JP2022528220A - 指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 - Google Patents
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Abstract
本発明の基材上にコーティングを形成するための方法は、非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを形成するステップ、および前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを前記基材の表面に塗工するステップを含む。形成された指紋非視認性コーティングは、５０°未満の油による初期接触角を有し得る。
【選択図】 図１１
【選択図】 図１１
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関連出願との相互参照
本出願は、２０１９年３月１日に出願された米国仮特許出願第６２／８１２，３２９号の利益を主張し、その開示全体は参照により本明細書に援用される。
本出願は、２０１９年３月１日に出願された米国仮特許出願第６２／８１２，３２９号の利益を主張し、その開示全体は参照により本明細書に援用される。
本発明は、例示的な実施形態において、基材をコーティングして指紋を視認できないようにするかまたはほぼ視認できないようにするためのコーティング組成物に関する。
人は（皮脂腺からの）皮脂と他の油を顔面と指先から自然に出す。人はそのような油を携帯電話（または他の物品）のディスプレイ画面、例えばガラス（または画面保護材、通常ポリマー・プラスチック）、ガラスセラミック、金属酸化物、プレキシガラスまたは同様の材料または表面上に付着させ得る。しばしば、そのような油は視認され、このような装置で見る画像の品質を低下させ得るだけでなく、（汚れ、埃などを伴って）前記画面の審美的外観の低下の原因になり得る。指紋非視認性（「ＩＦＰ」）コーティングは、一般的に親油性コーティングであり、油を画面表面に沿って広げることにより、前記油を視認できなくするか、ほぼ視認できなくする。付着した前記油は画面材料、例えばガラスの屈折率と一致する可能性があり、結果的に、光が通過して指紋がないように見せる。指紋は依然として存在している可能性はあるが、（少なくとも前記表面を精査しなければ）指紋を見ることはできない。
光学的に透明な基材およびコーティングに関するより重大な課題の１つは、機械的摩耗であり、これは、コーティングの厚さ、透明性または有効性を劣化、摩耗、または低下させる。摩耗は、ユーザーによる基材の取り扱い中に、例えば、布でこすって指紋や汚れを取り除くことにより、多かれ少なかれ生じ、これは、特に透明な基材を通して十分な視認性を回復するために定期的に必要とされる。また、劣化は、紫外線、熱、寒さ、化学物質、塩またはその他の腐食性物質、汚れ、その他の研磨材、またはその他の環境要素、条件、または材料への暴露によっても発生する可能性がある。
ＩＦＰとは対照的に、「耐指紋性」（「ＡＦＰ」）コーティングは、濡れに耐える撥油性コーティングである。その撥油性のため、指紋が形成され、その後拭き取られ得る。ＩＦＰコーティングは、ＡＦＰコーティングとは異なる様式で機能する。
光学的透明性、機械的耐久性、および指紋非視認特性を提供できるコーティングを有することが望ましい。
以下は、様々な本発明の実施形態のいくつかの態様の基本的な理解をもたらすために簡略化した要旨を提示する。前記要旨は本発明の広範な概要ではない。これは、本発明の重要な要素または不可欠な要素を特定することも、本発明の範囲を線引きすることも意図していない。以下の要旨は、以下のより詳細な説明の前置きとして、本発明のいくつかの概念を単純化した形態で提示するに過ぎない。
本発明は、例示的な実施形態において、ＩＦＰコーティングを提供するための組成物および配合物に関する。
一態様では、本発明は、物品であって、
基材と、
前記基材に積層された指紋非視認性コーティングとを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む、物品に関する。
基材と、
前記基材に積層された指紋非視認性コーティングとを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む、物品に関する。
別の態様では、本発明は、物品であって、
基材と、
前記基材に積層された指紋非視認性コーティングとを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、１０００ｎｍ未満の厚さを有する、物品に関する。いくつかの実施形態では、前記厚さは０．１ｎｍを超える。
基材と、
前記基材に積層された指紋非視認性コーティングとを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、１０００ｎｍ未満の厚さを有する、物品に関する。いくつかの実施形態では、前記厚さは０．１ｎｍを超える。
別の態様では、本発明は、以下を含む、指紋非視認性組成物であって、
溶媒と、
１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーとを含む、指紋非視認性組成物に関する。
溶媒と、
１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーとを含む、指紋非視認性組成物に関する。
別の態様では、本発明は、指紋非視認性組成物を形成するための方法であって、
水および有機溶媒を含む第１の溶媒中で、アルキルシランを重合させて、非フッ素化アルキルシラン加水分解物を形成するステップと、
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物を第２の溶媒中で少なくとも０．０１ｍｇ／Ｌで１００ｇ／Ｌ未満の濃度まで溶解させるステップとを含む、方法に関する。いくつかの実施形態では、前記有機溶媒は、アルコールである。
水および有機溶媒を含む第１の溶媒中で、アルキルシランを重合させて、非フッ素化アルキルシラン加水分解物を形成するステップと、
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物を第２の溶媒中で少なくとも０．０１ｍｇ／Ｌで１００ｇ／Ｌ未満の濃度まで溶解させるステップとを含む、方法に関する。いくつかの実施形態では、前記有機溶媒は、アルコールである。
別の態様では、本発明は、指紋非視認性表面を形成するための方法であって、
基材の表面に、
溶媒と、
１００，０００Ｄａ未満で少なくとも３００Ｄａの重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーと
を含む配合物を積層させるステップと、
前記配合物を硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップとを含む、方法に関する。
基材の表面に、
溶媒と、
１００，０００Ｄａ未満で少なくとも３００Ｄａの重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーと
を含む配合物を積層させるステップと、
前記配合物を硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップとを含む、方法に関する。
別の態様では、本発明は、前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、ハロ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される官能基を含む、本明細書に記載の物品、組成物、または方法に関する。
他の特徴は、添付の特許請求の範囲と併せて解釈される場合、特定の例示的な実施形態の以下の詳細な説明を読むことで明らかになるであろう。
図面により、以下の例示的な実施形態または試験結果が開示される。
図１は、実施例１３～１６のＦＴＩＲを示す。
図２は、実施例１８～２１のＦＴＩＲと、図に「ＣＬＡＳ」として示される、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランとを示す。
図３は、実施例２３～２６のＦＴＩＲと、図に「ＣＬＡＳ」として示される、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランとを示す。
図４は、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランのＴＧＡを示す。
図５は、、図に「ＣＬＡＳ」として示される、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランの重量損失対温度のＴＧＡを、水とエトキシのモル比、１：２（Ａ）、１：１（Ｂ）、および２：１（Ｃ）と共に示す。
図６は、図に「ＣＬＡＳ」として示される重合化された１１－クロロウンデシルトリエトキシシランの誘導体の重量損失と温度の関係を、以下の水とエトキシのモル比、１：１（Ａ）、２：１（Ｂ）、および３：１（Ｃ）の場合で示す。
図７は、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランと１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタンの１４：１の比率での重量損失と温度の関係を、以下の水とエトキシのモル比、１：１（Ａ）、２：１（Ｂ）、および３：１（Ｃ）と共に示す。
図８は、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランと１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタンの１４：１の比率での重量損失と温度の関係を、水とエトキシのモル比、１：２（Ａ）、１：１（Ｂ）、２：１（Ｃ）、および３：１（Ｄ）の場合で示す。
図９は、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランと１，１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタンの１４：１の比率での重量損失と温度の関係を、以下の水とエトキシのモル比、１：１（Ａ）、２：１（Ｂ）、および３：１（Ｃ）の場合で示す。
図１０は、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランと１，１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタンの１４：１の比率での誘導体の重量損失と温度の関係を、以下の水とエトキシのモル比、１：１（Ａ）、２：１（Ｂ）、および３：１（Ｃ）の場合で示す。
図１１は、以下の水とエトキシのモル比、１：２（Ｂ）、１：１（Ｃ）、２：１（Ｄ）、および３：１（Ｅ）の場合での未反応の１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン（Ａ）で形成された１１－クロロウンデシルトリエトキシシランの加水分解物のＧＰＣクロマトグラムを示す。
本明細書および添付の特許請求の範囲で使用されるように、単数形「ａ」、「ａｎ」、および「ｔｈｅ」は、文脈上他に明確に指示されない限り、複数の指示対象を含む。請求項は、任意の選択的要素を除外するために起草される場合があることにさらに留意されたい。したがって、この記述は、請求項の要素の列挙、または「否定的な」限定の使用に関連して、「単独」、「のみ」などの排他的な用語を使用するための根拠として機能することを目的とする。
本明細書で使用される場合、「包含する（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」、および「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語は、それらの開放的で非限定的な意味で使用される。本明細書の説明および特許請求の範囲を通じて、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」という単語および「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ」および「ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ」などの前記単語の変形は、「包含するがこれ（ら）に限定されない」ことを意味し、例えば、他の添加物、成分、整数またはステップを排除することを意図するものではない。「例示的な」は「の一例」を意味し、好ましいまたは理想的な実施形態の表示を伝えることを意図するものではない。「例えば」または「具体的には」は限定的な意味ではなく、説明のために使用される。
より簡潔な説明を提供するために、本明細書で示される定量的表現のいくつかは、「約」という用語で修飾されていない。「約」という用語が明示的に使用されているか否かにかかわらず、本明細書で示されるすべての量は、実際の所定の値を指すことを意味し、また、そのような所定の値に関する実験的および／または測定条件による同等物および近似を含む、当業者に基づいて合理的に推論されるそのような所定の値の近似値を指すことを意味することが理解される。収率がパーセンテージで示される場合は常に、そのような収率は、特定の化学量論的条件下で得られる可能性のある同じ実体の最大量に関して、収率が得られる実体の質量を指す。パーセンテージで示されている濃度は、特に異なって指示されていない限り、質量比を指す。
別段の記載がない限り、本実施形態の方法および技術は、一般的に、当技術分野で周知の従来の方法に従って、本明細書全体で引用および論じられる様々な一般的およびより具体的な参考文献に記載されるように実施される。たとえば、Ｌｏｕｄｏｎ， Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（有機化学）， Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ： Ｏｘｆｏｒｄ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｐｒｅｓｓ， ２００２， ｐｐ． ３６０－３６１， １０８４－１０８５； Ｓｍｉｔｈ ａｎｄ Ｍａｒｃｈ， Ｍａｒｃｈ’ｓ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ： Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ， Ｍｅｃｈａｎｉｓｍｓ， ａｎｄ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ（マーチの最新有機化合物：反応、機構および構造）， Ｆｉｆｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ， Ｗｉｌｅｙ－Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ， ２００１が参照される。
明確にするために、別個の実施形態の文脈で説明される本開示の特定の特徴もまた、単一の実施形態で組み合わせて提供され得ることが理解される。逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈で説明される本開示の様々な特徴はまた、別個にまたは任意の適切なサブコンビネーションで提供され得る。変数によって表される化学基に関連する実施形態のすべての組み合わせは、本開示によって具体的に包含され、そのような組み合わせが安定な化合物（すなわち、単離、特性付けが可能な化合物またはポリマー）である化合物を包含する範囲で、すべての組み合わせが個別に明示的に開示されたかのように本明細書に開示される。さらに、そのような変数を説明する実施形態に列挙された化学基のすべてのサブコンビネーションもまた、本開示によって具体的に包含され、化学基のそのようなサブコンビネーションのそれぞれが個別にかつ明示的に本明細書に開示されたかのように、本明細書に開示される。
定義
定義
本明細書で使用される場合、「アルキル」という用語は、任意に分岐し、１から２０個の炭素原子を含む、炭素原子の鎖を包含する。特定の実施形態において、アルキルは、Ｃ１～Ｃ１２、Ｃ１～Ｃ１０、Ｃ１～Ｃ９、Ｃ１～Ｃ８、Ｃ１～Ｃ７、Ｃ１～Ｃ６、およびＣ１～Ｃ４を包含する、限定された長さであることが有利であり得ることがさらに理解される。例示的に、Ｃ１～Ｃ８、Ｃ１～Ｃ７、Ｃ１～Ｃ６、およびＣ１～Ｃ４などを包含するそのような特に限定された長さのアルキル基は、「低級アルキル」と呼ばれ得る。例示的なアルキル基には、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、２－ペンチル、３－ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどが包含されるが、これらに限定されない。アルキルは置換されるかまたは非置換であり得る。典型的な置換基には、シクロアルキル、アリール、ヘテロ脂環式、アルコキシ、ハロ、カルボニル、オキソ、（＝Ｏ）、Ｃ－カルボキシ、Ｏ－カルボキシ、ニトロ、およびアミノ、または本明細書で提供される様々な実施形態に記載されるものが包含される。「アルキル」は、上記で提供されたものなどの他の基と組み合わせて、官能化アルキルを形成し得ることが理解される。例として、本明細書に記載のＣ１～Ｃ１０アルキル基などの「アルキル」基と「アリール」基との組み合わせは、「Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール」基と呼ばれ得る。
本明細書で使用される場合、「アルケニル」という用語は、任意に分岐し、２から２０個の炭素原子を含み、少なくとも１つの炭素－炭素二重結合（すなわち、Ｃ＝Ｃ）も包含する炭素原子の鎖を包含する。特定の実施形態において、アルケニルは、Ｃ２～Ｃ１２、Ｃ２～Ｃ９、Ｃ２～Ｃ８、Ｃ２～Ｃ７、Ｃ２～Ｃ６、およびＣ２～Ｃ４を包含する、限定された長さであることが有利であることが理解される。アルケニルは、アルキルについて記載されているように、または本明細書で提供される様々な実施形態に記載されているように、非置換であるかまたは置換され得る。前記少なくとも１つの炭素－炭素二重結合は、内部または末端であり得る。例示的なアルケニル基には、エテニル、１－プロペニル、２－プロペニル、１－、２－、または３－ブテニルなどが包含されるが、これらに限定されない。
本明細書で使用される場合、「アルキニル」という用語は、任意に分岐し、２～２０個の炭素原子を含み、少なくとも１つの炭素－炭素三重結合（すなわち、Ｃ≡Ｃ）も包含する炭素原子の鎖を包含する。特定の実施形態において、アルキニルは、Ｃ２～Ｃ１２、Ｃ２～Ｃ９、Ｃ２～Ｃ８、Ｃ２～Ｃ７、Ｃ２～Ｃ６、およびＣ２～Ｃ４を包含する、それぞれ有利に限定された長さであり得ることが理解される。アルキニルは、アルキルについて記載されているように、または本明細書で提供される様々な実施形態に記載されているように、非置換であるかまたは置換され得る。前記少なくとも１つの炭素－炭素三重結合は、内部または末端であり得る。例示的なアルキニル基には、エチニル、１－プロピニル、２－プロピニル、１－、２－、または３－ブチニルなどが包含されるが、これらに限定されない。
本明細書で使用される場合、「アリール」という用語は、完全に共役したパイ電子系を有する６から１２個の炭素原子の全炭素単環式または縮合環多環式基を指す。特定の実施形態において、アリールは、Ｃ６～Ｃ１０アリールなどの限定されたサイズであることが有利であり得ることが理解される。例示的なアリール基には、フェニル、ナフチレニルおよびアントラセニルが包含されるが、これらに限定されない。前記アリール基は、アルキルについて記載されているように、または本明細書で提供される様々な実施形態に記載されているように、非置換であるかまたは置換され得る。
本明細書で使用される場合、「シクロアルキル」という用語は、全炭素５員／６員または６員／６員の縮合二環式環、または多環式縮合環（「縮合」環系とは、その系内の各環が、隣接する炭素原子の対をその系内の他の各環と共有することを意味する）基、または５～７員の複素環に融合した５または６員のシクロアルキル環などの複素環式などの別の基に縮合した炭素環であって、１つまたは複数の環は１つまたは複数の二重結合が含まれている場合があるが、前記シクロアルキルには完全に共役したパイ電子系は含まれていない炭素環を包含する、３から１５員の全炭素単環式環を指す。特定の実施形態において、シクロアルキルは、Ｃ３～Ｃ１３、Ｃ３～Ｃ９、Ｃ３～Ｃ６およびＣ４～Ｃ６などの限定されたサイズであることが有利であり得ることが理解される。シクロアルキルは、アルキルについて記載されているように、または本明細書で提供される様々な実施形態に記載されているように、非置換であるかまたは置換され得る。例示的なシクロアルキル基には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘプチルなどが包含されるが、これらに限定されない。グラフィック描写で示されるシクロアルキル基の例示的な例には、適切に結合された部分の形態の以下の実体、
が包含される。
本明細書で使用される場合、「ハロ」または「ハロゲン」は、フッ素を除いて、塩素、臭素、またはヨウ素を指す。
「オキソ」という用語は、カルボニル酸素を表す。例えば、オキソで置換されたシクロペンチルは、シクロペンタノンである。
本明細書で使用される場合、「ヒドロキシ」または「ヒドロキシル」は、－ＯＨ基を指す。
本明細書で使用される場合、「アルコキシ」は、－Ｏ－（アルキル）または－Ｏ－（非置換シクロアルキル）基の両方を指す。代表的な例には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシなどが包含されるが、これらに限定されない。
本明細書で使用される場合、「オキシモ」はオキシムを指す。例えば、オキシモは、－Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）基、式中、Ｒ１およびＲ２は任意の適切な置換基である、を包含するが、これに限定されない。
本明細書で使用される場合、「結合」は共有結合を指す。
「置換された」という用語は、特定の基または部分が、１つまたは複数の置換基を有することを意味する。「非置換」という用語は、特定の基が置換基を持たないことを意味する。「置換された」という用語が構造系を説明するために使用される場合、前記系上の任意の原子価が許容される位置で置換が起こることを意味する。いくつかの実施形態において、「置換された」は、特定の基または部分が１つ、２つ、または３つの置換基を有することを意味する。他の実施形態において、「置換された」は、特定の基または部分が１つまたは２つの置換基を有することを意味する。さらに他の実施形態では、「置換された」は、特定の基または部分が１つの置換基を有することを意味する。
本明細書で使用される場合、「任意」または「任意に」は、その後に説明される事象または状況が発生する可能性があるが、発生する必要はないことを意味し、説明には、事象または状況が発生する場合とそれが発生しない場合が包含されることを意味する。たとえば、「Ｃ１～Ｃ２０アルキルの各水素原子が任意にハロゲンで置換されている」とは、水素原子を各ハロゲンに置換することにより、Ｃ１～Ｃ２０アルキルのいずれかにハロゲンが存在する可能性があるが、存在する必要がないことを意味し、説明には、Ｃ１～Ｃ２０アルキルがハロゲンで置換されていない状況が包含される。
本明細書で使用される場合、「独立して」とは、その後に記載される事象または状況が、他の同様の事象または状況と比較してそれ自体で読み取られることを意味する。例えば、いくつかの同等の水素基がその状況で説明される別の基によって任意に置換される状況では、「独立して任意に」の使用は、前記基上の水素原子の各場合が別の基によって置換され得ることを意味し、前記水素原子の各々を置換する基は、同じであっても異なっていてもよい。または、例えば、複数の基が存在し、そのすべてが一連の可能性から選択できる場合、「独立して」の使用は、前記基の各々が他の基とは別の可能性のセットから選択でき、その状況で選択される基は、同じであっても異なっていてもよいことを意味する。
本開示に従った、ＩＦＰ物品と呼ばれることもある指紋非視認性物品は、ＩＦＰコーティングと呼ばれることもある指紋非視認性コーティングでコーティングされた基材の表面を含む。例示的に、前記指紋非視認性コーティングは、指紋非視認性コーティングのための配合物を基材の表面に塗工するステップを含む方法によって表面上に形成され得る。いくつかの実施形態では、前記指紋非視認性コーティングのための配合物は、非フッ素化アルキルシランなどのアルキルシランの加水分解物を含む。いくつかの実施形態において、前記配合物はさらに、アルキルシロキサンを含む。いくつかの実施形態では、前記配合物は、噴霧、化学蒸着（ＣＶＤ）、または物理蒸着（ＰＶＤ）を使用して前記基材の表面に塗工される。実例として、前記表面の濁りにつながる可能性がある酸の存在を最小限に抑えることが望ましい場合がある。いくつかの実施形態では、前記配合物は、実質的に酸を含まない。
