JP2519066B2

JP2519066B2 - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2519066B2
Application number: JP62218730A
Authority: JP
Inventors: 博男稲波; 晶牛丸; 信行山本; 信郎日比野; 憲三岩本
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1987-08-31
Filing date: 1987-08-31
Publication date: 1996-07-31
Anticipated expiration: 2011-07-31
Also published as: DE3829239A1; US4861674A; DE3829239C2; JPS6460820A

Description

【発明の詳細な説明】［発明の分野］本発明は、磁気記録媒体に関し、更に詳細には、裁断
加工が容易であり、しかも切断面が鋭利であり、粉落ち
のない優れた特性を有する磁気記録媒体に関する。

［発明の背景］一般に、磁気記録媒体はテープ状のものが多く使用さ
れており、このテープ状磁気記録媒体は、強磁性粉末を
含有する磁性塗料をポリエステルフィルムの如き非磁性
支持体の表面に塗布し、配向、乾燥、カレンダー処理等
を行なった後、所望の幅に裁断することによって製造さ
れる。

裁断されたテープの裁断面に、欠けやクラックが生じ
ていたり、切り粉（切りクズ）の残りが付着していたり
すると、その部位から粉落ちや、エッジダメージが発生
したり、ドロップアウトの原因になったりして、磁気記
録媒体としての性能が著しく低下する結果となる。従っ
て、テープの裁断面を奇麗に仕上げることはテープ状磁
気記録媒体の製造に於て極めて重要な意味を有する。

磁気記録媒体の裁断には、通常、刃物によるシアーカ
ッティング法が採用され、10μｍ以下と言う極めて高い
加工精度の刃物が使用されている。また、裁断装置につ
いて種々の改良が提案されている。然しながら、最近で
は、テープ状磁気記録媒体の裁断面が極めて高品質であ
ることが要求されており、裁断装置及び方法の改良では
このような要求に満足に対応することができない。

また、このような裁断工程では、使用する刃物は摩耗
は避けられず、定期的に刃物を研磨するか、或いは取り
換えなくてはならない。従って、テープ状磁気記録媒体
の生産効率を上げるためには、この刃物の摩耗を出来る
だけ少なくすることが必要である。

［発明の目的］本発明の目的は、シアーカッティング法によって裁断
されたテープ状磁気記録媒体の裁断面が極めて奇麗で高
品質であり、粉落ち、エッジダメージ、ドロップアウト
等が殆ど無く、電磁変換特性、走行耐久性の極めて優れ
たテープ状磁気記録媒体を製造することが出来る磁気記
録媒体を提供することである。

本発明の他の目的は、裁断に使用する刃物の摩耗が極
めて少なくそのために刃物の連続使用期間を長くするこ
とができ、テープ状磁気記録媒体を高能率で生産するこ
とができる磁気記録媒体を提供することである。

［発明の要旨］本発明者等は、磁気記録媒体の裁断性について鋭意研
究した結果、新規な特定の性質の非磁性支持体と特定の
性質の磁性層との組合せを含む磁気記録媒体によって、
上記目的が達成されることを見出し本発明を完成したも
のである。

本発明は、非磁性支持体と、その表面に設けられた磁
性層とを含む磁気記録媒体に於て、該非磁性支持体が、６以下の裁断適性指標（Ｚ）［但し、Ｚは下記式（１）Ｚ＝383.3−2.76A−2000B＋840△ｎ・・・・（１）｛式中、Ａはヘイズ値であり、Ｂは面配向係数であって
Ｂ＝｛（n_MD＋n_TD）/2｝−n_ZD（n_MDは長手方向屈折率、
n_TDは幅方向屈折率、n_ZDは厚み方向屈折率である）で示
され、△ｎは△ｎ＝n_MD−n_TDで示される屈折率の差であ
る｝で求められる値である］を有する、ポリエチレンテレフタレートを主体とするフ
ィルムであり、且つ、該磁性層が、10％以下の降伏伸び（Ｌ）及び1.0Kg/mm
²以下の降伏点までのエネルギー（Ｅ）を有することを
特徴とする磁気記録媒体にある。

