JP2018523592A - オルガノシリコーン樹脂アルミベース銅張積層板及びその調製方法 - Google Patents
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Abstract
Description
オルガノシリコーン樹脂 100重量部
ビニル末端シリコーンオイル 40〜100重量部
触媒 0.0001〜0.5重量部
抑制剤 0.00001〜0.1重量部を含む、オルガノシリコーン樹脂アルミベース銅張積層板。
オルガノシリコーン樹脂 100重量部
ビニル末端シリコーンオイル 40〜100重量部
助剤 0.1〜5部
触媒 0.0001〜0.5重量部
抑制剤 0.00001〜0.1重量部
オルガノシリコーン樹脂組成物に占める体積比が20〜45%の熱伝導性フィラー
オルガノシリコーン樹脂組成物に占める質量比が0〜30%の白色フィラーを含み、
オルガノシリコーン樹脂の架橋剤はメチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーン樹脂又はメチルフェニルハイドロジェンシリコーン樹脂のうちの任意の1種又は少なくとも2種の混合物であり、架橋剤中のSi−Hとオルガノシリコーン樹脂中のSi−Viのモル比は1.0〜1.7である。
前記オルガノシリコーン樹脂組成物の組成に基づき、各成分を混合し、オルガノシリコーン樹脂接着液を得るステップ(1)と、
オルガノシリコーン樹脂接着液を銅箔に塗布し、硬化処理せずに、塗布銅箔を得るステップ(2)と、
アルミニウム板と塗布銅箔を積層し、真空状態で加圧成形し、オルガノシリコーン樹脂アルミベース銅張積層板を得るステップ(3)とを含む。
Si−H(ケイ素水素)/Si−Vi(ケイ素ビニル基)=1.6(モル比)に従って処方を設計し、メチルフェニルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基1.0質量%)を秤量し、粘度が250mPa・sのメチルフェニルビニル末端シリコーンオイル50部に溶解して、均一に溶解した後、メチルフェニルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量1.3質量%)4.56部及びγ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(米国ダウコーニング社製)0.1部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してヘキシノール0.001部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルフェニルビニル錯体0.01部を加え、続いて30min撹拌して粒径3.5μmの窒化ホウ素150部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、オルガノシリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H/Si−Vi=1.4(モル比)に従って処方を設計し、メチルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基3.5質量%)を秤量し、粘度が3000mPa・sのメチルビニル末端シリコーンオイル70部に溶解して、均一に溶解した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量1.0質量%)18.15部及びW−903分散剤(ドイツBYK社製)1.8部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してヘキシノール0.00005部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルビニル錯体0.005部を加え、続いて30min撹拌して粒径35μmの炭化ケイ素38部、3.5μmの酸化アルミニウム300部及びルチル型二酸化チタン40部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、オルガノシリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H/Si−Vi=1.1(モル比)に従って処方を設計し、メチルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基5.5質量%)を秤量し、粘度9500mPa・sのメチルビニル末端シリコーンオイル100部に溶解して、均一に溶解した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量0.8質量%)28.0部及びγ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(米国ダウコーニング社製)4.5部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してテトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン(D4vi)0.1部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルビニル錯体0.0001部を加え、続いて30min撹拌して粒径3.5μmの酸化アルミニウム55部及び窒化アルミニウム155部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、オルガノシリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H(ケイ素水素)/Si−Vi(ケイ素ビニル基)=1.6(モル比)で処方を設計し、メチルフェニルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基1.0質量%)を秤量し、粘度が250mPa・sのメチルフェニルビニル末端シリコーンオイル50部に溶解して、均一に溶解した後、メチルフェニルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量1.3質量%)4.56部及びγ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(米国ダウコーニング社製)0.1部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してヘキシノール0.001部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルフェニルビニル錯体0.01部を加え、続いて30min撹拌して粒径3.5μmの窒化ホウ素300部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、シリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H/Si−Vi=1.4(モル比)に従って処方を設計し、メチルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基3.5質量%)を秤量し、粘度が3000mPa・sのメチルビニル末端