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JP2528838B2 - 光学式情報記録媒体 - Google Patents

光学式情報記録媒体

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JP2528838B2
JP2528838B2 JP61242136A JP24213686A JP2528838B2 JP 2528838 B2 JP2528838 B2 JP 2528838B2 JP 61242136 A JP61242136 A JP 61242136A JP 24213686 A JP24213686 A JP 24213686A JP 2528838 B2 JP2528838 B2 JP 2528838B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気ディスク，追記型光ディスク，コン
パクトディスク等の光学式情報記録媒体に関するもので
あり、特にその耐蝕性の改善に関するものである。
〔発明の概要〕
本発明は、ポリカーボネート樹脂基板上に情報記録層
を有する光学式情報記録媒体において、 上記基板に残存する残留塩素イオン量を1.0ppm以下と
することにより、 耐蝕性の改善を図り、再生不良のない光学式情報記録
媒体を提供しようとするものである。
〔従来の技術〕
光記録方式は、非接触で記録・再生ができ、取り扱い
が容易であること、傷や汚れ等に強いこと、等の特徴を
有し、さらには磁気記録方式等に比べて記憶容量が数十
倍から数百倍大きいという利点を有することから、音声
信号や画像信号を記録する所謂コンパクトディスクやビ
デオディスクとして実用化されるとともに、コード情報
やイメージ情報等の大容量ファイルへの活用が期待され
ている。
この光記録方式の情報記録媒体としては、前述のコン
パクトディスクのような再生専用のものの他、追記型光
ディスクや光磁気ディスク等、各種方式の媒体がある
が、何れにしてもポリカーボネート樹脂等よりなる透明
基板上に情報記録層を形成することによって構成されて
いる。
ポリカーボネート樹脂は、溶融成形時に耐熱性を有し
成形しやすいこと、ディスク成形後に変形，変質が少な
いこと、機械的特性が優れていること、等の特徴を有
し、上述の光学式情報記録媒体の基板材料として有用な
ものである。
一方、情報記録層の記録材料としては、光磁気ディス
クにおける希土類元素−遷移金属非晶質合金膜に代表さ
れるように、金属系の記録材料の開発が進められてお
り、例えばTbFeCo,TbFe,GdFe等の材料は感度，読み出し
性能等の点で良好な特性が得られることが報告されてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところで、上述の金属系記録材料により情報記録層が
形成されてなる光学式情報記録媒体においては、その実
用化にあたって耐蝕性の改善が大きな課題となる。
実際、ポリカーボネート樹脂成形体を基板とする光学
式情報記録媒体（例えばコンパクトディスクや光磁気デ
ィスク）を高温高湿下で保存すると、記録膜や反射膜等
に腐食が発生する。この腐食の発生は、再生不良等をも
たらし、信頼性を保証しなければならない光学式情報記
録媒体において大きな問題となる。
そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑みて提案され
たものであって、ポリカーボネート樹脂成形体を基板と
する光学式情報記録媒体における腐食の発生を抑制する
ことを目的とし、再生不良の発生が少なく信頼性の高い
光学式情報記録媒体を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者等は、ポリカーボネート樹脂を基板材料とす
る光学式情報記録媒体における腐食発生のメカニズムを
究明すべく長期に亘り鋭意検討を重ねた結果、基板に残
存する残留塩素イオンが深く関わっているとの知見を得
るに至った。
本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものであ
って、ポリカーボネート樹脂よりなる基体上に光学的に
信号が読み取られる情報記録層を設けてなる光学式情報
記録媒体において、上記基板は残留塩素イオン量が1.0p
pm以下とされたことを特徴とするものである。
本発明の光学式情報記録媒体において、基板材料とし
て使用されるポリカーボネート樹脂は、二価フェノール
系化合物（例えばビスフェノールＡ）を酸結合剤（例え
ば水酸化ナトリウム等のアルカリ）及び溶剤（塩化メチ
レン）の存在下、ホスゲンと反応させることにより合成
するホスゲン法によって製造されるものであって、通常
のポリカーボネート樹脂の他、分岐化剤としてフェノー
ル性水酸基を有する三官能以上の多官能性有機化合物を
用いた分岐化ポリカーボネート樹脂、末端停止剤として
長鎖アルキル酸クロライド若しくは長鎖アルキルエステ
ル置換フェノール等の一官能性有機化合物を用いた末端
長鎖アルキルポリカーボネート樹脂、前述の分岐化剤及
び末端停止剤の両者を用いた末端長鎖アルキル分岐ポリ
カーボネート樹脂、さらにはこれらの混合物等が使用さ
れる。
そして、これらポリカーボネート樹脂は、ペレット状
態で射出成形機に投入し、ヒータにより流動化した後、
金型中に押し出すことにより基板に成形されるが、本発
明では、この射出成形により得られた成形体の状態で基
板中に残存する残留塩素イオンの量を1.0ppm以下とす
る。本発明者等の実験によれば、上記残留塩素イオン量
が1.0ppmを越えると、エラーレートの増加が見られた。
上記残留塩素イオンを低減するには、ホスゲン法で製
造されるポリカーボネート樹脂の精製を充分なものとす
ればよく、例えばホスゲン法により生成した重合体溶液
から不純物である塩類，アルカリ等の電解質物質を除去
するための水洗工程を繰り返し行いこれらを完全に除去
すること、溶剤である塩化メチレンをポリカーボネート
樹脂中から徹底的に追い出すこと、等によりポリカーボ
ネート樹脂に含まれる塩素の量を抑えることができ、そ
の結果基板成形時の残留塩素イオン量を低減することが
できる。
〔作用〕
一般に、市販のポリカーボネート樹脂にはかなりの塩
素が残存しており、基板に成形した時点で残留塩素イオ
ン量は1.3〜1.6ppm程度にもなる。
この残留塩素イオンは、例えばポリカーボネート樹脂
重合体中に残存する電解質（塩化ナトリウム）や溶剤で
ある塩化メチレン，さらには重合体の末端に結合する塩
素等に由来するもので、光学式情報記録媒体の耐蝕性に
対して著しく悪影響を及ぼす。
この残留塩素イオンによる影響を抑える方法として
は、例えば基板を洗浄する方法が考えられるが、応急的
な処置にすぎず、根本的な解決にはならない。また、保
護膜を設けることも考えられているが、わずかのクラッ
クを生ずると腐食が始まり、やはりこれも根本的な解決
策とは言い難い。
本発明では、ポリカーボネート樹脂の精製工程を見直
し、基板原料のポリカーボネート樹脂中に含まれる含塩
素成分を徹底的に除去し、基板状態での残留塩素イオン
量を1.0ppm以下とすることにより、光学式情報記録媒体
の情報記録層に発生する腐食を抑制する。
〔実施例〕
以下、本発明を具体的な実験結果に基づいて説明す
る。
先ず、塩素除去プロセスの程度の異なるポリカーボネ
ート樹脂ペレットを用意し、これを射出成形機に投入
し、ヒータ温度320〜360℃、金型温度80〜115℃で射出
成形を行い、厚さ1.2mmのディスク状の基板を成形し
た。これを基板Ａ〜基板Ｄとする。
次に、これら基板Ａ〜基板Ｄに残存する残留塩素イオ
ン量を定量した。定量は電位差滴定法によった。すなわ
ち、各基板より試料を5g切り取り、これを精秤してメチ
レンクロライド150mlに溶解し、これにアセトンを加え
て直ちに0.005M硝酸銀／アセトン溶液で自動滴定装置を
用いて電位差滴定により塩素イオンを定量し濃度を求め
た。なお、使用した自動滴定装置は平沼レポーティング
タイトレーターCOMTITE−７型である。
その結果、基板Ａの残留塩素イオン量は0.9ppm、基板
Ｂの残留塩素イオン量は1.2ppm、基板Ｃの残留塩素イオ
ン量は1.3ppm、基板Ｄの残留塩素イオン量は1.9ppmであ
った。
そこで次に、第１図に示すように、これら基板（１）
〔基板Ａ〜基板Ｄ〕上に膜厚500ÅのSi3N4膜（２）、膜
厚800ÅのTbFeCo膜（３）〔このTbFeCo膜（３）は記録
層としての役割を果たす。〕及び厚さ５μｍの紫外線硬
化樹脂層（４）を順次被着形成し、光磁気ディスクを作
製した。
得られた各光磁気ディスクについて、エラーレートの
増加を評価した。評価方法としては、90℃，相対湿度85
％の条件下で各光磁気ディスクを保存し、経時によるエ
ラーレートの増加を初期のエラーレートに対する比で表
した。結果を第２図に示す。なお、図中曲線Ａは基板Ａ
を用いた光磁気ディスクを、曲線Ｂは基板Ｂを用いた光
磁気ディスクを、曲線Ｃは基板Ｃを用いた光磁気ディス
クを、曲線Ｄは基板Ｄを用いた光磁気ディスクをそれぞ
れ表す。
この第２図より、基板（１）に残存する残留塩素イオ
ンの量が1.0ppm以下のもの〔基板Ａを使用した光磁気デ
ィスク〕では、エラーレートの増加はほとんど見られ
ず、良好な耐蝕性を示すことがわかる。これに対して、
基板の残留塩素イオン量が1.0ppmを越えると、腐食の発
生に伴うエラーレートの増加が見られ、この傾向は残留
塩素イオン量が多いほど顕著であることが確認された。
さらに、低残留塩素イオン量の基板（基板Ａ）を用
い、第３図に示すようにこの基板（１）上に膜厚1500Å
のAl膜よりなる記録層（５）及び厚さ10μｍの紫外線硬
化樹脂層（６）を被着形成し、コンパクトディスクを作
製したところ、腐食の発生がなく保存性の良好なもので
あった。
以上、本発明を具体的な実験結果により説明したが、
本発明の適用範囲が上述の光磁気ディスクやコンパクト
ディスクに限定されるものではなく、追記型光ディスク
等あらゆる種類の光学式情報記録媒体に適用可能であっ
て、また媒体の構造も何ら限定されるものではない。
〔発明の効果〕
以上の説明からも明らかなように、本発明の光学式情
報記録媒体においては、ポリカーボネート樹脂基板に残
存する残留塩素イオン量を1.0ppm以下としているので、
情報記録層の腐食が大幅に抑えられ、再生不良が少なく
長期信頼性に優れた光学式情報記録媒体を提供すること
が可能である。
【図面の簡単な説明】
第１図は光磁気ディスクの構成例を示す要部概略断面図
であり、第２図は基板に残存する残留塩素量を変化させ
たときの各光磁気ディスクのエラーレートの経時変化を
示す特性図である。 第３図はコンパクトディスクの構成例を示す要部概略断
面図である。 １……基板 ３……TbFeCo膜（情報記録層） ５……記録層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 勝巳 東京都品川区北品川６丁目５番６号 ソ ニー・マグネ・プロダクツ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭50−65554（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−138097（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−81245（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ポリカーボネート樹脂よりなる基体上に光
    学的に信号が読み取られる情報記録層を設けてなる光学
    式情報記録媒体において、 上記基板は残留塩素イオン濃度が1.0ppm以下とされたこ
    とを特徴とする光学式情報記録媒体。
JP61242136A 1986-10-14 1986-10-14 光学式情報記録媒体 Expired - Lifetime JP2528838B2 (ja)

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