［発明の詳細な記述］本発明の磁気記録媒体の非磁性支持体は、６以下、好
ましくは、５以下の裁断適性指標（Ｚ）［但し、Ｚは下記式（１）Ｚ＝383.3−2.76A−2000B＋840△ｎ・・・・（１）｛式中、Ａはヘイズ値であり、Ｂは面配向係数であって
Ｂ＝｛（n_MD＋n_TD）/2｝−n_ZD（n_MDは長手方向屈折率、
n_TDは幅方向屈折率、n_ZDは厚み方向屈折率である）で示
され、△ｎは△ｎ＝n_MD−n_TDで示される屈折率の差であ
る｝で求められる値である］を有する、ポリエチレンテレフタレートを主体とするフ
ィルムである。

式（１）は、磁気記録媒体の原反から1/2インチ幅の
ビデオテープを裁断した際に発生し裁断面に付着した切
りクズの数を測定して求めた、実験式である。

式（１）において、ヘイズ値Ａは、該フィルム内のミ
クロボイドの量に関連する値であり、ヘイズ値が大きく
なるほど、即ちミクロボイドの量が多いほど裁断の際刃
物にかかる負荷が少なくなり裁断し易くなる。しかしな
がら、ミクロボイドの量が多くなると、フィルムの強度
が小さくなり磁気記録媒体の支持体として不満足なもの
になるので、該ヘイズ値Ａは２〜10であることが好まし
い。なお、該ヘイズ値は、JIS K6741に基きspheria me
thod HTRメータ（日本精密工学社製）を使用し、Ｇフィ
ルタ550mμを入れ、流動パラフィンをブランクとし、フ
ィルムを入れた時の散乱光Tdを全透過光Ｔで除した値で
ある。

また、面配向係数Ｂは、該フィルム内の分子軸がフィ
ルム面に平行な方向に配列している度合を表す値であ
り、面配向係数Ｂが大きいほどＺ値は小さくなり該フィ
ルムの裁断性は優れたものとなる。面配向係数Ｂが小さ
い、即ち、該フィルム面に垂直な方向に分子軸が配列し
ている度合が増すと、該フィルムの裁断面で欠けが増え
切りクズの数が増してくる。面配向係数Ｂは、前記のよ
うにして、該フィルムの長手方向屈折率n_MD、幅方向屈
折率n_TD及び厚み方向屈折率n_ZDから求められる値であ
り、0.15〜0.17の値であることが好ましい。なお、これ
らの屈折率は、NaD線を利用したアッベの屈折計によっ
て求められる。

また、長手方向屈折率n_MDは1.63〜1.66であり、幅方
向屈折率n_TDは1.65〜1.69であり、厚み方向屈折率n_ZDは
1.48〜1.51であり、△ｎ＝n_MD−n_TDは−0.02〜−0.05で
あることが好ましい。

式（１）によって求められる裁断適性指標（Ｚ）が小
さいほど裁断特性が優れている。

また、本発明における非磁性支持体は、更に、６以上
の裁断適性結晶指標（Ｙ）［但し、Ｙは下記式（２）Ｙ＝−6.36−28.4x_i＋0.254x_c−26△ｎ・・・・（２）｛式中、x_iはＸ線回折（110）面ピーク強度Ｉ（110）と
Ｘ線回折（100）面ピーク強度Ｉ（100）との比Ｉ（11
0）/I（100）であり、x_cは結晶子サイズであり、△ｎは
該（１）式において示すものと同じである｝で求められる値である］を有することが好ましい。

式（２）は、磁気記録媒体の原反から1/2インチ幅の
ビデオテープを裁断した際の裁断端面切れ味の良し悪し
を裁断適性とし、官能検査により点数化し、裁断適性が
最良のものを７点とし、最悪のものを１点とし、点数値
をＹとして求めた実験式である。

式（２）において、x_iは結晶の面配向度を示す値であ
り、非磁性支持体のＸ線回折による、（110）面ピーク
強度Ｉ（110）とＸ線回折（100）面ピーク強度Ｉ（10
0）との比Ｉ（110）/I（100）である。x_iは、８×10^-2
〜16×10^-2であることが好ましい。

また、x_cは結晶子サイズであり、非磁性支持体のＸ線
回折における（200）面の半値幅から求められる。x
_cは、40〜60であることが好ましい。

また、△ｎは、式（１）において定義したものと同じ
意味である。△ｎは、−0.02〜−0.05であることが好ま
しい。

上記のような６以下の裁断適性指標（Ｚ）、好ましく
は、更に5.5以上の裁断適性結晶指標（Ｙ）を有するポ
リエチレンテレフタレートを主体とするフィルムは、従
来知られておらず、新規なフィルムであり、例えば、次
のような方法によって製造することが出来る。