シリコーンオイル70部に溶解して、均一に溶解した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量1.0質量%)18.15部及びW−903分散剤(ドイツBYK社製)1.8部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してヘキシノール0.00005部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルビニル錯体0.005部を加え、続いて30min撹拌して粒径35μmの炭化ケイ素20部、3.5μmの酸化アルミニウム100部及びルチル型二酸化チタン40部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、シリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H/Si−Vi=1.1(モル比)に従って処方を設計し、メチルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基10.0質量%)を秤量し、粘度が9500mPa・sのメチルビニル末端シリコーンオイル100部に溶解して、均一に溶解した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量0.8質量%)50.9部及びγ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(米国ダウコーニング社製)4.5部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してテトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン(D4vi)0.1部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルビニル錯体0.0001部を加え、続いて30min撹拌して粒径3.5μmの酸化アルミニウム55部及び窒化アルミニウム155部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、オルガノシリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H/Si−Vi=0.7(モル比)で処方を設計し、メチルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基5.5質量%)を秤量し、粘度が9500mPa・sのメチルビニル末端シリコーンオイル100部に溶解して、均一に溶解した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量0.8質量%)17.8部及びγ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(米国ダウコーニング社製)4.5部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してテトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン0.1部(D4vi)を秤量し、30min撹拌して白金−メチルビニル錯体0.0001部を加え、続いて30min撹拌して粒径3.5μmの酸化アルミニウム55部及び窒化アルミニウム155部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、シリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H(ケイ素水素)/Si−Vi(ケイ素ビニル基)=1.6(モル比)に従って処方を設計し、メチルフェニルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基1.0質量%)を秤量し、トルエン50部に溶解して、均一に溶解した後、メチルフェニルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量1.3質量%)4.56部及びγ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(米国ダウコーニング社製)0.1部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してヘキシノール0.001部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルフェニルビニル錯体0.01部を加え、続いて30min撹拌して粒径3.5μmの窒化ホウ素150部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、オルガノシリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H(ケイ素水素)/Si−Vi(ケイ素ビニル基)=1.6(モル比)に従って処方を設計し、メチルフェニルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基1.0質量%)を秤量し、粘度が250mPa・sのメチルフェニルビニル末端シリコーンオイル30部に溶解して、均一に溶解した後、メチルフェニルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量1.3質量%)4.56部及びγ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(米国ダウコーニング社製)0.1部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してヘキシノール0.001部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルフェニルビニル錯体0.01部を加え、続いて30min撹拌して粒径3.5μmの窒化ホウ素150部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、オルガノシリコーン樹脂組成物を得た。
Si−H(ケイ素水素)/Si−Vi(ケイ素ビニル基)=1.6(モル比)に従って処方を設計し、メチルフェニルビニルシリコーン樹脂100部(ビニル基1.0質量%)を秤量し、粘度が250mPa・sのメチルフェニルビニル末端シリコーンオイル120部に溶解して、均一に溶解した後、メチルフェニルハイドロジェンシリコーンオイル(水素含有量1.3質量%)4.56部及びγ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(米国ダウコーニング社製)0.1部を加え、均一になるまで迅速に撹拌してヘキシノール0.001部を秤量し、30min撹拌して白金−メチルフェニルビニル錯体0.01部を加え、続いて30min撹拌して粒径3.5μmの窒化ホウ素150部を加え、室温で1h撹拌し、20min乳化して、オルガノシリコーン樹脂組成物を得た。