例示的な実施形態では、前記基材は、例えば、電子ディスプレイに使用されるような、ガラス画面であってもよく、具体的には、これらに限定されないが、携帯電話の画面、コンピュータのモニタ、テレビ画面、タッチスクリーン、家電製品、ヘッドアップ・ディスプレイ、眼鏡（例えば、眼鏡およびサングラス）、マスク（例えば、溶接マスク）、内壁塗料などを含む。例示的な実施形態では、前記基材は、器具機器および化粧仕上げ分野において、例えば、器具、具体的には家庭用電気機器（冷蔵庫のドア、オーブンのドア、ディスプレイ・ケースなど）用の装飾パネルにも使用され得る。前記基材は、ガラス（または画面保護材、通常ポリマー・プラスチック）、ガラスセラミック、金属酸化物、プレキシガラスまたは他の材料で作られていてもよい。いくつかの実施形態では、前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、金属酸化物、またはプラスチックを含む。いくつかの実施形態では、前記表面はソーダライムガラスまたはＡｌＳｉＯガラスである。追加の基材には、車の内装部品または、ケーシング、ブラインド、装飾フレーム、ハンドルなどの家庭用品、シンクプラグ、蛇口、ミキサーなどの衛生器具、ならびに一般的なオフィス機器が包含される。特に適しているのは、粗さが低い（０．３～１．０μｍ）ガラス表面と金属表面、およびの金属化された表面である。
本開示において、「非視認性」という用語は、見ることができない、視認できない、ほとんど視認できない、または目立たない（例えば、前記表面を精査しない限り見ることができない）ことを含むと理解されるべきである。「非視認性」は、ある程度、光の屈折と、表面を見る向きにも依存すると理解されるべきである。ある角度から、指紋は見えない可能性があるが、他の角度では識別可能であり得る。「濡れ性」という用語は、それによって極性または非極性の液体が基材に付着し、望ましくない膜を形成する性質を意味し、さらにあらゆる種類の塵や汚れ、指紋、昆虫などを付着する基材の傾向を意味する。耐指紋性（ＡＦＰ）は、撥水性と撥油性を高めることになるが、ＩＦＰは、水や油などの異なる流体の表面張力を選択的に変化させ、表面を同時に撥水性と親油性の両方にする。
指紋非視認性コーティングを得るための１つのアプローチでは、もたらされる液体が前記表面を横切って広がり、前記表面上の液体がガラス基材に由来する屈折率と一致するように、水と油の接触角を最適化し得る。そのような場合、光は指紋を通過し、非視認性指紋の可視効果をもたらすことになる。この接触角を得るために、撥水特性および親油特性を有する表面が望ましいことが実証された。前記効果を最適化するための１つのアプローチにおいて、水接触角は約７０～１４５度の範囲にあり、ジヨードメタン接触角が４５度未満であり得ることが見出された。別のアプローチでは、ＩＦＰの水接触角（ＷＣＡ）とジヨードメタン油接触角（ＯＣＡ）はそれぞれ、８０°と３５°である。そのため、水滴が玉のように盛り上がり、油滴が前記基材上に広がる。最終的には、前記基材の濡れ現象を制御することにより、前記基材と表面の屈折率が互いに一致し、指紋が見えにくくなる。このマッチング現象により、光が屈折や反射なく指紋を通過し、指紋の汚れが存在しないという目の錯覚が生じる。
例示的な実施形態では、前記物品は、基材と、前記基材の表面に積層された、指紋非視認性コーティングまたはＩＦＰコーティングなどのコーティングとを含む。いくつかの実施形態では、前記指紋非視認性コーティングは、非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む。
例示的に、前記基材は、ガラス、ポリマー、ガラスセラミック、金属酸化物、プレキシグラスまたは他の材料で作製されていてもよい。いくつかの実施形態では、前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、木材、金属、金属酸化物、またはポリマーを含む。
前記コーティングは、前記基材の表面からの距離によって測定される特定の厚さにすることができる。いくつかの実施形態では、前記コーティングは、約１０００ｎｍ未満である。いくつかの実施形態では、前記厚さは０．１ｎｍよりも厚い。いくつかの実施形態では、前記厚さは約５ｎｍから約３００ｎｍである。
デルタＥは、汚れていないガラスまたは未使用のガラスと指紋が付いたガラスとの差を測定したものである。比色計（ＰＣＥ機器）を使用し、方程式、Ｌ２＋Ａ２＋Ｂ２の平方根を使用することによってデルタＥは算出される。この得られたＥ値は、未使用のガラスで測定され、指紋を付けた後または拭き取った後と比較して、デルタＥが得られる。例として、デルタＥの値が低いほど、見えにくくなる。別の実施形態では、デルタヘイズは、分光光度法を使用して測定することができる。いくつかの実施形態では、相対的な増強は、耐指紋性コーティングから指紋非視認性コーティングまで類似している。実例として、前記デルタＥは、過フッ素化シランなどの耐指紋性コーティングに関連している。実例として、前記デルタＥが低いほど、表面上の指紋が見えにくくなる。表面を拭いた後にデルタＥを測定して、指紋がどの程度きれいに除去されたかを判断することもできる。
いくつかの実施形態では、前記デルタＥは、約３未満、約２未満、約１未満、約０．８未満、または約０．５未満であり得る。いくつかの実施形態では、前記デルタＥは、約０．０５、約０．１、約０．２、約０．３、約０．４、約０．５、約０．６、約０．７、約０．８、約０．９、約１、約１．１、約１．２、約１．３、約１．４、約１．５、約１．６、約１．７、約１．８、約１．９、約２、約２．２、約２．５、または約３である。いくつかの実施形態では、前記デルタＥは、約０．１から約２、約０．１から約１．５、約０．１から約１、約０．２から約１、約０．３から約１、または約０．４から約０．９の範囲にある。範囲の２番目のシリーズでは、前記デルタＥは、約０．０５から約１．２、約０．０５から約０．９、約０．０５から約０．８、または約０．０５から約０．５であってもよい。
いくつかの実施形態では、指紋非視認性の前記表面は、実施例に従って測定されるように、ジヨードメタン（ＣＨ２Ｉ２）を使用する初期接触角を有する。いくつかの実施形態では、前記初期接触角は、約６０°未満、約５０°未満、約４５°未満、約４０°未満、約３５°未満、または約３０°未満である。いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面の初期接触角は、約２０°、約２１°、約２２°、約２３°、約２４°、約２５°、約２６°、約２７°、約２８°、約２９°、約３０°、約３１°、約３２°、約３３°、約３４°、約３５°、約３７°、約４０°、約４５°、約５０°、約５５°、または約６０°である。いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面の初期接触角は、約２０°から約６０°、約２０°から約５０°、約２０°から約４０°、約２０°から約３５°、または約２０°から約３０°の範囲であってもよい。
いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面は、実施例に従って測定された初期の水接触角度を有する。いくつかの実施形態では、前記初期水接触角は、約６０°より大きい、約６５°より大きい、約７０°より大きい、約７５°より大きい、約８０°より大きい、約９０°より大きい、または約１００°より大きい。いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面の初期水接触角は、約６０°、約６５°、約７０°、約７５°、約７６°、約７７°、約７８°、約７９°、約８０°、約８１°、約８２°、約８３°、約８４°、約８５°、約８６°、約８７°、約８８°、約８９°、約９０°、約９５°、約１００°、約１０５°、約１１０°、または約１１５°である。いくつかの実施形態では、前記指紋非視認性表面の初期水接触角は、約６０°から約１１５°、約６０°から約１１０°、約７０°から約１１０°、約７０°から約９５°、または約７５°から約９５°の範囲であり得る。
いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面は、実施例に記載されているように、特定のサイクル数後の水接触角または接触角によって測定されるように、特定の耐摩耗性を有する。
例示的に、前記の指紋非視認性表面は、実施例に記載されているように、約１，５００サイクル、約３，０００サイクル、約４，５００サイクル、または約５，０００サイクルに耐えた後、特定の接触角を有し得る。例示的に、摩耗後の接触角は、約６０°未満、約５０°未満、約４５°未満、約４０°未満、約３５°未満、または約３０°未満である。いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面の摩耗後の接触角は、１，５００サイクル、約３，０００サイクル、約４，５００サイクル、または約５，０００サイクル後に、約２０°、約２１°、約２２°、約２３°、約２４°、約２５°、約２６°、約２７°、約２８°、約２９°、約３０°、約３１°、約３２°、約３３°、約３４°、約３５°、約３７°、約４０°、約４５°、約５０°、約５５°、または約６０°である。いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面の摩耗後の接触角は、１，５００サイクル、約３，０００サイクル、約４，５００サイクル、または約５，０００サイクル後に、約２０°から約６０°、約２０°から約５０°、約２０°から約４０°、約２０°から約３５°、または約２０°から約３０°の範囲であってもよい。
例示的に、前記の指紋非視認性表面は、実施例に記載されているように、約１，５００サイクル、約３，０００サイクル、約４，５００サイクル、または約５，０００サイクルに耐えた後、特定の水接触角を有し得る。例示的に、摩耗後の水接触角は、約４０°より大きく、約５０°より大きく、約５５°より大きく、または約６０°より大きくてもよい。いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面の摩耗後の水接触角は、１，５００サイクル、３，０００サイクル、または４，５００サイクル後に、約４０°、約５０°、約５５°、約６０°、約６５°、約７０°、約７５°、約８０°、または約８５°である。いくつかの実施形態では、前記の指紋非視認性表面の摩耗後の水接触角は、１，５００サイクル、約３，０００サイクル、約４，５００サイクル、または約５，０００サイクル後に、約４０°から約８５°、約５０°から約８５°、約５０°から約８０°、または約６０°から約８０°の範囲であり得る。いくつかの実施形態では、前記指紋非視認性コーティングは、消しゴムの摩耗の１５００サイクル後に少なくとも５０度の水接触角を維持することができる。
例示的な実施形態では、前記の指紋非視認性表面は、特定の摩擦係数を有する。いくつかの実施形態では、前記摩擦係数は、約０．２未満または約０．１５未満である。いくつかの実施形態では、前記摩擦係数は、約０．０８、約０．０９、約０．１、約０．１１、約０．１２、約０．１３、約０．１４、または約０．１５である。いくつかの実施形態では、前記摩擦係数は、約０．０８から約０．１５または約０．０９から約０．１３の範囲にある。
いくつかの実施形態では、前記指紋非視認性コーティングは、指紋非視認性コーティングのための配合物を基材に塗工することによって形成される。いくつかの実施形態では、前記指紋非視認性コーティングのための配合物は、アルキルシランの加水分解物を含む。
アルキルシランの加水分解物は、加水分解物ポリマーと呼ばれることもあり、アルキルシランを酸または塩基と接触させるステップを含む方法によって形成することができる。例示的な実施形態では、前記加水分解物は、アルキルシランを酸と接触させるステップによって形成される。例示的な実施形態において、前記加水分解物は、アルキルシランを溶媒中の酸と接触させるステップによって形成される。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、酸の非存在下で形成される。
前記加水分解物を形成するために使用することができる酸には、鉱酸および有機酸が包含される。例示的な鉱酸には、塩酸、硝酸、硫酸、それらの混合物、または当該技術分野で知られている他の鉱酸が包含される。いくつかの実施形態では、前記酸は硝酸である。いくつかの実施形態では、前記酸は酢酸である。
例示的な実施形態では、前記酸は特定の濃度で存在する。実例として、前記酸は、体積で少なくとも約０．０１％（約０．０１ｖｏｌ％）の濃度で存在する。前記酸は、体積で、約０．０１％、約０．０２％、約０．０３％、約０．０４％、約０．０５％、約０．０６％、約０．０７％、約０．０８％、約０．０９％、約０．１％、約０．１１％、約０．１２％、約０．１３％、約０．１４％、約０．１５％、約０．１６％、約０．１７％、約０．１８％、約０．１９％、約０．２％、約０．２５％、約０．３％、約０．３５％、約０．４％、約０．４５％、約０．５％、約０．６％、約０．７％、約０．８％、約０．９％、約１％、約１．５％、約２％、約３％、約４％、約５％、約６％、約７％、約８％、約９％、約１０％、約１５％、約２０％、約２５％、または約５０％の量で存在し得る。前記酸は、約０．０１％から約５０％、約０．０１％から約１５％、約０．０１％から約１０％、約０．０１％から約５％、約０．０５％から約５％、約０．０５％から約３％、約０．０５％から約１％、または約０．０５％から約０．１５％の範囲で存在し得る。
いくつかの実施形態において、前記加水分解物は、アルキルシランを塩基と接触させることによって形成される。例示的な塩基には、水酸化カリウムが包含される。
いくつかの実施形態において、前記加水分解物は、アルキルシランをチタンブトキシド、レバシル、および酸と組み合わせることによって形成される。いくつかの実施形態では、前記酸は酢酸である。
例示的な実施形態では、前記加水分解物を形成するステップは、溶媒中で実施される。いくつかの実施形態では、前記溶媒は、アルコール、有機溶媒、またはそれらの混合物を含む。いくつかの実施形態では、前記アルコールはアルキルアルコールである。いくつかの実施形態において、前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ１０アルキル－ＯＨまたはＣ１～Ｃ６アルキル－ＯＨである。例示的なアルキルアルコールには、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、またはブタノールが包含される。例示的な有機溶媒には、塩素系溶媒および非塩素系溶媒が包含される。例示的な塩素系溶媒には、ジクロロメタンが包含される。いくつかの実施形態では、前記溶媒は水を含む。
いくつかの実施形態では、前記溶媒は水とアルコールの混合物である。いくつかの実施形態において、前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ１０アルキル－ＯＨまたはＣ１～Ｃ６アルキル－ＯＨである。いくつかの実施形態において、前記水および前記アルコールは、約１：１０００から約１０００：１のアルコールに対する水の比率で存在する。いくつかの例示的な実施形態では、前記溶媒におけるアルコールに対する水の量の比率を制御することによって、様々な分子量および出発物質から最終生成物への様々な転換率を変えて加水分解物を生成し得る可能性がある。モノマーからオリゴマーまたはポリマーへの転換は、一晩還流で行われる反応のエトキシに対する水の比率によって決定することができる。
前記加水分解物を形成するステップのための溶媒は、特定のｐＨを有することができる。いくつかの実施形態では、前記ｐＨは０から１４の間または６から８の間である。
前記接触させるステップは、重合させるステップと呼ばれることもあり、特定の時間実行することができる。いくつかの実施形態では、前記特定の時間は、クエンチされる前の時間である。いくつかの実施形態では、前記接触させるステップは、少なくとも３分間実行される。いくつかの実施形態では、前記接触させるステップは、４時間未満で実行される。例示的な実施形態では、前記接触させるステップは、約３分間、約５分間、約１０分間、約１５分間、約２０分間、約２５分間、約３０分間、約３５分間、約４０分間、約４５分間、約５０分間、約１時間、約２時間、約３時間、または約４時間実行される。いくつかの実施形態では、前記重合させるステップは、約０．１時間から約７２時間実施することができる。いくつかの実施形態では、前記重合させるステップは、約０．１時間から約２０時間、または好ましくは約１２時間実施することができる。
前記接触させるステップは、重合させるステップと呼ばれることもあり、特定の温度または特定の温度範囲で行うことができる。いくつかの実施形態では、前記ステップは、前記溶媒の還流温度で実行される。いくつかの実施形態では、前記ステップは室温で実行される。いくつかの実施形態では、前記ステップは、室温よりも低い温度で実行される。いくつかの実施形態では、前記ステップは、前記溶媒が還流するまで約－１０℃の温度で実施される。
前記加水分解物を形成するための方法は、前記接触させるステップをクエンチするステップを含み得る。例示的な実施形態では、前記ステップまたは急冷は、水溶液を加えることによって実行される。例示的な実施形態では、前記水溶液は塩基を含む。例示的な塩基には、重炭酸ナトリウムが包含される。いくつかの実施形態では、前記水溶液は実質的に塩基を含まない。いくつかの実施形態では、前記方法はクエンチするステップを含まない。
例示的な実施形態では、前記加水分解物を形成するステップは、濃縮するステップを含む。例示的な実施形態では、前記濃縮するステップは、前記クエンチするステップの後に実行される。あるいは、例示的な実施形態では、前記方法はクエンチするステップを包含しないため、前記濃縮するステップは、形成／重合するステップの直後に起こる。実例として、前記濃縮するステップは真空下で実行される。
いくつかの実施形態では、前記方法は、前記加水分解物を精製するステップを包含する。いくつかの実施形態において、前記精製するステップは、前記加水分解物を洗浄して、例えば、存在し得る酸または任意の触媒を除去することを包含する。実例として、その洗浄は水で洗浄することによって行うことができる。
いくつかの実施形態において、前記アルキルシランは、以下の構造式
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
のアルキルシランである。いくつかの実施形態において、各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルである。いくつかの実施形態では、各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルである。いくつかの実施形態において、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換される。いくつかの実施形態では、存在すれば、各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ１におけるＣ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換されている。いくつかの実施形態の１１－クロロウンデシルトリエトキシシランは「ＣＬＡＳ」として記載されているが、そのような略語は単に簡潔にするためであり、「ＣＬＡＳ」を１１－クロロウンデシルトリエトキシシランに限定することを決して意図しないことが理解される必要がある。
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
のアルキルシランである。いくつかの実施形態において、各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルである。いくつかの実施形態では、各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルである。いくつかの実施形態において、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換される。いくつかの実施形態では、存在すれば、各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ１におけるＣ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換されている。いくつかの実施形態の１１－クロロウンデシルトリエトキシシランは「ＣＬＡＳ」として記載されているが、そのような略語は単に簡潔にするためであり、「ＣＬＡＳ」を１１－クロロウンデシルトリエトキシシランに限定することを決して意図しないことが理解される必要がある。
いくつかの実施形態では、ＲＢは、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルである。実例として、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルの各水素原子は、独立して、任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換される。各Ｒ１は、存在する場合、独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキルの各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される。
いくつかの実施形態において、ＲＢは、任意に、置換されたＣ６～Ｃ２０アルキルである。例示的な実施形態において、Ｃ６～Ｃ２０アルキルの各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである。いくつかの実施形態において、アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン、（１１－ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン、（１１－ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される。いくつかの実施形態において、前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである。
例示的に、前記ハロゲンは、クロロ、ブロモ、またはヨードであってもよい。いくつかの実施形態において、前記アルキルシランは、ハロゲンを含むが、フルオロを含まない。
いくつかの実施形態では、前記アルキルシランは二官能性である。例示的に、二官能性シランは、１より多くのアルキルシランを有する実施形態において、架橋シランまたは鎖延長剤と見なすことができる。例示的な二官能性アルキルシランには、ハロアルキルシラン、ビスアルキルシラン、ビスアルコキシシラン、アミノアルキルシラン、ヒドロキシアルキルシラン、およびホスフェートアルキルシランが包含される。例示的なビスアルキルシランには、ビストリエトキシオクチルシランおよびビス（トリメトキシシリル）４－オキサ－８－アズンデカン－６－オールが包含される。例示的なハロアルキルシランには、クロロウンデシルシランおよびクロロヘキシルシランが包含される。例示的なアミノアルキルシランには、アミノウンデシルシラン、Ｎ－２－アミノエチル－１１－アミノウンデシルトリエトキシシラン、およびＮ－６－アミノヘキシルアミノメチルトリエトキシシランが包含される。例示的なヒドロキシアルキルシランには、ＯＨ－デシルトリエトキシシランが包含される。例示的なホスフェートアルキルシランには、ホスフェートウンデシルトリエトキシシランが包含される。
例示的な架橋シランには、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランが包含される。
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