即ち、常法によって製造されたポリエチレンテレフタ
レートを主体とする未延伸フィルムを、まず、周速差を
もたせた一対のロール間で、90〜110℃の温度で、長手
（成形機押し出し）方向に２〜４倍に延伸し、次いで該
フィルムをテンターに送り両端をクリップで保持しなが
ら、90〜120℃の温度で幅（横）方向に３〜５倍に延伸
し、最後に、同じくテンター内で幅方向に２〜８％弛緩
させながら、200〜250℃の温度で５〜10秒間熱処理する
ことによって製造することができる。

上記製造法において、長手方向延伸の際の温度を上げ
たり、長手方向、幅方向夫々の延伸倍率を大きくするこ
とによって該フィルム内のミクロボイドを増やし、ヘイ
ズ値（Ａ）を大きくすることができる。また、ヘイズ値
（Ａ）は、該フィルムに添加するフィラーの種類及び量
を変えることによっても調節することができる。更に、
面配向係数（Ｂ）及び△ｎは、長手方向、幅方向夫々の
延伸倍率を変えることによって調節することができる。
例えば、幅方向の延伸倍率を大きくすると、Ｂは大きく
なり、△ｎは小さくなる。

本発明における非磁性支持体のその他の条件、例え
ば、厚さ、引張強度、弾性率等の機械的性質、熱収縮率
等の熱的性質などの条件については、それ自体従来公知
の条件を適用することができる。

本発明の磁気記録媒体は、更に、非磁性支持体の表面
に設けられた磁性層が10％以下、好ましくは、６％以下
の降伏伸び（Ｌ）及び1.0Kg/mm²以下、好ましくは、0.7
Kg/mm²以下の降伏点までのエネルギー（Ｅ）を有するこ
とが必要である。

本明細書において、磁性層の力学特性は、引張試験機
（例えば、東洋ボールドウィン社製万能引張試験機STM
−Ｔ−50BP）を用いて測定される。測定条件は、温度23
℃、湿度70％RH雰囲気中で引張り速度10％／分である。
磁気記録媒体から直接磁性層を取り出すことは非常に困
難であるので、磁性層の応力−歪み特性値を求めるため
には、まず、磁気記録媒体全体の応力−歪み特性値を求
め、次いで、磁気記録媒体から磁性層のみを脱膜した非
磁性支持体（バック層が付いた非磁性支持体も含む）の
応力−歪み特性値を求め、これを磁気記録媒体全体の応
力−歪み特性値から減算することにより磁性層の応力−
歪み特性値を求める方法を採用する。

その際、複合則を用いて、応力−歪み特性値を算出す
る。その一例を、応力−歪み曲線を示す第１図について
説明する。第１図において、Ａ点は降伏点であり、降伏
点に至るまでの歪みＬを降伏伸び（Ｌ）とし、降伏点に
至るまでに要するエネルギー、即ち、斜線の部分の面積
Ｅを降伏点までのエネルギー（Ｅ）とする。

磁性層の降伏点までのエネルギー（Ｅ）は、磁気記録
媒体の裁断の際に磁気記録媒体と刃物との間に消費され
る熱エネルギーに相当するものであり、磁性層の降伏点
までのエネルギー（Ｅ）が小さいほど裁断し易く刃物の
摩耗も少ないことになる。また、降伏伸び（Ｌ）が大き
いと、裁断過程で磁性層自体が変形して裁断の開始が遅
れることになり、それだけ磁性層が刃物と接している時
間及び面積が増すことになり、刃物の摩耗を促進するこ
とになる。更に、広い面積で磁性層の破壊が起きるの
で、裁断面は不規則で凹凸が生じ、切りクズが多数残る
結果となる。

しかしながら、磁性層の降伏点までのエネルギー
（Ｅ）及び降伏伸び（Ｌ）があまり小さ過ぎると、磁性
層の機械的強度が低下したり、柔軟性が少なくなり、磁
気記録媒体として必要な特性、例えば、走行耐久性、電
磁変換特性等が低下するので好ましくなく、降伏点まで
のエネルギー（Ｅ）は、一般に、0.2〜1.0Kg/mm²、特
に、0.3〜0.7Kg/mm²であることが好ましく、また、降伏
伸び（Ｌ）は、一般に、0.5〜10％、特に、１〜６％で
あることが好ましい。

磁性層の降伏伸び及降伏点までのエネルギーの値は、
磁性層を形成するために使用される磁性塗料に配合する
結合剤の組成割合及び配合量を調節することによって、
任意に変えることができる。上記結合剤は、一般に、塩
化ビニル系樹脂、セルロース誘導体等のような分散性に
優れている第一成分、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、エポキシ樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル共
重合体等のような可撓性に優れている第二成分、及びポ
リイソシアナートのような架橋剤からなる。上記第二成
分を組成割合を大きくすると降伏伸びは大きくなり、第
二成分の組成割合を小さくすると降伏伸びは小さくな
る。また、降伏点までのエネルギーは、降伏伸び及び／
又は第１図における降伏点の位置を変えることによっ
て、変えることができる。上記第一成分の組成割合を大
きくするか、または、上記架橋剤の反応を強くする、例
えば、触媒を添加したり、熱処理温度を高くすると、該
降伏点は高くなり、逆にすると該降伏点は低くなる。従
って、磁性層の結合剤の組成割合等を適宜調節すること
によって、所望の値の降伏伸び及び降伏点までのエネル
ギーを有する磁性層を容易に製造することができる。

本発明の磁気記録媒体は、特定された新規な非磁性支
持体と、特定された性質を有する磁性層との組合せに特
徴的構成を有しており、それ以外の部分については、従
来公知の磁気記録媒体についての技術を適用することが
できる。例えば、非磁性支持体の磁性層が設けられてい
る面の反対側表面には、バック層が設けられていてもい
なくてもよく、また、強磁性粉末、磁性層及びバック層
に使用される結合剤、帯電防止剤、研磨材、潤滑剤、そ
の他の材料等としては、それ自体公知のものを適宜の量
で使用することができ、また、磁気記録媒体の製造方法
についても、それ自体公知の方法を採用することができ
る。

次に、本発明を実施例及び比較例により、更に具体的
に説明する。

［磁性塗料の調製］降伏伸び及び降伏点までのエネルギーが異なる磁気記
録媒体の磁性層を得るために、下記のようにして種々の
磁性塗料を調製した。

磁性塗料１下記組成物の一部をボールミルに入れ充分混練し、次
いで、残部の組成物をボールミルに追加して充分に混練
し、更に、ポリイソシアネート（デスモジュールＬ−7
5、バイエル社製）13部を添加し、均一に混合分散し
て、磁性塗料を調製した。

Co含有γ−Fe₂O₃粉末（窒素吸着比表面積:31m²/g粉末の
Hc:6500e） 100 部塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（VMCH、ユニオンカー
バイド社製） 10 部ポリウレタン樹脂（ニッポランN2304、日本ポリウレタ
ン（株）製） 14 部カーボンブラック（平均粒子サイズ:15mμ） 10 部レシチン 0.1部オレイン酸 0.5部ミリスチン酸ブチル１部ミリスチン酸２部酢酸ブチル 150 部メチルエチルケトン 60 部磁性塗料２下記組成物の一部をボールミルに入れ混練混練し、次
いで、残部の組成物をボールミルに追加して充分に混練
し、更に、ポリイソシアネート（デスモジュールＬ−7
5、バイエル社製）12部を添加し、均一に混合分散し
て、磁性塗料を調製した。

Co含有γ−Fe₂O₃粉末（窒素吸着比表面積:31m²/g粉末の
Hc:6500e） 100 部塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（VMCH、ユニオンカー
バイド社製） 17 部ポリウレタン樹脂（ニッポランN2304、日本ポリウレタ
ン（株）製） 17 部カーボンブラック（平均粒子サイズ:15mμ） 10 部レシチン 0.1部オレイン酸 0.5部ミリスチン酸ブチル１部ミリスチン酸２部酢酸ブチル 150 部メチルエチルケトン 60 部磁性塗料３下記組成物の一部をボールミルに入れ充分混練し、次
いで、残部の組成物をボールミルに追加して充分に混練
し、更に、ポリイソシアネート（デスモジュールＬ−7
5、バイエル社製）７部を添加し、均一に混合分散し
て、磁性塗料を調製した。

Co含有γ−Fe₂O₃粉末（窒素吸着比表面積:31m²/g粉末の
Hc:6500e） 100 部塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（VMCH、ユニオンカー
バイド社製） 10 部ポリウレタン樹脂（ニッポランN2304、日本ポリウレタ
ン（株）製） 34 部カーボンブラック（平均粒子サイズ:15mμ） 10 部レシチン 0.1部オレイン酸 0.5部ミリスチン酸ブチル１部ミリスチン酸２部酢酸ブチル 150 部メチルエチルケトン 60 部磁性塗料４下記組成物の一部をボールミルに入れ充分混練し、次
いで、残部の組成物をボールミルに追加して充分に混練
し、更に、ポリイソシアネート（デスモジュールＬ−7
5、バイエル社製）10部を添加し、均一に混合分散し
て、磁性塗料を調製した。

Co含有γ−Fe₂O₃粉末（窒素吸着比表面積:42m²/g粉末の
Hc:8500e） 100 部スルフォン酸基含有塩化ビニル系樹脂（So₃Na基含量、
ポリマー1g当り６×10^-5当量、M_n＝30,000） 12 部カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂（COOH基含量、ポ
リマー1g当り４×10^-5当量、M_n＝30,000） 15 部カーボンブラック（平均粒子サイズ:15mμ）１部オレイン酸 0.5部ラウリン酸オクチル１部ラウリン酸 1.5部酢酸ブチル 170 部メチルエチルケトン 70 部［非磁性支持体の製造］下記のようにして、裁断適性指標の異なるポリエチレ
ンテレフタレートを主体とする厚さ15μｍの非磁性支持
体フィルムを製造した。

フィルム１ａ）ポリエステルの製造テレフタル酸ジメチル及びエチレングリコールの等モ
ル量混合物に、酢酸カルシウム0.08重量％、酢酸リチウ
ム0.15重量％、酸化アンチモン0.04重量％、トリメチル
フォスフェート0.15重量％及び平均粒子径1.1μｍの炭
酸カルシウム0.03重量％を添加し、常法により重縮合し
てポリエステルを製造した。

ｂ）ポリエステルフィルムの製膜ａ）で得られたポリエステルを乾燥し、押出成形機に
より未延伸シートを製造し、このシートをロールによっ
てフィルム温度（赤外線温度計で測定）100℃で縦（押
出し）方向に3.2倍延伸し、次いで、テンター内で両端
をクリップして、フィルム温度110℃で横方向に3.7倍延
伸し、次いで、横方向に５％弛緩させて205℃の温度で1
0秒間熱処理してポリエステルフィルム１を得た。

フィルム２炭酸カルシウムの使用量を0.5重量％に変えてポリエ
ステルを製造し、横延伸倍率を3.9倍に変えた他は、フ
ィルム１の製造における同様にしてポリエステルフィル
ム２を製造した。

フィルム３炭酸カルシウムの使用量を0.08重量％に変えてポリエ
ステルを製造し、横延伸倍率を4.4倍に変えた他は、フ
ィルム１の製造におけると同様にしてポリエステルフィ
ルム３を製造した。

フィルム１、２及び３の、裁断適性指標Ｚ、裁断適性
結晶指標Ｙ、並びに、前記式（１）におけるＡ、Ｂ及び
△ｎの値を、第１表に示す。なお、これらの値は、前記
した方法によって測定した。

［実施例１］上記「フィルム３」の表面に、上記「磁性塗料１」を
乾燥後の厚さが4.2μｍになるように塗布し、配向、乾
燥及びカレンダリングして、磁気記録媒体原反を製造し
た。次いで、この原反を幅が1/2インチになるように裁
断して磁気テープを製造した。この磁気テープの評価結
果を第１表に示す。また、第１表には、前記した方法に
よって測定した、磁性層の降伏伸び（Ｌ）及び降伏点ま
でのエネルギー（Ｅ）の値も示す。

第１表において「粉落ち」及び「エッジ汚れ」は、次
のようにして評価した。

「粉落ち」 VHSタイプのVTR（松下電器（株）製NV−8300）を用い
て、試験テープを全長２時間、1000パス走行させ、デッ
キ内及びハーフ内のオーディオコントロールヘッド及び
ポールに付着した汚れ具合を観察し、５点満点評価の点
数で表示した。

「エッジ汚れ」ビデオテープを巻き返す際に、エッジ端面に不織布を
押しあて、その汚れ具合を観察し汚れ具合により××、
×、△、○、◎の官能評価で示した。

［実施例２］「磁性塗料１」を「磁性塗料４」に変えた他は、実施
例１におけると同様にして、磁気テープを製造した。こ
の磁気テープの特性値及び評価結果を第１表に示す。

［比較例１〜４］磁性塗料及びフィルムを、夫々第１表に示すように変
えた他は、実施例１におけると同様にして、磁気テープ
を製造した。これらの磁気テープの特性値及び評価結果
を第１表に示す。

第１表の結果から、非磁性支持体及び磁性層の特性値
が、共に本発明で特定する範囲内の磁気記録媒体でなけ
れば、優れたテープ状磁気記録媒体が得られないことが
明らかである。

即ち、本発明で特定する条件を満足する非磁性支持体
を使用しても、磁性層の特性が本発明における範囲外で
あると、良好な裁断面を有する磁気テープは得られず
（比較例１及び２）、また、磁性層の特性が本発明で特
定する条件を満足しても、非磁性支持体の特性が本発明
における範囲外であると、良好な裁断面を有する磁気テ
ープは得られない（比較例３及び４）。

［発明の効果］本発明の磁気記録媒体は、例えば、シアーカッティン
グ法によって裁断してテープ状磁気記録媒体にすると、
その裁断面が極めて奇麗で高品質であり、粉落ち、エッ
ジダメージ、ドロップアウト等が殆ど無く、電磁変換特
性、走行耐久性等の極めて優れたテープ状磁気記録媒体
を製造することが出来ると言う、顕著に優れた効果を奏
するものである。

また、本発明の磁気記録媒体は、それの裁断に使用す
る刃物の摩耗が極めて少なくそのために刃物の連続使用
期間を長くすることができ、テープ状磁気記録媒体を高
能率で生産することが出来ると言う、顕著に優れた効果
を奏するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気記録媒体の一実施例の磁性層の
応力−歪み特性を示す応力−歪み曲線図である。Ａ点は
降伏点、Ｌは降伏伸び、Ｅ（面積）は降伏点に至るまで
に要するエネルギーである。

フロントページの続き (72)発明者日比野信郎神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号富士写真フイルム株式会社内 (72)発明者岩本憲三神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号富士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献特開昭55−58830（ＪＰ，Ａ) 特開昭58−215722（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−78863（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−34724（ＪＰ，Ａ) 特開昭59−121625（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体と、その表面に設けられた磁
性層とを含む磁気記録媒体に於て、該非磁性支持体が、６以下の裁断適性指標（Ｚ）［但し、Ｚは下記式（１）Ｚ＝383.3−2.76A−2000B＋840△ｎ・・・・（１）｛式中、Ａはヘイズ値であり、Ｂは面配向係数であって
Ｂ＝｛（n_MD＋n_TD）/2｝−n_ZD（n_MDは長手方向屈折率、
n_TDは幅方向屈折率、n_ZDは厚み方向屈折率である）で示
され、△ｎは△ｎ＝n_MD−n_TDで示される屈折率の差であ
る｝で求められる値である］を有する、ポリエチレンテレフタレートを主体とするフ
ィルムであり、且つ、該磁性層が、10％以下の降伏伸び（Ｌ）及び1.0Kg/mm²
以下の降伏点までのエネルキー（Ｅ）を有することを特
徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】該非磁性支持体の裁断適性指標（Ｚ）が、
５以下であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の磁気記録媒体。
【請求項３】該非磁性支持体のヘイズ値（Ａ）が、２〜
10であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
磁気記録媒体。
【請求項４】該非磁性支持体の面配向係数（Ｂ）が、0.
15〜0.17であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の磁気記録媒体。
【請求項５】該非磁性支持体の長手方向屈折率が1.63〜
1.66であり、幅方向屈折率が1.65〜1.69であり、厚み方
向屈折率が1.48〜1.51であり、且つ、屈折率の差△ｎが
−0.02〜−0.05であることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の磁気記録媒体。
【請求項６】該非磁性支持体が、二軸配向フィルムであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記
録媒体。
【請求項７】該磁性層の降伏伸びが10％以下であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒
体。
【請求項８】該磁性層の降伏点までのエネルギーが1Kg/
mm²以下であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の磁気記録媒体。
【請求項９】該非磁性支持体が、更に、６以上の裁断適
性結晶指標（Ｙ）［但し、Ｙは下記式（２）Ｙ＝−6.36−28.4x_i＋0.254x_c−26△ｎ・・・・（２）｛式中、x_iはＸ線回折（110）面ピーク強度Ｉ（110）と
Ｘ線回折（100）面ピーク強度Ｉ（100）との比Ｉ（11
0）/I（100）であり、x_cは結晶子サイズであり、△ｎは
該（１）式において示すものと同じである｝で求められる値である］を有することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
磁気記録媒体。