先ず、54.49g(0.4mol)のメチルトリメトキシシラン、14.82g(0.1mol)のビニルトリメトキシシラン及び70gのトルエンを順に秤量し、均一に混合し、冷却装置・撹拌装置・加熱装置付きの250mlの四つ口フラスコに投入し、次に30℃で32.40gのPH=1の塩酸水溶液を徐々に滴下し、滴下終了後、50℃に加熱して続いて5〜6h反応させ、最終的に反応生成物を分離し、中性になるまで水洗し、減圧蒸留して、粘度31850mPaS、ビニル含有量7.2%、収率93.5%の無色透明のオルガノシリコーン樹脂31.5gを得た。オルガノシリコーン樹脂生成物6.0g、ビニルシリコーンオイル(η=10000mPaS、Vi%=0.4)1.4g、ハイドロジェンシリコーン樹脂(η=630mPaS、H%=1.0)2.0g、Karstedt触媒(5000ppm)0.04g、KH−560/550(9/1)加水分解物0.16g、エチニルシクロヘキサノール0.01gを秤量し、100mlのフラスコに投入して均一に混合し、シリコーン樹脂組成物を得た。
剥離強度:IPC−TM−6502.4.8方法でテストする。
ディップ半田付耐性:IPC−TM−6502.4.13.1方法でテストする。
Claims (10)
- オルガノシリコーン樹脂アルミベース銅張積層板であって、順に設置された銅箔層、オルガノシリコーン樹脂組成物で調製された絶縁層及びアルミニウム板層を含み、前記オルガノシリコーン樹脂組成物は、
オルガノシリコーン樹脂 100重量部
ビニル末端シリコーンオイル 40〜100重量部
触媒 0.0001〜0.5重量部
抑制剤 0.00001〜0.1重量部を含む、オルガノシリコーン樹脂アルミベース銅張積層板。 - 前記オルガノシリコーン樹脂組成物は熱伝導性フィラーを更に含み、
好ましくは、前記熱伝導性フィラーは酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛又はシリカの任意の1種又は少なくとも2種の混合物であり、
好ましくは、前記熱伝導性フィラーのオルガノシリコーン樹脂組成物に占める体積百分率は20〜45%である、ことを特徴とする請求項1に記載のアルミベース銅張積層板。 - 前記オルガノシリコーン樹脂組成物は白色フィラーを更に含み、
好ましくは、前記白色フィラーは酸化アルミニウム、二酸化チタン、水酸化アルミニウム、シリカ又は酸化亜鉛のうちの任意の1種又は少なくとも2種の混合物であり、
好ましくは、前記白色フィラーのオルガノシリコーン樹脂組成物に占める質量百分率は0〜30%である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のアルミベース銅張積層板。 - 前記オルガノシリコーン樹脂はメチルビニルシリコーン樹脂又は/及びメチルフェニルビニルシリコーン樹脂であり、
好ましくは、前記オルガノシリコーン樹脂中のビニル基は0.5〜6.0質量%、好ましくは0.8〜4.5質量%である、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のアルミベース銅張積層板。 - 前記オルガノシリコーン樹脂組成物は架橋剤を更に含み、
好ましくは、架橋剤はメチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーン樹脂又はメチルフェニルハイドロジェンシリコーン樹脂のうちの任意の1種又は少なくとも2種の混合物であり、
好ましくは、前記架橋剤に含まれる水素の質量百分率は0.5〜1.6%、好ましくは0.7〜1.3%であり、
好ましくは、前記架橋剤中のSi−H(ケイ素水素)とオルガノシリコーン樹脂中のSi−Vi(ケイ素ビニル基)モル比は1.0〜1.7、好ましくは1.2〜1.6である、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のアルミベース銅張積層板。 - 前記ビニル末端シリコーンオイルはメチルビニル末端シリコーンオイル又は/及びメチルフェニルビニル末端シリコーンオイルであり、
好ましくは、前記ビニル末端シリコーンオイルの粘度は200〜10000mPa・s、好ましくは500〜8000mPa・sである、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のアルミベース銅張積層板。 - 前記触媒は白金触媒、好ましくは白金−メチルビニル錯体又は/及び白金−メチルフェニルビニル錯体であり、
好ましくは、前記触媒の粘度は100〜10000mPa・sであり、
好ましくは、前記抑制剤はアルキニル含有化合物、ポリビニル含有化合物、N含有有機化合物、P含有有機化合物又はS含有有機化合物のうちの任意の1種又は少なくとも2種の混合物である、ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のアルミベース銅張積層板。 - 前記オルガノシリコーン樹脂組成物は助剤0.1〜5部を更に含み、
好ましくは、前記助剤はカップリング剤及び/又は分散剤である、ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のアルミベース銅張積層板。 - 前記オルガノシリコーン樹脂組成物は、
オルガノシリコーン樹脂 100重量部
ビニル末端シリコーンオイル 40〜100重量部
助剤 0.1〜5重量部
触媒 0.0001〜0.5重量部
抑制剤 0.00001〜0.1重量部
オルガノシリコーン樹脂組成物に占める体積百分率が20〜45%の熱伝導性フィラー、
オルガノシリコーン樹脂組成物に占める質量百分率が0〜30%の白色フィラーを含み、
オルガノシリコーン樹脂の架橋剤はメチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーン樹脂又はメチルフェニルハイドロジェンシリコーン樹脂のうちの任意の1種又は少なくとも2種の混合物であり、架橋剤中のSi−Hとオルガノシリコーン樹脂中のSi−Viのモル比は1.0〜1.7である、ことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のアルミベース銅張積層板。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載のオルガノシリコーン樹脂アルミベース銅張積層板の調製方法であって、
請求項1〜9のいずれか1項に記載のオルガノシリコーン樹脂組成物の組成に基づき、各成分を混合し、オルガノシリコーン樹脂接着液を得るステップ(1)と、
オルガノシリコーン樹脂接着液を銅箔に塗布し、硬化処理を行わずに、塗布銅箔を得るステップ(2)と、
アルミニウム板と塗布銅箔を積層し、真空状態で加圧成形し、オルガノシリコーン樹脂アルミベース銅張積層板を得るステップ(3)とを含む、調製方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020023070A (ja) * | 2018-08-06 | 2020-02-13 | 日本タングステン株式会社 | 銅張積層板の製造方法 |
JP2021074913A (ja) * | 2019-11-06 | 2021-05-20 | 日本タングステン株式会社 | 銅張積層板 |
JP7671206B2 (ja) | 2021-08-20 | 2025-05-01 | デンカ株式会社 | 積層体及び積層体の製造方法 |
