
量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、4
00mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら
160℃で５時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の99.7％であ
った。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の99.7％であ
った。
以下、実施例−１と同様に処理して、463g（ジメチル
セバケートからの収率:96.5％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:96.5％）の目的物を得た。
実施例−５ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）236g（反応物
の40重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物の0.1重
量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、4
00mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら
160℃で３時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）236g（反応物
の40重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物の0.1重
量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、4
00mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら
160℃で３時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は論理量の99.5％であ
った。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は論理量の99.5％であ
った。
以下、実施例−１と同様に処理して、460g（ジメチル
セバケートからの収率:95.8％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:95.8％）の目的物を得た。
実施例−６ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（アイソバーＧ、沸点156〜175℃、エ
クソン化学製）473g（反応物の80重量％）及びリチウム
アミド0.6g（反応物の0.1重量％）をとり、常圧下160℃
で１時間撹拌し、次いで、400mmHgの減圧下に、生成す
るメタノールを留去しながら160℃で３時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（アイソバーＧ、沸点156〜175℃、エ
クソン化学製）473g（反応物の80重量％）及びリチウム
アミド0.6g（反応物の0.1重量％）をとり、常圧下160℃
で１時間撹拌し、次いで、400mmHgの減圧下に、生成す
るメタノールを留去しながら160℃で３時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量99.6％であっ
た。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量99.6％であっ
た。
以下、実施例−１と同様に処理して、462g（ジメチル
セバケートからの収率:96.3％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:96.3％）の目的物を得た。
実施例−７ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）473g（反応物
の80重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物の0.1重
量％）をとり、常圧下140℃１時間撹拌し、次いで、400
mmHgの減圧下に、生成するメタノールを除去しながら14
0℃で６時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）473g（反応物
の80重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物の0.1重
量％）をとり、常圧下140℃１時間撹拌し、次いで、400
mmHgの減圧下に、生成するメタノールを除去しながら14
0℃で６時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の98.7％であ
った。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の98.7％であ
った。
以下、実施例−１と同様に処理して、445g（ジメチル
セバケートからの収率:92.7％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:92.7％）の目的物を得た。
比較例−１ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、芳
香族炭化水素溶剤（ソルベッソ100、沸点164〜176℃、
エクソン化学製）473g（反応物の80重量％）及びナトリ
ウムメトキサイド5.9g（反応物の１重量％）をとり、常
圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、400mmHgの減圧下
に、生成するメタノールを留去しながら160℃で３時間
撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、芳
香族炭化水素溶剤（ソルベッソ100、沸点164〜176℃、
エクソン化学製）473g（反応物の80重量％）及びナトリ
ウムメトキサイド5.9g（反応物の１重量％）をとり、常
圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、400mmHgの減圧下
に、生成するメタノールを留去しながら160℃で３時間
撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の86.5％であ
ったため、ナトリウムメトキサイド5.9gを追加し、さら
に３時間反応を行ったが目的物の生成率は93.7％に向上
しただけであった。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の86.5％であ
ったため、ナトリウムメトキサイド5.9gを追加し、さら
に３時間反応を行ったが目的物の生成率は93.7％に向上
しただけであった。
以下、実施例−１と同様に処理して、414g（ジメチル
セバケートからの収率:86.3％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:86.3％）の目的物を得た。
比較例−２ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）473g（反応物
の80重量％）及びナトリウムアミド1.2g（反応物の0.2
重量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次い
で、400mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去し
ながら160℃で３時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、脂
肪族炭化水素溶剤（エクソンナフサNo.5）473g（反応物
の80重量％）及びナトリウムアミド1.2g（反応物の0.2
重量％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次い
で、400mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去し
ながら160℃で３時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の87.3％であ
ったため、ナトリウムアミド0.6gを追加しさらに３時間
反応を行ったが、目的物の生成率は91.6％に向上しただ
けであった。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の87.3％であ
ったため、ナトリウムアミド0.6gを追加しさらに３時間
反応を行ったが、目的物の生成率は91.6％に向上しただ
けであった。
以下、実施例−１と同様に処理して、394g（ジメチル
セバケートからの収率:82.1％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:82.1％）の目的物を得た。
比較例−３ ジメチルセバケート230g（１モル）、2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、芳
香族炭化水素溶剤（ソルベッソ100）473g（反応物の80
重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物の0.1重量
％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、400
mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら16
0℃で３時間撹拌した。
ラメチル−４−ピペリジノール361.1g（2.3モル）、芳
香族炭化水素溶剤（ソルベッソ100）473g（反応物の80