いくつかの実施形態において、Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合している。いくつかの実施形態において、Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合している。いくつかの実施形態において、Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合している。いくつかの実施形態において、Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合している。いくつかの実施形態において、各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基である。いくつかの実施形態では、ｎは、１以上３以下の整数である。１１－クロロウンデシルトリエトキシシランなどのアルキルシランに対してさまざまな比率で、ＢＩＳまたはＴＲＩＳシランなどの鎖延長剤を添加することにより、最終ポリマーの分子量を増加させる得る可能性があり、最終製品の耐久性を向上させることができる。このアプローチの調整可能性により、カスタマイズ可能な１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン加水分解物を可能にでき、これらは性能を向上させるために調整することができる。いくつかの実施形態では、最終結果物はＩＦＰコーティングであり、これは、高性能かつ容易に大量生産で積層することができる可能性がある。例示的なＢＩＳシランは、１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタンである。いくつかの実施形態の１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタンは、「ＢＩＳ」として記載されているが、そのような略語は単に簡潔にするためのものであり、「ＢＩＳ」を１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタンに限定することを決して意図しないことが理解される必要がある。例示的なＴＲＩＳシランは、１，１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタンである。いくつかの実施形態の１，１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタンは、「ＴＲＩＳ」として記載されているが、そのような略語は単に簡潔にするためのものであり、「ＴＲＩＳ」を１，１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタンに限定することを決して意図しないことが理解される必要がある。
いくつかの実施形態では、前記接触させるステップはさらに、アルコキシシロキサンを含有する。いくつかの実施形態において、前記アルコキシシランは、トリアルコキシシロキサンである。いくつかの実施形態において、前記ジアルキルシロキサンは、ビニル末端ジアルキルシロキサンを式（ＲｃＯ）３ＳｉＨの化合物と接触させることによって形成され、ここで、Ｒｃはアルキル基である。いくつかの実施形態では、前記シロキサンはアルキルシロキサンである。いくつかの実施形態において、前記アルコキシシロキサンは、アルコキシポリジメチルシロキサンである。いくつかの実施形態において、前記アルコキシシロキサンは、トリアルコキシポリジメチルシロキサンである。
例示的な実施形態において、前記トリアルコキシシロキサンは、トリアルコキシシランを、触媒の存在下で市販のシロキサンと反応させることによって形成される。例示的なシロキサンには、Ｇｅｌｅｓｔから入手可能なポリジメチルシロキサンが包含される。いくつかの実施形態では、前記触媒は白金触媒である。
実例として、形成された前記加水分解物は、加水分解物ポリマーと呼ばれることもあり、前記アルキルシランと比較した場合、より高分子量の種を含む。いくつかの実施形態では、形成された前記加水分解物は、少なくとも１，０００Ｄａ、少なくとも約２，０００Ｄａ、または少なくとも約３，０００Ｄａの分子量を有する種を含む。いくつかの実施形態では、形成された前記加水分解物は、約１，０００Ｄａ、約１，５００Ｄａ、約２，０００Ｄａ、約２，５００Ｄａ、約３，０００Ｄａ、約３，５００Ｄａ、約４，０００Ｄａ、約４，５００Ｄａ、約５，０００Ｄａ、約５，５００Ｄａ、約６，０００Ｄａ、約６，５００Ｄａ、約７，０００Ｄａ、約７，５００Ｄａ、約８，０００Ｄａ、約９，０００Ｄａ、または約１０，０００Ｄａの種を含む。いくつかの実施形態では、形成された前記加水分解物ポリマーは、少なくとも約３００Ｄａまたは少なくとも約５００Ｄａの種を含む。
いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、約１００，０００Ｄａ未満または約５０，０００Ｄａ未満の重量平均分子量（Ｍｗ）を有する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、少なくとも約３００Ｄａ、少なくとも約５００Ｄａ、少なくとも約６００Ｄａ、または少なくとも約１，０００Ｄａの重量平均分子量（Ｍｗ）を有する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、約３００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約５００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約５００Ｄａから約５０，０００Ｄａ、約５００Ｄａから約２５，０００Ｄａ、約５００Ｄａから約１０，０００Ｄａ、または約５００Ｄａから約５，０００Ｄａの範囲の第１のセットにおける重量平均分子量（Ｍｗ）を有する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、約５００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約１，０００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約１０，０００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約１５，０００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、または約３０，０００Ｄａから約１００，０００Ｄａの範囲の第２のセットにおける重量平均分子量（Ｍｗ）を有する。
いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、約１００，０００Ｄａ未満または約５０，０００Ｄａ未満の数平均分子量（Ｍｎ）を有する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、少なくとも約３００Ｄａ、少なくとも約５００Ｄａ、少なくとも約６００Ｄａ、または少なくとも約１，０００Ｄａの数平均分子量（Ｍｎ）を有する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、約３００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約５００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約５００Ｄａから約５０，０００Ｄａ、約５００Ｄａ～約２５，０００Ｄａ、約５００Ｄａから約１０，０００Ｄａ、または約５００Ｄａから約５，０００Ｄａの範囲の第１のセットにおける数平均分子量（Ｍｎ）を有する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、約５００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約１，０００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約１０，０００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、約１５，０００Ｄａから約１００，０００Ｄａ、または約３０，０００Ｄａから約１００，０００Ｄａの範囲の第２のセットにおける数平均分子量（Ｍｎ）を有する。
いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、少なくとも約１．１または少なくとも約１．２の多分散度指数（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、約１．８未満または約１．７未満の多分散度指数（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、約１．１、約１．２、約１．３、約１．４、約１．５、約１．６、約１．７、または約１．８の多分散度指数を有する。
いくつかの例示的な実施形態において、前記加水分解物ポリマーは、以下に示されるように、ブロックＡ～Ｆのいくつかまたはすべてを含んでいてもよい。
ここで、ＲＡとＲＢは上記のように定義される。ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、およびｒは、それぞれ独立して整数である。例示的に、各整数は、独立して０から５００であってもよい。実例として、いくつかの実施形態では、ブロックＡ～Ｆのいくつかまたはすべては前記加水分解物ポリマー中に存在する。例えば、ブロックＡ、Ｆ、およびＤを組み合わせて、以下の例示的な構造を形成することができるが、これらに限定されない：
ここで、各ブロックの例示的なＯ１／２は組み合わされて、２つのシリコン原子をつなぐ。上記の構造は示されているように線形であるが、以下の例に示されているように、前記ブロックは３次元形状に結合されることも可能であるが、これらに限定されない。
例示的な実施形態では、前記加水分解物ポリマーは、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されるブロックの線形ストレッチ、ならびにＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されるブロックの分岐セグメントを含むことが意図される。理論に拘束されることなく、重合中に存在する水の量は、分岐および重合の程度に影響を与える可能性がある。
指紋非視認性コーティングのための配合物中の加水分解物ポリマーの濃度は、溶媒中の特定の濃度であってもよい。いくつかの実施形態において、前記加水分解物は、少なくとも１ｇ／ｌの濃度で存在する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物は、約１ｇ／ｌから約１０ｇ／ｌ、１ｇ／ｌから約６ｇ／ｌ、約１ｇ／ｌから約５ｇ／ｌ、約２ｇ／ｌから約５ｇ／ｌ、または約３ｇ／ｌから約５ｇ／ｌの濃度で存在する。いくつかの実施形態において、前記加水分解物は、約１ｇ／ｌ、約２ｇ／ｌ、約３ｇ／ｌ、約３．２５ｇ／ｌ、約３．５ｇ／ｌ、約３．７５ｇ／ｌ、約４ｇ／ｌ、約４．２５ｇ／ｌ、約４．５ｇ／ｌ、約５ｇ／ｌ、約５．５ｇ／ｌ、約６ｇ／ｌ、約７ｇ／ｌ、約８ｇ／ｌ、約９ｇ／ｌ、または約１０ｇ／ｌの濃度であってもよい。いくつかの実施形態において、前記加水分解物は、約０．０１ｍｇ／Ｌから約１００ｇ／Ｌの濃度である。
いくつかの実施形態では、指紋非視認性コーティングのための配合物は、溶媒を含む。いくつかの実施形態では、前記溶媒は有機溶媒である。いくつかの実施形態では、前記溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む。いくつかの実施形態において、前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＯＨである。いくつかの実施形態では、前記溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、またはそれらの組み合わせである。例示的な実施形態では、指紋非視認性コーティングのための前記配合物は、実質的に酸を含まない。例示的な実施形態では、前記溶媒は実質的に酸を含まない。
実例として、指紋非視認性表面のための配合物を基材に塗工して、特定の方法によって指紋非視認性表面を形成することができる。いくつかの実施形態では、基材上に指紋非視認性コーティングを形成するための方法は、塗工するステップを含む。いくつかの実施形態では、前記方法は、硬化させるステップを含む。いくつかの実施形態では、前記方法は、塗工するステップおよび硬化させるステップを含む。いくつかの例示的な実施形態では、前記加水分解物ポリマーが表面上で硬化されると、前記加水分解物ポリマーは、前記基材の表面に、例えば、表面上の遊離ヒドロキシ基に結合する。
いくつかの実施形態では、前記塗工するステップは、前記基材の表面への指紋非視認性コーティングのための配合物の浸漬、拭き取り、噴霧、化学蒸着（ＣＶＤ）、または物理蒸着（ＰＶＤ）によって実行される。
いくつかの実施形態では、基材上に指紋非視認性コーティングを形成するための方法は、ＰＶＤによって、前記基材の表面に指紋非視認性コーティングのための配合物を塗工することを含む。実例として、前記塗工するステップは、熱蒸発によって実行することができる。いくつかの実施形態では、前記方法は、前記基材の表面上で前記配合物を硬化させることを含む。いくつかの実施形態では、前記方法は、前記基材の表面を洗浄するステップを含む。いくつかの実施形態では、前記洗浄するステップは、前記塗工するステップの前に実行される。いくつかの実施形態では、前記配合物はペレットの形態である。いくつかの実施形態では、前記方法は、前記配合物のペレットを形成するステップを含む。いくつかの例示的な実施形態では、前記ペレットを形成するステップは、スチールウールまたは銅フォームを前記加水分解物と接触させることを含む。
例示的に、前記硬化させるステップは、高温または室温で実施することができる。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、室温で実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、少なくとも約７０℃、少なくとも約８０℃、少なくとも約９０℃、または少なくとも約１００℃で実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、約８０℃、約９０℃、約１００℃、約１１０℃、約１２０℃、約１２５℃、約１３０℃、または約１４０℃の温度で実施される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、２０℃以上および２５０℃以下の温度で実行される。いくつかの実施形態において、硬化が加熱によって行われる場合、前記加水分解物ポリマーは、それ自体とさらに凝縮して、前記配合物中に存在する分子量種と比較して、より高分子量の種を形成し得る。
いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、前記配合物を硬化させるために一定期間実行され、前記硬化させるステップに使用される温度に依存し得る。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは一晩実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、少なくとも約５分間、少なくとも約１０分間、または少なくとも約３０分間実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、約１０分間、約１５分間、約２０分間、約２５分間、約３０分間、約４５分間、約１時間、約２時間、約３時間、約４時間、約６時間、約１２時間、または一晩実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、約１２０℃の温度で約１０分間実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、約８０℃の温度で約１時間実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、室温で一晩実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、約１２０℃の温度で約３０分間実行される。いくつかの実施形態では、前記硬化させるステップは、０．１時間以上４８時間以下で実行される。
いくつかの実施形態では、前記方法は、不活性ガス、Ｎ２、Ｏ２、および少なくとも２つの前記ガスの混合物からなる群から選択される少なくとも１つのガスのプラズマに表面を曝露することによって、前記基材の表面を活性化するステップを含む。
例示的な実施形態では、指紋非視認性コーティングのための前記配合物は、５から１００ｎｍの間のＲＭＳ（二乗平均平方根）表面粗さを可能にする条件下で、浸漬、噴霧、熱ＣＶＤ（化学蒸着）、または物理蒸着（ＰＶＤ）によって積層される。例示的な実施形態では、５から１０ｎｍの間のＲＭＳ（二乗平均平方根）表面粗さを得ることができる。
いくつかの例示的な実施形態のみが先に詳細に説明されてきたが、当業者は、新規の教示および利点から実質的に逸脱することなく、前記例示的な実施形態において多くの修正が可能であることを容易に理解するであろう。以下の番号が付けられた第１のセットの条項には、意図された、限定されない実施形態が包含される。
条項１．
方法によって作製された指紋非視認性コーティングを含む指紋非視認性表面であって、前記方法は、低分子量アルキルシラン加水分解物を形成するステップ、
方法によって作製された指紋非視認性コーティングを含む指紋非視認性表面であって、前記方法は、低分子量アルキルシラン加水分解物を形成するステップ、
前記低分子量アルキルシラン加水分解物を含む配合物を基材の表面に塗工するステップを含み、
前記低分子量アルキルシラン加水分解物の一部は、約５，０００Ｄａの分子量を有する。
条項２．
前記形成するステップは、アルキルシランを酸と接触させることを含む、条項１に記載の指紋非視認性表面。
前記形成するステップは、アルキルシランを酸と接触させることを含む、条項１に記載の指紋非視認性表面。
条項３．
前記アルキルシランは以下の式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ、
のアルキルシランであり：
前記アルキルシランは以下の式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ、
のアルキルシランであり：
式中、各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ２～Ｃ６アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ６アルキニルであり；
そしてＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；ここで、ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、－ＯＣ１～Ｃ６アルキニル；Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
ここで、各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
そしてＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；ここで、ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、－ＯＣ１～Ｃ６アルキニル；Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
ここで、各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４．
前記式中、ＲＡは－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記式中、ＲＡは－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項５．
前記式中、ＲＢはＣ６～Ｃ２０アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記式中、ＲＢはＣ６～Ｃ２０アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項６．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項７．
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項８．
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項９．
前記酸は、鉱酸を含む、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記酸は、鉱酸を含む、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１０．
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１１．
前記酸は、約０．０１％から約１０％の濃度で存在する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記酸は、約０．０１％から約１０％の濃度で存在する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１２．
前記接触させるステップは、少なくとも約５分間実行される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記接触させるステップは、少なくとも約５分間実行される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１３．
前記接触させるステップは、約３時間未満で実行される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記接触させるステップは、約３時間未満で実行される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１４．
前記接触させるステップは、約１０分間から約２時間行われる、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記接触させるステップは、約１０分間から約２時間行われる、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１５．
前記接触させるステップは、約１０分間から約１時間行われる、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記接触させるステップは、約１０分間から約１時間行われる、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１６．
前記接触させるステップは、約１０分間から約３０分間行われる、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記接触させるステップは、約１０分間から約３０分間行われる、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１７．
前記接触させるステップはさらに、ジアルキルシロキサンを包含する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記接触させるステップはさらに、ジアルキルシロキサンを包含する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項１８．
前記ジアルキルシロキサンは、トリアルコキシシランでキャップされている、条項１７に記載の指紋非視認性表面。
前記ジアルキルシロキサンは、トリアルコキシシランでキャップされている、条項１７に記載の指紋非視認性表面。
条項１９．
前記ジアルキルシロキサンは、触媒の存在下で、ビニル末端化ジアルキルシロキサンを式（ＲｃＯ）３ＳｉＨの化合物と接触させることによって形成され、ここで、Ｒｃはアルキル基である、条項１７または１８に記載の指紋非視認性表面。
前記ジアルキルシロキサンは、触媒の存在下で、ビニル末端化ジアルキルシロキサンを式（ＲｃＯ）３ＳｉＨの化合物と接触させることによって形成され、ここで、Ｒｃはアルキル基である、条項１７または１８に記載の指紋非視認性表面。
条項２０．
前記触媒は、白金を含む、条項１９のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
前記触媒は、白金を含む、条項１９のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
条項２１．
前記式中、Ｒｃは、メチル、エチル、またはプロピルである、条項１９または２０に記載の指紋非視認性表面。
前記式中、Ｒｃは、メチル、エチル、またはプロピルである、条項１９または２０に記載の指紋非視認性表面。
条項２２．
前記ジアルキルシロキサンは、少なくとも３，０００Ｄａの分子量を有する、条項１７～２１のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
前記ジアルキルシロキサンは、少なくとも３，０００Ｄａの分子量を有する、条項１７～２１のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
条項２３．
前記ジアルキルシロキサンは、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、条項１７～２２のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
前記ジアルキルシロキサンは、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、条項１７～２２のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
条項２４．
前記低分子量アルキルシラン加水分解物は、フルオロを含まない、前述の条項または条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記低分子量アルキルシラン加水分解物は、フルオロを含まない、前述の条項または条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項２５．
前記配合物は、酸を含まない、前述の条項または条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記配合物は、酸を含まない、前述の条項または条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項２６．
前記酸は、鉱酸である、条項２５に記載の指紋非視認性表面。
前記酸は、鉱酸である、条項２５に記載の指紋非視認性表面。
条項２７．
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、条項２６に記載の指紋非視認性表面。
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、条項２６に記載の指紋非視認性表面。
条項２８．
前記接触させるステップは、溶媒中で行われる、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記接触させるステップは、溶媒中で行われる、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項２９．
前記溶媒は、有機溶媒とアルコールの混合物である、条項２８に記載の指紋非視認性表面。
前記溶媒は、有機溶媒とアルコールの混合物である、条項２８に記載の指紋非視認性表面。
条項３０．
前記有機溶媒は、塩素系溶媒である、条項２９に記載の指紋非視認性表面。
前記有機溶媒は、塩素系溶媒である、条項２９に記載の指紋非視認性表面。
条項３１．
前記塩素系溶媒は、クロロホルムまたはジクロロメタンである、条項３０に記載の指紋非視認性表面。
前記塩素系溶媒は、クロロホルムまたはジクロロメタンである、条項３０に記載の指紋非視認性表面。
条項３２．
前記アルコールは、アルキルアルコールである、条項２９～３１のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
前記アルコールは、アルキルアルコールである、条項２９～３１のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
条項３３．
前記アルキルアルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、またはペンタノールである、条項３２に記載の指紋非視認性表面。
前記アルキルアルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、またはペンタノールである、条項３２に記載の指紋非視認性表面。
条項３４．
前記プロパノールは、イソプロパノールまたはｎ－プロパノールである、条項３３に記載の指紋非視認性表面。
前記プロパノールは、イソプロパノールまたはｎ－プロパノールである、条項３３に記載の指紋非視認性表面。
条項３５．
前記混合物は、約５：１の有機溶媒：アルコールから約１５：１の有機溶媒：アルコールである、条項２９～３５のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
前記混合物は、約５：１の有機溶媒：アルコールから約１５：１の有機溶媒：アルコールである、条項２９～３５のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
条項３６．
前記混合物は、約７：１の有機溶媒：アルコールから約１２：１の有機溶媒：アルコールである、条項２９～３５のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
前記混合物は、約７：１の有機溶媒：アルコールから約１２：１の有機溶媒：アルコールである、条項２９～３５のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
条項３７．
前記混合物は、約８：１の有機溶媒：アルコールまたは約１０：１の有機溶媒：アルコールである、条項２９～３５のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
前記混合物は、約８：１の有機溶媒：アルコールまたは約１０：１の有機溶媒：アルコールである、条項２９～３５のいずれか一項に記載の指紋非視認性表面。
条項３８．
前記塗工するステップは、前記配合物の化学蒸着（ＣＶＤ）または物理蒸着（ＰＶＤ）を含む、条項１に記載の指紋非視認性表面。
前記塗工するステップは、前記配合物の化学蒸着（ＣＶＤ）または物理蒸着（ＰＶＤ）を含む、条項１に記載の指紋非視認性表面。
条項３９．
前記配合物は、液体製剤であり、前記塗工するステップは、液体配合物を表面に噴霧することを含む、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記配合物は、液体製剤であり、前記塗工するステップは、液体配合物を表面に噴霧することを含む、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４０．
前記指紋非視認性表面は、約４５°未満のジヨードメタンを使用した初期接触角および約６５°を超える初期水接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約４５°未満のジヨードメタンを使用した初期接触角および約６５°を超える初期水接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４１．
前記基材は、ガラス、金属酸化物、およびアクリルポリマーからなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記基材は、ガラス、金属酸化物、およびアクリルポリマーからなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４２．
前記指紋非視認性表面は、約５ｎｍから約３００ｎｍの範囲の厚さを有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約５ｎｍから約３００ｎｍの範囲の厚さを有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４３．
前記指紋非視認性表面は、約５０°未満のジヨードメタンを使用した初期接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約５０°未満のジヨードメタンを使用した初期接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４４．
前記指紋非視認性表面は、約４５°未満の初期接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約４５°未満の初期接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４５．
前記指紋非視認性表面は、約３５°未満の初期接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約３５°未満の初期接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４６．
前記指紋非視認性表面は、約６５°を超える初期水接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約６５°を超える初期水接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４７．
前記指紋非視認性表面は、約７０°から約９０°の初期水接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約７０°から約９０°の初期水接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４８．
前記指紋非視認性表面は、実質的にフッ化物を含まない、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、実質的にフッ化物を含まない、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項４９．
前記指紋非視認性表面は、約７０°から約９０°の初期水接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約７０°から約９０°の初期水接触角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項５０．
前記指紋非視認性表面は、約０．１５未満の摩擦係数を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約０．１５未満の摩擦係数を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項５１．
前記指紋非視認性表面は、約０．１３未満の摩擦係数を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約０．１３未満の摩擦係数を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項５２．
前記指紋非視認性表面は、約０．０５から約０．１３の摩擦係数を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記指紋非視認性表面は、約０．０５から約０．１３の摩擦係数を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項５３．
指紋非視認性コーティングのための配合物であって、前記配合物は、低分子量アルキルシラン加水分解物および溶媒を含む、配合物。
指紋非視認性コーティングのための配合物であって、前記配合物は、低分子量アルキルシラン加水分解物および溶媒を含む、配合物。
条項５４．
前記低分子量アルキルシラン加水分解物は、以下の式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ、
のアルキルシランから形成される、
前記低分子量アルキルシラン加水分解物は、以下の式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ、
のアルキルシランから形成される、
式中、各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、または－ＯＣ１～Ｃ６アルキニルであり；
そしてＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；ここで、ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、－ＯＣ１～Ｃ６アルキニル；Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして、ここで、Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される、条項５３に記載の配合物。
そしてＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；ここで、ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、－ＯＣ１～Ｃ６アルキニル；Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして、ここで、Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される、条項５３に記載の配合物。
条項５５．
前記ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、条項５４に記載の配合物。
前記ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、条項５４に記載の配合物。
条項５６．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、条項５４または５５に記載の配合物。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、条項５４または５５に記載の配合物。
条項５７．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、条項５４～５６のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、条項５４～５６のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
条項５８．
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン、（１１－ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン、（１１－ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、条項５４～５７のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン、（１１－ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン、（１１－ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、条項５４～５７のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
条項５９．
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、条項５４～５８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、条項５４～５８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
条項６０．
前記低分子量アルキルシラン加水分解物は、ジアルキルシロキサンを含む、条項５３～５９のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
前記低分子量アルキルシラン加水分解物は、ジアルキルシロキサンを含む、条項５３～５９のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
条項６１．
前記ジアルキルシロキサンは、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、条項６０に記載の配合物。
前記ジアルキルシロキサンは、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、条項６０に記載の配合物。
条項６２．
前記配合物は、酸を含まない、条項５３～６１のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
前記配合物は、酸を含まない、条項５３～６１のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の配合物。
条項６３．
前記酸は、鉱酸である、条項６２に記載の配合物。
前記酸は、鉱酸である、条項６２に記載の配合物。
条項６４．
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、条項６３に記載の配合物。
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、条項６３に記載の配合物。
条項６５．
基材上に指紋非視認性コーティングを形成するための方法であって、前記方法は、
基材上に指紋非視認性コーティングを形成するための方法であって、前記方法は、
指紋非視認性コーティングのための配合物を基材の表面に塗工するステップ、および
前記基材の表面上で前記指紋非視認性コーティングのための配合物を硬化させて、前記指紋非視認性コーティングを形成するステップを含む、方法。
条項６６．
前記指紋非視認性コーティングのための配合物は、低分子量アルキルシラン加水分解物を含む、条項６５に記載の方法。
前記指紋非視認性コーティングのための配合物は、低分子量アルキルシラン加水分解物を含む、条項６５に記載の方法。
条項６７．
前記低分子量アルキルシラン加水分解物は、アルキルシランを酸と接触させることによって調製される、条項６５または６６に記載の方法。
前記低分子量アルキルシラン加水分解物は、アルキルシランを酸と接触させることによって調製される、条項６５または６６に記載の方法。
条項６８．
前記アルキルシランは以下の式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ、
のアルキルシランであり：
前記アルキルシランは以下の式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ、
のアルキルシランであり：
式中、各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ２～Ｃ６アルケニル、または－ＯＣ２～Ｃ６アルキニルであり；
そしてＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；ここで、ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、－ＯＣ１～Ｃ６アルキニル；Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして、ここで、Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される、条項６７に記載の方法。
そしてＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；ここで、ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、－ＯＣ１～Ｃ６アルキニル；Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして、ここで、Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される、条項６７に記載の方法。
条項６９．
前記指紋非視認性コーティングは、少なくとも約５０°未満の油による初期接触角を有する、条項６５～６８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記指紋非視認性コーティングは、少なくとも約５０°未満の油による初期接触角を有する、条項６５～６８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項７０．
前記指紋非視認性コーティングは、少なくとも約４５°未満の油による初期接触角を有する、条項６５～６９のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記指紋非視認性コーティングは、少なくとも約４５°未満の油による初期接触角を有する、条項６５～６９のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項７１．
前記指紋非視認性コーティングは、約６５°を超える初期水接触角を有する、条項６５～７０のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記指紋非視認性コーティングは、約６５°を超える初期水接触角を有する、条項６５～７０のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項７２．
前記指紋非視認性コーティングは、約７０°から約９０°の初期水接触角を有する、条項６５～７１のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記指紋非視認性コーティングは、約７０°から約９０°の初期水接触角を有する、条項６５～７１のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項７３．
前記方法は、不活性ガス、Ｎ２、Ｏ２、および少なくとも２つの前記ガスの混合物からなる群から選択される少なくとも１つのガスのプラズマに表面を曝露することによって、前記基材の表面を活性化するステップを含む、条項６５～７２のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記方法は、不活性ガス、Ｎ２、Ｏ２、および少なくとも２つの前記ガスの混合物からなる群から選択される少なくとも１つのガスのプラズマに表面を曝露することによって、前記基材の表面を活性化するステップを含む、条項６５～７２のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項７４．
前記塗工するステップは、前記指紋非視認性コーティングのための配合物の前記基材の表面への化学蒸着（ＣＶＤ）、物理蒸着（ＰＶＤ）、浸漬、拭き取り、または噴霧によって行われる、条項６５～７３のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記塗工するステップは、前記指紋非視認性コーティングのための配合物の前記基材の表面への化学蒸着（ＣＶＤ）、物理蒸着（ＰＶＤ）、浸漬、拭き取り、または噴霧によって行われる、条項６５～７３のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項７５．
前記配合物は、酸を含まない、条項６５～７４のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記配合物は、酸を含まない、条項６５～７４のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項７６．
前記酸は、鉱酸である、条項７５に記載の方法。
前記酸は、鉱酸である、条項７５に記載の方法。
条項７７．
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、条項７６に記載の方法。
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、条項７６に記載の方法。
条項７８．
加水分解物を形成するための方法であって、前記方法は、
加水分解物を形成するための方法であって、前記方法は、
以下の式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ、
のアルキルシランを、酸と接触させるステップを含み、
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ、
のアルキルシランを、酸と接触させるステップを含み、
式中、各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ２～Ｃ６アルケニル、または－ＯＣ２～Ｃ６アルキニルであり；
そしてＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；ここで、ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、－ＯＣ１～Ｃ６アルキニル；Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして、ここで、Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される、そして
そしてＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；ここで、ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－ＯＣ１～Ｃ６アルケニル、－ＯＣ１～Ｃ６アルキニル；Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして、ここで、Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ２～Ｃ６アルケニル、Ｃ２～Ｃ６アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシで置換される、そして
前記接触させるステップをクエンチするステップを含み、
前記加水分解物は、前記アルキルシランおよび約５，０００Ｄａの分子量を有する種を含む、方法。
条項７９．
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、条項７８に記載の方法。
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、条項７８に記載の方法。
条項８０．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、条項７８または７９に記載の方法。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、条項７８または７９に記載の方法。
条項８１．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、条項７８～８０のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、条項７８～８０のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。。
条項８２．
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、条項７８～８１のいずれか一項または組み合わせの方法。
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、条項７８～８１のいずれか一項または組み合わせの方法。
条項８３．
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、条項７８～８２のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、条項７８～８２のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項８４．
前記酸は、鉱酸を含む、条項７８～８３のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記酸は、鉱酸を含む、条項７８～８３のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項８５．
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、条項８４に記載の方法。
前記鉱酸は、塩酸、硝酸、硫酸、またはそれらの混合物である、条項８４に記載の方法。
条項８６．
前記酸は、約０．０１％から約１０％の濃度で存在する、条項７８～８５のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記酸は、約０．０１％から約１０％の濃度で存在する、条項７８～８５のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項８７．
前記接触させるステップは、少なくとも約５分間行われる、条項７８～８６のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記接触させるステップは、少なくとも約５分間行われる、条項７８～８６のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項８８．
前記接触させるステップは、約３時間未満行われる、条項７８～８７のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記接触させるステップは、約３時間未満行われる、条項７８～８７のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項８９．
前記接触させるステップは、約１０分間から約２時間行われる、条項７８～８８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記接触させるステップは、約１０分間から約２時間行われる、条項７８～８８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項９０．
前記接触させるステップは、約１０分間から約１時間行われる、条項７８～８８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記接触させるステップは、約１０分間から約１時間行われる、条項７８～８８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項９１．
前記接触させるステップは、約１０分間から約３０分間行われる、条項７８～８８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記接触させるステップは、約１０分間から約３０分間行われる、条項７８～８８のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項９２．
前記接触させるステップはさらに、ジアルキルシロキサンを包含する、条項７８～９１のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記接触させるステップはさらに、ジアルキルシロキサンを包含する、条項７８～９１のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項９３．
前記ジアルキルシロキサンは、トリアルコキシシランでキャップされている、条項９２に記載の指紋非視認性表面。
前記ジアルキルシロキサンは、トリアルコキシシランでキャップされている、条項９２に記載の指紋非視認性表面。
条項９４．
前記ジアルキルシロキサンは、触媒の存在下で、ビニル末端化ジアルキルシロキサンを式（ＲｃＯ）３ＳｉＨの化合物、ここでＲｃはアルキル基である、と接触させることによって形成される、条項９２または９３に記載の方法。
前記ジアルキルシロキサンは、触媒の存在下で、ビニル末端化ジアルキルシロキサンを式（ＲｃＯ）３ＳｉＨの化合物、ここでＲｃはアルキル基である、と接触させることによって形成される、条項９２または９３に記載の方法。
条項９５．
前記触媒は、白金を含む、条項９４に記載の指紋非視認性表面。
前記触媒は、白金を含む、条項９４に記載の指紋非視認性表面。
条項９６．
前記式中、Ｒｃは、メチル、エチル、またはプロピルである、条項９３または９４に記載の指紋非視認性表面。
前記式中、Ｒｃは、メチル、エチル、またはプロピルである、条項９３または９４に記載の指紋非視認性表面。
条項９７．
前記ジアルキルシロキサンは、少なくとも３，０００Ｄａの分子量を有する、条項９２～９６のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記ジアルキルシロキサンは、少なくとも３，０００Ｄａの分子量を有する、条項９２～９６のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項９８．
前記ジアルキルシロキサンは、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、条項９２～９７のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
前記ジアルキルシロキサンは、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、条項９２～９７のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の指紋非視認性表面。
条項９９．
基材上に指紋非視認性コーティングを形成するための方法であって、前記方法は、
基材上に指紋非視認性コーティングを形成するための方法であって、前記方法は、
物理蒸着により、指紋非視認性コーティングのための配合物を基材の表面に塗工するステップ、および
前記基材の表面上で前記指紋非視認性コーティングのための配合物を硬化させて、前記指紋非視認性コーティングを形成するステップを含む、方法。
条項１００．
前記指紋非視認性コーティングのための配合物は、低分子量アルキルシラン加水分解物を含む、条項９９に記載の方法。
前記指紋非視認性コーティングのための配合物は、低分子量アルキルシラン加水分解物を含む、条項９９に記載の方法。
条項１０１．
前記配合物は、酸を含まない、条項９９または１００に記載の方法。
前記配合物は、酸を含まない、条項９９または１００に記載の方法。
条項１０２．
前記方法はさらに、前記基材の表面を洗浄するステップを含む、条項９９～１０１のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記方法はさらに、前記基材の表面を洗浄するステップを含む、条項９９～１０１のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項１０３．
前記洗浄するステップは、前記塗工するステップの前に行われる、条項１０２に記載の方法。
前記洗浄するステップは、前記塗工するステップの前に行われる、条項１０２に記載の方法。
条項１０４．
前記配合物は、ペレットの形態である、条項９９～１０３のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記配合物は、ペレットの形態である、条項９９～１０３のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
条項１０５．
前記方法は、前記ペレットを形成するステップを含む、条項９９に記載の方法。
前記方法は、前記ペレットを形成するステップを含む、条項９９に記載の方法。
条項１０６．
前記ペレットを形成するステップは、スチールウールまたは銅フォームを前記指紋非視認性コーティングのための配合物と接触させることを含む、条項１０５に記載の方法。
前記ペレットを形成するステップは、スチールウールまたは銅フォームを前記指紋非視認性コーティングのための配合物と接触させることを含む、条項１０５に記載の方法。
条項１０７．
前記塗工するステップは、熱蒸発によって行われる、条項９９～１０６のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
前記塗工するステップは、熱蒸発によって行われる、条項９９～１０６のいずれか一項またはそれらの組み合わせに記載の方法。
以下の番号が付けられた第２のセットの条項は、意図された、限定されない以下の実施形態を含む。
条項１．
物品であって、
物品であって、
基材と、
前記基材に積層された指紋非視認性コーティングとを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む、物品。
前記指紋非視認性コーティングは、１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む、物品。
条項２．
物品であって、
物品であって、
基材と、
前記基材に積層された指紋非視認性コーティングとを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、１０００ｎｍ未満で０．１ｎｍを超える厚さを有する、物品。
条項３．
前記指紋非視認性コーティングは、約５０°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および／または約６５°を超える初期水接触角を有する表面を含む、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記指紋非視認性コーティングは、約５０°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および／または約６５°を超える初期水接触角を有する表面を含む、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項４．
前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、木材、金属、金属酸化物、またはポリマーからなる群から選択される材料を含む、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、木材、金属、金属酸化物、またはポリマーからなる群から選択される材料を含む、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項５．
前記指紋非視認性コーティングは、約０．１ｎｍから約１０００ｎｍの範囲の厚さを有する、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記指紋非視認性コーティングは、約０．１ｎｍから約１０００ｎｍの範囲の厚さを有する、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項６．
前記指紋非視認性コーティングは、約０．１５未満の摩擦係数を有する、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記指紋非視認性コーティングは、約０．１５未満の摩擦係数を有する、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項７．
前記指紋非視認性コーティングは、１５００サイクルの消しゴム摩耗後に少なくとも５０度の水接触角を維持することができる、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記指紋非視認性コーティングは、１５００サイクルの消しゴム摩耗後に少なくとも５０度の水接触角を維持することができる、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項８．
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
式中：
各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルであり；
各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；
－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル；
Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールであり、ここで、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換される、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項９．
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項１０．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項１１．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項１２．
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項１３．
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する条項のいずれかに記載の物品。
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項１４．
前記指紋非視認性コーティングはさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
前記指紋非視認性コーティングはさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
式中：
Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合し、
各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基であり、そして
ｎは、１以上３以下の整数である、先行する条項のいずれかに記載の物品。
条項１５．
指紋非視認性組成物であって、
指紋非視認性組成物であって、
溶媒と、
１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーとを含む、指紋非視認性組成物。
条項１６．
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、少なくとも０．０１ｍｇ／Ｌで１００ｇ／Ｌ未満の濃度で前記溶媒中に存在する、条項１５に記載の指紋非視認性組成物。
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、少なくとも０．０１ｍｇ／Ｌで１００ｇ／Ｌ未満の濃度で前記溶媒中に存在する、条項１５に記載の指紋非視認性組成物。
条項１７．
前記溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項１８．
前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ１０アルキル‐ＯＨである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ１０アルキル‐ＯＨである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項１９．
前記指紋非視認性組成物は、酸を含まない、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記指紋非視認性組成物は、酸を含まない、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２０．
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルであり；
各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；
－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル；
Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールであり、ここで、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換される、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２１．
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２２．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２３．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２４．
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２５．
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２６．
前記指紋非視認性コーティングはさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
前記指紋非視認性コーティングはさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
式中：
Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合し、
各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基であり、そして
ｎは、１以上３以下の整数である、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２７．
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、３００Ｄａ以上の重量平均分子量を有する、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、３００Ｄａ以上の重量平均分子量を有する、先行する条項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
条項２８．
指紋非視認性組成物を形成するための方法であって、
指紋非視認性組成物を形成するための方法であって、
水およびアルコールを含む第１の溶媒中で、アルキルシランを重合させて、非フッ素化アルキルシラン加水分解物を形成するステップと、
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物を第２の溶媒中で少なくとも０．０１ｍｇ／Ｌで１００ｇ／Ｌ未満の濃度まで溶解させるステップとを含む、方法。
条項２９．
前記第１の溶媒中の水のアルコールに対する比は、１：１０００から１０００：１である、条項２８に記載の方法。
前記第１の溶媒中の水のアルコールに対する比は、１：１０００から１０００：１である、条項２８に記載の方法。
条項３０．
前記重合させて、前記加水分解物を形成するステップは、前記第１の溶媒の還流まで約－１０℃の温度で実施される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記重合させて、前記加水分解物を形成するステップは、前記第１の溶媒の還流まで約－１０℃の温度で実施される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３１．
前記アルキルシランは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有し、
前記アルキルシランは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有し、
各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルであり；
各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；
－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル；
Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールであり、ここで、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３２．
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３３．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３４．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３５．
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３６．
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３７．
前記第１の溶媒中に存在する水のアルコールに対する比は、１：１０００から１０００：１の間である、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記第１の溶媒中に存在する水のアルコールに対する比は、１：１０００から１０００：１の間である、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３８．
前記アルコールは、エタノールを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記アルコールは、エタノールを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項３９．
前記第１の溶媒は、０から１４の間のｐＨを有する、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記第１の溶媒は、０から１４の間のｐＨを有する、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項４０．
前記第１の溶媒は、６から８の間のｐＨを有する、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記第１の溶媒は、６から８の間のｐＨを有する、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項４１．
前記第２の溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記第２の溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項４２．
前記方法はさらに、架橋シランの存在下で前記アルキルシランを重合させるステップを含み、前記架橋シランは、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択され、
前記方法はさらに、架橋シランの存在下で前記アルキルシランを重合させるステップを含み、前記架橋シランは、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択され、
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
式中：
Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合し、
各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基であり、そして
ｎは、１以上３以下の整数である、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項４３．
前記重合させて、前記加水分解物を形成するステップは、０．１時間以上７２時間以下で実施される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記重合させて、前記加水分解物を形成するステップは、０．１時間以上７２時間以下で実施される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項４４．
前記方法はさらに、重合した非フッ素化アルキルシラン加水分解物を精製するステップを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記方法はさらに、重合した非フッ素化アルキルシラン加水分解物を精製するステップを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項４５．
指紋非視認性表面を形成するための方法であって、
指紋非視認性表面を形成するための方法であって、
基材の表面に、
溶媒と、
１００，０００Ｄａ未満で少なくとも３００Ｄａの重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーと
を含む配合物を積層させるステップと、
を含む配合物を積層させるステップと、
前記配合物を硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップとを含む、方法。
条項４６．
前記積層させるステップは、噴霧、浸漬、拭き取り、化学蒸着（ＣＶＤ）、または物理蒸着（ＰＶＤ）を含む、条項４５に記載の方法。
前記積層させるステップは、噴霧、浸漬、拭き取り、化学蒸着（ＣＶＤ）、または物理蒸着（ＰＶＤ）を含む、条項４５に記載の方法。
条項４７．
前記溶媒は、アルコールを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記溶媒は、アルコールを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項４８．
前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ６アルキル‐ＯＨである、条項４７に記載の方法。
前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ６アルキル‐ＯＨである、条項４７に記載の方法。
条項４９．
前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、木材、金属、金属酸化物、またはポリマーからなる群から選択される材料を含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、木材、金属、金属酸化物、またはポリマーからなる群から選択される材料を含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５０．
前記硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップは、前記配合物を２０℃以上で２５０℃以下の温度まで加熱することを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップは、前記配合物を２０℃以上で２５０℃以下の温度まで加熱することを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５１．
前記硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップは、０．１時間以上４８時間以下で実行される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップは、０．１時間以上４８時間以下で実行される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５２．
前記積層させるステップは、０．１ｎｍ以上で３００ｎｍ以下の厚さを有する前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む層を形成することを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記積層させるステップは、０．１ｎｍ以上で３００ｎｍ以下の厚さを有する前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む層を形成することを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５３．
前記配合物は、０．０１ｍｇ／Ｌから１００ｇ／Ｌの濃度で前記溶媒に溶解された前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記配合物は、０．０１ｍｇ／Ｌから１００ｇ／Ｌの濃度で前記溶媒に溶解された前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５４．
硬化後、前記指紋非視認性表面は、約４５°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および約６５°を超える初期水接触角を有する、先行する条項のいずれかに記載の方法。
硬化後、前記指紋非視認性表面は、約４５°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および約６５°を超える初期水接触角を有する、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５５．
硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、約５０°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および／または約６５°を超える初期水接触角を有する表面を含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、約５０°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および／または約６５°を超える初期水接触角を有する表面を含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５６．
硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、約０．１５未満の摩擦係数を有する、先行する条項のいずれかに記載の方法。
硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、約０．１５未満の摩擦係数を有する、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５７．
硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、１５００サイクルの消しゴム摩耗後に少なくとも５０度の水接触角を維持することができる、先行する条項のいずれかに記載の方法。
硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、１５００サイクルの消しゴム摩耗後に少なくとも５０度の水接触角を維持することができる、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５８．
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルであり；
各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；
－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル；
Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールであり、ここで、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項５９．
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項６０．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項６１．
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項６２．
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項６３．
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項６４．
前記配合物はさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
前記配合物はさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
式中：
Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合し、
各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基であり、そして
ｎは、１以上３以下の整数である、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項６５．
前記配合物は、酸を含まない、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記配合物は、酸を含まない、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項６６．
前記方法はさらに、不活性ガス、Ｎ２、Ｏ２、および前述のガスの少なくとも２つの混合物からなる群から選択される少なくとも１つのガスのプラズマに前記表面を曝露することによって前記基材の前記表面を活性化するステップを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
前記方法はさらに、不活性ガス、Ｎ２、Ｏ２、および前述のガスの少なくとも２つの混合物からなる群から選択される少なくとも１つのガスのプラズマに前記表面を曝露することによって前記基材の前記表面を活性化するステップを含む、先行する条項のいずれかに記載の方法。
条項６７．
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、ハロ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される官能基を含む、先行する条項のいずれかに記載の物品、組成物、または方法。
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、ハロ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される官能基を含む、先行する条項のいずれかに記載の物品、組成物、または方法。
実施例
以下の実施例は、説明のみを目的として説明される。このような実施例に表示される部およびパーセンテージは、特に明記されていない限り、重量によるものである。
実施例１
一般的な手順
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇを、ジクロロメタン：イソプロパノール（８：１）９０ｇに溶解した。反応混合物に３．５％ＨＮＯ３水溶液１ｍＬを加え、それを最長２時間撹拌した。３０分間、１時間、２時間などのさまざまな時間に試料を採取した。採取した試料を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させた。ロータリーエバポレーターを使用して溶媒を除去した。得られた油０．１ｇをイソプロパノール２５ｍＬに溶解し、ガラスに噴霧した。オーブン中１２０℃で１５分間、コーティングしたガラスを保持した後に、ジヨードメタンと水の接触角を測定し、デルタＥ、耐摩耗性を調べた。
一般的な手順
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇを、ジクロロメタン：イソプロパノール（８：１）９０ｇに溶解した。反応混合物に３．５％ＨＮＯ３水溶液１ｍＬを加え、それを最長２時間撹拌した。３０分間、１時間、２時間などのさまざまな時間に試料を採取した。採取した試料を水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させた。ロータリーエバポレーターを使用して溶媒を除去した。得られた油０．１ｇをイソプロパノール２５ｍＬに溶解し、ガラスに噴霧した。オーブン中１２０℃で１５分間、コーティングしたガラスを保持した後に、ジヨードメタンと水の接触角を測定し、デルタＥ、耐摩耗性を調べた。
実施例２
合成
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇを、ジクロロメタン：イソプロパノール（８：１）９０ｇに溶解した。反応混合物に３．５％ＨＮＯ３水溶液１ｍＬを加え、反応物を撹拌した。３０分間撹拌した後、水で洗浄することにより反応を停止させた。有機相を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過した。ロータリーエバポレーターを使用して濾液を蒸発させた。次のステップのために得られた油を採取し、コーティング用の配合物を調製した。
合成
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇを、ジクロロメタン：イソプロパノール（８：１）９０ｇに溶解した。反応混合物に３．５％ＨＮＯ３水溶液１ｍＬを加え、反応物を撹拌した。３０分間撹拌した後、水で洗浄することにより反応を停止させた。有機相を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過した。ロータリーエバポレーターを使用して濾液を蒸発させた。次のステップのために得られた油を採取し、コーティング用の配合物を調製した。
実施例３
コーティング用の配合物
実施例２からの加水分解物を、エタノール中に約２．７５ｇ／ｌのエタノールの濃度まで溶解させることによって、コーティングのための配合物を調製した。
コーティング用の配合物
実施例２からの加水分解物を、エタノール中に約２．７５ｇ／ｌのエタノールの濃度まで溶解させることによって、コーティングのための配合物を調製した。
実施例４
耐摩耗性
耐摩耗性
低分子量アルキルシラン加水分解物を、実施例１に従って形成した。その反応時間は１時間であった。指紋耐性コーティングのための配合物を、実施例３に従って調製し、ゴリラガラスに噴霧した。コーティングを１２５℃で２０分間硬化させ、その後室温で一晩硬化させた。耐摩耗性は、ＡＳＴＭ Ｄ４０６０に従って測定した。試験片に対してＣＳ－１０硬度の研磨ディスクを用い１．５ｃｍ２の面積に２５０ｇの負荷下で、５０サイクル／分の並進速度および６ｒｐｍの回転速度を用いて試験を実施した。水と油（ジヨードメタン）に関する初期接触角を測定した。試験は１，０００または２，０００サイクル実施した。前記サイクル後、水の接触角を測定した。
実施例５
摩擦係数
実施例３に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングされたガラスを１２５℃で１時間硬化させた。摩擦係数は、Ｌａｂｔｈｉｎｋ ＦＰＴ－Ｆ１摩擦／剥離テスターを使用して測定した。結果の値は０．１０８であった。
摩擦係数
実施例３に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングされたガラスを１２５℃で１時間硬化させた。摩擦係数は、Ｌａｂｔｈｉｎｋ ＦＰＴ－Ｆ１摩擦／剥離テスターを使用して測定した。結果の値は０．１０８であった。
実施例６
ＰＤＭＳ－ＴＥＯＳの合成
モノビニル末端化ＰＤＭＳ（５ｋ）（１０ｇ、０．００２ｍｏｌ、１当量；Ｇｅｌｅｓｔから入手可能）およびトリエトキシシラン（０．５ｇ、０．００３ｍｏｌ、１．５当量）を、無水トルエン５ｍｌに溶解し、Ａｒ下で３０分間パージした。反応混合物にＰｔ（Ｄｖｓ）（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈから入手可能）０．１ｍＬを加え、９０℃にした。前記反応混合物を９０℃で約６０時間撹拌した。前記反応混合物を、室温まで冷却した後、セライトを通して直接濾過した。収量：７．９ｇ。
ＰＤＭＳ－ＴＥＯＳの合成
モノビニル末端化ＰＤＭＳ（５ｋ）（１０ｇ、０．００２ｍｏｌ、１当量；Ｇｅｌｅｓｔから入手可能）およびトリエトキシシラン（０．５ｇ、０．００３ｍｏｌ、１．５当量）を、無水トルエン５ｍｌに溶解し、Ａｒ下で３０分間パージした。反応混合物にＰｔ（Ｄｖｓ）（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈから入手可能）０．１ｍＬを加え、９０℃にした。前記反応混合物を９０℃で約６０時間撹拌した。前記反応混合物を、室温まで冷却した後、セライトを通して直接濾過した。収量：７．９ｇ。
実施例７
ＰＤＭＳ－ＴＥＯＳを用いた加水分解物
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン５ｇおよびＰＤＭＳ－ＴＥＯＳ０．５ｇを、ジクロロメタン：イソプロパノール（１０：１）５５ｇに溶解した。反応混合物に７％ＨＮＯ３水溶液０．５ｍＬを加え、撹拌した。１５分後、３０分後および１時間後に、その反応混合物から試料を採取し、水で洗浄することにより後処理を行った。有機相を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過した。ロータリーエバポレーターを使用して濾液を蒸発させた。指紋非視認性コーティングの配合物は、油をエタノールに約２．５ｇ／ｌの濃度まで溶解させることによって調製された。
ＰＤＭＳ－ＴＥＯＳを用いた加水分解物
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン５ｇおよびＰＤＭＳ－ＴＥＯＳ０．５ｇを、ジクロロメタン：イソプロパノール（１０：１）５５ｇに溶解した。反応混合物に７％ＨＮＯ３水溶液０．５ｍＬを加え、撹拌した。１５分後、３０分後および１時間後に、その反応混合物から試料を採取し、水で洗浄することにより後処理を行った。有機相を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過した。ロータリーエバポレーターを使用して濾液を蒸発させた。指紋非視認性コーティングの配合物は、油をエタノールに約２．５ｇ／ｌの濃度まで溶解させることによって調製された。
実施例８
耐摩耗性
実施例７に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングした前記ガラスを１２５℃で２０分間硬化させた。噴霧と焼成のステップを３回繰り返して、合計４層とした。コーティングした前記ガラスを室温で一晩硬化させた。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を測定した。次に、コーティングした前記ガラスを実施例４に従って摩耗させた。結果を表２に示す。
耐摩耗性
実施例７に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングした前記ガラスを１２５℃で２０分間硬化させた。噴霧と焼成のステップを３回繰り返して、合計４層とした。コーティングした前記ガラスを室温で一晩硬化させた。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を測定した。次に、コーティングした前記ガラスを実施例４に従って摩耗させた。結果を表２に示す。
実施例９
耐摩耗性
実施例７に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングした前記ガラスを１２５℃で２０分間硬化された。噴霧と焼成のステップを３回繰り返して、４層とした。前記コーティングしたガラスを室温で一晩硬化させた。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を測定した。次に、前記コーティングしたガラスを実施例４に従って摩耗させた。結果を表３に示す。
耐摩耗性
実施例７に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングした前記ガラスを１２５℃で２０分間硬化された。噴霧と焼成のステップを３回繰り返して、４層とした。前記コーティングしたガラスを室温で一晩硬化させた。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を測定した。次に、前記コーティングしたガラスを実施例４に従って摩耗させた。結果を表３に示す。
実施例１０
耐摩耗性
実施例７に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングした前記ガラスを１２５℃で２０分間硬化させた。噴霧と焼成のステップを１回繰り返し、合計２層とした。コーティングした前記ガラスを室温で３０分間硬化させた。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を測定した。次に、コーティングした前記ガラスを実施例４に従って摩耗させた。結果を表４に示す。
耐摩耗性
実施例７に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングした前記ガラスを１２５℃で２０分間硬化させた。噴霧と焼成のステップを１回繰り返し、合計２層とした。コーティングした前記ガラスを室温で３０分間硬化させた。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を測定した。次に、コーティングした前記ガラスを実施例４に従って摩耗させた。結果を表４に示す。
実施例１１
耐摩耗性
実施例７に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングした前記ガラスを１５０℃で１時間硬化させた。噴霧と焼成のステップを３回繰り返して、合計４層とした。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を、硬化前に測定した。コーティングした前記ガラスを室温で一晩硬化させた。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を測定した。その後、コーティングした前記ガラスを実施例４に従って摩耗させた。結果を表５に示す。
耐摩耗性
実施例７に従った配合物をゴリラガラスに噴霧した。コーティングした前記ガラスを１５０℃で１時間硬化させた。噴霧と焼成のステップを３回繰り返して、合計４層とした。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を、硬化前に測定した。コーティングした前記ガラスを室温で一晩硬化させた。初期の水と油（ＣＨ２Ｉ２）の接触角を測定した。その後、コーティングした前記ガラスを実施例４に従って摩耗させた。結果を表５に示す。
実施例１２
デルタＥ
指紋の性能を測定するために、理想的には黒いカード用紙または黒いＯＬＥＤディスプレイを使用して、黒色背景にある未使用のガラスのＬＡＢ値を測定した。次に、操作者は、身体の最も油分の多い部分である彼らの鼻または額を利き手で４本の指すべてを用いて２～３回拭うことが求められる。その後、彼らは直ちに４本の指すべてを用いて適度な力で１０回ガラスをタップする。これにより、そのガラス表面に４０個の指紋が付く。次いで、彼らは比色計を使用してＬＡＢ値を測定し、それらの値を使用して、未使用のガラスと指紋の付いたガラスに基づいてデルタＥを計算する。デルタＥが低いほど、指紋は見えにくくなる。次に、操作者はジーンズ素材、理想的には標準化されたＬＥＶＩＳ４０１ジーンズ素材の一片を取り、同じ領域に沿って前記ガラスを２回拭いて、それらの指紋を拭き取る。次に、操作者は、前記の未使用のガラスと比較したデルタＥを計算して、前記コーティングの洗浄可能性を決定する。前記値が０に近いほど、指紋がより見えにくくなる。
デルタＥ
指紋の性能を測定するために、理想的には黒いカード用紙または黒いＯＬＥＤディスプレイを使用して、黒色背景にある未使用のガラスのＬＡＢ値を測定した。次に、操作者は、身体の最も油分の多い部分である彼らの鼻または額を利き手で４本の指すべてを用いて２～３回拭うことが求められる。その後、彼らは直ちに４本の指すべてを用いて適度な力で１０回ガラスをタップする。これにより、そのガラス表面に４０個の指紋が付く。次いで、彼らは比色計を使用してＬＡＢ値を測定し、それらの値を使用して、未使用のガラスと指紋の付いたガラスに基づいてデルタＥを計算する。デルタＥが低いほど、指紋は見えにくくなる。次に、操作者はジーンズ素材、理想的には標準化されたＬＥＶＩＳ４０１ジーンズ素材の一片を取り、同じ領域に沿って前記ガラスを２回拭いて、それらの指紋を拭き取る。次に、操作者は、前記の未使用のガラスと比較したデルタＥを計算して、前記コーティングの洗浄可能性を決定する。前記値が０に近いほど、指紋がより見えにくくなる。
異なる加水分解物反応時間（実施例２に従った）を分析した。指紋非視認性コーティングのための配合物は、実施例３に従って調製された。前記指紋非視認性コーティングは、実施例４に従って形成された。結果を表６に示す。
表７に記載した以下の化学物質を、以下の実施例で使用した。
実施例１３
配合物
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇ、無水の２００プルーフエタノール（エチルアルコール（純粋））７０ｍＬおよび脱イオン水０．８ｍＬを、還流冷却器を備えた１００ｍＬの丸底フラスコに充填した。混合しながら、溶液を還流する約７９℃まで加熱し、２０時間保持する。次に、反応混合物を４５～５５℃で完全真空まで回転蒸発させてエタノールおよび水を除去し、ポリクロロウンデシルシロキサン８．３ｇを得る。
配合物
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇ、無水の２００プルーフエタノール（エチルアルコール（純粋））７０ｍＬおよび脱イオン水０．８ｍＬを、還流冷却器を備えた１００ｍＬの丸底フラスコに充填した。混合しながら、溶液を還流する約７９℃まで加熱し、２０時間保持する。次に、反応混合物を４５～５５℃で完全真空まで回転蒸発させてエタノールおよび水を除去し、ポリクロロウンデシルシロキサン８．３ｇを得る。
実施例１４から実施例１６
実施例１４～１６は、実施例１３と同じ方法で調製したが、表８に示すように、反応物に入れる水の量を変えて、形成されるポリクロロウンデシルシロキサンの加水分解および縮合の程度を変更した。
実施例１４～１６は、実施例１３と同じ方法で調製したが、表８に示すように、反応物に入れる水の量を変えて、形成されるポリクロロウンデシルシロキサンの加水分解および縮合の程度を変更した。
実施例１３～１６から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を使用して分析し、結果を表９に示した。エトキシに対する水のより高い比率を使用して生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンは、より高い分子量および多分散性を達成する。
実施例１３～１６から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴＩＲ）を使用して分析した。４つの実施例から得られたＦＴＩＲと出発物質の１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン（「ＣＬＡＳ」として表示）のオーバーレイを図１に示す。４つの試料はすべて、３２００～３５００ｃｍ－１の間の広いストレッチのわずかな形成を示し、ヒドロキシル基の形成が示される。また、１１００～１２００ｃｍ－１の間に発生するストレッチの広がりを見ることができる。エトキシに対する水の比率が徐々に増加すると、このＦＴＩＲストレッチがますます広がり、ポリクロロウンデシルシロキサンの含有量が高くなることが示される。
実施例１３～１６から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、プロトン核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）を使用して分析した。ＮＭＲ「積分分析」を使用して、反応後に残存する「エトキシ基」を比較することにより「反応の程度」を決定した。以下の表１０に、実施例１３～１６の計算された反応の程度を示す。エトキシに対する水の比率が徐々に増加すると、反応の程度が徐々に増加し、最終生成物中の未反応の出発物質の量が少なくなる。
実施例１７
コーティング
実施例１３～１６からの４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料を、ガラスパネル上にコーティングし、そして硬化させた。硬化させたら、水滴を使用して初期水接触角（ＩＷＡ）を測定し、ゴニオメーターを使用して初期ジヨードメタン接触角（ＩＤＡ）を測定した。前記初期角を測定したら、前記コーティングを直線的に１５００サイクル摩耗させ、その後接触角を再測定した。これらの同一試料をさらに１５００サイクル、合計３０００サイクル摩耗させ、接触角を再度測定した。以下の表１１に、コーティングされた４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料の初期および摩耗された接触角を示す。
コーティング
実施例１３～１６からの４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料を、ガラスパネル上にコーティングし、そして硬化させた。硬化させたら、水滴を使用して初期水接触角（ＩＷＡ）を測定し、ゴニオメーターを使用して初期ジヨードメタン接触角（ＩＤＡ）を測定した。前記初期角を測定したら、前記コーティングを直線的に１５００サイクル摩耗させ、その後接触角を再測定した。これらの同一試料をさらに１５００サイクル、合計３０００サイクル摩耗させ、接触角を再度測定した。以下の表１１に、コーティングされた４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料の初期および摩耗された接触角を示す。
実施例１８
配合物
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇ、１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタン（ＢＩＳ）０．７２ｇ、無水の２００プルーフエタノール７０ｍＬおよび脱イオン水０．８８ｍＬを、還流冷却器を備えた１００ｍＬの丸底フラスコに充填した。混合しながら、溶液を還流する約７９℃まで加熱し、２０時間保持する。次に、反応混合物を４５～５５℃で完全真空まで回転蒸発させてエタノールおよび水を除去し、ポリクロロウンデシルシロキサン８．８ｇを得る。
配合物
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇ、１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタン（ＢＩＳ）０．７２ｇ、無水の２００プルーフエタノール７０ｍＬおよび脱イオン水０．８８ｍＬを、還流冷却器を備えた１００ｍＬの丸底フラスコに充填した。混合しながら、溶液を還流する約７９℃まで加熱し、２０時間保持する。次に、反応混合物を４５～５５℃で完全真空まで回転蒸発させてエタノールおよび水を除去し、ポリクロロウンデシルシロキサン８．８ｇを得る。
実施例１９から実施例２１
実施例１９～２１を、実施例１６と同じ方法で調製したが、反応物に入れる水の量を変えて、形成されるポリクロロウンデシルシロキサンの加水分解および縮合の程度を変更した。表１２に、これら４つの実施例の詳細を示す。実施例２１は２倍スケールで行った。
実施例１９～２１を、実施例１６と同じ方法で調製したが、反応物に入れる水の量を変えて、形成されるポリクロロウンデシルシロキサンの加水分解および縮合の程度を変更した。表１２に、これら４つの実施例の詳細を示す。実施例２１は２倍スケールで行った。
実施例１８～２１から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を使用して分析し、結果を表１３に示した。エトキシに対する水のより高い比率を使用して生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンは、より高い分子量と多分散性を実現する。
実施例１８～２１から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴＩＲ）を使用して分析した。４つの実施例から得られたＦＴＩＲと出発物質の１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン（「ＣＬＡＳ」として表示）のオーバーレイを図２に示す。４つの試料はすべて、３２００～３５００ｃｍ－１の間の広いストレッチのわずかな形成を示し、ヒドロキシル基の形成が示される。また、１１００～１２００ｃｍ－１の間に発生するストレッチの広がりを見ることができる。エトキシに対する水の比率が徐々に増加すると、このＦＴＩＲストレッチがますます広がり、ポリクロロウンデシルシロキサンの含有量が高くなることが示される。
実施例１８～２１から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、プロトン核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）を使用して分析した。ＮＭＲ「積分分析」を使用して、反応後に残存する「エトキシ基」を比較することにより「反応の程度」を決定した。以下の表１４に、実施例１８～２１の計算された反応の程度を示す。エトキシに対する水の比率が徐々に増加すると、反応の程度が徐々に増加し、最終生成物中の未反応の出発物質の量が少なくなる。
実施例２２
コーティング
実施例１８～２１からの４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料を、ガラスパネル上にコーティングし、そして硬化させた。硬化させたら、水滴を使用して初期水接触角（ＩＷＡ）を測定し、ゴニオメーターを使用して初期ジヨードメタン接触角（ＩＤＡ）を測定した。前記初期角を測定したら、前記コーティングを直線的に１５００サイクル摩耗させ、その後接触角を再測定した。これらの同一試料をさらに１５００サイクル、合計３，０００回摩耗させ、接触角を再度測定した。以下の表１５に、コーティングされた４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料の初期および摩耗された接触角を示す。
コーティング
実施例１８～２１からの４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料を、ガラスパネル上にコーティングし、そして硬化させた。硬化させたら、水滴を使用して初期水接触角（ＩＷＡ）を測定し、ゴニオメーターを使用して初期ジヨードメタン接触角（ＩＤＡ）を測定した。前記初期角を測定したら、前記コーティングを直線的に１５００サイクル摩耗させ、その後接触角を再測定した。これらの同一試料をさらに１５００サイクル、合計３，０００回摩耗させ、接触角を再度測定した。以下の表１５に、コーティングされた４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料の初期および摩耗された接触角を示す。
実施例２３
配合物
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇ、１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタン（ＴＲＩＳ）１．０４ｇ、無水の２００プルーフエタノール７０ｍＬおよび脱イオン水０．９３ｍＬを、還流冷却器を備えた１００ｍＬの丸底フラスコに充填した。混合しながら、溶液を還流する約７９℃まで加熱し、２０時間保持する。その後、反応混合物を４５～５５℃で完全真空まで回転蒸発させてエタノールと水を除去し、ポリクロロウンデシルシロキサン９．２ｇを得る。
配合物
１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン１０ｇ、１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタン（ＴＲＩＳ）１．０４ｇ、無水の２００プルーフエタノール７０ｍＬおよび脱イオン水０．９３ｍＬを、還流冷却器を備えた１００ｍＬの丸底フラスコに充填した。混合しながら、溶液を還流する約７９℃まで加熱し、２０時間保持する。その後、反応混合物を４５～５５℃で完全真空まで回転蒸発させてエタノールと水を除去し、ポリクロロウンデシルシロキサン９．２ｇを得る。
実施例２４から実施例２６
実施例２４～２６は、実施例２３と同じ方法で調製したが、反応に入れる水の量を変えて、形成されるポリクロロウンデシルシロキサンの加水分解および縮合の程度を変更した。表１６に、これら４つの実施例の詳細を示す。実施例２６は２倍のスケールで行った。
実施例２４～２６は、実施例２３と同じ方法で調製したが、反応に入れる水の量を変えて、形成されるポリクロロウンデシルシロキサンの加水分解および縮合の程度を変更した。表１６に、これら４つの実施例の詳細を示す。実施例２６は２倍のスケールで行った。
実施例２３～２６から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を使用して分析し、結果を表１７に示した。エトキシに対する水のより高い比率を使用して生成されたポリクロロウンデシルシロキサンは、より高い分子量と多分散性を実現する。
実施例２３～２６から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴＩＲ）を使用して分析した。４つの実施例から得られたＦＴＩＲと出発物質の１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン（「ＣＬＡＳ」として表示）のオーバーレイを図３に示す。４つの試料はすべて、３２００～３５００ｃｍ－１の間の広いストレッチのわずかな形成を示し、ヒドロキシル基の形成が示される。また、１１００～１２００ｃｍ－１の間に発生するストレッチの広がりを見ることができる。エトキシに対する水の比率が徐々に増加すると、このＦＴＩＲストレッチがますます広がり、ポリクロロウンデシルシロキサンの含有量が高くなることが示される。
実施例２３～２６から生成された前記ポリクロロウンデシルシロキサンを、プロトン核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）を使用して分析した。ＮＭＲ「積分分析」を使用して、反応後に残存する「エトキシ基」を比較することにより「反応の程度」を決定した。以下の表１８に、実施例２１～２４の計算された反応の程度を示す。エトキシに対する水の比率が徐々に増加すると、反応の程度が徐々に増加し、最終生成物中の未反応の出発物質の量が少なくなる。
実施例２３～２６からの４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料を、ガラスパネル上にコーティングし、そして硬化させた。硬化させたら、水滴を使用して初期水接触角（ＩＷＡ）を測定し、ゴニオメーターを使用して初期ジヨードメタン接触角（ＩＤＡ）を測定した。初期角を測定したら、前記コーティングを直線的に１，５００サイクル摩耗させ、その後接触角を再測定した。これらの同一試料をさらに１５００サイクル、合計３，０００回摩耗させ、接触角を再度測定した。以下の表１９に、コーティングされた４つの前記ポリクロロウンデシルシロキサンの試料の初期および摩耗された接触角を示す。
実施例２７
熱重量分析
熱重量分析（ＴＧＡ）を、ＴＡ機器による熱重量分析装置Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ Ｓｅｒｉｅｓで実施した。試料を、プラチナパン内で室温から７００℃まで、窒素パージ（２５ｍＬ／分）下で２０℃／分の加熱速度で加熱した。
１１－クロロウンデシルトリエトキシシランのＴＧＡデータを図４に示す。
熱重量分析
熱重量分析（ＴＧＡ）を、ＴＡ機器による熱重量分析装置Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ Ｓｅｒｉｅｓで実施した。試料を、プラチナパン内で室温から７００℃まで、窒素パージ（２５ｍＬ／分）下で２０℃／分の加熱速度で加熱した。
１１－クロロウンデシルトリエトキシシランのＴＧＡデータを図４に示す。
本明細書に記載の配合物の重合を理解するために、エトキシに対する水の比率を、以下の試薬混合物：純粋な１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン、１４：１の１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン対１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタン、１４：１の１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン対１，１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタンに関して変化させた。各試料セットについて、以下の水対エトキシ比、１．０：２．０、１．０：１．０、２．０：１．０、および３．０：１．０を使用して４つの実験を実施した。反応温度、時間、ｐＨはすべて制御された。
より高い分子量は、重量減少対温度のグラフで右（より高い温度）にシフトする重量減少として、またはより高い温度で発生する誘導体の重量減少のピークとして、ＴＧＡに現れる可能性がある。シロキサンの場合、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ連結が分解する５００℃で２番目の重量減少ステップも観察され得る。この重量減少ステップは、温度に対する誘導体の重量減少で特に顕著である。純粋な１１－クロロウンデシルトリエトキシシランにおける水のエトキシに対する比率を変化させた実験を図５および６に示す。
反応中に存在する水当量の量を増加させながら、反応パラメータを一定に保つ。反応物中により多くの水を組み込むことにより、より多くの加水分解が起こり、これにより、シラノール結合の濃度が増加し、重合度が増加し得る。
ＴＧＡデータは、水分含有量が多い試料では分解開始温度が上昇し、５００℃でより高い誘導体の重量減少ピークが観察されたことを示す。これは、重合によって形成された－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－結合が多いことに起因する可能性がある。これらの結合の熱分解温度は約５００℃である。
水分含有量が最も高い２つの試料は、１００℃で重量減少を示した。これは、前記試料に残存する残余の水またはシラノール末端基の追加の縮合が原因であり得る。反応中の水分含有量が最も高い試料が存在し、その試料により、高濃度でＳｉ－ＯＨ結合が形成される。
前記ＴＧＡデータから、含水量が多い試料では分解開始温度が上昇することが観察され、５００℃でより高い誘導体の重量減少ピークが観察された。これは、重合によって形成される－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－結合が増加するためである。これらの結合の熱分解温度は約５００℃である。
興味深いことに、水分含有量が最も高い２つの試料では、１００℃で大幅な重量減少が観察される。これは、前記試料に残存する残余の水またはシラノール末端基の追加の縮合が原因であり得る。反応中の水分含有量が最も高い試料が存在し、その試料により、より高濃度でＳｉ－ＯＨ結合が形成される。
１１－クロロウンデシルトリエトキシシランと１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタン（ＢＩＳ）の混合物（１４：１）中の水のエトキシに対する比率を変化させた実験を図７および８に示す。純粋な１１－クロロウンデシルトリエトキシシランの実験と同様の傾向が観察され、分解開始温度が上昇し（右シフト）、５００℃での誘導体の重量減少ピークの大きさは、水分の増加につれて増大する。
１１－クロロウンデシルトリエトキシシランと１，１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタン（ＴＲＩＳ）の混合物（１４：１）中の水のエトキシに対する比率を変化させた実験を図９および１０に示す。純粋な１１－クロロウンデシルトリエトキシシランおよび１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン＋ＢＩＳ １４：１比の実験と同様の傾向が観察され、分解開始温度が上昇し（右シフト）、５００℃での誘導体の重量減少ピークの大きさが、水分の増加につれて、程度は低いが、増大する。
分解温度のシフトは、先の２つの試料セットと比較して、すべての１１－クロロウンデシルトリエトキシシランおよびＴＲＩＳ試料ではるかに小さくなっている。これは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン、ＴＲＩＳ、および水の反応が、１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン単独または１１－クロロウンデシルトリエトキシシランとＢＩＳの組み合わせよりも速く起こる可能性があることを示唆し得る。特に、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランとＴＲＩＳの反応では、水対エトキシ比が２：１を超えると、１００℃で有意な分解ピークが観察される。これは、不純な溶媒および方法の最後での水の除去に起因する水の存在を示している可能性があるか、または縮合し続けて最終的なＩＦＰ加水分解物に水を放出する未反応のシラノール基に起因する可能性がある。５００℃の分解ピークの大きさは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン単独および１１－クロロウンデシルトリエトキシシランとＢＩＳと比較して、明確な増加傾向を示していない。これは、検討された水のエトキシに対する比が、シラノール／シロキサンの加水分解／縮合反応の飽和点をはるかに超えている可能性があることを示唆し得る。
さまざまな水対エトキシ比で設定された各試料から、ＴＧＡデータは、反応内の加水分解を増加させるために水を増やすと、縮合に由来する重合の度合いがさらに高くなる可能性があることを示唆している。
実施例２８
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
Ｓｈｉｍａｄｚｕ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ－Ｉ ＬＣ－２０３０Ｃ Ｐｌｕｓ ＧＰＣを使用して、ＩＦＰ加水分解物の分子量を決定した。図１１は、１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン出発物質の分子量と４つの異なるＩＦＰ加水分解物のオーバーレイを示す。これらのＩＦＰ加水分解物は、同一の１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン出発物質から製造されたが、４つの異なる水対アルコキシ比、１：２、１：１、２：１および３：１の水：アルコキシを使用した。結果を図１１に示す。水のレベルが増加すると、分子量分布の右側へのシフトで示されるように、最終的な分子量は増大する。
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
Ｓｈｉｍａｄｚｕ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ－Ｉ ＬＣ－２０３０Ｃ Ｐｌｕｓ ＧＰＣを使用して、ＩＦＰ加水分解物の分子量を決定した。図１１は、１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン出発物質の分子量と４つの異なるＩＦＰ加水分解物のオーバーレイを示す。これらのＩＦＰ加水分解物は、同一の１１－クロロウンデシルトリエトキシシラン出発物質から製造されたが、４つの異なる水対アルコキシ比、１：２、１：１、２：１および３：１の水：アルコキシを使用した。結果を図１１に示す。水のレベルが増加すると、分子量分布の右側へのシフトで示されるように、最終的な分子量は増大する。
水対エトキシ比が３：１以上の場合、前記出発物質の８７％以上がオリゴマーまたはポリマーに変換される可能性がある。
前記方法、機器、およびシステムは特定の実施形態に関連して説明されているが、本明細書の実施形態はすべての点で限定的ではなく例示的であることを意図しているため、発明の範囲が記載された特定の実施形態に限定されることを意図しない。
特に明記しない限り、本明細書に記載の任意の方法が、そのステップが特定の順序で実施されることを必要とすると解釈されることを決して意図するものではない。したがって、方法の請求項が実際にそのステップが従うべき順序を記載していないか、または前記ステップが特定の順序に限定されることが請求項または明細書に具体的に明記されていない場合、いかなる点でも、順序が推論されることを決して意図するものではない。
範囲は、本明細書では、「約」１つの特定値から、および／または「約」別の特定値までと表現されてもよい。そのような範囲が表される場合、別の実施形態は、１つの特定値からおよび／または他の特定値までを含む。同様に、値が近似として表される場合、先行詞「約」を使用することにより、前記特定値が別の実施形態を形成することが理解される。さらに、
前記範囲の各々の終点は、他方の終点に関して両方が重要であり、他方の終点とは独立していることが理解される。
前記範囲の各々の終点は、他方の終点に関して両方が重要であり、他方の終点とは独立していることが理解される。
開示された方法、機器およびシステムを実施するために使用され得る構成要素が開示される。これらおよびその他の構成要素は本明細書に開示されており、これらの構成要素の組み合わせ、サブセット、相互作用、群などが開示されている場合、これらの様々な個別および集合的な組合せおよび置換の各々の特定の参照は明示的に開示されていないが、全ての方法、装置およびシステムについて、各々が具体的に考慮され、本明細書に記載されている。これは、これらに限定されないが、開示された方法の工程を含む、本出願の全ての態様に当てはまる。したがって、実施可能な追加の工程が多岐に渡る場合、これらの追加の工程の各々は、開示された方法の任意の特定の実施形態または実施形態の組み合わせで実施できることが理解される。
本明細書で参照される特許、出願、および刊行物はいずれも、その全体が参照により援用されることにさらに留意されるべきである。
Claims (67)
- 物品であって、
基材と、
前記基材に積層された指紋非視認性コーティングとを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む、物品。 - 物品であって、
基材と、
前記基材に積層された指紋非視認性コーティングとを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含み、
前記指紋非視認性コーティングは、１０００ｎｍ未満で０．１ｎｍを超える厚さを有する、物品。 - 前記指紋非視認性コーティングは、約５０°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および／または約６５°を超える初期水接触角を有する表面を含む、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、木材、金属、金属酸化物、またはポリマーからなる群から選択される材料を含む、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記指紋非視認性コーティングは、約０．１ｎｍから約１０００ｎｍの範囲の厚さを有する、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記指紋非視認性コーティングは、約０．１５未満の摩擦係数を有する、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記指紋非視認性コーティングは、１５００サイクルの消しゴム摩耗後に少なくとも５０度の水接触角を維持することができる、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
式中：
各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルであり；
各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；
－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル；
Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールであり、ここで、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換される、先行する請求項のいずれかに記載の物品。 - 前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する請求項のいずれかに記載の物品。
- 前記指紋非視認性コーティングはさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
式中：
Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合し、
各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基であり、そして
ｎは、１以上３以下の整数である、先行する請求項のいずれかに記載の物品。 - 指紋非視認性組成物であって、
溶媒と、
１００，０００Ｄａ未満の重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーとを含む、指紋非視認性組成物。 - 前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、少なくとも０．０１ｍｇ／Ｌで１００ｇ／Ｌ未満の濃度で前記溶媒中に存在する、請求項１５に記載の指紋非視認性組成物。
- 前記溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ１０アルキル‐ＯＨである、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 前記指紋非視認性組成物は、酸を含まない、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルであり；
各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；
－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル；
Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールであり、ここで、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換される、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。 - 前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 前記指紋非視認性コーティングはさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
式中：
Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合し、
各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基であり、そして
ｎは、１以上３以下の整数である、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。 - 前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、３００Ｄａ以上の重量平均分子量を有する、先行する請求項のいずれかに記載の指紋非視認性組成物。
- 指紋非視認性組成物を形成するための方法であって、
水およびアルコールを含む第１の溶媒中で、アルキルシランを重合させて、非フッ素化アルキルシラン加水分解物を形成するステップと、
前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物を第２の溶媒中で少なくとも０．０１ｍｇ／Ｌで１００ｇ／Ｌ未満の濃度まで溶解させるステップとを含む、方法。 - 前記第１の溶媒中の水のアルコールに対する比は、１：１０００から１０００：１である、請求項２８に記載の方法。
- 前記重合させて、前記加水分解物を形成するステップは、前記第１の溶媒の還流まで約－１０℃の温度で実施される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記アルキルシランは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有し、
各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルであり；
各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；
－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル；
Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールであり、ここで、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。 - 前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ６アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランを含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第１の溶媒中に存在する水のアルコールに対する比は、１：１０００から１０００：１の間である、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記アルコールは、エタノールを含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第１の溶媒は、０から１４の間のｐＨを有する、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第１の溶媒は、６から８の間のｐＨを有する、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第２の溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記方法はさらに、架橋シランの存在下で前記アルキルシランを重合させるステップを含み、前記架橋シランは、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択され、
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
式中：
Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合し、
各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基であり、そして
ｎは、１以上３以下の整数である、先行する請求項のいずれかに記載の方法。 - 前記重合させて、前記加水分解物を形成するステップは、０．１時間以上７２時間以下で実施される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記方法はさらに、重合した前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物を精製するステップを含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 指紋非視認性表面を形成するための方法であって、
基材の表面に、
溶媒と、
１００，０００Ｄａ未満で少なくとも３００Ｄａの重量平均分子量を有する非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーと
を含む配合物を積層させるステップと、
前記配合物を硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップとを含む、方法。 - 前記積層させるステップは、噴霧、浸漬、拭き取り、化学蒸着（ＣＶＤ）、または物理蒸着（ＰＶＤ）を含む、請求項４５に記載の方法。
- 前記溶媒は、アルコールを含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記アルコールは、Ｃ１～Ｃ６アルキル‐ＯＨである、請求項４７に記載の方法。
- 前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、木材、金属、金属酸化物、またはポリマーからなる群から選択される材料を含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップは、前記配合物を２０℃以上で２５０℃以下の温度まで加熱することを含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記硬化させて、前記指紋非視認性表面を形成するステップは、０．１時間以上４８時間以下で実行される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記積層させるステップは、０．１ｎｍ以上で３００ｎｍ以下の厚さを有する前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む層を形成することを含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記配合物は、０．０１ｍｇ／Ｌから１００ｇ／Ｌの濃度で前記溶媒に溶解された前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーを含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 硬化後、前記指紋非視認性表面は、約４５°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および約６５°を超える初期水接触角を有する、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、約５０°未満のジヨードメタンを使用する初期接触角および／または約６５°を超える初期水接触角を有する表面を含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、約０．１５未満の摩擦係数を有する、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 硬化後、前記指紋非視認性コーティングは、１５００サイクルの消しゴム摩耗後に少なくとも５０度の水接触角を維持することができる、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、以下の構造式：
（ＲＡ）３ＳｉＲＢ
を有するアルキルシランから形成され、
各ＲＡは独立して、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、または－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニルであり；
各ＲＢはＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニルであり；
－ＯＣ１～Ｃ１０アルキル、－ＯＣ６～Ｃ１０アルキルアリール、－ＯＣ２～Ｃ１０アルケニル、－ＯＣ３～Ｃ１０アルキニル、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ６～Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、またはＣ２～Ｃ２０アルキニル中の各水素原子は、独立して任意に、重水素、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ１、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、ＳＣ１～Ｃ６アルキル、Ｓ（Ｏ）Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）２Ｃ１～Ｃ６アルキル、－Ｓ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｓ（Ｏ）２ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、Ｓ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｓ（Ｏ）２Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３、－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｒ１）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｎ（Ｈ）Ｃ１～Ｃ６アルキル－ＮＨ２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２、または－Ｓｉ（－ＯＣ１～Ｃ６アルキル）３で置換され；そして
各Ｒ１は独立して、重水素、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール、Ｃ２～Ｃ１０アルケニル、Ｃ２～Ｃ１０アルキニル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルアリール、または－Ｃ１～Ｃ１０アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキル；
Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール－Ｏ－Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリールであり、ここで、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、Ｃ１～Ｃ１０アルキルアリール中の各水素原子は、任意に、ヒドロキシルで置換される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。 - 前記式中、ＲＡは、－ＯＣ１～Ｃ１０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記式中、ＲＢは、Ｃ６～Ｃ２０アルキルであり、Ｃ６～Ｃ２０アルキル中の各水素原子は、独立して任意に、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＯＲ１、－ＣＯ２Ｈ、－ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－Ｐ（Ｏ）（Ｃ１～Ｃ６アルキル）２、－ＰＯ３Ｈ２によって置換され、ここでＲ１は独立して、重水素または－Ｃ１～Ｃ６アルキル－Ｏ－Ｃ１～Ｃ６アルキルである、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記アルキルシランは、（クロロウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリエトキシ）シラン、（クロロヘキシル）（トリメトキシ）シラン、１１－（２－メトキシエトキシ）ウンデシルトリメトキシシラン、（アミノウンデシル）（トリエトキシ）シラン、（アミノウンデシル）（トリメトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリエトキシ）シラン、（ヒドロキシデシル）（トリメトキシ）シラン；（ウンデシリン酸）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシウンデシル）（トリエトキシ）シラン；（ヒドロキシヘプチル）（トリエトキシ）シラン；（ホスホウンデシル）（トリエトキシ）シランからなる群から選択される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記アルキルシランは、１１－クロロウンデシルトリエトキシシランである、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記配合物はさらに、以下の式（Ｉ）～（ＩＶ）からなる群から選択される架橋シランを含み、
（Ｉ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ１、
（ＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ２－（ＳｉＸｎ）、
（ＩＩＩ）（ＳｉＸｎ）－Ｙ３－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）、および
（ＩＶ）（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）－Ｙ４－（ＳｉＸｎ）－（ＳｉＸｎ）
式中：
Ｙ１は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（Ｉ）の各シリコンは原子Ｙ１中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ２は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ２中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ３は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＩＩ）の各シリコンは原子Ｙ３中の同じまたは異なる炭素に結合し、
Ｙ４は（Ｃ２～Ｃ３０）線状、分岐またはシクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリールであり、式（ＩＶ）の各シリコンは原子Ｙ４中の同じまたは異なる炭素に結合し、
各Ｘは、独立して、ハロゲン、（Ｃ１～Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ２～Ｃ６）カルボキシ、および（Ｃ１～Ｃ６）オキシモ、（Ｃ１～Ｃ６）アリールアルコキシから選択される一価の脱離基であり、そして
ｎは、１以上３以下の整数である、先行する請求項のいずれかに記載の方法。 - 前記配合物は、酸を含まない、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記方法はさらに、不活性ガス、Ｎ２、Ｏ２、および前述のガスの少なくとも２つの混合物からなる群から選択される少なくとも１つのガスのプラズマに前記表面を曝露することによって前記基材の前記表面を活性化するステップを含む、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記非フッ素化アルキルシラン加水分解物ポリマーは、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、ハロ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される官能基を含む、先行する請求項のいずれかに記載の物品、組成物、または方法。
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