JP7674591B2 (ja) | 2021-08-12 | 2025-05-09 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 有機ポリシロキサンを含む金属メッキ積層体 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6842469B2 (ja) | 2016-03-08 | 2021-03-17 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. | 相変化材料 |
JP6941810B2 (ja) * | 2017-04-19 | 2021-09-29 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 樹脂組成物ならびにそれを用いた電子部品および電子機器 |
CN107172806A (zh) * | 2017-06-08 | 2017-09-15 | 鹤山市中富兴业电路有限公司 | 一种用于电路板的陶瓷基板及其制作方法 |
CN109082020A (zh) * | 2017-06-13 | 2018-12-25 | 广东生益科技股份有限公司 | 聚合物树脂组合物及其在高频电路板中的应用 |
CN107446355A (zh) * | 2017-07-26 | 2017-12-08 | 苏州鸿凌达电子科技有限公司 | 一种双组份导热凝胶及其制备方法 |
US11041103B2 (en) | 2017-09-08 | 2021-06-22 | Honeywell International Inc. | Silicone-free thermal gel |
US10428256B2 (en) * | 2017-10-23 | 2019-10-01 | Honeywell International Inc. | Releasable thermal gel |
CN107760098B (zh) * | 2017-11-16 | 2020-12-22 | 湖南松井新材料股份有限公司 | 低温固化硅胶油墨、制备方法及应用 |
US11072706B2 (en) | 2018-02-15 | 2021-07-27 | Honeywell International Inc. | Gel-type thermal interface material |
CN109504037B (zh) * | 2018-11-22 | 2021-10-22 | 苏州生益科技有限公司 | 一种树脂组合物及使用其制备的半固化片和层压板 |
CN109943191A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-06-28 | 珠海市横琴新区贝格特实业有限公司 | 无溶剂导热树脂制备及涂覆工艺 |
US11373921B2 (en) | 2019-04-23 | 2022-06-28 | Honeywell International Inc. | Gel-type thermal interface material with low pre-curing viscosity and elastic properties post-curing |
CN110183661A (zh) * | 2019-06-10 | 2019-08-30 | 中山大学 | 一种高耐热、高导热绝缘材料的制备方法 |
CN113122003B (zh) * | 2019-12-31 | 2023-10-20 | 广东美的白色家电技术创新中心有限公司 | 一种柔性导热绝缘材料及其制备方法和应用 |
CN111410932B (zh) * | 2020-05-14 | 2022-02-22 | 南京科矽新材料科技有限公司 | 一种柔韧性优异粘接性强的led用甲基有机硅黏合剂 |
CN116096802A (zh) * | 2020-08-03 | 2023-05-09 | 汉高股份有限及两合公司 | 低粘度导热膏体 |
CN113897066A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-01-07 | 浙江商林科技股份有限公司 | 一种高导热双组分导热凝胶及其制备方法 |
CN114953629A (zh) * | 2022-04-20 | 2022-08-30 | 江西鑫远基电子科技有限公司 | 一种高散热铝基覆铜板及其生产工艺 |
CN114836041B (zh) * | 2022-06-15 | 2024-05-07 | 山东泰开电器绝缘有限公司 | 一种复合绝缘子混炼胶及其制备方法与应用 |
CN115093827B (zh) * | 2022-06-23 | 2024-04-02 | 厦门捌斗新材料科技有限公司 | 一种有机硅灌封胶及其制备方法 |
CN116253997A (zh) * | 2022-09-09 | 2023-06-13 | 太湖金张科技股份有限公司 | 一种耐热性高的光热转化有机硅聚合物材料 |
CN118085785B (zh) * | 2023-12-19 | 2025-02-11 | 扬宣电子(清远)有限公司 | 一种高耐热铝基覆铜板及其制备方法 |
CN119039934A (zh) * | 2024-09-30 | 2024-11-29 | 佛山禾邦新材料科技有限公司 | 一种阻燃型有机硅双组分导热灌封胶及其制备方法 |
CN119391316B (zh) * | 2024-10-12 | 2025-05-09 | 东莞市零度导热材料有限公司 | 一种导热绝缘片及其制备方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52154856A (en) * | 1976-06-18 | 1977-12-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Adherent silicone composition |
JPH0797521A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-04-11 | Dow Corning Sa | シリコーン系エマルジョン組成物 |
JPH11340673A (ja) * | 1998-05-22 | 1999-12-10 | Porimatec Kk | 高熱伝導性電磁波シールドシートおよびその製造方法 |
JP2000043199A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-02-15 | Kasei Kogyo Kk | シリコーンゴム層を備える積層体 |
JP2005281509A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 |
US20070148467A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-28 | World Properties, Inc. | Thermal management circuit materials, method of manufacture thereof, and articles formed therefrom |
JP2008520802A (ja) * | 2004-11-19 | 2008-06-19 | ダウ・コーニング・コーポレイション | シリコーン組成物および硬化したシリコーン樹脂 |
JP2009043914A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Ishida Yukio | 配線板の製造法および配線板 |
JP2010511738A (ja) * | 2006-12-01 | 2010-04-15 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド | シリコーン接着剤組成物およびそれを調製する方法 |
CN101712800A (zh) * | 2009-11-06 | 2010-05-26 | 陈俊光 | 大功率led的有机硅树脂封装料及其制备方法 |
CN102433005A (zh) * | 2011-08-25 | 2012-05-02 | 文仁光 | 一种led用苯基液体硅胶及其制备方法 |
CN103275671A (zh) * | 2013-06-20 | 2013-09-04 | 李季 | 碳纳米管阻燃导热有机硅灌封胶 |
JP2013208892A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-10-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 金属ベース基板及びその製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103131381B (zh) * | 2013-03-06 | 2014-09-24 | 广州市高士实业有限公司 | 高性能环保阻燃型有机硅电子灌封胶及其制备方法 |
CN103963379B (zh) * | 2014-03-05 | 2016-06-15 | 金安国纪科技股份有限公司 | 金属基覆铜板及其制备方法 |
CN103865271B (zh) * | 2014-03-20 | 2017-04-05 | 北京化工大学 | 一种纳米杂化材料改性的有机硅导热电子灌封胶的制备方法 |
-
2015
- 2015-08-19 CN CN201510510892.4A patent/CN106467668B/zh active Active
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- 2015-11-18 EP EP15901587.4A patent/EP3315559A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52154856A (en) * | 1976-06-18 | 1977-12-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Adherent silicone composition |
JPH0797521A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-04-11 | Dow Corning Sa | シリコーン系エマルジョン組成物 |
JPH11340673A (ja) * | 1998-05-22 | 1999-12-10 | Porimatec Kk | 高熱伝導性電磁波シールドシートおよびその製造方法 |
JP2000043199A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-02-15 | Kasei Kogyo Kk | シリコーンゴム層を備える積層体 |
JP2005281509A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 |
JP2008520802A (ja) * | 2004-11-19 | 2008-06-19 | ダウ・コーニング・コーポレイション | シリコーン組成物および硬化したシリコーン樹脂 |
US20070148467A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-28 | World Properties, Inc. | Thermal management circuit materials, method of manufacture thereof, and articles formed therefrom |
JP2010511738A (ja) * | 2006-12-01 | 2010-04-15 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド | シリコーン接着剤組成物およびそれを調製する方法 |
JP2009043914A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Ishida Yukio | 配線板の製造法および配線板 |
CN101712800A (zh) * | 2009-11-06 | 2010-05-26 | 陈俊光 | 大功率led的有机硅树脂封装料及其制备方法 |
CN102433005A (zh) * | 2011-08-25 | 2012-05-02 | 文仁光 | 一种led用苯基液体硅胶及其制备方法 |
JP2013208892A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-10-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 金属ベース基板及びその製造方法 |
CN103275671A (zh) * | 2013-06-20 | 2013-09-04 | 李季 | 碳纳米管阻燃导热有机硅灌封胶 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020023070A (ja) * | 2018-08-06 | 2020-02-13 | 日本タングステン株式会社 | 銅張積層板の製造方法 |
JP2021074913A (ja) * | 2019-11-06 | 2021-05-20 | 日本タングステン株式会社 | 銅張積層板 |
JP7674591B2 (ja) | 2021-08-12 | 2025-05-09 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 有機ポリシロキサンを含む金属メッキ積層体 |
JP7671206B2 (ja) | 2021-08-20 | 2025-05-01 | デンカ株式会社 | 積層体及び積層体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3315559A4 (en) | 2019-01-23 |
EP3315559A1 (en) | 2018-05-02 |
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WO2017028383A1 (zh) | 2017-02-23 |
US20180370189A1 (en) | 2018-12-27 |
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