重量％）及びリチウムアミド0.6g（反応物の0.1重量
％）をとり、常圧下160℃で１時間撹拌し、次いで、400
mmHgの減圧下に、生成するメタノールを留去しながら16
0℃で３時間撹拌した。
反応生成物をガスクロマトグラムによって分析した結
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の88.1％であ
ったため、リチウムアミド0.6gを追加し、さらに３時間
反応を行ったが目的物の生成率は92.4％に向上しただけ
であった。
果、目的物であるビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバケートの生成率は理論量の88.1％であ
ったため、リチウムアミド0.6gを追加し、さらに３時間
反応を行ったが目的物の生成率は92.4％に向上しただけ
であった。
以下、実施例−１と同様に処理して、404g（ジメチル
セバケートからの収率:84.2％）の目的物を得た。
セバケートからの収率:84.2％）の目的物を得た。
本発明の方法によれば、目的のビス（2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジル）セバケートが殆ど理論量生
成するため、溶媒を除去するだけで高純度の目的物が得
られるので、再結晶を行う必要はないが、再結晶を行っ
た場合にもその収率が約90％以上と極めて高収率であ
る。
ラメチル−４−ピペリジル）セバケートが殆ど理論量生
成するため、溶媒を除去するだけで高純度の目的物が得
られるので、再結晶を行う必要はないが、再結晶を行っ
た場合にもその収率が約90％以上と極めて高収率であ
る。
これに対し、従来用いられていたナトリウムメトキサ
イドを触媒として用いた場合には、触媒の使用量を20倍
の２重量％とし、反応時間を延長しても目的物の生成率
は95％以下であり再結晶が必要であり、また、収率も90
％以下であり、工業的に満足できるものではない。
イドを触媒として用いた場合には、触媒の使用量を20倍
の２重量％とし、反応時間を延長しても目的物の生成率
は95％以下であり再結晶が必要であり、また、収率も90
％以下であり、工業的に満足できるものではない。
また、脂肪族溶媒に代えて芳香族溶媒を用いた場合、
あるいは、リチウムアミドに代えてナトリウムアミドを
用いた場合にも目的物の生成率及び再結晶後の収率は低
く、本願発明の特定の触媒と溶媒の組合せのみが優れた
効果を奏することが明らかである。
あるいは、リチウムアミドに代えてナトリウムアミドを
用いた場合にも目的物の生成率及び再結晶後の収率は低
く、本願発明の特定の触媒と溶媒の組合せのみが優れた
効果を奏することが明らかである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 芳雄 三重県員弁郡東員町山田（番地なし） アデカ・アーガス化学株式会社三重工場 内 (56)参考文献 特開 昭58−90551（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−33153（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】セバシン酸ジアルキルエステルと2,2,6,6
−テトラメチル−４−ピペリジノールを、リチウムアミ
ドの存在下、脂肪族炭化水素溶媒中で反応させることを
特徴とする、次の式で表されるビス（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63140825A JP2662245B2 (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63140825A JP2662245B2 (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01311066A JPH01311066A (ja) | 1989-12-15 |
| JP2662245B2 true JP2662245B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=15277597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63140825A Expired - Fee Related JP2662245B2 (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2662245B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3006060B2 (ja) * | 1990-09-13 | 2000-02-07 | 住友化学工業株式会社 | ２，２，６，６―テトラメチルピペリジン系光安定剤の造粒方法 |
| KR19980013769A (ko) * | 1996-08-02 | 1998-05-15 | 이웅열 | 피페리딘 디에스테르 유도체의 제조방법 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4461898A (en) * | 1981-11-10 | 1984-07-24 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of novel light stabilizers |
| JPH0725735B2 (ja) * | 1985-08-07 | 1995-03-22 | 住友化学工業株式会社 | ピペリジン誘導体、その製造法およびこれを有効成分とする有機物質用安定剤 |
-
1988
- 1988-06-08 JP JP63140825A patent/JP2662245B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01311066A (ja) | 1989-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0749421B2 (ja) | アクリル又はメタクリル酸エステルの製法 | |
| JP2662245B2 (ja) | ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法 | |
| JPH01502025A (ja) | オキシモシラン類の製造法 | |
| US4609755A (en) | Synthesis of vinyl esters | |
| US3876691A (en) | Process for the hydrolysis of nitriles | |
| GB2034304A (en) | Process for producing substituted pyrrole diesters | |
| JPH06184069A (ja) | α−ヒドロキシ−β−アミノカルボン酸の製造方法 | |
| KR100301756B1 (ko) | 0,0'-디아실타르타르산무수물의제조방법및0,0'-디아실타르타르산의제조방법 | |
| EP0448775A2 (en) | Colorless grained alpha-form crystals of tetrakis [3-(3,5-Di-T-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxymethyl]methane and process for its manufacture | |
| EP0401696B1 (en) | Process for production of sulfonium compounds and novel methylthiophenyl derivatives | |
| JP3326215B2 (ja) | 還元的脱ハロゲン化法 | |
| JP6627653B2 (ja) | カルボン酸チオエステルの製造方法 | |
| JP3945610B2 (ja) | フマル酸モノエステル類及びそのアルカリ金属塩類の製造方法 | |
| Kishikawa et al. | Diastereoselective hydrochlorination of acrylylurea derivatives using titanium tetrachloride and alcohol. Chelation-controlled Michael addition of chloride and intramolecular proton transfer to the. alpha.-position | |
| JPS60500091A (ja) | ジハイドロカルビル オキサレ−トの製造方法 | |
| KR20010040542A (ko) | 혼합 고순도 (메트)아크릴산 무수물의 향상된 제조 방법 | |
| JPS6332068B2 (ja) | ||
| PL147517B1 (en) | Method of obtaining cyanoorganic compounds | |
| JP2681202B2 (ja) | 三塩基酸エステル | |
| JP2582889B2 (ja) | 高純度アミノスルフェニルクロリドの製法 | |
| KR100763770B1 (ko) | 아토르바스타틴 합성에 유용한 광학활성 중간체의 제조방법 | |
| JP2861122B2 (ja) | ピラゾールカルボン酸エステル類の製造方法 | |
| JP3317038B2 (ja) | アクリロニトリル二量体の製造法 | |
| JPH05194324A (ja) | アリルエステル類の製造方法 | |
| JPH08113582A (ja) | 二官能アルキルホスフィンオキサイド及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |